JPH03150555A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に通した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に通した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕」二げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕」二げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。
方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写真の拡
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりポケだ
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インチ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより−・層広いラチチュードを有する画像
形成方法が要求されている。
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりポケだ
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インチ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより−・層広いラチチュードを有する画像
形成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハ1」ゲンランブあるい
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチ1−ISの要望に応えるシステムとして塩臭
化銀(ずくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハ
イドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非
画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒
化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られ
ている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低
いため、現像は空気酸化に対し°ζ極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、
作業効率を低下させているのが現状であった。
化銀(ずくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハ
イドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非
画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒
化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られ
ている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低
いため、現像は空気酸化に対し°ζ極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、
作業効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調を写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
,22L 857号、同4,224,401号、同4
,243゜739号、同4,272.60(i号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,,0〜12.3で亜硫酸保恒剤
を0.15モル/l以」二含み、良好な保存安定性を有
する現像液で処理して、Tカ月0を超える超硬調のネガ
画像を形成するシステムが提案された。この新しい画像
形成システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含
有率の高い塩臭化銀した使用できなかったのに対して、
沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある
。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調を写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
,22L 857号、同4,224,401号、同4
,243゜739号、同4,272.60(i号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,,0〜12.3で亜硫酸保恒剤
を0.15モル/l以」二含み、良好な保存安定性を有
する現像液で処理して、Tカ月0を超える超硬調のネガ
画像を形成するシステムが提案された。この新しい画像
形成システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含
有率の高い塩臭化銀した使用できなかったのに対して、
沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある
。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
特開昭61−213847号およびUS4.684.6
04に酸化により写真有用基を放出するレドックス化合
物を含む感光材料か示され、階調再現域を広げる試みが
示されている。しかじなから、ヒドラジン誘導体を用い
た超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物は
硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すことがで
きなかった。
04に酸化により写真有用基を放出するレドックス化合
物を含む感光材料か示され、階調再現域を広げる試みが
示されている。しかじなから、ヒドラジン誘導体を用い
た超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物は
硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すことがで
きなかった。
(発明の目的)
従って本発明の目的は、第1に安定性の高い現保液を用
いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
第2に網階調の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
(発明の構成)
本発明のこれらの目的は、ヒドラジン誘導体を含む少な
くとも1つの感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤
層及び/又は、該乳剤層とは、異なる親水性コロイド層
に、酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレド
ックス化合物及びアスコルビン酸誘導体を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成さ
れた。
くとも1つの感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤
層及び/又は、該乳剤層とは、異なる親水性コロイド層
に、酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレド
ックス化合物及びアスコルビン酸誘導体を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成さ
れた。
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物について説明する。
化合物について説明する。
本発明のレドックス化合物は、レドックス基としてハイ
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類
、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類
、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
好ましい前記レドックス化合物はレドックス基としてヒ
ドラジン類を有することを特徴とする。
ドラジン類を有することを特徴とする。
さらに好ましい前記レドックス化合物は下記−形式(1
)で表わされる。
)で表わされる。
一般式(1)
(式中、A+ 、Azはともに水素原子又は一方が水素
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは十C−+T−R
a(式中、Roはアルキル基、アルケニ1 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わす*
Timeは二価の連結基を表わし、tはOまたは1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは十C−+T−R
a(式中、Roはアルキル基、アルケニ1 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わす*
Timeは二価の連結基を表わし、tはOまたは1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
0
1
ルホキシ基、−p (R+ はアルコキシ基またはア1
リールオキシ基を表わす。)イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす、)以下−形式(1)について
説明する。
チオカルボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす、)以下−形式(1)について
説明する。
−形式([)においてA、 、Amは水素原子、炭素数
20以下のフルキルスルホニル基およびアリールスルホ
ニル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0,5以上となるようにftAさ
れたフェニルスルホニル基)、→c+r−Ro (R,
として好ましくは炭素1 数30以下の直鎖、分岐状または環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基(好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が一〇。
20以下のフルキルスルホニル基およびアリールスルホ
ニル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0,5以上となるようにftAさ
れたフェニルスルホニル基)、→c+r−Ro (R,
として好ましくは炭素1 数30以下の直鎖、分岐状または環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基(好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が一〇。
5以上となるように置換されたフェニル基)、アルコキ
シ基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(好
ましくは単環のもの)などであり、これらの基は置換基
を有していてもよく置換基としては、例えば以下のもの
があげられる。これらの基は更に置換されていてもよい
。
シ基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(好
ましくは単環のもの)などであり、これらの基は置換基
を有していてもよく置換基としては、例えば以下のもの
があげられる。これらの基は更に置換されていてもよい
。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボニル基、アリールオキ′
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド′
基、ニトロ基、アルキルリチオ蟇、アリールチオ基、な
どである、)であり、A+ 、Azで表わされ゛るスル
フィン酸残基は具体的には米国特杵築4,478.92
8号に記載されているものを表わす。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボニル基、アリールオキ′
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド′
基、ニトロ基、アルキルリチオ蟇、アリールチオ基、な
どである、)であり、A+ 、Azで表わされ゛るスル
フィン酸残基は具体的には米国特杵築4,478.92
8号に記載されているものを表わす。
又、A、は後述の+Time+−rと連結して環を形成
してもよい。
してもよい。
A + 、A zとしては水素原子が最も好ましい。
T imeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機
能を存していても よい、tはOまた1を表わし、1=
0の場合はPUGが直接■に結合していることを意味す
る。
能を存していても よい、tはOまた1を表わし、1=
0の場合はPUGが直接■に結合していることを意味す
る。
Till1eで表わされる二価の連結基は酸化還元母核
の酸化体から放出されるTime −PUGから一段階
あるいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せ
しめる基を表わす。
の酸化体から放出されるTime −PUGから一段階
あるいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せ
しめる基を表わす。
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特杵築4,248,962号(特開昭5゛4−145
,135号)等に記載のp−にとろフェノキシ誘導体の
分子内閉環反応によって写真的有用基(PUG)を放出
するもの;米国特杵築4゜310.612号(特開昭5
5−53,330号)および同4,358,252号等
に記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放
出するもの;米国特杵築4゜330,617号、同4,
446.216号、同4,483,919号、特開昭5
9−121,328号等に記載のコハク酸モノエステル
またはその類縁体のカルボキシル基の分子内開環反応に
よる酸無水物の生成を伴って、PIJGを放出するもの
;米国特杵築4.409゜323号、同4,421,8
45号、リサーチ・ディスクロージャー誌No、21,
228 (1981年12月)、米国特杵築4,416
,977号(特開昭57−135,944号)、特開昭
58−209,736号、同58−209,738号等
に記載のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共
役した二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン
、またはその類縁体を生成してPUGを放出するもの;
米国特杵築4.420.554号(特開昭57−136
,640号)、特開昭57−135,945号、同57
−1’88.035号、同5B−98,728号および
同58−−209,737号等に記載の含窒素へテロ環
のエナミン構造を有する部分の電子移動によりエナミン
の1位よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,
837号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役した
カルボニル基への電子移動により生成したオキシ基の分
子内閉環反応によりPUGを放出するもの;米国特杵築
4,146,396号(特開昭52−90932号)、
特開昭59−93,442号、特開昭59−75475
号等に記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出
するもの;特開昭51−146,828号、同57−1
79,842号、同59−104.641号に記載のカ
ルボキシル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの;
−0−COOCRzRb −P U Gの構造を有し
、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUG
を放出するもの;特開昭607.429号に記載のイソ
シアナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国
特杵築4,438.193号等に記載のカラー現像薬の
酸化体とのカップリング反応によりPUGを放出するも
のなどを挙げることができる。
国特杵築4,248,962号(特開昭5゛4−145
,135号)等に記載のp−にとろフェノキシ誘導体の
分子内閉環反応によって写真的有用基(PUG)を放出
するもの;米国特杵築4゜310.612号(特開昭5
5−53,330号)および同4,358,252号等
に記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放
出するもの;米国特杵築4゜330,617号、同4,
446.216号、同4,483,919号、特開昭5
9−121,328号等に記載のコハク酸モノエステル
またはその類縁体のカルボキシル基の分子内開環反応に
よる酸無水物の生成を伴って、PIJGを放出するもの
;米国特杵築4.409゜323号、同4,421,8
45号、リサーチ・ディスクロージャー誌No、21,
228 (1981年12月)、米国特杵築4,416
,977号(特開昭57−135,944号)、特開昭
58−209,736号、同58−209,738号等
に記載のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共
役した二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン
、またはその類縁体を生成してPUGを放出するもの;
米国特杵築4.420.554号(特開昭57−136
,640号)、特開昭57−135,945号、同57
−1’88.035号、同5B−98,728号および
同58−−209,737号等に記載の含窒素へテロ環
のエナミン構造を有する部分の電子移動によりエナミン
の1位よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,
837号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役した
カルボニル基への電子移動により生成したオキシ基の分
子内閉環反応によりPUGを放出するもの;米国特杵築
4,146,396号(特開昭52−90932号)、
特開昭59−93,442号、特開昭59−75475
号等に記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出
するもの;特開昭51−146,828号、同57−1
79,842号、同59−104.641号に記載のカ
ルボキシル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの;
−0−COOCRzRb −P U Gの構造を有し
、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUG
を放出するもの;特開昭607.429号に記載のイソ
シアナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国
特杵築4,438.193号等に記載のカラー現像薬の
酸化体とのカップリング反応によりPUGを放出するも
のなどを挙げることができる。
これら、Ti+neで表わされる二価の連結基の具体例
については特開昭61−236,549号、特願昭63
−98.80’3号等にも詳細に記載されているが、好
ましい具体例は以下に示すものである。
については特開昭61−236,549号、特願昭63
−98.80’3号等にも詳細に記載されているが、好
ましい具体例は以下に示すものである。
ここで(寧)は−形式(I)において
+Ti+ne÷7PUGがVに結合する部位を表わし、
h) (傘)にPUGが結合する部位を表わす。
h) (傘)にPUGが結合する部位を表わす。
C,H。
T
(4)
T −(5)
(率)−0−co。
Js
Cz II s
Hi
/
zlls
T−(10)
(ネ)
0− CH2
2H5
Hz
T
(13)
0=C
H2
し+21’1Zs
T −(25)
T−(28)
CH。
(30)
T−(34)
(傘) −0−CH
(*)(本)
COOC21S
T −(36)
(ネ) OCHz N GHz (ネ
)(ネ)CHt (す(本〕 T−(39) C!Hs t5 PUGは(T ime)r P U GまたはPUGと
して現像抑制効果を存する基を表わす。
)(ネ)CHt (す(本〕 T−(39) C!Hs t5 PUGは(T ime)r P U GまたはPUGと
して現像抑制効果を存する基を表わす。
PUGまたは(T ime)−r P U Gで表わさ
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・チー・ミース(C,E、に、Mees
)及びチー・エッチ・ジエームズ(T、H,James
)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・
プロセス(The、Theory of Photog
raphicProcesses) :l第3版、19
66マクミラン(Macwillan)社刊、344頁
〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカプ
トテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカ
プトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカ
プトベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾー
ル類、メルカプトベンズオキサゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダ
ゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン類、
テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイン
デン類、メルク7 ブトアリール類等を挙げることができる。
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・チー・ミース(C,E、に、Mees
)及びチー・エッチ・ジエームズ(T、H,James
)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・
プロセス(The、Theory of Photog
raphicProcesses) :l第3版、19
66マクミラン(Macwillan)社刊、344頁
〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカプ
トテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカ
プトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカ
プトベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾー
ル類、メルカプトベンズオキサゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダ
ゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン類、
テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイン
デン類、メルク7 ブトアリール類等を挙げることができる。
P UG7+表わされる現像抑制剤は置換されていても
よい。置換基としては、例えば以下のものが挙げられる
が、これらの基はさらに置換されていてもよい。
よい。置換基としては、例えば以下のものが挙げられる
が、これらの基はさらに置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、−アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルチオ基、了り−ルチオ基、スル
ホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、ス
ルホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホ
スホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである
。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、−アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルチオ基、了り−ルチオ基、スル
ホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、ス
ルホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホ
スホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである
。
好ましい1[換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボ
キシル基、スルファモイル基、ホスホノ基・8 ホスフィニコ基、スルホンアミド基である。
キシル基、スルファモイル基、ホスホノ基・8 ホスフィニコ基、スルホンアミド基である。
主な現像抑制剤を以下に示す。
ル
(2)1−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラジーIし く311−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4]1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (711−(,2,4−ジヒドロキシフェニル)−5−
メルカプトテトラゾール (811−(4−スルフ7モイルフエニル)−5=メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (10)1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−
メルカプトテトラゾール θ111−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 02)1−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール Q3)1〜(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル
ゴー5−メルカプトテトラゾール(14)1−(2,4
−ジクロロフェニル)−5−メルカプトテトラゾール (15)1−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール 06)1−(4−二トロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 0り 1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (Ill)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテト
ラゾール θ9) 1−(4−スルホフェニル)−5−メルカブ
トテトラゾール Q[DI−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテト)
ソーlし く22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30) 1− (2,、2−ジェトキシエチル)−
5−メルカプトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミノエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−・5−メルカプト
テトラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1,5−ジフェニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)1−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール メルカプ ピ1ミジン悸 (1) チオウラシル (2) メチルチオウラシル (3) エチルチオウラシル (4) プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6) アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイミ ソ゛−ル量朱 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール aω 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール (Ill、5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2
−メルカプトナフトイミダゾール ルカ シア゛−ル乏 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−134−チア
ジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4) 5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メルカプト
−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノキシカ
ルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,4〜チ
アジアゾール7 メルカプトベンズチアゾールテ禾 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾ−Jし く3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾ−Jし 8 メルカ ベンズオキサゾール球 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2〜メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール ベンズ l−−ルiゑ温 5.6−シメチルヘンゾトリアゾール 5−ブチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−ブロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4.6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアシーlし く1[D 4,5.6−ドリクロロペンゾトリアゾール (11) 5−カルボキシベンゾトリアゾール 02) (13) 5−スルホベンゾトリアゾール Na塩5−メトキシカ
ルボニルベンゾトリアゾール 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ヘンシトリアゾール 0F55−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール 09+ 5− (2,3−ジクロロプロピルオキシカ
ルボニル)ベンゾトリアゾール 0 ベンズイミ ゾール沃− (1) ベンツイミダゾール (2)5−クロロベンツイミダゾール (3) 5−二トロペンツイミダゾール(4)5−n
−ブチルベンツイミダゾール(5) 5−メチルベン
゛ンイミダソ′−ル(6) 4−クロロペンツイミダ
ゾール(7)5.6−シメチルベンツイミダゾール(8
)5−ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ベンツイミ
ダゾール インダゾ−ル活 (υ 5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインタソール(8)
3−クロロ−5−二トロインダゾール(9)3−カ
ルボキシ−5−二トロインダゾール2−−゛′−ル!駒 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール 13− −ザインー゛ン量禾 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−1,
3,3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプ
ト−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、7−チト
ラアザインデンルカプ ア1−ルtjc1 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール 1 スルホキシ基、−p−(R,はアルコキシ基またはR+
4 アリールオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
トテトラジーIし く311−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4]1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (711−(,2,4−ジヒドロキシフェニル)−5−
メルカプトテトラゾール (811−(4−スルフ7モイルフエニル)−5=メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (10)1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−
メルカプトテトラゾール θ111−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 02)1−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール Q3)1〜(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル
ゴー5−メルカプトテトラゾール(14)1−(2,4
−ジクロロフェニル)−5−メルカプトテトラゾール (15)1−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール 06)1−(4−二トロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 0り 1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (Ill)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテト
ラゾール θ9) 1−(4−スルホフェニル)−5−メルカブ
トテトラゾール Q[DI−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテト)
ソーlし く22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30) 1− (2,、2−ジェトキシエチル)−
5−メルカプトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミノエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−・5−メルカプト
テトラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1,5−ジフェニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)1−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール メルカプ ピ1ミジン悸 (1) チオウラシル (2) メチルチオウラシル (3) エチルチオウラシル (4) プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6) アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイミ ソ゛−ル量朱 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール aω 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール (Ill、5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2
−メルカプトナフトイミダゾール ルカ シア゛−ル乏 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−134−チア
ジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4) 5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メルカプト
−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノキシカ
ルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,4〜チ
アジアゾール7 メルカプトベンズチアゾールテ禾 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾ−Jし く3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾ−Jし 8 メルカ ベンズオキサゾール球 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2〜メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール ベンズ l−−ルiゑ温 5.6−シメチルヘンゾトリアゾール 5−ブチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−ブロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4.6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアシーlし く1[D 4,5.6−ドリクロロペンゾトリアゾール (11) 5−カルボキシベンゾトリアゾール 02) (13) 5−スルホベンゾトリアゾール Na塩5−メトキシカ
ルボニルベンゾトリアゾール 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ヘンシトリアゾール 0F55−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール 09+ 5− (2,3−ジクロロプロピルオキシカ
ルボニル)ベンゾトリアゾール 0 ベンズイミ ゾール沃− (1) ベンツイミダゾール (2)5−クロロベンツイミダゾール (3) 5−二トロペンツイミダゾール(4)5−n
−ブチルベンツイミダゾール(5) 5−メチルベン
゛ンイミダソ′−ル(6) 4−クロロペンツイミダ
ゾール(7)5.6−シメチルベンツイミダゾール(8
)5−ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ベンツイミ
ダゾール インダゾ−ル活 (υ 5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインタソール(8)
3−クロロ−5−二トロインダゾール(9)3−カ
ルボキシ−5−二トロインダゾール2−−゛′−ル!駒 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール 13− −ザインー゛ン量禾 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−1,
3,3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプ
ト−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、7−チト
ラアザインデンルカプ ア1−ルtjc1 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール 1 スルホキシ基、−p−(R,はアルコキシ基またはR+
4 アリールオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
例えばメチル基、t−ブチル基、n−オクチル基、t−
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
芳香族基は単環または2環のアリール基であり、例えば
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
ヘテロ環基は、N、OまたはS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜lO員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいしぜさらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリ)L4、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、
チアゾリル基などが挙げられる。
とつを含む3〜lO員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいしぜさらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリ)L4、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、
チアゾリル基などが挙げられる。
Rは置換基で置換されていてもよい、置換基としては、
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
また−形式(I)において、R1または+T i ts
峰vP U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基や一般弐〇)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
峰vP U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基や一般弐〇)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
バラス)5は一般式(1)で表わされる化合物が実質的
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくはrL換ベンゼン環を有するバラスト基であ
り、特に分岐状アルキル基で110されたベンゼン環を
存するバラスト基が好ましい。
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくはrL換ベンゼン環を有するバラスト基であ
り、特に分岐状アルキル基で110されたベンゼン環を
存するバラスト基が好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.44リア
ゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2−
チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズオキ
サゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオン
、チオトリアジン、l、3−イミダシリン−2−チオン
のような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族
メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプ
ト基(−5H基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場
合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である。)、ジスルフィド結合を存する基、ベンゾトリ
アソール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミグゾール、イミダゾール、ベンゾチアプー
ル、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合・せからなる5員ないし6員の
含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよう
な複素環四級塩などが挙げられる。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.44リア
ゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2−
チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズオキ
サゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオン
、チオトリアジン、l、3−イミダシリン−2−チオン
のような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族
メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプ
ト基(−5H基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場
合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である。)、ジスルフィド結合を存する基、ベンゾトリ
アソール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミグゾール、イミダゾール、ベンゾチアプー
ル、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合・せからなる5員ないし6員の
含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよう
な複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばRの置換基として述べたものが
挙げられる。
挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
コ
q
21゜
48
0Ja
22゜
25゜
26゜
27゜
9
2日。
29゜
30゜
ム
50゜
51゜
3
ut
本発明のレドックス化合物は、1.0〜10−’〜1.
0XIO−″mol/r4好ましくは1.0×10”6
〜1. OX 10−’ mol/rdの範囲内で用
いられる。
0XIO−″mol/r4好ましくは1.0×10”6
〜1. OX 10−’ mol/rdの範囲内で用
いられる。
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
特開昭61−213.847号、同62260.153
号、米国特許第4.684,604号、特願昭63−9
8803号、米国特許第3.379,529号、同3,
620,746号、同4,377.634号、同4,3
32,878号、特願昭49−129,536号、同5
6−153.336号、同56−153,342号など
に記載されている。
特開昭61−213.847号、同62260.153
号、米国特許第4.684,604号、特願昭63−9
8803号、米国特許第3.379,529号、同3,
620,746号、同4,377.634号、同4,3
32,878号、特願昭49−129,536号、同5
6−153.336号、同56−153,342号など
に記載されている。
本発明に用いられるアスコルビン酸誘導体は、下記の様
な化合物などが上げられる。
な化合物などが上げられる。
化合物例
I[−1)アスコルビルステアレート
[−2)アスコルビルパルミテート
1l−3)アスコルビル2.6−ジパルミテート
4
■−4)アスコルビン酸
■−5)アスコルビン酸ナトリウム
1l−6) ff1−エリスロアスコルビン酸1l−7
)d−グルコアスコルビン酸 1l−8)6−ゾオキシー!−アスコルビン酸1l−9
)f−ラムノ−アスコルビン酸lt−10)42−フコ
アスコルビン酸lt−11)d−1’ルコヘプトスアス
コルビン酸本発明におけるアスコルビン酸誘導体の添加
量に特に制限はないがI X I CV6〜2 X I
O−’ mol/ボ、より好ましくは6X10−’〜
I X I O−’ mol/ボである。
)d−グルコアスコルビン酸 1l−8)6−ゾオキシー!−アスコルビン酸1l−9
)f−ラムノ−アスコルビン酸lt−10)42−フコ
アスコルビン酸lt−11)d−1’ルコヘプトスアス
コルビン酸本発明におけるアスコルビン酸誘導体の添加
量に特に制限はないがI X I CV6〜2 X I
O−’ mol/ボ、より好ましくは6X10−’〜
I X I O−’ mol/ボである。
その添加方法としては必要に応じ、水又はメタノールな
どの低沸点有機溶媒に熔かして、添加できる。又レドッ
クス化合物をポリマーと共に乳化分散して添加する場合
、分散時に水溶性コロイド液中に添加してもよいし、レ
ドックス化合物及びポリマーと共に低沸点有機溶媒に溶
かして乳化分散物中に含有させて、用いてもよい。
どの低沸点有機溶媒に熔かして、添加できる。又レドッ
クス化合物をポリマーと共に乳化分散して添加する場合
、分散時に水溶性コロイド液中に添加してもよいし、レ
ドックス化合物及びポリマーと共に低沸点有機溶媒に溶
かして乳化分散物中に含有させて、用いてもよい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記−形式(
III)によって表わされる化合物が好ましい。
III)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(III)
I Az
式中、R3は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、G1はカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 2 イミノメチレン基を表わし、 A1・A、はともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は!換もしくは無置換のアリールスル;h二)Lt5、
又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、G1はカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 2 イミノメチレン基を表わし、 A1・A、はともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は!換もしくは無置換のアリールスル;h二)Lt5、
又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
−形式(I[l)において、R3で表される脂肪族基は
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
ここで分岐アルキル基はその中。
に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテ
ロ環を形成するように環化されていてもよい、またこの
アルキル基は、アリール基、アルコキシ基、スルホニル
基、スルホンアミド基、カルボンアミド基等の置換基を
有していてもよい。
ロ環を形成するように環化されていてもよい、またこの
アルキル基は、アリール基、アルコキシ基、スルホニル
基、スルホンアミド基、カルボンアミド基等の置換基を
有していてもよい。
−形式(I[[)においてR1で表される芳香族基は単
環または2環のアリール基または不飽和へテロ環基であ
る。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリー
ル基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
環または2環のアリール基または不飽和へテロ環基であ
る。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリー
ル基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R,とじて特に好ましいものはアリール基であ7
R1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な2換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、了り−
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカ
ルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、 2 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくけアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシ。
いてもよく、代表的な2換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、了り−
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカ
ルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、 2 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくけアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシ。
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。
−形式(II[)においてR1で表わされるアルキル基
としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であっ
て、例えばハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、ス
ルホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、アルキルスルホ基、了り−ルスルホ基、ス
ルファモイル基、ニトロ基、複素芳香環基、 A+ A− でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよ了り−
ル基としては単環または2環の7リール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置・換基の例としてはアルキル
基の場合と同様である。
としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であっ
て、例えばハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、ス
ルホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、アルキルスルホ基、了り−ルスルホ基、ス
ルファモイル基、ニトロ基、複素芳香環基、 A+ A− でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよ了り−
ル基としては単環または2環の7リール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置・換基の例としてはアルキル
基の場合と同様である。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
了り−ルオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイル!及び炭
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、了り−ルオキシカルポニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置を兵されていてちよい−R7で表わされる基の
うち好ましいものは、Glがカルボニル基の場合には、
水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオ
ロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンス
ルホンアミドプロピル基、)、エニルスルホニルメチル
基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベン
ジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,
5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフ
ェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基など)など
であり、特に水素原子が好ましい。
キシカルボニル基、了り−ルオキシカルポニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置を兵されていてちよい−R7で表わされる基の
うち好ましいものは、Glがカルボニル基の場合には、
水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオ
ロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンス
ルホンアミドプロピル基、)、エニルスルホニルメチル
基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベン
ジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,
5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフ
ェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基など)など
であり、特に水素原子が好ましい。
またG、がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基な1 と)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基な1 と)などが好ましい。
G、がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などかあ1 す、G、が−P−基の場合には、R2として2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基
、フェニル基が好ましく、特に、・フェノキシ基が好適
である。
ジル基、メチルチオベンジル基などかあ1 す、G、が−P−基の場合には、R2として2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基
、フェニル基が好ましく、特に、・フェノキシ基が好適
である。
G、がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
R1の置換基としては、R3に関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式(I[[)のGとしてはカルボニル基が最も好ま
しい。
しい。
又、R2はG、−R,の部分を残余分子がら分裂させ、
G+Rz部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を住起するようなものであってもよく、具体的には
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
G+Rz部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を住起するようなものであってもよく、具体的には
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
2
一般式(aン
−Rs ZI
式中、ZlはG、に対し求核的に攻撃し、G、−R,−
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1は
R2から水素原子1細隙いたもので、2.がG1に対し
求核攻ML、Cz、’Rs、2、で環式構造が生成可能
なものである。
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1は
R2から水素原子1細隙いたもので、2.がG1に対し
求核攻ML、Cz、’Rs、2、で環式構造が生成可能
なものである。
さらに詳細には、Z、は−形式(DI)ヒドラジン化合
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
にGl(!:求核反応し R,−N−N−G、−R,−Z。
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
にGl(!:求核反応し R,−N−N−G、−R,−Z。
R,−N−N基を01から分裂させうる基であり、具体
的には0HSSHまたはNHR4(R4は水素原子、ア
ルキル基、アリール基、−COR5、または−SO□R
2であり、Rsは水素原子、アルキル基、アリール基、
ヘテロ環基などを表す)、C0ORなどのように01と
直接反応する官能基であってもよく(こコテ、OH,S
H,NHR,。
的には0HSSHまたはNHR4(R4は水素原子、ア
ルキル基、アリール基、−COR5、または−SO□R
2であり、Rsは水素原子、アルキル基、アリール基、
ヘテロ環基などを表す)、C0ORなどのように01と
直接反応する官能基であってもよく(こコテ、OH,S
H,NHR,。
−C○OHはアルカリ等の加水分解によりこれらの基を
生成するように一時的に保護されていても○
N−R。
生成するように一時的に保護されていても○
N−R。
(R,、R,は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜g酸イオン等のような求核剤を反応することでG
lと反応することが可能になる官能基であってもよい。
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜g酸イオン等のような求核剤を反応することでG
lと反応することが可能になる官能基であってもよい。
また、Gl 、Rx 、Z +で形成される環としては
5員または6員のものが好ましい。
5員または6員のものが好ましい。
−形式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては−g式(ロ)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては−g式(ロ)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式(ロ)
式中\R11〜R4bは水素原子、アルキル基(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜I2のもの)なとを表し、同じでも異なっても
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nはOまたは1で
あり、(n+m)は1または2である。
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜I2のもの)なとを表し、同じでも異なっても
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nはOまたは1で
あり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
2、は−形式(a)と同義である。
−形式(C)
式中、Rt ’ 、R(tは水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し
、同じでも異なってもよい。
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し
、同じでも異なってもよい。
R%は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール基を表す。
リール基を表す。
Pは0または1を表し、qは1〜4を表す。
Rc ’ 、R’c ”およびR%はZ、がC1へ分子
内求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
内求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
Rc ’ 、Rc ”は好ましくは水素原子、)10ゲ
・ン原子、またはアルキル基であり、R%は好ましくは
アルキル基またはアリール基である。
・ン原子、またはアルキル基であり、R%は好ましくは
アルキル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときPは0また
は1を、qが2のときPは0または1を、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のときRc ’
、Rc′は同一でも異なってもよい、 ハは一般式
(?)と同義である。
は1を、qが2のときPは0または1を、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のときRc ’
、Rc′は同一でも異なってもよい、 ハは一般式
(?)と同義である。
A+ 、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置I
IA基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる。))A+ 、Axとし
ては水素原子が最も好ましい。
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置I
IA基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる。))A+ 、Axとし
ては水素原子が最も好ましい。
−形式(I[[)のR+またはR2はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい、
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい、
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
またポリマーとしては例えば特開平1−100530号
に記載のものが挙げられる。
に記載のものが挙げられる。
一般式(III)のR,またはR2はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特杵築4゜385.108号、同4,4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201,045号、同
59201.046号、同59−201,047号、同
59−201,048号、同59−201.049号、
特開昭61−170,733号、同61−270,74
4号、同62−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載さ−れた基があげられる。
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特杵築4゜385.108号、同4,4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201,045号、同
59201.046号、同59−201,047号、同
59−201,048号、同59−201.049号、
特開昭61−170,733号、同61−270,74
4号、同62−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載さ−れた基があげられる。
一般式(I[[)で示される化合物の具体例を以下に示
す、但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
す、但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
■−1)
■−2)
■−3)
■−4)
C,11゜
■−6)
■−7)
■−8)
■−9)
1[[−10)
■
lll−11)
11[−12)
lll−15)
H
1−16)
1[[−17)
n[−1,8>
N = N
l1l−20)
S■
−N
[1−22)
0
Ill−23)
xHs
Ill−26)
III−27)
III−28)
III−30)
lll−31)
1[1−32)
111−33)
Iff−34)
I[1−35)
1[1−36)
1[1−37)
1[1−38)
[[1−40)
III−41)
III−42)
N
0℃
lll−43)
iff−44)
III−45)
[[[−46)
III−47)
III−48)
Iff−49)
1[1−50)
1[1−51)
111−52)
I−53)
111−54)
[[[−55)
II−56)
I[[−57)
■
[[[−59)
1[[−60)
I[[−61)
1[[−62)
I
X : y −97: 3
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARI DISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
.108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4,478,928号、英国特許2,01
1,391B、特開昭60−179734号、同62−
270,948号、同63−29,751号、同61−
170゜、733号、同61−270,744号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS4゜
686.167号、特開昭62−178,246号、同
63−32,538号、同63−104゜047号、同
63−121,838号、同63129.337号、同
63−223,744号、同63−234,244号、
同63−234,245号、同63−234,246号
、同63−294.552号、同63−306,438
号、特開平1−100,530号、同1105.941
号、同1−105,943号、特開昭64−10.23
3号、特開平1−90,439号、特願昭63−105
,682号、同63−114,118号、同63−11
0,051号、同63−■14.119号、同63−1
16,239号、同63−147,339号、同6:3
−179,760号、同63−229,163号、特願
平1−18.377号、同1−18,378号、同1−
18.379号、同1−15,755号、同1−16.
814号、同1−40,792号、同1−42.615
−号、同142,616号、同1−123.693号、
同1−126,284号に記載されたものを用いること
ができる。
ものの他に、RESEARI DISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
.108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4,478,928号、英国特許2,01
1,391B、特開昭60−179734号、同62−
270,948号、同63−29,751号、同61−
170゜、733号、同61−270,744号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS4゜
686.167号、特開昭62−178,246号、同
63−32,538号、同63−104゜047号、同
63−121,838号、同63129.337号、同
63−223,744号、同63−234,244号、
同63−234,245号、同63−234,246号
、同63−294.552号、同63−306,438
号、特開平1−100,530号、同1105.941
号、同1−105,943号、特開昭64−10.23
3号、特開平1−90,439号、特願昭63−105
,682号、同63−114,118号、同63−11
0,051号、同63−■14.119号、同63−1
16,239号、同63−147,339号、同6:3
−179,760号、同63−229,163号、特願
平1−18.377号、同1−18,378号、同1−
18.379号、同1−15,755号、同1−16.
814号、同1−40,792号、同1−42.615
−号、同142,616号、同1−123.693号、
同1−126,284号に記載されたものを用いること
ができる。
本発明のヒドラジン誘導体の含有量はハロゲン化銀乳剤
の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化
合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブ
リ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選択するこ
とが望ましく、その選択のための試験の方法は当業者の
よく知るところである。通常は好ましくはハロゲン化銀
1モル当り10−6モルないしl X l O−’モル
、特に10−′ないし4X]0−”モルの範囲で用いら
れる。
の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化
合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブ
リ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選択するこ
とが望ましく、その選択のための試験の方法は当業者の
よく知るところである。通常は好ましくはハロゲン化銀
1モル当り10−6モルないしl X l O−’モル
、特に10−′ないし4X]0−”モルの範囲で用いら
れる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、5
塩臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわ
ない。
ない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい、ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい、ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(Iegular、)な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gu jar)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結
晶形の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(Iegular、)な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gu jar)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結
晶形の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
7
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジエション防止その
他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フィ
ルター染料としては、写真感度をさらに低めるための染
料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収
極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取シ
扱われる際のセーフライト尤に対する安全注目−高める
ための、主としてJjOnm−10tjnmの領域に叉
質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジエション防止その
他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フィ
ルター染料としては、写真感度をさらに低めるための染
料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収
極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取シ
扱われる際のセーフライト尤に対する安全注目−高める
ための、主としてJjOnm−10tjnmの領域に叉
質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即゛ち、支持体に関
してハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロ
イド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好
ましい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即゛ち、支持体に関
してハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロ
イド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好
ましい。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常l0−2り7
m2〜7 y 7m2の範囲で添加される。好ましくn
Joq−room97m2である。
m2〜7 y 7m2の範囲で添加される。好ましくn
Joq−room97m2である。
染料の具体例は特願昭7/−20り169号に8
詳しく記載されているが、
いくつか全欠にあける。
03K
o3K
OK
S Oa N a
SU 3N a
SO2に
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロノノールなど)、アセト
ン、メチルセロンルデ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕K酸溶解て本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
メタノール、エタノール、プロノノールなど)、アセト
ン、メチルセロンルデ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕K酸溶解て本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
これらの染料はλ&以上組合せて用いることもできる。
本発明の染料は、明室取扱い歌可能にするに必要な量用
いられる。
いられる。
具体的な染料の使用量は、一般に1O−3f/m2〜/
l/m2、特に10−3り7m 2〜0 。
l/m2、特に10−3り7m 2〜0 。
327m の範囲に好ましい量を見い出すことができる
。
。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることかできる。たとえばゼラチン材導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の類キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
銹導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることかできる。たとえばゼラチン材導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の類キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
銹導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴会!IJ増ぶ法のうち金増g法はその代表的なもので
金化合物、主として金8v!Lf用いる。金以外の貴金
属、たとえば白金、ノでラジウム、イリジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。その具体例は米国特許λ、弘
グ♂、oto号 英国特許t/r、ot1号などに記載
されている。
金化合物、主として金8v!Lf用いる。金以外の貴金
属、たとえば白金、ノでラジウム、イリジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。その具体例は米国特許λ、弘
グ♂、oto号 英国特許t/r、ot1号などに記載
されている。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、植々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、植々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよい。
光増感色素を添加してもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプト〈/ゾテアン゛−ル類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチア
ゾール類、ニドaベンゾトリアゾール類、など;メルカ
プトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン類(’1ltK4’−ヒトaキシ置換(/、J、J
a、7)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類
など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン
酸、〈ンゼンスルフオン酸アミと等のようなカプリ防止
剤または安定剤として知られた多くの化合物を加えるこ
とができる。これらのものの中で、好まじりのけベンゾ
トリアゾール類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾ
ール)及びニトロインダゾール類(例えば!−二トロイ
ンダゾール)である。また、これらの化合物を処理液に
含有させてもよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプト〈/ゾテアン゛−ル類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチア
ゾール類、ニドaベンゾトリアゾール類、など;メルカ
プトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン類(’1ltK4’−ヒトaキシ置換(/、J、J
a、7)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類
など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン
酸、〈ンゼンスルフオン酸アミと等のようなカプリ防止
剤または安定剤として知られた多くの化合物を加えるこ
とができる。これらのものの中で、好まじりのけベンゾ
トリアゾール類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾ
ール)及びニトロインダゾール類(例えば!−二トロイ
ンダゾール)である。また、これらの化合物を処理液に
含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤全含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤全含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョウバン、など)、アルデヒ
ド類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘導体、
活性ビニル化合物(/ 、 J、j−トリアクリロイル
ーヘキ丈ヒドロ−5−) ’Jアジン、l、3−ビニル
スルホニル−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化
合物(j、4t−ジクロル−Δ−ヒドロキシー5−)リ
アジンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組
み合わせて用いることができる。
ド類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘導体、
活性ビニル化合物(/ 、 J、j−トリアクリロイル
ーヘキ丈ヒドロ−5−) ’Jアジン、l、3−ビニル
スルホニル−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化
合物(j、4t−ジクロル−Δ−ヒドロキシー5−)リ
アジンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組
み合わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤金倉んでも°よい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤金倉んでも°よい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又F′ipリエ
テレングリコールアルギルアリールエーテル類、=t”
Jエチレンクリコールエステル類、ポリエチレングリコ
ールノルビタンエステル類、ポリアルキレンクリコニル
アル牛ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレ
ンオΦサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば
アルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノー
ルポリグリセリド)、多(ifliアルコールの脂肪酸
エステル類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性
界面活性剤;アルキルカルlン酸塩、アルキルスルフォ
ン酸塩、アルキル(ンゼンスルフオン酸塩、アルキルナ
フタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、ア
ルキルリン酸エステルK N−アシル−N−アルキルタ
ウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキル
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような
、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基
、リン酸エステル基等の酸性基金含むアニオン界面活性
剤;アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノ
アルキル硫酸又はすン酸エステル類、アルキルベタイア
類、アミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキル
アミン塩類、脂肪族あるいは芳香族筒グ級アンモニウム
塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第v
級アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホス
ホニウム又はスルホニウム塩類など。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又F′ipリエ
テレングリコールアルギルアリールエーテル類、=t”
Jエチレンクリコールエステル類、ポリエチレングリコ
ールノルビタンエステル類、ポリアルキレンクリコニル
アル牛ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレ
ンオΦサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば
アルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノー
ルポリグリセリド)、多(ifliアルコールの脂肪酸
エステル類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性
界面活性剤;アルキルカルlン酸塩、アルキルスルフォ
ン酸塩、アルキル(ンゼンスルフオン酸塩、アルキルナ
フタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、ア
ルキルリン酸エステルK N−アシル−N−アルキルタ
ウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキル
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような
、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基
、リン酸エステル基等の酸性基金含むアニオン界面活性
剤;アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノ
アルキル硫酸又はすン酸エステル類、アルキルベタイア
類、アミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキル
アミン塩類、脂肪族あるいは芳香族筒グ級アンモニウム
塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第v
級アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホス
ホニウム又はスルホニウム塩類など。
のカチオン界面活性剤を用いることができる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤F′
i特公昭18’−5’4(/λ号公報に記載された分子
量too以上のポリアルキレンオキサイド類である。又
、寸度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポ
リマーラテックスを含有せしめることができる。
i特公昭18’−5’4(/λ号公報に記載された分子
量too以上のポリアルキレンオキサイド類である。又
、寸度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポ
リマーラテックスを含有せしめることができる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭j3−77t/l、同3
グー3773λ、同jj−/37゜/3!、同40−1
410.J弘O1同IQ /弘り!り、などに開示さ
れている化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物
が有効でおる。
現像の促進剤としては、特開昭j3−77t/l、同3
グー3773λ、同jj−/37゜/3!、同40−1
410.J弘O1同IQ /弘り!り、などに開示さ
れている化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物
が有効でおる。
次に具体例全列挙する。
7
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが/ 、0X10−3〜0.3?/m2、好まし
くは! 、0x10−3〜0 、/ 97m2の範囲で
用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(F
12Q)メタノールやエタノールなどのアルコール類、
アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブな
ど)に溶解して塗布液に添加される。
異なるが/ 、0X10−3〜0.3?/m2、好まし
くは! 、0x10−3〜0 、/ 97m2の範囲で
用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(F
12Q)メタノールやエタノールなどのアルコール類、
アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブな
ど)に溶解して塗布液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許筒2.e/
?、り7j号に記載されたpH/3に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
できる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許筒2.e/
?、り7j号に記載されたpH/3に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
できる。
すなわち、本発明のノ・ロゲン化銀感元材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンfO,/Jモル/1以上含み、p
H10,!〜/2.3、特にpH//、0〜ix、oの
現像液によって充分に超疋調のネガ画像を得ることがで
きる。
としての亜硫酸イオンfO,/Jモル/1以上含み、p
H10,!〜/2.3、特にpH//、0〜ix、oの
現像液によって充分に超疋調のネガ画像を得ることがで
きる。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドンelN(例えばl−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、弘。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドンelN(例えばl−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、弘。
a−ジメチル−7−フェニル−3−ピラゾリドン)、ア
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミンフェ
ノール)などを単独あるいは組み合わせてもちいること
ができる。
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミンフェ
ノール)などを単独あるいは組み合わせてもちいること
ができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドア類またはアミンフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類はO+O!〜O0!モル
/113−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は
0.0tモル/!以下の範囲で併用される。
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドア類またはアミンフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類はO+O!〜O0!モル
/113−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は
0.0tモル/!以下の範囲で併用される。
また米国特許弘itタタ12号に記載されていルヨうに
、アミ7類全現像液に添加することKよって現像速度全
高め、現像時間の鐙縮化を実現することもできる。
、アミ7類全現像液に添加することKよって現像速度全
高め、現像時間の鐙縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜(iiiL酸垣、
01 炭酸塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭
化物、沃化物、及び有機カプリ防止剤(特に好ましくは
ニトロインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の
如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことが
できる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調
剤、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくけ前述の
ポリアルキレ/オキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィ
ルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミ
ダゾールスルホン酸類など)を含んでもよい。
01 炭酸塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭
化物、沃化物、及び有機カプリ防止剤(特に好ましくは
ニトロインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の
如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことが
できる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調
剤、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくけ前述の
ポリアルキレ/オキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィ
ルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミ
ダゾールスルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液にFia膜剤として水溶性アルミニウム塩などを
含んでもよい。
含んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通/z’cからto
ocの間に選ばれる。
ocの間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法により、感光材料を自動現1fJ樒に入れてか
ら出てくるまでのトータルの処理時間をりO秒〜/20
秒に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が
得られる。
明の方法により、感光材料を自動現1fJ樒に入れてか
ら出てくるまでのトータルの処理時間をりO秒〜/20
秒に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が
得られる。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭1t−j
弘、3弘7号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭to−ioり、
7≠3号に記載の化合物音用いることができる。さらに
現像液に用いるp)I緩衝剤として特開昭to−23.
弘33号に記載の化合物あるいけ特願昭C(−39−に
記載の化合物を用いることができる。
弘、3弘7号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭to−ioり、
7≠3号に記載の化合物音用いることができる。さらに
現像液に用いるp)I緩衝剤として特開昭to−23.
弘33号に記載の化合物あるいけ特願昭C(−39−に
記載の化合物を用いることができる。
以下実施例によシ、゛本発明の詳細な説明する。
1υど
(感光性乳剤の調製)
乳剤−A
50°Cに保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X1
0−7モルの6塩化イリジウム(1)カリおよびアンモ
ニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カ
リウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のPAg
を7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28μ
で、平均ヨウ化銀含有1003モル%の立方体単分散乳
剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法により
、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性ゼ
ラチンを加えた後に50°Cに保ち増感色素として5,
5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−スル
フォプロビル)オキサカルボシアニンと、銀1モル当り
10−3モルのKl溶液に加え、15分分間時させた後
降温した。
0−7モルの6塩化イリジウム(1)カリおよびアンモ
ニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カ
リウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のPAg
を7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28μ
で、平均ヨウ化銀含有1003モル%の立方体単分散乳
剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法により
、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性ゼ
ラチンを加えた後に50°Cに保ち増感色素として5,
5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−スル
フォプロビル)オキサカルボシアニンと、銀1モル当り
10−3モルのKl溶液に加え、15分分間時させた後
降温した。
乳剤−B
乳剤−への5.5′−ジクロロ−9−エチル3゜3′−
ビス(3−スルフオプロピル)オキサカルボシアニンを
添加しなかった他は、乳剤−Aと同様にして調製した。
ビス(3−スルフオプロピル)オキサカルボシアニンを
添加しなかった他は、乳剤−Aと同様にして調製した。
乳剤−C
乳剤−への5,5′−ジクロロ−9−エチル3.3′−
ビス(3、スルフオプロビル)オキサカルボシアニンを
下記化合物−3−1にかえた他は、乳剤−Aと同様にし
て調製した。
ビス(3、スルフオプロビル)オキサカルボシアニンを
下記化合物−3−1にかえた他は、乳剤−Aと同様にし
て調製した。
化合物 S−1
(C11□)3sO+llNべCH:+):+(乳剤−
D) 50°Cに保ったpl(=L Oのゼラチン水溶液中
に硝酸銀水溶液と銀1モルあたり、2.7×10−7モ
ルの6塩化ロジウム(III)酸アンモニウムと4X1
0−’モルの6塩化イリジウム(It)酸カリを含む、
塩化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時
に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.2
311の塩臭化銀単分散乳剤(C1組成70モル%)を
調製した。
D) 50°Cに保ったpl(=L Oのゼラチン水溶液中
に硝酸銀水溶液と銀1モルあたり、2.7×10−7モ
ルの6塩化ロジウム(III)酸アンモニウムと4X1
0−’モルの6塩化イリジウム(It)酸カリを含む、
塩化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時
に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.2
311の塩臭化銀単分散乳剤(C1組成70モル%)を
調製した。
この乳剤を常法に従って水洗して可溶性塩類を除去した
あと、チオ硫酸ナトリウムとカリウムクロロオーレート
を加えて化学増感を施した。さらに銀1モルあたり0.
1モル%に相当する沃化カリウム溶液を添加し粒子表面
のコンバージョンを行なった。
あと、チオ硫酸ナトリウムとカリウムクロロオーレート
を加えて化学増感を施した。さらに銀1モルあたり0.
1モル%に相当する沃化カリウム溶液を添加し粒子表面
のコンバージョンを行なった。
更に、この後に、50°Cに保ち増感色素として下記化
合物S−2を2.7X10−’モル/Agモル加え、■
5分分間時させた後に、降温収納した。
合物S−2を2.7X10−’モル/Agモル加え、■
5分分間時させた後に、降温収納した。
化合物S−2
実施例−1
(塗布試料の作成)
支持体;塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,
5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(
150μ) 支持体」二に、支持体側から順次UL、ML、OL、P
Cの層構成になる様に塗布した。以下に各層の調製法及
び塗布量を示す。
5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(
150μ) 支持体」二に、支持体側から順次UL、ML、OL、P
Cの層構成になる様に塗布した。以下に各層の調製法及
び塗布量を示す。
(UL)
前記、乳剤−Aをゼラチンと共に40°Cで溶解した後
、5−メチルベンズトリアゾール3■/rrf、4−ヒ
ドロキシ−1,3,3a、7−テトラザインデン1.3
■/ポ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及びゼラチ
ンに対して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼ
ラチン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、Ag0
.4g/n(、レドックス化合物6. 4 X l O
−5mol/ rd、ゼラチン0.5g/mとなるよう
に塗布した。
、5−メチルベンズトリアゾール3■/rrf、4−ヒ
ドロキシ−1,3,3a、7−テトラザインデン1.3
■/ポ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及びゼラチ
ンに対して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼ
ラチン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、Ag0
.4g/n(、レドックス化合物6. 4 X l O
−5mol/ rd、ゼラチン0.5g/mとなるよう
に塗布した。
化合物(イ)
C2■s
0.4mg/ボ
08
(ML)
ゼラチンlOg、前記化合物(ニ)を含む水溶液、完成
量250mρになる様に調製し、ゼラチン1.5g/m
になる様に塗布した。
量250mρになる様に調製し、ゼラチン1.5g/m
になる様に塗布した。
(OL)
前記、乳剤−Aを40°Cにて溶解し、5−メチルベン
ズトリアゾール85■/イ、4−ヒドロキシ−1,3,
3a、7−チトラザインデン、ヒドラジン誘導体m
5 (6,7X 10−5mol/nf)、化合物(イ
)3■/ボ、(ロ)15mg/ボ、(ハ)(50mg/
n?)及びゼラチンに対して30wt%のポリエチルア
クリレート及びゼラチン硬化剤として化合物(ニ)ゼラ
チンに対して4wt%を添加し調製した。Ag3.4g
/rrfとなる様に塗布した。
ズトリアゾール85■/イ、4−ヒドロキシ−1,3,
3a、7−チトラザインデン、ヒドラジン誘導体m
5 (6,7X 10−5mol/nf)、化合物(イ
)3■/ボ、(ロ)15mg/ボ、(ハ)(50mg/
n?)及びゼラチンに対して30wt%のポリエチルア
クリレート及びゼラチン硬化剤として化合物(ニ)ゼラ
チンに対して4wt%を添加し調製した。Ag3.4g
/rrfとなる様に塗布した。
(pc)
ゼラチン溶液にポリメチルメタクリレート分散物(平均
粒径2.5μ)、更に次の界面活性剤を添加し、ゼラチ
ン1.5g/ml、ポリメチルメタクリレートとして0
.3g/r+となる様に塗布し男」Pdを剤− C1l□C00C6H この様にして作成したものを試料1−1とした。
粒径2.5μ)、更に次の界面活性剤を添加し、ゼラチ
ン1.5g/ml、ポリメチルメタクリレートとして0
.3g/r+となる様に塗布し男」Pdを剤− C1l□C00C6H この様にして作成したものを試料1−1とした。
この塗布試料処方のULに、レドックス化合物及びアス
コルビン酸誘導体を添加した他は、試料1−1と同様に
して試料1−2〜I−8を作成した。レドックス化合物
、及び、アスコルビン酸誘導体の種類及び添加量は、表
−1に示した通りである。
コルビン酸誘導体を添加した他は、試料1−1と同様に
して試料1−2〜I−8を作成した。レドックス化合物
、及び、アスコルビン酸誘導体の種類及び添加量は、表
−1に示した通りである。
(性能の評価)
これらの試料を、3200″にのタングステン光で光学
クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フィルム、1
50Lチェーンドツト型)を通して露光後、次の現像液
で34°C30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フィルム、1
50Lチェーンドツト型)を通して露光後、次の現像液
で34°C30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
定着液としては、富士フィルム■社製、GRFlを用い
た。
た。
現像液
12
得られたザンプルの網点品質および網階調の測定結果を
表1に示した。網階調は、次式で表わした。
表1に示した。網階調は、次式で表わした。
G;特性曲線で濃度0.3の点と3.0の点を結ぶ直線
の傾きである。値が大きいほど硬調であることを表わす
。
の傾きである。値が大きいほど硬調であることを表わす
。
*網階m−95%の網面積率を与える露光量△fogE
(ffiogE 95%)−5%の網点面積率を与える
露光量(#ogE 5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、rl」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、r 5 J、「4」が実用可能で
、「3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1
」は実用不可能な品質である。
(ffiogE 95%)−5%の網点面積率を与える
露光量(#ogE 5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、rl」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、r 5 J、「4」が実用可能で
、「3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1
」は実用不可能な品質である。
結果を表1に示した。
本発明のザンプルは、Gが高く、著しく硬調であること
、また網階調が著しく広く網点品質の良いことがわかる
。
、また網階調が著しく広く網点品質の良いことがわかる
。
実施例−2
(塗布試料の作成)
支持体;塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,
5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(
150μ) 支持体上に、支持体側から順次U L、M L、OL、
PCの層構成になる様に塗布した。以下に各層の調製法
及び塗布量を示す。
5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(
150μ) 支持体上に、支持体側から順次U L、M L、OL、
PCの層構成になる様に塗布した。以下に各層の調製法
及び塗布量を示す。
(UL)
前記、乳剤−Aを40°Cにして溶解し、5−メチルベ
ンズトリアゾール90■/ポ、4−ヒドロキシ−1,3
,3a、7−チトラザインデン、ヒドラジン誘導体Il
l 5 (8,l X I O−5mol/rr?)
化合物(イ)3ag/n(、(ロ)16II1g/m、
(ハ)50■/イ及びゼラチンに対して30wt%のポ
リエチルアクリレート及びゼラチン硬化剤として化合物
(ニ)ゼラチンに対してwt%を添加し調製した。Ag
3.8g/n(となる様に塗布した。
ンズトリアゾール90■/ポ、4−ヒドロキシ−1,3
,3a、7−チトラザインデン、ヒドラジン誘導体Il
l 5 (8,l X I O−5mol/rr?)
化合物(イ)3ag/n(、(ロ)16II1g/m、
(ハ)50■/イ及びゼラチンに対して30wt%のポ
リエチルアクリレート及びゼラチン硬化剤として化合物
(ニ)ゼラチンに対してwt%を添加し調製した。Ag
3.8g/n(となる様に塗布した。
(OL)
前記、乳剤−Bをゼラチンと共に40°Cで溶解した後
、5−メチルベンズトリアゾール3 rng / %、
4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザインデン
、下記化合物(イ)0.4■/M、(ロ)1.5n+g
/nイ、(ハ) 15mg/n(及びゼラチンに対して
30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチン硬化
剤として下記化合物(ニ)ゼラチンに対して4wt%を
添加し、Ag0.4g/n(、ゼラチン0.5g/mと
なるように塗布した。
、5−メチルベンズトリアゾール3 rng / %、
4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザインデン
、下記化合物(イ)0.4■/M、(ロ)1.5n+g
/nイ、(ハ) 15mg/n(及びゼラチンに対して
30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチン硬化
剤として下記化合物(ニ)ゼラチンに対して4wt%を
添加し、Ag0.4g/n(、ゼラチン0.5g/mと
なるように塗布した。
化合物(イ)〜(ニ)は、実施例−1と同じ物を意味す
る。(ML)は、実施例−1と同様にして調製し、ゼラ
チン2.0g/n(となるように塗布した。
る。(ML)は、実施例−1と同様にして調製し、ゼラ
チン2.0g/n(となるように塗布した。
(p c)は、実施例−1と全く同様にして調整し、ゼ
ラチンo、5g/rd、ポリメチルメタクリレートして
0.3g/n(となる様にして塗布した。
ラチンo、5g/rd、ポリメチルメタクリレートして
0.3g/n(となる様にして塗布した。
この様にして作成した塗布試料を試料ll−1とした。
試料1−1のOLにレドックス化合物及びアスコルビン
酸誘導体を添加した他は、試料1t−1と同様にして、
試料n−2〜ll−8を作成した。
酸誘導体を添加した他は、試料1t−1と同様にして、
試料n−2〜ll−8を作成した。
レドックス化合物及びアスコルビン酸誘導体の種類、添
加量は表−2の通りである。
加量は表−2の通りである。
これらの試料を、実施例−1と同様にして露光、処理、
評価した。結果を表−2に示した。
評価した。結果を表−2に示した。
本発明の試料は、Gが高く、著しく硬調であること、ま
た、網階調が著しく広く網点晶質が良いことが分かる。
た、網階調が著しく広く網点晶質が良いことが分かる。
実施例−3
(塗布試料の作成)
実施例−2(II−1)のULの乳剤−Aを乳剤りに入
れ替え、OLの乳剤−Bを乳剤−Cに入れ替えた他は、
実施例−2の塗布試料の作成と同様にして、調整塗布し
た。これを試料1ff−1とした。試料111−1のt
J Lのヒドラジン誘導体を■5 5、 OX 1.
0−’ mol/rrf、及びDI−191、OX l
0−5s+ol/n(となる様に変更し、更にOLに
レドックス化合物及びアスコルビン酸誘導体を添加した
他は、上記処方と同様にして、試料111−2〜lll
−9を作成した。
れ替え、OLの乳剤−Bを乳剤−Cに入れ替えた他は、
実施例−2の塗布試料の作成と同様にして、調整塗布し
た。これを試料1ff−1とした。試料111−1のt
J Lのヒドラジン誘導体を■5 5、 OX 1.
0−’ mol/rrf、及びDI−191、OX l
0−5s+ol/n(となる様に変更し、更にOLに
レドックス化合物及びアスコルビン酸誘導体を添加した
他は、上記処方と同様にして、試料111−2〜lll
−9を作成した。
上記添加の各化合物の種類及び添加量は表−3に示した
通りである。
通りである。
これらの試料を実施例−1と同様にして露光、処理、評
価した。結果を表−3に示した。
価した。結果を表−3に示した。
本発明の試料は、Gが高く硬調であること、また網階調
が著しく広く、網点品質が良いことが分かる。
が著しく広く、網点品質が良いことが分かる。
120一
実施例−3のULの増感色素S−1を下記S3に、又、
OLの増感色素S−2を下記S−4にかえた他は、実施
例−3と同様にして、作成した試料について、実施例−
3と同様の露光、処理、評価を行ったが、実施例−3と
同様、本発明試料は、良好な性能を示した。
OLの増感色素S−2を下記S−4にかえた他は、実施
例−3と同様にして、作成した試料について、実施例−
3と同様の露光、処理、評価を行ったが、実施例−3と
同様、本発明試料は、良好な性能を示した。
化合物S−3
化合物S
Claims (3)
- (1)ヒドラジン誘導体を含む少なくとも1つの感光性
ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層及び/又は、該乳
剤層とは異なる親水性コロイド層に、酸化されることに
より、現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物及びア
スコルビン酸誘導体を含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - (2)レドックス化合物及びアスコルビン酸誘導体がヒ
ドラジン誘導体を含む感光性ハロゲン化銀乳剤層とは異
なる感光性ハロゲン化銀乳剤層中に含有されていること
を特徴とする特許請求範囲第1項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 - (3)レドックス化合物が下記一般式( I )で表わさ
れることを特徴とする特許請求範囲第一項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(式中、A_1、A
_2はともに水素原子又は一方が水素原子で他方はスル
フィン酸残基もしくは▲数式、化学式、表等があります
▼(式中、R_0はアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし、
lは1または2を表わす。)を表わす。Timeは二価
の連結基を表わし、tは0または1を表わす。PUGは
現像抑制剤を表わす。 Vはカルボニル基、▲数式、化学式、表等があります▼
、スルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、表等
があります▼(R_1はアルコキシ基またはアリールオ
キシ基を表わす。)イミノメチレン基、またはチオカル
ボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基またはヘテ
ロ環基を表わす。)
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
JP1290564A JP2889962B2 (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
DE69027725T DE69027725T2 (de) | 1989-09-18 | 1990-09-18 | Photographisches Hochkontrast-Silberhalogenidmaterial |
EP90117915A EP0420005B1 (en) | 1989-09-18 | 1990-09-18 | High contrast silver halide photographic material |
US08/389,728 US5780198A (en) | 1989-09-18 | 1995-02-15 | Silver halide photographic material |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP1290564A JP2889962B2 (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03150555A true JPH03150555A (ja) | 1991-06-26 |
JP2889962B2 JP2889962B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=17757658
Family Applications (1)
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JP1290564A Expired - Fee Related JP2889962B2 (ja) | 1989-09-18 | 1989-11-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2889962B2 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55149936A (en) * | 1979-05-09 | 1980-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic image forming method |
JPS61213847A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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JPS6225746A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
JPS62260153A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-12 | イ−ストマン コダツク カンパニ− | 写真要素 |
JPS63296032A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS6472140A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material |
JPH03110543A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP1290564A patent/JP2889962B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH03110543A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2889962B2 (ja) | 1999-05-10 |
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