JPH0249778A - ４ｈ―１―ベンゾピラン―４―オン誘導体およびその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗炎症剤 - Google Patents

４ｈ―１―ベンゾピラン―４―オン誘導体およびその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗炎症剤

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JPH0249778A
JPH0249778A JP63250811A JP25081188A JPH0249778A JP H0249778 A JPH0249778 A JP H0249778A JP 63250811 A JP63250811 A JP 63250811A JP 25081188 A JP25081188 A JP 25081188A JP H0249778 A JPH0249778 A JP H0249778A
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吉田　長作
Takihiro Inaba
太喜広 稲場
Keiichi Tanaka
啓一 田中
Takatsune Takeno
竹野　隆恒
Hideyoshi Nagaki
長木　秀嘉
Tomoya Shimotori
霜鳥　智也
Shinji Makino
伸治 牧野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は一般式 ％式％ フェニルもしくは複素環式基、または式暮式中、Ｒ１は
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル、低
級アルケニルまたはアリール基を；Ｒ２は水素原子、ア
ルキル基またはアシル基を；Ｒ３は水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、アンド基、カルボキシル基、ヒドロキ
シル基、ホルミル基もしくはアルコキシカルボニル基ま
たは置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、フェ
ノキシ、シクロアルキル、カルバモイル、アミンもしく
はフェニル基を；Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル シル基もしくはアルコキシカルボニル 置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、フェニルチオ、低級アルキニル、低級アルケニル
、スルファモイル、アルキルス（Ｒ６は水素原子、ヒド
ロキシル基、シアノ基もしくはアルコキシカルボニル基
または置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル
、フェニル、アミン、アシル、カルバモイル、アルキル
スルホニル、イミノメチルもしくはアミジノ基；Ｒ７は
水素原子、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ
、フェニル、シクロアルキルもしくは複素環式基を示す
かまたはＲ６とＲ７が隣接する窒素原子と一緒になって
３〜７員環の置換されていてもよい襟素環式基を示す。
）を；Ｒ５は買換されていてもよいフェニル、ヂエニル
、フリルまたはピリジル基を；Ｚは酸素原子、硫黄原子
またはイミノ基を：および破線は単結合または二重結合
を示す。霞で表わされる４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン誘導体およびその」ｎ並びにそれらを含有する抗炎
症剤に関する。
而して、本発明の目的は、優れた抗炎症作用、解熱３真
痛作用、抗関面炎作用および抗アレルギー作用を有し、
優れた治療効果を発揮する新規な４日−１−ベンゾピラ
ン−４−オン誘導体およびその塩並びにそれらを含有す
る抗炎症剤を提供することにある。
［従来の技術］ 置換スルホンアミド系化合物は、たとえば、待聞昭４６
−４８２０月、同４７−２７９６１号、同５５−２０７
７７＠、同５７−１３６５６０号、同５７−１４０７１
２号、同５７−２０３０７９号、同５８−１７０７１８
号、同５９−３１７５５号、同６０−１９９３９４号、
同６３−１９０８６９号、特公昭５８−５０９８４号、
同５９−４４３１１号などに記載されており、消炎頂痛
作用な有することも知られている。しかし、４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オン前略を有する置換スルホンアミ
ド系化合物については全く知られていない。
：発明が解決しようとする課題］ 現在使用されている非ステロイド系酸性抗炎症剤の多く
は、その治療に必要な使用量と副作用、特に潰瘍誘発作
用を発現する使用量との間に大きな差がなく、治療係数
が低いため、より安全性の高い抗炎症剤の開発が望まれ
ていた。
［課題を解決するための手段］ このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を行
った結果、−殺伐［工］で表わされる新規な４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オン誘導体およびその塩が、前記し
た優れた治療効果を発揮し、かつ潰瘍誘発作用をほとん
ど示さない安全性の高い化合物であることを見出し、本
発明を完成するに至った。
以下、本発明化合物について詳）ホする。
本明細書において各用語は、特にことわらない限り、以
下の意味を有する。
アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、Ｉｓ叶プロピル、ｎ−ブチル、ｌ５Ｏ−ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよ
びオクチルなどのＣアルキル基を：１〜８ シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシ
クロヘプチルなどのＣ３〜８シクロアルキル基を；低級
アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、ロープロ
ピル、１ＳＯ−プロピル、ｎ−ブチル、１ｓｏ−ブチル
、ｔｅｒｔ−ブチルおよびペンチルなどのＣアルキル基
を；低級アルケニ１〜５ ル基とは、たとえば、ビニル、アリル、１−プロペニル
および１−ブテニルなどのＣ２〜５アルケニル基を；ア
ルコキシ基とは、たとえば、−０−アルキル基（アルキ
ル基は、上記したＣ１〜８アルキル基を示す。）を；ア
シル基とは、たとえば、ホルミル基またはアセチル、プ
ロピオニルおよびブチリル基なとのＣ２〜８アルカノイ
ルメトキザリルおよびエトキサリルなどのアルコキシオ
キサ１ノル基、シクロヘキサンカルボニルのＣ　　　シ
クロアルキルカルホニル基またはべ３〜８ ンゾイル基などのアロイル基などを：アルキルスルホニ
ル基とは、たとえば、−ＣＯＯアルキル基（アルキル基
は、上記したＣ１〜８アルキル基を示す。）を；ハロゲ
ン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子などを；アルキルチオ基とは、たとえば、−Ｓ
−アルキル基（アルキル基は、上記したＣ　　　アルキ
ル基を１〜８ 示す。）を：アルキルスルフィニル基とは、たとえば、
メチルスルフィニルおよびエチルスルフィニルなどのＣ
　　　アルキルスルフィニル基を；１〜４ アルキルスルホニル基とは、たとえば、メチルスルホニ
ルおよびエチルスルホニルなどのＣ１〜４アルキルスル
ホニル基を；アリール基とは、たとえば、フェニルおよ
びナフチルなどの基を；アシルアミノ基とは、たとえば
、−＼Ｈーアシル基（アシル基は、上記したと同様の意
味を有する。）を；アルキルアミノ基とは、たとえば、
−ＮＨ−アルキル基（アルキル基は、上記したＣ１〜８
アルキル塁を示す。）を；ジアルキルアミノ基とは、た
とえば、 Ｃ　　　アルキル基を示す。）を；ハロアルキル１〜８ 基とは、たとえば、クロロメチル、フルオロメチル、ジ
クロロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロエチルお
よびトリクロロエチルなどのハローＣアルキル基を；ア
ルキルスルホニルオキ１〜８ シ基とは、たとえば、アルキルスルホニル−〇−基（ア
ルキルスルホニル基は、上記したＣ１〜４アルキルスル
ホニル基を示す。）をニアツールスルホニルオキシ基と
は、たとえば、フェニルスルホニルオキシおよびｐ−ト
ルエンスルホニルオキシなどの基を：低級アルキニル基
とは、たとえば、エチニルおよび２−プロピニルなどの
Ｃ２〜５アルキニル基を；複素環式基とは、たとえば、
チエニル、フリル、ピロリル、オキサシリル、イソオキ
サゾ１ノル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、１，２．
３−チアジアゾリル、１．２．４チアジアゾリル、１．
３．４−チアジアゾリル、１．３．４−オキサジアゾリ
ル、１，２．３−トリアジニル、１，２．４−トリアゾ
リル、テトラゾリル、ピ１ノジル、キノリル、イソキノ
リル、ピリミジニル、ピペラジニル、ピラジニル、ビワ
ダシニル、１，２．３．４−テトラヒドロキノリル、１
．２．４−トリアジニル、イミダゾ［１，２−ｂ］　　
［１，２，４］　トリアジニル、ピロリジニル、モルホ
リニルおよびキヌクリジニルなどの酸素原子、窒素原子
および硫黄原子から選ばれる少なくとも１つの異項原子
を含有する４〜６員または縮合複素環式基を示す。
一般式［工］において、ＲおよびＲ７が隣接する窒素原
子と一緒になって３〜７員環の複素環式基を形成する場
合、その複素環式基としては、たとえば、アゼチジン−
１−イル、ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イ
ルおよびピロール−１−イルなどの３〜７員環の含窒素
複素環式基が挙げられる。
また、Ｒ３におけるアルキル、アルコキシ、シクロアル
キル イルおよびフェニル基、Ｒ４におけるアルキル、アルコ
キシ、アルキルチオ、フェニルチオ、アミジノ、低級ア
ルケニル、低級アルキニル、スルフ１モイル、アルキル
スルフィニル、アルキルスルホニル、フェニルおよび複
素環式基、Ｒ６におけるアルキル、シクロアルキル、フ
ェニル、アミン、アシル、カルバモイル、アルキルスル
ホニル、イミノメチルおよびアミジノ基；Ｒ７における
アルキル、アルコキシ、シクロアルキル、フェニルおよ
び複素環式基、Ｒ　およびＲ７が隣接する窒素原子と一
諸になって形成される３〜７員環の複素１Ｍ式基並びに
Ｒ５におけるフェニル、チエニル、フリルおよびピリジ
ル基（訳ハロゲン原子、アルコキシ、アルキルチオ ル、アシル、アルコキシカルボニル ル、スルファモイル、シアノ、アルキルスルホニル、ヒ
ドロキシル、メルカプト、アシルアミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、オ
キソ、ニトロ、ハロアルキル、アミン、フェニル、アル
コキシカルボニルアミノヒドロキシイミノおよび複素環
式基から選ばれる一種以上の置換基で置換されていても
よい。
−殺伐［工］の４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン誘導
体の塩としては、医薬として許容される塩、たとえば、
ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；
カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属
との塩；アンモニウム塩、トリエチルアミンおよびピリ
ジンなどの有数アミン類との塩；リジン、アルギニンお
よびオルニチンなどのアミノ酸との塩；塩酸、臭化水素
酸および硫酸などの鉱醒との塩；フマル酸、マレイン酸
、リンゴ酸およびクエン酸などの有機カルボン酸との塩
；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸およびナ
フタレンジスルホン酸などのスルホン酸との塩などが挙
げられる。
本発明化合物は、さらに全ての異性体（幾何異性体、光
学異性体）、水和物、溶媒和物および結晶形を包含する
ものである。
一般式［工］の４日−１−ベンゾピラン−４−オンＭ４
体またはその塩は、たとえば、つぎに示す方法によって
製造することができる。
またはその反応性ｔＨｐ１体 「式中、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５Ｒ６、Ｒ７
および破線は前記した意味を有し、Ｒ８は低級アルキル
基；Ｒ９は置換されていてもよいアルキルまたはフェニ
ル基を：Ｒ１０は水素原子、アルコキシ基または置換さ
れていてもよいアシル、アルキル、シクロアルキル、フ
ェニルもしくはアルコキシカルボニル基を；Ｒ１１は水
素原子またはクロロスルホニルまたはアルキル基を；Ｒ
３ａはＲ３で説明したと同様の水素原子または置換され
ていてもよいアルキル、シクロアルキルもしくはフェニ
ル基を；Ｒ３ｂはＲ３で説明したと同様の置換されてい
てもよいフェニル基を；Ｒ３０はＲ３で説明したと同様
のヒドロキシル、シアンもしくはアジド基または置換さ
れていてもよいアルコキシもしくはアミノ基を；Ｒ４ａ
はＲ４で説明したと同様の水素原子、シアン、アシルも
しくはアルコキシカルボニル基または置換されていても
よいアルキルもよびＲは前記した意味を有する。）を、
Ｒ６ａはＲ６で説明したと同様のシアンまたは置換され
ていてもよいアルキル、シクロアルキルもしくはフェニ
ル基を；Ｒ７ａはＲ７で説明したと同様の置換されてい
てもよいアルキル、シクロアルキル、アルコキシ、フエ
、ニルまたは複素環式基を；Ｒ５ａは置換されていても
よいフェニル、チエニル、フリル、ピリジル、ジフェニ
ルヨウドニウムまたは４−ピリジルピリジニウム基を；
Ｍｌは水素原子、ナトリウムもしくはカリウムなどのア
ルカリ金属原子、マグネシウムなどのアルカリ土類金属
原子または銅（１価）などの遷移金属原子を；Ｘはハロ
ゲン原子を；Ｙはハロゲン原子または水素原子を：〜は
（Ｅ）異性体または（Ｚ）異性体またはそれらの混合物
であることを意味する。」−投銭［ニー１］〜Ｃｌ−３
３１の化合物は塩としても１昇ることもでき、それらの
塩としては、−投銭Ｃ工Ｅの化合物の塩と同様のものが
挙げられる。
以下、各製造法について説明する。
（製造法１） （１）−１１式［３コの化合物を閉環反応に付すことに
よ・）て−投銭［Ｉ−２］の化合物を得ることができる
。
この反応においては溶媒を用いてもよく、その溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定
されないが、たとえば、ベンゼン、キシレンなどを使用
することができる。しかしながら、この反応は溶媒の不
存在下に行うこともできる。
この閉環反応では縮合剤が使用され、その縮合剤として
は、五酸化リン、ポリリン酸、塩化亜鉛、濃硫酸、ハロ
ゲノスルホン酸、無水硫酸および濃硫酸−塩化アセチル
などが挙げられる。
これらの縮合剤の使用量は、−１１式［３］の化合物に
対して、１〜５０倍モルである。
この反応は通常Ｏ〜１２０°Ｃで、３０分〜２４時間実
施すればよい。
また、−投銭［３］の化合物を塩化チオニルまたは′ｆ
１．塩化ワンなどの酸ハロゲン化剤を使用して、カルボ
ン酸ハライドとした後、塩化アルミニウムなどのルイス
酸を使用してフリーデル・クラフト反応を行うことによ
り閉環することもできる。
（２）−投銭［Ｉ−２］の化合物を脱水素化反応に付す
ことにより、−投銭［Ｉ　−１］の化合物を得ることが
できる。
脱水素化反応は、たとえば、つぎのようなものか挙げら
れる。
（ｉ）　　−投銭［ニー２］の化合物を脱水素化剤と反
応させることにより、−投銭１ニー１］の化合物を得る
ことができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば待に限定されないが、たとえば、
水：酢酸；無水酢酵；ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類；ジオキサンなどのエーテル類な
どが挙げられる。
この反応に使用される脱水素化剤としては、たとえば、
２，３−ジクロロ−５，６−ジシアツー１．４−ベンゾ
キノン（ＤＤＱ＞　、クロラニル、トリチルバークロレ
ート、トリチルフルオロボレート、二煎化セレン、パラ
ジウム−炭素などが挙げられる。
この反応にａ５ける脱水素化剤の使用量は、−投銭Ｃｌ
−２］の化合物に対して、０．５〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜１５０°Ｃで、３０分〜７２時間
実施すればよい。
（ｉｉ）　　また、　Ｆｌ’を式［Ｉ−２］の化合物に
ハロゲン化剤を反応させた後、塩基を作用させることに
よっても一般式［ニー１］の化合物を得ることができる
。
ハロゲン化反応に使用される溶媒としては、反応に悪影
響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たと
えば、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール頌；酢酸エチルなどのエステル
類；酢酸、ギ醒などの有椴カルボン酸頭などが挙げられ
、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用されるハロゲン化剤としては、たとえば
、塩素、臭素、塩化スルフリルなどが挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、−投銭［Ｉ−２］の化合物に
対して、０．９〜１．１倍モルである。
この反応は通常、Ｏ〜１００　’Ｃ１好ましくは１０〜
４０℃で、３０分〜３時間実施すればよい。
ついで、ｊｑられたハロゲン体に塩基を反応させる際、
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒でおれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素類；メタノール、エタノールなどのアル
コールＦＡ；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミ
ド類：ピリジンなどが挙げられ、これらの溶媒は二種以
上混合して用いてもよい。
この反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン
、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０１ウンデク−７
−エン（ＤＢＵ＞　、ピリジンなどの有機塩基、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリなどが挙げ
られる。
ｍｌの使用量は、−投銭［Ｉ−２］の化合物に対して、
１〜１０倍モルである。
この反応は通常、０〜ｉｏｏ　’ｃで、３０分〜２４時
間実施すればよい。
（製造法２〉 （１）　（ｉ）−投銭［７］の化合物を閉環反応に付す
ことにより、−投銭［Ｉ−３］の化合物を得ることがで
きる。
この反応においては、溶媒を用いてもよく、その溶媒と
しては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；クロロベン９ゼンなどのハ
ロゲン化芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの溶
媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応では縮合剤が使用され、その縮合剤としては、
たとえば、ハロゲノスルホン酸、無水硫酸、五酸化リン
、ポリリン酸、塩化亜鉛、濃硫酸、濃硫酸−塩化アセチ
ルなどが挙げられる。
これらの縮合剤の使用量は、−投銭［７］の化合物に対
して、１〜５０倍モルである。
この反応は通常、０〜１２０℃で、３０分〜２４時間実
施すればよい。
（１１）−投銭［７］の化合物を塩化チオニルまたは五
塩化リンなどの酸ハロゲン化剤を使用して、カルボン酸
ハライドとした後、塩化アルミニウムなどのルイス酸を
使用してフリーデル・クラフト反応を行うことにより閉
環することもできる。
（２）−投銭［Ｉ−３］の化合物を接触還元することに
より、−投銭［ニー４］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響響を
及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、メタノール、エタノールなどのアルコール類；酢酸な
どの有機カルボン酸類；酢酸エチルなどのエステル類：
ジオキサンなどのエーテル類；水酸化ナトリウム水溶液
などが禁げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用い
てもよい。
この反応に使用される触媒としては、たとえば、パラジ
ウム、パラジウム−炭素、白金、ラネーニッケルなどが
挙げられる。
触媒の使用量は、−投銭Ｃｌ−３］の化合物に対して、
０．０１〜０．５倍モルである。
この反応は通常、Ｏ〜ｉｏｏ’ｃ、好ましくは、２０〜
６０°Ｃで、３０分〜２４時間実施すればよい。
（製造法３） （１）−投銭［１１］の化合物を環形成化反応に付すこ
とによって一般式［ニー１］の化合物を得ることができ
る。
環形成化反応は、たとえば、つぎのようなものが埜げら
れる。
（ｉ）−投銭［１１１の化合物を塩基の存在下、−投銭
ＲＣ０ＯＲ［ａ］ （Ｒは、前記した意味を；Ｒ１２は水素原子または低級
アルキル基などのカルボキシル基にあけるエステル残基
を意味する。） の化合物と反応させて、β−ジケトンを得、ついで閉環
反応に付すことにより、−投銭［ニー１］の化合物を得
ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類
；メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げら
れ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
また、−投銭［ａ］の化合物を溶媒として用いてもよい
。
この反応に使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属；水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物；またはナトリウムアミド、カリウムアミドなどのア
ルカリ金属アミドなどが挙げられる。
塩基および一般式［ａ］の化合物の使用量は、−投銭［
１１］の化合物に対して、それぞれ、１〜１００倍モル
である。
この反応は通常、−２０〜１５０°Ｃで、３０分〜４８
時間実施すればよい。
また、閉環反応では触媒を用いてもよく、その触媒とし
ては、たとえば、塩化水素、臭化水素などのハロゲン化
水素；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸：酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウムなどの酢酸アルカリ；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリなどが挙げられる
。
閉環反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコール類；酢酸など
の有機カルボン酸類；水などが挙げられ、これらの溶媒
は二種以上混合して用いてもよい。
触媒の使用量は、−投銭［１１］の化合物に対して、０
．１〜５倍モルである。
この反応は通常、２０〜１００℃で、５分〜２時間実施
すればよい。
場合によってはクライゼン縮合によって得られたα−ア
シル体またはケトエステル体を中間体として単離しても
よく、その場合、中間体を塩基または酸で処理すること
により、−投銭［ニー１］の目的化合物を得ることもで
きる。
（ｉｉ）　　−投銭［１１］の化合物を一投銭ｄ （ＲＣｏ）２０　　　［ｂ］ （Ｒ３ｄはＲ３で説明したと同様の置換されていてもよ
いアルキルまたはフェニル基を意味する。）の化合物お
よび一般式 ％式％ ［］ （Ｒは前記した意味を；およびＭ２はナトリウム、カリ
ウムなどのアルカリ金属原子を意味する。）の化合物と
反応させることにより、Ｒ３がＲ３ｄである一般式［ニ
ー１］の化合物を得ることができる。
この反応は、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ
ー　（Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　）第１２５巻、第
２１９２頁（１９２４年）などに記載されているアラン
ーロビンソン（ＡＩ　１ａｎ−ＲＯｂｉｎＳＯｎ）縮合
に準じて行うことができる。
一般式［ｂ］および［Ｃ］の化合物の使用４は、−投銭
［１１］の化合物に対して、それぞれ、１〜５０倍モル
および１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜２００℃で、３０分〜２４時間実
施すればよい。
なお、場合によっては、クライゼン縮合にょっで得られ
たたα−アシル体を中間体として単離しでもよく、その
場合、中間体を塩基または酸で処理することにより、−
投銭［Ｉ−１］の目的化合物を得ることもできる。
（ｉｉｉｌ　　−投銭［１１］の化合物を一般式ＨＸＯ
［ｄ］ （×は前記した意味を有する。） の化合物および一般式 ％式％［］ （Ｒ１７は低級アルキル基を意味する。）の化合物と反
応させた後、加水分解反応に付すことにより、Ｒ３が水
素原子である一般式［ニー１　］の化合物を得ることが
できる。
この反応は、ジャーナル・オブ・ケミカル・リザーチ（
１４）　　［Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｒｅｓｅａｒｃｈ（Ｍ）］
第８６４頁〜第８７２頁（１９７８年）に記載の方法に
準じて行うことがてきる。
（ａ）なお、この反応においては一般式［ｅ］の化合物
を溶媒として使用することもできる。
−投銭［ｄ］および［ｅ］の化合物の使用量は、−投銭
［１１］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モルお
よび５〜１００倍モルである。
この反応は通常、Ｏ〜５０’Ｃで、１０分〜１２時間実
施すればよい。
（ｂ）ついで、得られた化合物を加水分解することによ
り、Ｒ３が水素原子である一般式［Ｉ　−１］の化合物
を得ることができる。
ＩＮ）Ｒが−ＣＯＲ４ｂ（Ｒ４ｂはＲ４で説明したと同
様の水素原子または置換されていてもよいアルキル、シ
クロアルキル、フェニル、アルコキシもしくは複素環式
基を意味する。）またはニトロ基である一般式［１１］
の化合物に一投銭（ＣＨ３）２ＮＣＨ（ＯＲ）２　　［
ｆｌ（Ｒ１７は前記した意味を有する。） の化合物を反応させることにより、Ｒ４が一〇０Ｒ４ｂ
（Ｒ４ｂは前記した意味を有する。）またはニトロ基で
あり、Ｒ３が水素原子である一般式［ニー１］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド項；ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類：ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジエチルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル
類などが挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用
いてもよい。
一般式［ｆ］の化合物の使用量は、−投銭［１１］の化
合物に対して、１〜５倍モルである。
この反応は通常○〜１００℃で、３０分間〜２４時間実
施すればよい。
また、Ｒが−ＣＯＲ４ｂ（Ｒ４ｂは前記した意味を有す
る。）またはニトロ基である一般式［１１］の化合物に
一般式［ｅ］および一般式［ｂ］の化合物を反応させる
ことにより、Ｒが−ＣＯＲ４ｂまたはニトロ基で必り、
Ｒ３が水素原子である一般式［ニー１］の化合物を得る
ことができる。
この反応はケミカル・ファーマシュティカル・ブレチン
［Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕ　ｌ　ｌ　、　］　
、第２２巻、第３３１頁〜第３３６頁（１９７４年）に
記載の方法に準じて行うことができる。
一般式［ｅ］および［ｂ］の化合物の使用量は、−投銭
［１１］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モルお
よび１〜５０倍モルである。
この反応は通常２０〜１５０℃で、３０分〜２４時間実
施すればよい。
ざらにＲカ神ＣＯＲ４ｂ（Ｒ４ｂは前記した意味を有す
る。）またはニトロ基である一般式［１１］の化合物に
一般式 （Ｒ１７は前記した意味を有する。） および−投銭 ％式％］ （Ｍ２は前記した意味を有する。） の化合物を反応させることにより、Ｒ４が−ＣＯＲ４ｂ
（Ｒ４ｂは前記した意味を有する。）またはニトロ基で
あり、Ｒ３が水素原子である一般式［ニー１］の化合物
を得ることができる。
この反応はケミカル・フ７−マシュティカル・ブレチン
［Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕ　ｌ　ｌ　、　］　
、第２２巻、第３３１頁〜第３３６頁（１９７４年）に
記載の方法に準じて行うことができる。
一般式［ｇ］および［ｈ］の化合物の使用量は、−投銭
［１１］の化合物に対して、それぞれ、１〜１００倍モ
ルおよび１〜５０倍モルである。
この反応は通常○〜１００　’Ｃで、３０分〜２４時間
実施すればよい。
代）−投銭［１１〕の化合物を塩基の存在下、−投銭 ％式％］ （Ｒ１７は前記した意味を有する。） の化合物と反応させることにより、Ｒ３がヒドロキシル
基である一般式［ニーＩＥの化合物を得ることができる
。
この反応においては）容媒を用いてもよく、その溶媒と
しては、反応に悪影響を及ぽざない溶媒でおれば特に限
定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素類：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの
アミド類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類が挙げられる。しかしながら、この反応は溶媒の
不存在下に行うこともできる。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属；ナトリウ
ムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド；
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、力１ノ
ウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキ
シド；水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカ
リ金属水素化物などが挙げられる。
塩基および一般式［ｉ］の化合物の使用量は、−投銭［
１１］の化合物に対して、それぞれ１〜１０倍モルおよ
び１〜１００倍モルである。
この反応は通常２０°Ｃ〜１５０°Ｃで、３０分〜２４
時間実施すればよい。
（２）−投銭［Ｉ　−１］の化合物を還元反応に付すこ
とにより、−投銭［ニー２］の化合物を得ることができ
る。
この反応は、製造法２（２）に記載の方法に準じて行う
ことかできる。
（製造法４） 一般式［１６コの化合物を一般式ｔ２９１の化合物の反
応性誘導体と反応させることにより、−投銭［工］の化
合物を得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないか、たとえば、
塩化メチレン、クロロホルム、１゜２−ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類
；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙
げられる。
また、ピ１ノジンなどの有機アミンを溶媒として使用す
ることもできる。
この反応は塩基の存在下に行うこともでき、その塩基と
しては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアル
カリ金属水素化物：ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコキシド；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などのアルカリ金属炭酸塩ニトリエチルアミン、ピリジ
ンなどの有機アミン類などが挙げられる。
−投銭［２９］の化合物の反応性誘導体としては、たと
えば、酸ハライド、酸無水物などが挙げられる。
塩基および一般式［２９］の化合物の反応性誘導体の使
用量は、−投銭［１６］の化合物に対して、それぞれ、
１〜１．５倍モルである。
この反応は一３０〜１５０°Ｃで、３０分〜２４時間実
施すればよい。
（製造法５） 一般式［４１］の化合物を一般式［３０］の化合物と反
応させることにより、−ｒｍ式［工Ｅの化合物を得るこ
とができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえば
、＼、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類；アセトンなど
のケトン類；メタノール、エタノールなどのアルコール
類：コリジンなどが挙げられ、これらの溶媒は二種以上
混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのア
ルカリ金属アルコキシド；水素化す１〜リウム、水素化
カリウムなどのアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げら
れる。
−投銭［３０］の化合物および塩基の使用量は、−投銭
［４１］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モルお
よび１〜３倍モルである。
また、この反応は触媒として一般式［４１］の化合物に
対して０．０１〜２倍モルの銅粉、酸化第一銅、塩化第
一銅、８−ヒドロキシキノＩノンー塩化第−鋼などを用
いて行うことができる。
また、４−ピリジルピリジウムクロリド塩酸塩またはジ
フェニルヨウドニウムブロミドを用いてＲ５がピリジル
またはフェニルである一般式［工］の化合物を得ること
ができる。
この反応は通常、−２０〜１６０°Ｃで、３０分〜２４
時間実施すればよい。
（製造法６） 一般式［２７］の化合物にアルカリ性過酸化水素を反応
させることにより、−投銭［ニー５］の化合物を得るこ
とができる。
なお、この反応は薬学雑誌、第７１巻、第１１７８頁〜
第１１８３頁（１９５１年）に記載されている方法に準
じて行うことができる。
（製造法７） （１）−投銭［エーロ］の化合物をハロゲン化剤と反応
させることにより、−投銭［ｌ−７Ｅの化合物を得るこ
とができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないカベたとえば
、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；酢酸エチルなどのエステル類；
酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸類などが挙げられ、こ
れらの溶媒は、二種以上混合して用いてもよいこの反応
に使用されるハロゲン化剤としては、たとえば、塩素、
臭素、塩化スルフリルなどが挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、−投銭［Ｉ−６］の化合物に
対して、０．９〜１．１倍モルである。
この反応は通常、０〜１００°Ｃ１好ましくは、１０〜
４０°Ｃで、３０分〜３時間実施すればよい。
（２）−投銭［Ｉ−７］の化合物をアジ化ナトリウムも
しくはアシ化カリウムなどのアジ化アルカリまたはアジ
化アンモニウムと反応させることにより、−ｅ式［ニー
８］の化合物を得ることができる。
この反応はケミカル・アブストラクト（Ｃ，Ａ、）第８
９巻、４３０２２ｐに記載の方法に準じて行うことがで
きる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類；スルホラン；アセトニト
リルなどのニトリル類；アセトンなどのケトン類ニジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類：メタノール、
エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類などが挙げられ、これらの
溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
アジ化アルカリまたはアジ化アンモニウムの使用量は、
−投銭［ニー７］の化合物に対して、それぞれ１〜５倍
モルである。
この反応は通常、空温〜１００’Ｃで、３０分〜１２時
間実施すればよい。
（製造法８） 一般式［ニー７］の化合物を四フッ化ホウ素酸銀の存在
下、−投銭［３１］の化合物と反応させることにより、
−投銭［ニー９］の化合物を得ることができる。
この反応において、−投銭［３１］の化合物を溶媒とし
て用いてもよい。
この反応で使用される四フッ化ホウ素酸銀および一般式
［３１］の化合物の使用量は、−投銭［ニー７］の化合
物に対して、それぞれ１〜５倍モルおよび１０〜１００
倍モルである。
この反応は通常、２０〜１００℃で、３０分〜２４時間
実施すればよい。
（製造法９） 一般式［ｌ−１０１の化合物を塩基の存在下、チオエー
テル化反応に付すことにより、−投銭［ニー１月の化合
物を得ることができる。
（ｉ）　　Ｙがハロゲン原子である一般式［ニー１０１
の化合物を塩基の存在下、−投銭 ％式％［］ （Ｒ９は前記した意味を有する。） の化合物を反応させることにより、−投銭［ニー１月の
化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム
などのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール
などのアルコール類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドな
どのアミド類；アセトンなどのケトン類；テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類などが挙げられ、
これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応で使用される塩基としては、トリエチルアミン
、ピリジンなどの有は塩基、金属ナトリウム、金属カリ
ウムなどのアルカリ金属；炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどのアルカリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、
ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド
などのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。
塩基および一般式［ｊ］の化合物の使用量は、−投銭［
ｌ−１０１の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モ
ルおよび１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜１５０℃で、３０分〜２４時間実
施すればよい。
［１ｉｉＩ　　Ｙが水素原子である一般式［Ｉ　−１０
１の化合物を塩基と反応させた後、チオエーテル化剤を
反応させることにより、−投銭１Ｉ−１１］の化合物を
得ることかできる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化
水素類；ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰ
Ａ）などが挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して
用いてもよい。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、ブチル
リチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミン、リチウムへキサメチルジシラザンなどの有償リ
チウム化合物などが挙げられる。
また、チオエーテル化剤としては、たとえば、ジメチル
ジスルフィド、ジフェニルジスルフィドなどのジスルフ
ィド；メタンチオールスルホン酸メチル、ベンゼンチオ
ールスルホン酸メチルなどのチオールスルホナート；メ
チルスルフェニルクロリド、フェニルスルフェニルクロ
リドなどのハロゲン化スルフェニルなどが挙げられる。
塩基およびチオエーテル化剤の使用量は、−投銭［ニー
１０］の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モルで
ある。
この反応は通常、−７８〜Ｏ′Ｃで、１時間〜２４時間
実施すればよい。
（製造法１０） （１）−投銭［ニー８］の化合物またはその反応性誘導
体をアシル化反応に付すことにより、−投銭［ニー１２
］の化合物を得ることができる。
このアシル化は、たとえば、−投銭［ニー８］の化合物
またはその反応性誘導体に、−殺伐％式％］ （Ｒ１０は前記したと同様の意味を有する。）の化合物
またはその反応性誘導体を反応させることにより行われ
る。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえば
、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；酢酸エチルなどのエステル類；
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどのニトリ
ル類；酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸類などが挙げら
れ、これらの溶媒は、二種以上混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いることができ、そのｍｌ
としては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩；トリエチル
アミン、ピリジンなどの有機塩基などが挙げられる。
−Ｉｉｆｆ１式［Ｉ−８］の化合物の反応性誘導体とし
ては、たとえば、通常知られた有機シリル化剤で活性化
されたものが挙げられる。
一般式［ｋｌの化合物の反応性誘導体としては、そのカ
ルボキシル基における反応性誘導体、たとえば、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性エステル、活
性アミドおよび一般式［ｋｌの化合物とビルスマイヤー
試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
一般式［ｋｌの化合物またはその塩を用いる場合は、通
常知られた縮合剤、たとえ（ま、Ｎ、Ｎ−一ジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどの存在下に反応させることも
できる。
−Ｉｉｆｆ１式［ｋｌの化合物またはその反応性誘導体
または塩基の使用量は、−投銭Ｃニー８１の化合物また
はその反応性誘導体に対して、それぞれ、１〜５倍モル
である。
この反応は通常、−２０〜１００　’Ｃで、３０分〜２
４時間実施すればよい。
また、Ｒ１０が水素原子である一般式Ｃ丁−１２］の化
合物を得るホルミル化においては、通常のホルミル化試
薬、たとえば、ギ酸−無水酢酸、ギ酸エステルなどを使
用することもできる。
（２）−投銭［ニー１２］の化合物またはその反応性誘
導体を一般式［３２］または［３３］の化合物と反応さ
せることにより、−投銭［Ｉ　−１３］の化合物を得る
ことができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
＼、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類；アセトンなどの
ケトン類；メタノール、エタノールなどのアルコール類
などが挙げられこれらの溶媒は二種以上混合して用いて
もよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのア
ルカリ金属アルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カ
リウムなどのアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム、炭
酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ
る。
−投銭［３２］または［３３］の化合物および塩基の使
用量は、−投銭［ｌ−１２］の化合物またはその反応性
誘導体に対して、それぞれ、１〜５倍モルおよび１〜３
倍モルである。
この反応は通常、−２０〜１５０　’Ｃで、３０分〜２
４時間実施すればよい。
（３）−投銭［ニー１３１の化合物を脱アシル化反応に
付すことにより、−投銭［Ｉ　−１４１の化合物を得る
ことができる。
脱アシル化反応としては、たとえば、加水分解反応が挙
げられる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないが、たとえば、
水；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類；スルホラン：アセトニト
リルなどのニトリル類；アセトンなどのケトン類ニジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類；メタノール、
エタノールなどのアルコール項；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類などが挙げられ、これらの
）容媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応は酸の存在下に行うことが好ましく、使用され
る酸としては、たとえば、塩化水素、臭化水素などのハ
ロゲン化水素類；塩酸、臭化水素酸などの鉱醒；叶トル
エンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機酸などが
挙げられる。
酸の使用量は、−投銭［ニー１３］の化合物に対して、
０．５〜５０倍モルである。
この反応は通常、０〜１５０°Ｃで、３０分〜２４時間
実施すればよい。
なあ、Ｒ１０が式 ％式％ （式中、ｍ個またはｎ個のＲ１８は同一または異なって
水素原子または前述したＲ５の置換基として述べた基が
挙げられる。） で表わされる一般式［ｌ−１３１の化合物を、オーガニ
ック・シンセシス（Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ　Ｃｏ１．　）第５巻、第９４４頁〜第９４６頁に記
載の方法に準じて反応させることにより、Ｒ６とＲ７が
隣接する窒素原子と一緒になって置換されていてもよい
３〜・７員環の複素環式基を形成する一般式［Ｉ］の化
合物に誘導することもできる。
（製造法１１） 一般式［ニー１５］の化合物を一般式［３４］または［
３５］の化合物と反応させることにより、−投銭［ｌ−
１６］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、水および製造法７
（１）に記載したと同様の溶媒が挙げられる。
一般式［３４］および［３５］の化合物の使用量は、−
投銭［ニー１５］の化合物に対して、それぞれ、１〜５
倍モルである。
この反応は通常、−２０〜１５０　’Ｃで、５分・〜２
４時間実施すればよい。
なお、タロロスルホニルイソシアナートを用いる場合、
反応後、得られた化合物をさらに通常の酸で処理するこ
とにより、−投銭［ｌ−１６］の目的化合物へ誘導する
ことができる。
（製造法１２） （１）−投銭［エーロ］の化合物を一般式［Ｉ−６］の
化合物に対して２〜２．５倍モルのハロゲン化剤と反応
させることにより、−投銭［ｌ−１７］の化合物Ｓ：得
ることができる。
この反応は製造法７（１）で説明したと同様に実施する
ことかできる。
（２）−投銭［ｌ−１７１の化合物を塩基と反応させる
ことにより、−投銭［ニー１８１の化合物を得ることが
できる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない）容媒であれば特に限定されないが、たとえば
、塩化メチレン、１．２−ジクロロエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素類：メタノール、エタノー
ルなどのアルコール項；酢酸エチルなどのエステル類；
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類；ピリジン：２．
６−ルチジンなどが挙げられ、これらの溶媒は二種以上
混合して用いてもよい。
この反応に使用される塩基としては、たとえば、トリエ
チルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、ＤＢＵなど
の有機塩基；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩などが挙げられる。
塩基の使用量は、−投銭［ニー１７１の化合物に対して
、１〜５倍モルである。
この反応は通常、２０〜１５０℃で、１０分〜２４時間
実施すればよい。
（３）−投銭［ｌ−１８１の化合物を一般式［３６］の
化合物と反応ざぜることにより、−Ｆ１式［ニー１９１
の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンのようなエ
ーテル類；ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類；水などが挙げ
られ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
−投銭［３６］の化合物の使用量は、−投銭［ニー１８
１の化合物に対して、１〜５０倍モルである。
この反応は通常、−２０〜８０°Ｃ１好ましくは、１０
〜３０’Ｃで、３０分〜２４時間実施すればよい。
（４）Ｒ６が水素原子である一般式Ｃニー１９１の化合
物を製造法１０（１）と同様の方法でアシル化すること
により、−投銭［ｌ−２０１の化合物を得ることができ
る。
（製造法１３） （１）−投銭［ニー２１］の化合物を、−投銭［ｌ−２
１１の化合物に対して、０．９〜１．５倍モルのハロゲ
ン化剤と製造法７（１）の方法と同様にして反応させる
ことにより、−投銭Ｌ　ニー２２１の化合物を得ること
ができる。
（２）−投銭Ｃｌ−２２］の化合物を製造法１０（１）
と同様の方法でアシル化することにより、−投銭［ｌ−
２３］の化合物を得ることができる。
（３）−投銭［ｌ−２３］の化合物を一般式［３７］の
化合物と反応させることにより、−投銭［ニー２４］の
化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコールＦＪ：Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミドなどのアミド項；ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド順：テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；水などが挙げられ、これ
らの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
また、この反応においては、塩基を用いてもよく、その
塩基としては、たとえば、製造法１２　（２）で説明し
たと同様の有機塩基が挙げれる。
−投銭［３７］の化合物および塩基の使用量は、−投銭
［ニー２３］の化合物に対して、それぞれ、１〜３倍モ
ルである。
この反応は通常、−２０〜１５０°Ｃで、３０分〜２４
時間実施すればよい。
一般式［３７］の化合物は、系内で調製してもよい。
また、Ｒ３ｃがシアノ基である一般式Ｉ　Ｉ　−２４］
の化合物は、通常知られている加水分解反応、エステル
化反応などにより、Ｒ３０がカルバモイル、カルボキシ
ルまたはアルコキシカルボニル基である一ｉ式［ｌ−２
４１の化合物に誘導することができる。
また、Ｒ３０がアジド基である一般式Ｃニー２４１の化
合物は、接触還元または硫化水素−トリエチルアミンな
どを用いる通常の還元反応により、Ｒ３０がアミノ基で
ある一般式［ニー２４］の化合物に誘導することができ
る。
（製造法１４） 一般式［ニー８］の化合物を一般式［３８］の化合物と
反応させることにより、−投銭［Ｉ　−２５］の化合物
を得ることができる。
この反応は、たとえば、オーガニック・シンセシス（Ｏ
ｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｃｏｔ、　）第５
巻、第７１６頁〜第７１９頁に記載の方法に準じて行う
ことができる。
（製造法１５） 一般式［Ｉ−８］の化合物を一般式［３９］の化合物と
反応させることにより、−ｉ式［Ｉ　−２６］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響企及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないが、たとえば、
製造法７（１）に記載したと同様の’ｔ’ｌＪ媒：Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミドルピロリドンなどのアミド類
；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；１，２
−ジェトキシエタンなどのエーテル類などが挙げられ、
これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いてもよく、その塩基とし
ては、たとえば、トリエチルアミン、ピリジンなどの有
機塩基；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基
などが挙げられる。
−投銭［３９］の化合物および塩基の使用量は、−投銭
［Ｉ−８］の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モ
ルおよび１〜２倍モルである。
この反応は通常、−２０〜１５０°Ｃで、３０分〜１０
時間実施すればよい。
なお、Ｒ６ａが置換されていてもよいフェニル基である
一般式［３９］の化合物を用いる場合は、ざらに、ヨウ
化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどのアルカリ金属ヨウ
化物：銅粉、酸化第１銅、塩化第１銅などの銅化合物を
単独または二種以上反応促進剤として添加してもよく、
その使用量は、般式［Ｉ−８］の化合物に対して、それ
ぞれ、０．０１〜２倍モルである。
この反応は通常、１００〜２００　’Ｃで、１〜１５時
間実施すればよい。
（製造法１６） （１）−投銭Ｃ　Ｉ−２７］の化合物を二１〜ロ化反応
に付すことにより、−投銭［　ニー２８］の化合物を得
ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、たとえば、酢酸、
無水耐酸などが挙げられる。
この反応に使用されるニトロ化剤としては、濃硝酸、発
源硝酸などが用いられ、その使用量は、−投銭Ｃ　ニー
２７］の化合物に対して、１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜１５０°Ｃで、１０分間〜２４時
間実施すればよい。
（製造法１７） 一般式［　ニー２９］の化合物を還元することにより、
−殺伐Ｊニー８］の化合物を得ることができる。
還元反応は、通常のニトロ基を還元する方法により行う
ことかできる。
（製造法１８） 一般式［　Ｉ−３０］の化合物またはその反応性誘導体
に一般式［３６］の化合物を反応させることにより、−
投銭［ニー３月の化合物を得ることができる。
−投銭［　ニー３０］の化合物の反応性誘導体としては
、たとえば、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物
、活性エステル、活性酸アミドおよび一般式［　Ｉ−３
０］の化合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体な
どが挙げられる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえば
、水；塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類；ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；ベンゼン
、トルエンなどの芳香族炭化水素類：Ｎ．Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなとのア
ミド類；アセトニトリルなどのニド１ノル類；酢酸エチ
ルなどのエステル類；ピリジン；２，６−ルチジンなど
が挙げられ、これらの溶媒は、二種以上混合して用いて
もよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、トリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリ
ジンなどの有機塩基：水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの水酸化アルカリ；炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどの炭酸アルカリなどが挙げられる。
ざらには、−投銭［３６］の化合物を塩基として使用す
ることもできる。
また、−投銭［ニー３０］の化合物を遊離酸または含窒
素有機塩基との塩の状態で使用する場合は、適当な縮合
剤を用いることにより反応させることができる。
使用される縮合剤としては、たとえば、Ｎ、Ｎ’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド 置換カルボジイミドが挙げられる。
−投銭［３６］の化合物の使用量は、−投銭［　Ｉ−３
０］の化合物またはその反応性誘導体に対して、１〜５
０倍モルである。
この反応は通常、−２０〜１５０°Ｃで、３０分〜２４
時間実施すればよい。
（製造法１９） 一般式［　ニー３２］の化合物を酸で加水分解すること
により、−投銭Ｃ　ニー３３１の化合物を得ることがで
きる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないが、たとえば、
水；ギ酸、酢酸などの有はカルホン酸類が挙げられ、こ
れらの溶媒は２種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用される酸としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸；塩化水素；臭化水素；ポリリン酸；ギ酸：三フフ化
ホウ素、四塩化チタンなどのルイス酸などが挙げられる
。
酸の使用量は、−投銭［　ニー３２］の化合物に対して
、５倍〜１００倍モルである。
この反応は通常、２０〜１５０’Ｃで、３０分〜２４時
間実施すればよい。
なお、原料化合物および中間体を塩として用いる場合、
それらの塩としては、−投銭ＩＩ］の化合物の塩と同様
のものが挙げられる。
つぎに、本発明の原料化合物は、たとえば、つぎの製造
法によって製造することができる。
（以下余白） ／ 「式中、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５穴３ａ、　
Ｒ３ｂＸＲ４ａ、　Ｒ４ｂ、　Ｒ１２、ｘ、ｂよび〜は
前記した意味を有し；Ｒ１３はハロゲン原子よたはアル
キルスルホニルオキシもしくはアリールスルホニルオキ
シ基などの脱離基を；Ｒ１４はヒトロキシル保古基を；
Ｒはアンル基を：Ｒ１６は水素原子またはヒドロキシル
保護基を意味する。」ヒドロキシル保３ｇとしては、た
とえば、メチル、エチルなどの低級アルキル基、ベンジ
ルなどのアルアルキル基が挙げられる。
なあ、原料化合物および中間体も塩として用いることが
でき、これらの塩としては、−投銭［工］の化合物の塩
と同様のものが挙げられる。
以下、各製造法について説明する。
（製造法Ａ） 一般式［１］の化合物を塩基の存在下、−投銭［２］の
化合物と反応させることにより、−投銭［３］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシドまたは水と有は溶
媒（たとえば、＼。
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、メタノール、
エタノールなど）との混合溶媒などが挙げられる。
この反応に使用される塩基としては、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ
金属水素化物などが挙げられる。
また、−投銭［２］の化合物の代わりに、β−プロピオ
ラクトンまたはその誘導体を使用してもよい。
塩基および一般式［２］の化合物の使用量は、−投銭［
１］の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モルおよ
び１〜５倍モルで必る。
この反応は通常、２０〜１００℃で、３０分〜２４時間
実施すればよい。
４位にＲ５−Ｚ−基（式中、Ｒ５およびＺは前記した意
味を有する。）を有する３−ニトロフェノール（参照：
特開昭５７−２０３０７９＠　）を、通常のニトロ基の
還元並びに前述した製造法４に記載のスルホニル化を行
うことにより、原料である一般式［１］の化合物を得る
ことができる。
（製造法Ｂ） （１）−投銭［１］の化合物を塩基の存在下、−投銭［
４］または［５］の化合物と反応させることにより、−
投銭［６］の化合物を得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類：　ＨＭＰＡ　：
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム
などのハロゲン化炭化水素類などの溶媒が挙げられ、こ
れらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用される塩基としては、金属ナトリウム、
金属カリウムのようなアルカリ金属：水素化ナトリウム
、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；ナト
リウムメトキシド、ナト１ノウムエトキシド、カリウム
ｔｅピーブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド：
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；トリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジンなどの有別ア
ミン類などが挙げられる。
一般式［４］または［５］の化合物およびｔ、Ｊの使用
量は、−投銭［１１の化合物に対して、それぞれ、１〜
５倍モルである。
この反応は一２０〜１５０°Ｃで、３０分〜２４時間実
施すればよい。
この反応で得られる一般式［６］の化合物は、シス体、
トランス体またはそれらの混合物を包含するが、これら
のシス体、トランス体またはそれらの混合物は、いずれ
もつきの反応に使用することができる。
（２）ざらに、−投銭［６］の化合物を加水分解するこ
とにより、−投銭［７］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水または水と有機溶ｔＳ＜メタノール、エタノールなど
のアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル類など）の混合溶媒が挙げられる。
この加水分解反応は、通常、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基などを用いて行うことができる
。
無機塩基の使用量は、−投銭［６］の化合物に対して、
１〜５０倍モルで市る。
この反応は通常、０〜１００°Ｃで、３０分〜２４時間
実施すればよい。
なお、Ｒ４ａがアルコキシカルボニル基である場合は、
直接−投銭［６］の化合物を製造法２（１）で述べたと
同様の閉環反応に付すことにより、投銭［ニー３］の化
合物を得ることができる。
（製造法Ｃ） 一般式［８］の化合物を塩化アルミニウム、三弗化ホウ
累などのルイス酸の存在下、−投銭１９］の化合物と反
応させることにより、　ｐ式［１０］の化合物を得るこ
とができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、１．２−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類；酢酸などの右前カルボン酸類：二硫化炭
素：ニトロベンゼンなどが挙げられ、これらの溶媒は二
種以上混合して用いてもよい。
一般式［９］の化合物およびルイス酸の使用量は、−投
銭［８］の化合物に対して、それぞれ、１〜１．２倍モ
ルおよび１〜５倍モルである。
この反応は通常、○〜１５０　’Ｃで、３０分〜２４時
間実施すればよい。
ざらに、−投銭［１０］の化合物を通常の脱保護反応に
付すことにより、−投銭［１１］の化合物を得ることが
できる。
なあ、−投銭［８］の化合物は、たとえば、４位にＲ５
−７−基（式中、Ｒ５およびＺは前記したＭＭを有ブる
。）を有する３−ニトロアニソールを、通常のニトロ基
の還元、ついでスルホニル化反応に併重−ことにより、
製造することができる。
［参照：ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー　
ＪＪ、Ｃｈｅｍ、ＳＯＣ］　、第５８１頁〜第５８８頁
（１９６０年）；ヘルベチカ・シミ力・アクタ：ｔｌｅ
ｌｖ、Ｃｈｉｍ、Ａｃｔａ］、第６１巻、第２４５２頁
〜第２４６２頁ｔ１９７８年）；ジャーナル・オブ・ケ
ミカル・ソサエティー　［Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ］、Ｍ
８８５頁〜第８８９頁（１９５９年）；ｆ＼ルベチカ・
シミ力・アクタ［Ｈｅ１ｖ、Ｃｈｉｍ、Ａｃｔａｌ　、
第４８巻、第３３６頁〜第３４７頁（１９６５年）；ケ
ミカル・アブストラクツＪＣｈｅｍｉｃａｌ　Ａｂｓｔ
ｒａｃｔｓ３第４ｏｙ、２８０６（３）（１９４６年）
１ （製造法Ｄ） 一般式［１２］の化合物を前記した製造法Ａおよび１の
方法に準じて、−投銭［２１の化合物と反応させること
により、−投銭［１３］の化合物を得、ついで、−投銭
［１３］の化合物を閉環反応に付した後、得られた一投
銭シ１４］の化合物を脱水素化反応に付すことにより、
−１式［１５］の化合物を得ることができる。
一般式［１５］の化合物を酸触媒の存在下、脱アシル化
反応に付すことにより、−投銭［１６ａｌの化合物を製
造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、水および水と有機
）容媒（たとえば、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）との混合物が挙げられる
。
この反応に使用される酸触媒としては、塩酸、硫ｉなど
の鉱酸またはパラトルエンスルホン酸なとの有機酸など
が挙げられる。
酸触媒の使用量は、−投銭［１５１の化合物に対して、
０．１〜５０倍モルで市る。
この反応は通常、Ｏ〜１５０’Ｃで、３０分〜２４時間
実施すればよい。
（製造法Ｅ） 一般式［１７１の化合物を塩基の存在下、−投銭１１８
１の化合物と反応させることにより、−投銭１１９コの
化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、１ヘルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド項；メ
タノール、エタノールなとのアルコール類か挙げられる
。−投銭［１８］の化合物を溶媒として用いることもで
きる。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなとのアルカリ金属；ナトリウ
ムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金１尼アミド
：ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ］・キシド、カ
リウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコ
キシド：水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアル
カリ金属水系化物などが羊げられる。
塩基および゛−一般式１８］の化合物の使用量は、−投
銭［１７］の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モ
ルおよび１〜１００倍モルである。
この反応は通常、２０〜１５０℃で、３０分間〜２４時
間実施すればよい。
また、Ｒ１６がヒドロキシル保’３％の場合は、投銭［
１７］の化合物を、上記と同様にして一般式［１８］の
化合物と反応させた後、通常の保３１を脱離する反応に
付すことにより一般式［１９］の化合物を得ることがで
きる。
なあ、−投銭［１］の化合物に三弗化ホウ系−酢酸また
は塩化アルミニウムー無水酢酸などを反応させることに
より、−投銭［１７１の化合物を得ることができる。
この反応は、フリース転位反応を応用するものでおり、
ケミカル”ベリヒテ（Ｃｈｅｍ、　Ｂｅｒ、　）第９５
巻、第１４１３頁（１９６２年）；ホーメーション・オ
ブ・シーシーボンド（Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃ−
ＣＢｏｎｄＳ）第■巻、第３８４頁〜第４５３頁；ジー
ン・マシュー、シーンワイル−レイナール（Ｊｅａｎ　
ｔ−１ａｔｈｉｅｕ、　Ｊｅａｎ　Ｗｅ−Ｒａｙｎａｌ
　）＠、１９７９年、ジョージ・シーム・パブリッシャ
ーズ（Ｇｅｏｇｅ　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ）発行などに記載の方法に準じて行うことができる。
（製造法Ｆ） （１）−数式［２０１の化合物を塩化アルミニウムまた
は三フッ化ホウ累などのルイス酸の存在下、−数式［９
１の化合物と反応させることにより、投銭［２１１の化
合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえば
、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンなとのハロゲ
ン化炭化水素類：二硫化炭素；ニトロベンゼンなどが挙
げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい
。
−ｔｆｆ１式［９］の化合物およびルイス酸の使用槽は
、−数式［？０］の化合物に対して、それぞれ、２〜１
０倍および２〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜１５０°Ｃで、３０分間〜２４時
間実施すればよい。
一般式［２１１の化合物を通常の脱保護反応に付すこと
により、−数式［２２］の化合物を得ることができる。
（２）−数式［２２］の化合物を製造法３で説明したと
同様の方法により、−数式［２３１の化合物を得ること
ができる。
一般式［２３］の化合物を通常の加水分解反応に付すこ
とにより、−数式［２４］の化合物を得ることができる
。
（３）−数式［２４１の化合物を、製造法２（２）と同
様に還元することにより、−数式［４０］の化合物を得
ることができる。
なお、−数式［２０］の化合物は、たとえば、４位にＨ
−Ｚ−基（式中、Ｚは前記した意味を有する。）を有す
る３−ニトロアニソールを、通常のニトロ基の還元並び
に前述した製造法４に記載のスルホニル化反応に付すこ
とにより、製造することができる。
（製造法Ｇ） 一般式［２５］の化合物を塩基の存在下、−Ｅ式［２６
］の化合物と反応させることにより、　Ｆｌｕ式［２７
］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒でおれば特に限定されないが、たとえば、
水；メタノール、エタノールなどのアルコール類などが
挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよ
い。
この反応で使用されるｍＷとしては、たとえば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの水醒化アルカリ：ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、力１ノウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アル］キシ
ドなどが挙げられる。
塩基および一般式［２６］の化合物の使用量は、−数式
［２５］の化合物に対して、それぞれ、１〜１０倍モル
および１〜１００倍モルである。
この反応は通常、Ｏ〜ｉｏｏ’ｃで、３０分〜２４時間
実施すればよい。
（製造法Ｈ） 一般式［ニー２８］の化合物を水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリで加水分解することに
より、−数式［２８１の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水；メタノール、エタノールなどのアルコール類などが
挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよ
い。
この反応に使用される水酸化アルカリの使用量は、−数
式［ニー２８］の化合物に対して、２〜５０倍モルであ
る。
この反応は通常、Ｏ〜１００　’Ｃで、３０分〜２４時
間実施すればよい。
以上、説明した製造法の他に、−数式［ニー８Ｅの化合
物に、（ｉ）イミノ酢酸アルキルエステルもしくはイミ
ノ酢酸クロリド、（ｉｉ）シアナミドまたは（ｉｉｉ）
アルキルイソチオ尿素を、それぞれ以下の（ｉ）〜（ｉ
ｉｉｌの文献に記載の方法に準じて反応させることによ
り、−数式［工］の化合物を得ることかできる。
（ｉｌシンセテイク　オーガニック　ケミストリー（Ｓ
ｙｎｔｈｅｔｉｃ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ　）ジョンウィリー　アンド　サンズ社（Ｊｏｈｎ讐
１１ｅｙ＆５ｏｎｓ、Ｉｎｃ、）　１９５３年度版、第
６３４頁〜第６３９頁 （ｉｉ）アナーレン（Ａｎｎ、　）、第４４２巻、第１
４４頁（１９２５年） （ｉｉｉｌ　Ａ−がニック　シンセシス（ｏｒｇａｎｉ
ｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ）　Ｃｏ１．　Ｖｏｌ、［ｌ、第
４４０頁〜第４４２頁さらに、本発明化合物および原料
化合物は、たとえば、通常知られている酸化、還元、脱
水、加水分解、ハロゲン化、アルキル化、アシル化、ア
ミド化、アルキルスルホニル化、アルケニルスルホニル
化、７１ノールスルホニル化、エステル化、イミノ化、
脱アルキル化、ペテロ環形成反応などを適宜組合わせる
ことにより、他の目的化合物または他の原料化合物に誘
導することもできる。
また、Ｒ、ＲおよびＲ５がホルミル、アシル、シアン、
カルバモイル 基であるかまたはこれらの官能基で置換された基である
一般式［工１の化合物は、他の目的化合物に誘導するこ
とができる。たとえば、Ｒ３　、Ｒ４およびＲ５がホル
ミル基またはホルミルで置換された基である一般式［工
ｌの化合物は、テトラヘドロン・レターズ［Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ．　Ｌｅｔｔ．　　］第１１８７頁〜第１
１９０頁（１９７４年）；シンセテイツク・コミニュケ
ーションズ［Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍ．　］　　第１１０
巻第８８９頁〜８９５頁（１９８０年）、テトラヘドロ
ンｉＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　］第３３０巻第３５６３
頁〜３５６８頁（１９７４年）、カレント・サイエンス
［Ｃｕｒｒ．Ｓｃｉ．ｌ第４９巻、第１８頁〜第１９頁
（１９８０年）、テトラヘドロン・レターズ［Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．　］第１９５５頁〜第１９
９８頁（１９７３年）、米国特許用４，　１９６，　１
２８号および第３，９０６，００５　＠、オーストラ１
ノア特許第５１６、　８９７号などに記載されている方
法に準じてＲ３、Ｒ４およびＲ５がカルボキシル ハロゲン、ニトロまたはヒドロキシル基であるかまたは
これらの基で置換された基である他の目的化合物に変換
することもできる。
また、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５がアシル基またはアシル基
で置換された基である一般式［■１の化合物は、通常知
られている反応、たとえば、ウイテッヒ（讐ｉｔｔｉｇ
）反応により、Ｒ３　、Ｒ４およびＲ５がアルケニル基
で必るかまたはアルケニル基て置換された基である目的
化合物に誘導することもできる。この反応は、オーガニ
ック・リアクション［Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｒｅａｃｔｉｏ
ｎ］第１４巻、第２７０頁〜第４９０頁に記載されてい
る方法に準じて行うことができる。
おるいはグリニヤール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）反応により
アシル基を、相当するアルコールに誘導することもでき
る。この反応は、日本化学全編、実験化学講座、第１８
巻、有機化合物の反応、第３６３頁〜第４０８頁（九色
）に記載されている方法に準じて行うことかできる。
また、Ｒ　　、Ｒ　　およびＲ５がカルボキシルまたは
カルボキシル基で置換された基である一般式［工］の化
合物は、クルチウス（Ｃｕｒｔｉｕｓ　）転移によりＲ
　　、Ｒ　　およびＲ５がアミノもしくはアルコキシカ
ルボニルアミノ基であるかまたはアミンもしくはアルコ
キシカルボニルアミノ基て置換された基て市る目的化合
物に誘導することもできる。この反応はオーカニツタ・
リアクションＪＯｒｇａｎｉｃ　Ｒｅａｃｔｉｏｎ］第
３春、第３３７頁〜第４４９頁に記載されている方法に
準じて行うことができる。
なお、原料化合物または目的化合物において、それらが
ヒドロキシル基、アミノ基またはカルボキシル基などを
有する場合、これらの基はたとえば、プロテクティブ・
グループス・イン・オーガニック・シンセシス［ＰｒＯ
ｔｅＣｔｉＶｅ　ＧｒＯＬｌｐＳ　ＩｎＯｒｇａｎｉｃ
　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　　ティー・ダブリュー・グリー
ン（Ｔ．　Ｗ．　Ｇｒｅｅｎ）著、（１９８１年）ジョ
ン・ライｌ，Ｊ・アンド・サンズ社（Ｊｏｈｎ　Ｗｌｌ
ｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ。
Ｉｎｃ．）］に記載の保護基で保護されていてもよく、
必要に応じて常法で該保護基を脱離することもできる。
一般式［Ｉ］の本発明化合物は、常法によりカプセル剤
、散剤、顆粒剤、荒削、錠剤、懸濁剤、乳剤、液剤、パ
ップ剤、軟壽剤、注射剤、点眼剤、リニメント剤、シロ
ップ剤または学則として経口または非経口で投与するこ
とができる。また、投与方法、投与量および投与回数は
患者の年齢および症状に応じて適宜増減されるが、通常
成人に対して１日約５．０ｍＦＩ〜約１０００ｍ７を１
回から数回に分割して投与すればよい。
［発明の効果］ つぎに、本発明の代表的化合物を表−１に示し、ついで
、これらの薬理作用を説明する。
なお、表−１中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４Ｒ５およびＺ
はつぎの式の置換基を示す。
（以下余白） ／ ／ ／ 表−１（Ｍき〉 一＼／ （以下余白） １、抗炎症作用 （１）カラゲニン足た浮腫抑制作用 抗炎症作用のカラゲニン足茫浮腫抑制作用は、シー・エ
イ・ウィンター（Ｃ，Ａ、　Ｗｉｎｔｅｒ）らの方法［
プロシーディングズ・オブ・ザ・ンサエティー・）ｔア
・エキスペリメンタル・バイオロジー・アンド・メディ
シン（Ｐｒｏｃｅｅｄ＋ｎｇｓ　Ｏｆ　ｔｈｅＳｏｃｉ
ｅｔｙ　ｆｏｒ　Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ　Ｂｉｏｌ
ｏｇｙ　ａｎｄＭｅｄ　ｉ　ｃ　ｉ　ｎｅ　）第１１１
巻、第５４４頁（１９６２年）］に準じて試験を行った
。
一夜絶食した容量系雄性ラット（体重９０〜１２０９）
を−群６〜７匹用い、０．５％カルボキシメチルセルロ
ース水溶液（Ｗ／Ｖ）に懸濁させた被検化合物を１ｍ／
１００ｙ体重の割合で経口投与した。１時間後、１０３
４カラゲニンを左後肢足甑皮下に０．１ｒｄ。
注射した。起炎後、３時間口に後肢足た腫脹容積を測定
し、注射前の容積から浮腫率を求め、下記の式により抑
制率を求めた。
２−′ なお、結果は抑制率（Ｘ％）により、つぎに記載の抑制
効果で表わした。
抑制率（Ｘ％） ：Ｘ＜１０．　　　　　±：１０≦Ｘ＜１５＋：１５≦
ｘ　＜２０．　　　＋＋　：　２０≦Ｘ＜３０＋＋＋　
：　３０≦Ｘ　＜４０．　＋＋＋＋　：　Ｘ≧４０その
結果を表−２に示す。
（以下余白） 表−２（カラゲニン足と浮腫抑制作用）ＩＭ；インドメ
タシン （２）アジュバント関節炎抑制作用 アジュバント関面炎抑制作用はイー・エム・グレン（Ｅ
、　Ｈ，Ｇｌｅｎｎ）の方法［アメリカン・リサーチｌ
し・オブ・ベタリナリー・リサーチ（八ｍｅｒ＋ｃａｎ
Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｖｅｔｅｒｉｎａｒｙ　Ｒｅ５
ｅａｒｃｈ）第２７巻、第３３９頁（１９６６年）］に
準じて試験した。
ライスクールイス系雄性ラット（体重１９０〜２３０７
）を１群５匹用い、アジュバントとして流動パラフィン
に結核菌（Ｈｙｃｏｂａｃｔｅｒｉｕｍｔｕｂｅｒｃｕ
ｌｏｓｉｓ）の乾燥死菌を６ｍｇ／ｒｄの割合で懸濁さ
せたものを用い、尾根部皮内に０．１ｍｌ注射した。ア
ジュバント処理後１８白目に両後肢腫服容積により群分
けし、１日１回連続７日間（表−３参照）、または４日
間（表−４参照）、被検化合物を０．５％カルボキシメ
チルセルロース水）容液（Ｗ／Ｖ）に懸濁させたものを
１ｍＱ／１００３体重の割合で経口投与した。最終投与
の翌日に両後肢腫脹容積を測定し、（１）と同様にして
抑制効果を求めた。なあ、結果は抑制率（Ｘ％）により
、つぎに記載の抑制効果で表わした。
抑制率（Ｘ％） ：ｘ＜１０．　　　　　±：１０≦Ｘ＜１５＋：１５≦
Ｘ　＜２０．　　　＋＋　：　２０≦ｘ＜３０＋　＋　
：　３０≦Ｘ　＜４０．　　＋＋＋＋　：　　Ｘ≧４０
その結果を表−３および表−４に示す。
表−３ １Ｍ；インドメタシン Ｃ以下余白） ２〜′ 表−４ アジュバント関節炎抑制作用 ■Ｍ；インドメタシン ２、潰瘍誘発作用 １群７〜８匹のウィスター系雄性ラット（体重１８０〜
２３０９）を用い、２４時間絶食（水は自由に摂取させ
る）後、０．５％カルボキシメチルセルロース水溶液（
Ｗ／Ｖ）に懸濁させた被検化合物を１ｄ／１００９体重
の割合で経口投与した。絶食絶水下に２４時間放置した
後、頚椎脱臼により致死させ、胃を摘出し、１％ホルマ
リン溶液（Ｖ／Ｖ）で３０分間固定した。この胃を大空
にそって切り開き、実体顕微鏡下で胃粘膜上に発生した
エロージョンおよび潰瘍の長さ（馴）を測定し、その総
和認（履）を求め、以下に示す判定基準にしたがって潰
瘍係数とした。
Ｏ：　ノ＜０．５゜ ２．１≦ｆ＜２゜ ４３≦１＜５ ６．７≦、ｊ＜１０゜ ８．１５≦、ｇ＜２５゜ １０．１≧４０ ついで、各被検化合物について潰瘍係数５を誘０．５≦
１＜１゜ ２≦１＜３ ５≦１＜７゜ １ｏ≦、ｇ＜１５゜ ２５≦、ｇ＜４０゜ 発する用ＬｉＵ　Ｄ５０　＜ＩｒＧ／　Ｋ’Ｊ）を求め
た。
その結果を表−５に示す。
表−５ 潰瘍誘発作用 １Ｍ；インドメタシン ＊　；ラットは、５時間絶食、給水後、試験に用いた。
３、急性毒性 ４週令のＩＣＲ系雄性マウス（体重的２０〜２５ｑ。
１群３匹）を用いて経口急性毒性を求めた。被検化合物
を０．５％カルボキシメチルセルロース水溶液（Ｗ／Ｖ
）に懸濁させたものを０．２　ｄ／１（）９体重の割合
で経口投与した。投与後１週間にわたり、股症状を観察
した。被検化合物Ｎｏ、　１．３４．３９．４６．９４
および９９の化合物はそれぞれ、５００　ｍ’Ｊ／Ｋｇ
の経口投与によっても死亡例は認められず、また、異常
行動も認められなかった。
これら被検化合物のＬＤ５ｏは５００１ｎ３／に’Ｊ以
上であった。
なお、インドメタシンのしＤ５ｏは２５ｍ３／’Ｋｇで
めった。
以上の結果から、本発明化合物は優れた薬理効果と高い
安全性を有し、インドメタシンに比べて極めて安全域の
広い化合物であることがわかる。
よって、本発明化合物は優れた薬理効果と高い安全性を
有することが明らかである。
［実施例］ つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、溶媒の混合比はすべて容量比でおり、カラムクロ
マトグラフィーにあける担体はメルク社製のシリカゲル
［キーゼルゲル６０、アート、　７７３４（Ｋｉｅｓｅ
ｌｇｅｌ　６０．Ａｒｔ、７７３４）　］を用いた。
また、以下に使用される略号はつぎの意味を有する。
Ｍｅ；メチル、Ｅｔ　：エチル、１−Ｐｒ；イソプロピ
ル、△Ｃ；アセチル、ＩＰ△；イソプロピルアルコール
、ＩＰＥ；ジイソプロピルエーテル、ｔ−Ｂｕ　；　　
ｔｅｒｔ−ブチル、ＢＺ；ベンゾイル、ＤＭＦ　：　Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ＤＭＳＯニジメチルスル
ホキシド、 〜；　（Ｅ）体、（Ｚ）体またはそれらの混合物また表
中の［］は再結晶溶媒を示す。
参考例１ （１）　３−ニトロ−４−フェノキシフェノール２３、
１９にエタノール１２０　ｄおよび水１２０威を加え、
６０°Ｃで加熱溶解させる。ついで、４Ｎ塩酸２．３威
を加え、反応温度を６５〜７０°Ｃに保ちながら鉄粉１
６、８７を２０分間を要して分割添加する。この混合物
を同温度で３０分間撹拌した後、反応液を熱時濾過し、
炉液に水５０ｍ１を加え、放冷した後、析出晶を炉底す
れば、融点１５６〜１５７℃を示す３−アミノ−４−フ
ェノキシフェノール１６．５ｇ（収率８２．１％）を得
る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４００．３３２０．１５
９０．１４５３．１２３０同様にして、表−６の化合物
を得た。
（以下余白） 表−６ （２）３−アミノ−４−フェノキシフェノール２０．１
３およびピリジン２３．７３を塩化メチレン２００　ｍ
ｌに溶解させる。氷冷下メタンスルホニルクロリド１２
．６！７を含む塩化メチレン６０威溶液を３０分間を要
して滴下する。この混合物を同温度で２時間反応させ、
これに水２００威を加えた後、４Ｎ塩酸でｆ）Ｈ３に調
整し、有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫醒マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をベンゼンから再
結晶すれば、融点１３８〜１４０°Ｃを示す３−メチル
スルホニルアミノ−４−フニノキシフエノール２３．７
ｇ（収率８４．９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４４０．３２５０．１３
１８．１２１５．１１５０同様にして、表−７の化合物
を得た。
（以下余白） 表−７ 表−７（続き） これらは、参考例１（１）および（２）と同様にして得
られた。
（以下余白 ／ ／′ ／ ／ 参考例２ ３−アミノ−４−フェノキシフェノール２０．１９を酢
酸６０７に溶解させ、これに水冷下、照水酢醒３０ｄを
加えた後、この混合物を２０〜２５°Ｃで１時間撹拌す
る。減圧下に溶媒を留去し、ｊｑられた結晶をトルエン
から再結晶すれば、融点１５１〜１５３°Ｃを示す３−
アセチルアミノ−４−フェノキシフェノール２２．６９
　（収率９３％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｒｍ−’　：　３４４０．３１９０．１
６６５．１６０５．１５４０゜１４５０、１２３８．１
２１５ 参考例３ （１）３−ニトロ−４−フェノキシアニソールを参考例
１（１）と同様に反応させて、っぎの化合物を得た。
０３−アミノ−４−フェノキシアニソール融点；１１１
〜１１３°Ｃ（５０％含水エタノールから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３４５５，３３５０．１
６１８．１５００．１４７５゜１２１５．１１６Ｏ ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２　　）　　δ（直：３．６１（２Ｈ
，ｂｓ）、３．７７（３Ｈ，Ｓ）。
６．１２〜７．４５（８Ｈ，ｍ） （２）３−アミノ−４−フェノキシアニソール２１．５
９およびトリエチルアミン１１．１Ｊを塩化メチレン２
２０　ｄに添加し、この混合物を一４０°Ｃに冷却する
。
ついで、これにトリフルオロメタンスルホン酸無水物３
１．０９を含む塩化メチレン６０威溶液を３０分間を要
して滴下した後、この混合物を一４０℃で１時間撹拌す
る。これに水２００舖を加え、有機層を分取する。有機
層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶にｎ−
ヘキサンを加え、結晶を）月収すれば、４−フェノキシ
−３−トリフルオロメチルスルホニルアミノアニソール
２５．８！１７　（収率７４．４％）を得る。
融点；５７〜５８°Ｃ ＩＲ（ＫＢｒ’）ｃｍ−１：　３２６０．１５００．１
３７０．１２３５．１２１５゜１１９０、１１２８ ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２　）δ値； ３．７９（３Ｈ，ｓ）　、　６．５８〜７．４８（９Ｈ
，ｍ）（３）４−フェノキシ−３−トリフルオロメチル
スルホニルアミノアニソール３４．７ｃＪおよびエタン
チオール３１ｇを塩化メチレン３５０ｍ１に溶解させた
後、氷冷する。同温度で塩化アルミニウム２７９を３０
分間を要して添加し、この混合物を５〜１０℃で３０分
間撹拌する。ついで、反応液を氷水３００　ｄに注ぎ、
有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に
溶媒を留去する。得られた結晶をトルエンから再結晶す
れば、融点９７〜９９°Ｃを示す４−フェノキシ−３−
トリフルオロメチルスルホニルアミノフェノール２８．
５９　（収率８５．６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；　３５００．３１５０．１５
００．１４３８．１３６０Ｎ）ＩＲ（ＣＤＣＩ３＋６６
−Ｄ）ＩＳＯ）δ値；６、５６〜７．５３（８Ｈ，ｍ）
　、　９．０３（ＩＨ，ｂｓ）１０、３（ＩＨ，ｂＳ） 同様にして、つぎの化合物を得た。
０４−フェノキシ−３−フェニルスルホニルアミンフェ
ノール 融点；１８２〜１８３°Ｃ（イソプロピルアルコールか
ら再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３４２５．３２４０．１
５００．１４８０．１３０５゜１２１５．１１６０ （４）３−アミノ−４−フェノキシアニソール１０．０
３をピリジン５０ｍ１に溶解させる。この溶液に水冷下
、メタンスルホニルクロリド５．５９９を１０分間を要
して滴下する。この混合物を２０〜２５℃で１時間撹拌
する。ついで、反応液を酢酸エチル２００　ｍ！！およ
び水１００　ｍの混合液に導入し、有機層を分取する。
有機層を２Ｎ塩１１００　ｄずつで３回洗浄した後、飽
和食塩水で洗浄する。有機層を分取し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、得られた
結晶をイソプロピルアルコールから再結晶すれば、融点
１０９．５〜１１１°Ｃを示す３−メチルスルホニルア
ミノ−４−フェノキシアニソール１２．５９　（収率９
１．９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２５０．　ｔ６１０．
１５８５．１４８０．　ｔ３２０゜１２２０、１１５Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２＞δ値； ２、９４（３Ｈ，ｓ）、　３．８１　（３Ｈ，ｓ）、　
６．３６〜７．４３（９Ｈ，ｍ）参考例４ （１）３−アミノ−４−フェニルアミノアニソール２１
．４ｇをピリジン２１０　ｄに溶解させ、氷冷する。
これにメタンスルホニルクロリド１２！７を３０分間を
要して滴下する。この混合物を５〜１０℃で２時間撹拌
した後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に水
５００　ｍｆ！および酢酸エチル３００　ｄを加え、４
Ｎ塩酸でｔ）Ｈ４に調整した後、有機層を分取する。
有は層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水５
Ａ酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にトルエンを加え、結晶を炉底すれば、
融点１０９〜１１１℃を示す３−メチルスルホニルアミ
ノ−４−フェニルアミノアニソール２３．９７　（収率
８１．８％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１＋　３３６０．３２３０．１
６００．１４９０．１３９０゜１３３０、１２９０．１
１５０ （２）３−メチルスルホニルアミノ−４−フェニルアミ
ノアニソール２９．２　ｇ、エタンチオール１８．６９
および塩化メチレン３００　ｄを混合し、氷冷する。
これに塩化アルミニウム４０３を２０分間を要して加え
、この混合物を５〜１０°Ｃで３時間撹拌する。反応液
を氷水５００　ｄに導入し、有機層を分取する。
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物にエタノールを加え、結晶を炉底すれば、
融点１８４〜１８６°Ｃを示す３−メチルスルホニルア
ミノ−４−フェニルアミノフェノール２３．９ｙ　（収
率８６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３４２５．３３８０．３
２５０．１６００．１４９０゜１３１０、１１５０ 参考例５ （１）４−メトキシ−２−二トロフェノール２（Ｉ？を
エタノール３５０　ｄに懸濁させ、これに５％パラジウ
ム−炭素５５０ｍｙを加え、常圧下、２０〜３０′Ｃで
水素添加を行う。反応終了後、触媒をン戸去し、減圧下
に炉液の溶媒を留去する。得られた結晶をイソプロピル
アルコールから再結晶すれば、２−アミノー４−メトキ
シフェノール１５．３！？　（収率９３％）を得る。
（２）２−アミノ−４−メトキシフェノール１０！７を
塩化メチレン１００　ｄに溶解させ、これにピリジン１
７ｄを加え、５°Ｃに冷却する。ついで、これにメタン
スルホニルクロワド９，１３を１０分間を要して）丙下
し、この混合物を５〜ｉｏ’ｃで１時間撹拌する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチル１
００ｍ１および水５０ｄを加えた後、混合物を４Ｎ塩酸
でｐＨ２に調整し、有機層を分取する。有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下に溶媒、を留去し、得られた残留物
をイソプロピルアルコールから再結晶すれば、融点１３
５〜１３６°Ｃを示す４−メトキシ−２−メチルスルホ
ニルアミノフェノール１４．４９　（収率９２％）を得
る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３２７５．１６００．１
５００．１４０５．１３２５１２１０、１１５０ 参考例６ ４−（３−メチルフェノキシ）−３−ニトロアニソール
を参考例１（１）および（２）と同様に処理して、３−
メチルスルホニルアミノ−４−（３−メチルフェノキシ
）アニソールを得る。
融点；８７〜８８°Ｃ（イソプロピルアルコールから再
結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３２５０．１４８０．１
３Ｂ５．１３３５．１２５０゜１２１０、１１５０．１
１０５ 同様にして、表−８の化合物を得た。
（以下余白） 表−８ （以下余白） 参考例７ （１）４−クロロ−３−ニトロアニソール２０９、酢酸
６７ｍ１および４７％（Ｗ／Δ）臭化水素酸８３ｍ１を
混合し、これに無水酢酸５０ｍ１を加え、この混合物を
８．５時間還流する。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物に酢酸エチル３００　ｄおよび水５
００ｄを加え、有機層を分取する。有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をトルエンから再
結晶すれば、融点１２３．５〜１２５．５°Ｃを示す４
−クロロ−３−二トロフェノール１５．５ｙ　（収率８
３．６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ’）　ｃｍ−１：　３４００．１５１０．
１３４０．１２８０．１２００（２）４−クロロ−３−
二トロフェノール２．０３をＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド１５威に溶解させ、これに５〜１０°Ｃで水素化ナ
トリウム（純度６０％）４９０　ｍ’ｊを１０分間を要
して添加し、ついでこれにベンジルクロリド１．５３７
を１０分間を要して滴下する。
この混合物を７０℃で１時間撹拌した後、反応液を氷水
５０７および酢酸エチル５（７の混合液に導入し、有機
層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をｎ−ヘキサンで洗浄した
後、ジイソプロピルエーテルおよびｎ−ヘキサン混合液
を加え、得られた結晶を炉腹すれば、融点５０〜５０．
５°Ｃを示す４−ペンシルオキシ−２−ニトロ−クロロ
ベンピン１．８ｇ（収率５９，４％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　１５２０．１４７５．１
３５０．１３００．１２３５．９９０（３）４−メトキ
シフェノール８８０　ｍｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド ウムｔｅｒｔーブトキシド７９０　ｍｇを加える。つい
で、これに４−ベンジルオキシ−２−ニトロ−クロロベ
ンゼン１．７３を加え、この混合物を１１０〜１２０°
Ｃで１時間撹拌する。ついで、反応液を氷水５０ｄおよ
び酢酸エチル５０ｄの混合液に導入し、有機層を分取す
る。有は層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；トルエン）で精製すれば、５−
ベンジルオキシ−２−（４−メトキシフェノキシ）ニト
ロベンゼン１．９２ｃＪを得る。
融点：１２０〜１２０．５°Ｃ（エタノールから再結晶
）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　１５２０，　１４８５
，　１２４５，　１２２５，　１２１０．　１１９５同
様にして、つぎの化合物を得た。
０５−ベンジルオキシ−２−（２−メトキシフェノキシ
）ニトロベンゼン 融点；８０〜８ドＣ（エタノールから再結晶〉ＩＲ（に
Ｂｒ）　ｃｍ”　；　１５２５，　１４９５，　１３５
０，　１２６５．　１２３５（４）５−ベンジルオキシ
−２−（４−メトキシフェノキシ）ニトロベンゼン１，
８９を酢１１１ｕ４（７に）容解させ、これに５％パラ
ジウム−炭素２００　ｍｇを加え、常圧下、空温で水素
添加を行う。反応終了後、触媒をで戸去し、減圧下に溶
媒を留去する。ついで、得られた残留物に塩化メチレン
７ｄおよびピッジンｉ．ｉｏｍ１を加えて溶解させ、こ
れにメタンスルホニルクロリド４００　ｍ！１７を５〜
１０’Ｃで５分間を要して滴下する。この混合物を同温
度で１時間撹拌した後、水２０威およびクロロホルム２
０ｍｌを加え、有機層を分取し、２Ｎ塩ｒｔｉ２０威お
よび水２００　ｄで順次洗浄する。有機層に５％水酸化
ナトリウム水溶液を加え、水層を分取する。水層を６Ｎ
塩酸でｐＨ２に調整し、酢酸エチル５０ｄを加えて、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル−１０：
１）で精製すれば、３−メチルスルホニルアミノ−４−
（４−メトキシフェノキシ）フェノール１．２９ｙ　（
収率８１．６％）を得る。
融点；１０９〜１１０．５°Ｃ（トルエンから再結晶）
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　；　３４７０，　１５００
，　１３１５，　１２２０．　１１５０同様にして、つ
ぎの化合物牙得た。
０３−メチルスルホニルアミノ−４−（２−メトキシフ
ェノキシ）フェノール 融点：１１４〜１１５°Ｃ（トルエンから再結晶）ＩＲ
（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：３４８０，３２５０，　１４９
５，　１３０５，　１２７５．　１１４０参考例８ （１）３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシア
ニソール１０７およびアセチルクロリド２．８１９を無
水塩化メチレン１００　ｍｌに溶解させ、これに水冷下
、塩化アルミニウム９．１７を５分間を要して添加する
。この混合物を２０〜２５°Ｃで１時間撹拌した後、反
応液を氷水１００　ｍ（ｌに導入し、有機層を分取する
。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
得られた結晶をイソプロピルアルコールから再結晶すれ
ば、融点１０８．５〜１１０°Ｃを示すメチル−４−メ
チルスルホニルアミノ−２−メ１〜キシー５ーフェノキ
シフェニル−ケトン９、８３ｇ（収率８６％）を得る。
ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−’　：　３３００，　１６４０
，　１６００，　１４９０．　１３３０同様にして、表
−９の化合物を得た。
（以下余白） （２）メチル−４−メチルスルホニルアミノ−２−メＩ
・キシ−５−フェノキシフェニル−ケトン１０．０９を
塩化メチレン１００威に溶解させ、これに水冷下、塩化
アルミニウム３．９１ＥＪを３０分間を要して分割添加
する。この混合物を２０〜２５℃で１時間撹拌した後、
反応液を氷水１００　ｄに導入し、有機層を分取する。
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得
られた結晶をイソプロピルアルコールから再結晶すれば
、融点１５１〜１５３°Ｃを示すメチル−２−ヒドロキ
シ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェノキシフェ
ニル−ケトン８．８　ｇ（収率９１．９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２３０．１６２５．１
５９０．１５８０．１５６０゜同様にして、表−１０の
化合物を得た。
（以下余白） 参考例９ ３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシフェノー
ル２９．７９に４０％三弗化ホウ素の酢＠溶液６０ｍ１
を加え、この混合物を７０〜７５°Ｃで３０分間撹１半
する。ついで、反応液を水５００　ｍｌに導入し、析出
結晶をン月収する。得られた結晶をイソプロピルアルコ
ールから再結晶すれば、融点１５１〜１５３°Ｃを示す
メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
− ２、８５９　（収率８８．８％）を得る。
同様にして、表−１１の化合物を得た。
（以下余白） 表−１１ 表−１１（続き） 実施例１ （１）水酸化ナトリウム４７を溶解させた水２５０　ｍ
ｌに３−メチルスルホニルアミン−４−フェノキシフェ
ノール２７．９ｇを溶解させる。これに３−クロロプロ
ピオンｉ１０．９９および水酸化ナト１ノウム４Ｊを水
３０７！に溶解させた水溶液を加え、この混合物を３０
分間還流する。反応液を水冷した後、４Ｎ塩酸でＤＨ８
に調整する。これに酢酸エチル７０ｍｆ！を力０え、水
層を分取する。水層を４Ｎ塩酸で１）Ｈ４に調整し、酢
酸エチル１００　ｍｌで抽出する。抽出した有は層を水
および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫潴マグネシウム
で乾燥する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物にジエチルエーテルを加える。析出固体を項数す
れば、融点１４５〜１４９°Ｃを示す３−（３−メチル
スルホニルアミノ−４−フェノキシフェノキシ）プロピ
オン酸８．１７　（収率？（３，１０，６）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｎｔ　’　：　３２５０１７０５．
１４８２１３２５１２１０（２）３−（３−メチルスル
ホニルアミノ−４−フェノキシフェノキシ）プロピオン
１３．５１　ｇ　＃よびポリリンＷ７０’ｊを混合し、
この混合物を６５〜７０°Ｃで１．５時間撹拌する。反
応液を氷水３００　ｍに導入し、酢酸エチル２００　ｒ
ｄ！で２回抽出する。抽出した有機層を合わせ、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた
結晶をメタノールから再結晶すれば、融点１４３〜１４
４°Ｃを示ず２，３−ジヒドロ−７−メチルスルホニル
アミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン１８．７９　（収率５６，１％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３１２０．１６６５．
１６１０．１４８５．１４４０１３２０、１２６５．１
２１５．１１６０．１１３５ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２　）δ
値： ２、７４（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１０（３
Ｈ，ｓ）４．５３（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、６．９１
〜７．４９（７Ｈ，ｍ）７、４０（ＩＨ，５） （３）２．３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ペンゾピラン−４−オン
３．３３３および２，３−ジクロロ−５゜６−ジシアノ
−１，４−ベンゾキノン３．４０７をジオキサン６０ｄ
に加え、この混合物を１２時間還流する。水冷した後、
析出物をン戸去し、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン
：酢酸エチル＝５：１）で精製すれば、７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラ
ン−４−オン（化合物Ｎｏ、　１　＞　２．６８ｇ　（
収率８１％）を得る。
融点：　２１６．７〜２１７．６°Ｃ（アセトニトリル
から再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３１１０Ｎト１旧ＣＤＣ
ＩＣＤＣｌ５＝ｄ６− Ｄ、　１２（３Ｈ，ｓ）、６．２４ ６．９８〜７．５３（６Ｈ，ｍ ７．９Ｏｆｌｆｔ、ｄ、Ｊ＝６Ｈ２ ６２０，１５８５，１５６０１４８５゜４４０、１３２
０．１１．４０ δ値； ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２） 、７．７５（ＩＨ，Ｓ） 、　９．２０（ＩＨ，ｂｓ） 実施例２ （１）３−ブロモ−２，３−ジヒドロ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン４．１２９、四フッ化ホウ素酸銀９．３７
９およびメタノール１００　ｄを混合し、この混合物を
４時間還流する。反応液を冷却した後、不溶物を項六し
、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝５
　：　１　）で精製すれば、２．３−ジヒドロ−３−メ
トキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン１．２７ＣＪ（収
率３５％）を得る。
融点：１３９〜１４１°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２３０．１６８０．１６
１０．１４９０．１４５０１３３０、１２６０．１２１
０．１１５０［２）２．３−ジヒドロ−３−メトキシ−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オン３．６３９．２．３−ジク
ロロ−５，６−ジシアツーロ、４〜ヘンゾキノン３、４
１９およびジオキサン１５０証を混合し、４８時間還流
する。反応液を冷却し、析出物を）戸去した後、減圧下
に溶媒を留去する。１Ｑられた残留物をカラムクロマト
グラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝３：１）
で精製すれば、３−メトキシ−７−メチルスルホニルア
ミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン（化合物Ｎｏ、　２　）Ｌ９１９　（収率５２．９
％）を１ｑる。
融点；１６４〜１６６°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（にＢｒ）　ｃｍ−１：　１６１０．１４８０．１４
６０．１３３０．１：？６０゜１２１５、１１７５．１
１４０ （３）３−メトキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを参
考例４（２）と同様に処理して、３−ヒドロキシ−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オン（化合物Ｎｏ、３＞を得る。
融点；１７０〜１７３°Ｃ（イソプロピルアルコールか
ら再結晶） ■旧にＢｒ）　ｒｍ−”　：　１６１０．１４８０．１
４７０．１３４０．１２６５゜実施例３ （１）３−ブロモ−２，３−ジしドロー７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン２．０６Ｃｊおよびメチルメルカプタン４
８１Ｍ７を塩化メチレン５０ｄに）容解させ、これに０
〜５°Ｃでトリエチルアミン２．０２９を；叫え、この
混合物を空温で１時間撹拌する。反応液を水３０ｄに導
入し、有Ｐｃ層を分取する。有機層を水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝５０：
１）で精製すれば、２，３−ジヒドロ−７−メチルスル
ホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノキシ−４日
−１−ベンゾピラン−４−オン９００　ｍ３　（収率４
７．４％）を得る。
融点；１２６〜１２８°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３２５０．１６９０．１６
１０．１４８０．１４４０（２）２．３−ジヒドロ−７
−メチルスルホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェ
ノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３５０ｍＪ
および２，３−ジクロロ−５，６−ジシアツー］、４−
ベンゾキノン１．０８３をジオキサン１４威中で９時間
還流する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた残
％物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：
酢酸エチル−１０：１）でネ＾製すれば、７−メチルス
ルホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノキシ−４
Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（化合物Ｎｏ、４　）
　　１６０ｍｇ（収率４５，７％）を得る。
融点：１７５〜１７６°Ｃ（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−’　：　３１２０．１６００．
１４Ｂ０，１４２０．１３１０゜（３）７−メチルスル
ホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノキシ−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オンを等モルのｍ−クロロ過
安息香酸と反応させ、３−メチルスルフィニル−７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ヘ
ンゾピラン−４−オン（化合物Ｎｏ５）を得る。
融点：２５０’Ｃ以上（アセトニ１〜ｊノルから再結晶
）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ　１：　３１００．１６２０．
１４９０．１４６０．１３４０１２８０、１２２０．１
１６０．１０６０（４）７−メチルスルホニルアミノ−
３−メチルチオ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾビ
ラン−４−オンを２倍モルのｍ−クロロ過安息香酸と反
応ざぜ、７−メチルスルホニルアミノ−３−メチルスル
ホニル−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン（化合物Ｎｏ、　６　）を得る。
融点；２５０°Ｃ以上（アセトニトリルから再結晶）−
１゜ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ　　、　３２８０．１６４０．１
６２０．１４８０．１４６０゜１３４０、１３１０．１
２９０．１２２０．１１６０実施例４ 実施例１（３）、実施例２（２）または実施例３（２）
と同様にして、表−１２〜２０の化合物を得た。
（以下余白） １　７　１　　ｚ　　ｌ　　、、、−士１量甲 実施例５ （１）４−　（２，４−ジフルオロフェノキシ）−３−
メチルスルホニルアミンフェノール３９をＮ。
Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍＧ：溶解させ、これに
水素化ナトリウム（純度６０％）　４２０　ｍｇを加え
、この混合物を２０〜２５°Ｃで２０分間撹拌する。つ
いで、これにプロピオール酸メチルエステル８８０　ｍ
ｇを、反応温度が４０’（：、を越えないように維持し
ながら、杓５分間を要して滴下し、この混合物を３０〜
４０°Ｃで３０分間撹拌する。反応終了後、反応液に水
５０ｍ１および酢酸エチル５０ｍ１を加え、４Ｎ塩醸で
ｐＨ４に調整した後、有機層を分取する。有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸
エチル＝２０：１）で精製すれば、トランス−３−［４
（２，４−ジフルオロフェノキシ〉−３−メチルスルホ
ニルアミノフェノキシコアクリル故メチルエステル１．
２７　（収率３１．６％）を得る。
Ｈｇ点：　９８．５〜９８．９℃（酢酸エチル−ジイソ
プロピルエーテルから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３１８０．１７００．１
６４５．１６００．１４８５゜ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２）δ
値； ３、０７（３Ｈ，ｓ）、　３．７３（３Ｈ，ｓ）。
５．５５（１ｔｌ、ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、６．７０〜７
．４０（７Ｈ，ｍ）７、７０（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ
） 同様にして、表−２１の化合物を得た。
（以下余白） （２〉トランス−３−［４−（２，４−ジフルオロフェ
ノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシコア
クリル酸メチルエステル１．２３に１Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液２４威を加え、この混合物を２０〜２５℃で１
時間撹伴する。ついで、これに酢酸エチル３（７を加え
た後、４Ｎ塩酸でｐＨ４に調整し、有機層を分取する。
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水ｔ
Ｕｔマグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去すれ
ば、油状のトランス−３−［４−（２，４−ジフルオロ
フェノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシ
コアクリルｆ１１．Ｏｑ　（収率８７．０％）を得る。
ＩＲに−ト）　ｃｍ−１：　３２５０．１６９０．１６
００．１４８５Ｎ）ＩＲ（ＣＤＣＩ□　）　δ１直； ◇ ３．０７（３Ｈ，Ｓ）、５．５２（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２
Ｈｚ）。
６、７０〜７．４０（７Ｈ，ｍ）　、　７．７９（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝１２Ｈｚ）同様にして、表−２２の化合物
を得た。
（３）トランス−３−［４−（２，４−ジフルオロフェ
ノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシコア
クリル１１．０　Ｃｊにポリリン酸３０３を加え、この
混合物を５５〜６５°Ｃで１時間撹拌する。ついで、反
応液を氷水２００　ｄに導入した後、これに酢酸エチル
５（７を加え、有機層を分取する。有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、（昇られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー（）容出）夜：トルエン：酢酸
エチル＝５：１）で精製すれば、６−（２，４−ジフル
オロフェノキシ）−７−メチルスルホニルアミノ−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オン０．４９　（収率４２．
０％）を傳る。
融点：１８２．２〜１８２．８°Ｃ（酢酸エチルから再
結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃ１了ｂ−１：　３２００３０９０　
１６３５　１５００　１４８ＯＮトＩＲ（ｄ６−ＤＩ（
Ｓｏ）　δ（ぼｊ；３、２６（３Ｈ，Ｓ）、　６．２８
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。
７、１８（ＩＨ，Ｓ）　、　７．２０〜７．６６（３１
ｊ　ｍ）７、７１　（ＩＨ，Ｓ）、　８．２５　（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）１０、０９（１Ｈ，ｂｓ） 実施例６ 実施例５（３）と同様にして、表２３の化合物を得た。
なあ、これらの化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮＭＲ
）は、実施例１〜４に記載の化合物の物性と一致した。
（以下余白） 表−２３ 表−２３（Ｒき） 表−２３（続き） 表−２３（続き） 表−２３（続き） 表−２３（続き） ８−２３（続き） 実施例７ メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル−ケトン３．４ｇをトルエン
７０（ｄに懸濁させる。これにギ酸エチル１７ｍ１を加
え、ついで水素化ナトリウム（純度６０％）３．４Ｊを
２０分間を要して分割添加する。
この混合物を５時間還流した後、反応液を氷水３００　
ｄに導入し、水層を分取する。水滴を４Ｎ塩酸でｐＨ４
に調整した後、酢酸エチル１００　ｍｉずつで２回抽出
する。抽出した有機層を合わせ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物を酢１１ｍ２０ｄに溶解させ、これ
に）閂塩酸１ｄを加えた後、この混合物を５０〜６０°
Ｃで３０分間加熱する。これに水２００ｄを加え、酢酸
エチル２００ｍ１で抽出した後、抽出液を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をアセトニト
リルから再結晶すれば、融点２１６．７〜２１７．６°
Ｃを示す７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−：Ａン２．２８７　（
収率６５％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：　３１１０．１６２０．１
５８５．１５６０．１４８５１４６５１４’４０１３２
０１１４０ 実施例８ メチル−２〜ヒドロキシー４−メチルスルホニルアミノ
−５−フエノキシフェニルーケ１〜ン３、２１９、無水
酢酸５．４５　ｇおよび酢酸ナトリウム４．１３を混合
し、この混合物を１３０〜１４０°Ｃで１５時間撹拌す
る。反応液を空温まて冷却し、これに酢酸エチル２００
　ｍｆ！および水１００　ｍｉを加え、有）幾層を分取
する。有は層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫醒マグネシウムで乾燥１ノ、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残留物を酢酸エチル−ジイソプロピルエ
ーテルから再結晶すれば、融点１８６．５〜１８７°Ｃ
を示ｖ２−メチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ヘンゾピラン−４−オン８６０
ｍび（収率２５％）を得る。
実施例９ メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル−ケトン３．２１ｈをオルト
ギ醗エチル１６ｄに懸濁させ、これに水冷下、７０％過
塩素酸水２．１５９を１０分間を要して滴下する。この
混合物を２０〜２５°Ｃで３０分間撹拌した後、反応液
にジエチルエーテル５０ｍ１を加え、結晶を枦取する。
ン月収した結晶に水５０ｍを加え、２分間還流した後、
空温まで冷却する。結晶を炉腹し、アセトニトリルから
再結晶すれば、７−メチルスルホニル７ミノー６−フエ
ノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン２．９（Ｉ
Ｊ　（収率８７．６％）を得る。
この化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮ）ＩＲ）は、実
施例１（３）で１ｑられた化合物の物性と一致した。
実施例１０ （１）メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシフェニル−ケトン２６．０９お
よびキ酸エチル５２ｍ！をトルエン５００ｍ１に懸濁さ
せる。これに５０〜６０’Ｃで水素化ナトリウム（純度
６０％）　１Ｇ、３’ｊを３０分間を要して分割添加し
た後、この混合物を２時間還流する。反応液を氷水５０
０　ｄに導入し、６Ｎ塩酸でｐ［１２に調整した後、有
機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水５Ａ酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた油状物をカラムクロマトグラ
フィー（）容出液；トルエン：酢酸エチル＝３　：　１
　）で精製すれば、２−　（２−ヒドロキシ−４−メチ
ルスルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセ
トアルデヒド２５ｇ（収率８８．７％）を得る。
融点；１２１〜１２３°Ｃ（酢酸エチルから再結晶）（
２）２−（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミ
ノ−５−フェノキシベンゾイル）アセトアルデヒド２５
９をベンゼン２６（７！およびＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド１３０ｍ１に溶解させ、これにＮ。
Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２６ｄを
加え、この混合物を空温で８時間撹拌する。
反応液を酢酸エチル２００ｍ１および水２００ｍ１の混
合液に導入し、有機層を分取する。有は層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた油状物をカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル
＝２０：１）で精製すれば、３−ホルミル−７−メチル
スルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オン１３Ｊ（収率５０．４％）を得る。
融点；２１０〜２１５°Ｃ（分解；トルエン−酢酸エチ
ルから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３１２５，３０７０．１６
８５１６３５．１６１５゜実施例１１ （１）メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシフェニル−ケトン５０７を＼、
Ｎ−ジメチルホルムアミド１１に溶解させ、これに水素
化ナトリウム（純度６０％）１３．７６を２０へ、４０
’Ｃで３０分間を要して分￥ｌＩ添加した後、この混合
物を３０〜４０°Ｃで１時間撹拌する。ついで、これに
ベンジルプロミド２９．３９を１０〜１５°Ｃで１時間
を要して分割添加した後、この混合物／８：２０〜２５
°Ｃで１時間撹拌する。反応液に酢酸エチル５００　ｍ
ｌおよび水５００　ｍｌを加え、水層を分取する。水層
に酢酸エチル５００　ｄを加え、濃塩酸でｐＨ２に調整
した後、有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去し、冑られた残留物をトルエンか
ら再結晶すれば、融点１３２〜１３４°Ｃを示すメチル
−２−ベンジルオキシ−４＝メチルスルホニルアミノ−
５−フェノキシフェニル−ケトン３２．４ｙ　（収率５
０．７％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ−１：　３２２５．１６６０．
１５００．１４２０．１３３５（２）メチル−２−ベン
ジルオキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェノ
キシフェニル−ケトン４．１１ｇ、炭酸ジエチル２０．
６ｄ、Ｎ、＼−ジメチルホルムアミド２０．６ｄおよび
水素化ナトリウム（純度６０％）　１．６　ｃｉを混合
し、この混合物を９０〜１００°Ｃで３０分間撹拌する
。反応液を氷水２００威に導入し、ジエチルエーテル５
０威で洗浄し、水層を分取する。水層を４Ｎ塩酸でｐＨ
５に調整した後、酢酸エチル１００　ｍ（！ずつで２回
抽出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水５ＡＷマグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー（）容出液；トルエン：酢酸エチル＝
３　：　１　）で精製すれば、エチル−２−（２−ヘン
シルオキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５＝フエノ
キシベンゾイル）アセテート４．３５ｙ　（収率９０％
）を得る。
融点：８５〜９０°Ｃ（ジイソプロピルエーテルから再
結晶） ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ−１：　３３２５１７４０１６
５５．１６０５．１４９５１４２５１３９５１３４０．
１２００，１１６０．１１２０（３）エチル＝２−　（
２−ベンジルオキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５
−フェノキシベンゾイル）アセテート４．８３９をエタ
ノール５０ばに溶解させ、これに５％パラジウム−炭素
２００ｍ３を添加し、常圧下、４０’Ｃで１時間水素添
加を行う。反応終了後、パラジウム−炭素を枦去し、減
圧下に炉液の溶媒を留去する。得られた残留物にジイソ
プロピルエーテルを加え、結晶を枦取し、酢酸エチルお
よびジイソプロピルエーテルの混合溶媒から再結晶すれ
ば、融点１１１．５〜１１２．５°Ｃを示すエチル＝２
−（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５
−フェノキシベンゾイル）アセテート３．４６’；Ｊ　
（収率８８％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３３３０．１７４０．
１６４０．１４９０．１３４５゜１２１０．１１６０１
１２０ （４）エチル＝２−　（２−ヒドロキシ−４−メチルス
ルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテー
ト３．９３９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｄに
溶解させ、これにＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチ
ルアセタール２．６０９を加え、この混合物を２０〜２
５°Ｃで１時間撹拌する。反応液を水２００　ｄに導入
し、４Ｎ塩酸でｐＨ５に調整した後、酢酸エチル１００
ｍ１で抽出する。抽出した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をエタノールか
ら再結晶すれば、融点１６７〜１６８°Ｃを示す３−エ
トキシカルボニル−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３．５
５９　（収杯８８．１％）を背る。
ＩＲ（ＫＢｒ゛）　ｃｍ−１：　３２００１７４５１６
２０１４５０１３３５（５）３−工１〜キシカルボニル
−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日
−１−ベンゾピラン−４−オン４．０３９にジオキサン
８０７および６Ｎ塩酸４０ｍ１を加え、この混合物を３
０分間還流する。反応液を冷ＭＪ　Ｌ、これに水２００
　ｄを加え、析出晶を）月収する。得られた結晶を水洗
した後、酢酸から再結晶すれば、融点２５０°Ｃ以上を
示す３−カルポキシー７−メチルスルホニルアミンー６
−フエノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３．
４ｔｇ　（収率９１％）を得る。
ＪＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；３２００．１７３０．１６
２０．１４６０．１３３０１１５０寅施例１２ （１）エチル＝２−　（２−１１１１〜ロキシー４−メ
チルスルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）ア
セテート３５Ｑｍｙおよび酢酸ナトリウム５４０ｍＨに
無水酢酸２．５５ハを加え、この混合物を１１０〜１２
０°Ｃで１０分間撹拌する。ついで、反応液を酢酸エチ
ル２０ｄおよび水２０戒の混合液に導入し、２Ｎ塩酸で
ｐＨ２に調整した後、有は層を分取する。有は層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸
エチル＝５：１）で精製すれば、７−（＼−アセチルー
Ｎ−メチルスルホニルアミン）−３−エトキシカルボニ
ル−２−メチル−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オン５５０　ｍｇ（収率５５．６％）を得る
。
融点：１６６〜１６７．５°Ｃ（イソプロピルアルコー
ルから再結晶） ＩＲ（にＢｒ）　０１Ｂ−１：　１７３０．１７０５．
１６４０．１６１５．１４３５゜（２）７（Ｎ−アセチ
ル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−３−エトキシカル
ボニル− ＝６−フニノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
５ＱＱｍｙにジオキサン１０ｄおよび６Ｎ塩醸１０成を
加え、この混合物を２０分間還流する。反応液を５〜１
０’Ｃに冷却し、これに水３（７を加える。得られた結
晶を？月収し、酢酸から再結晶すれば、融点２３８〜２
４１°Ｃを示す３−カルボキシ−２−メヂルーフーメチ
ルスルホニルアミノー６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベン
ゾピラン−４−オン４００ｍ３（収率９５．２％）Ｓ−
得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２５０，　１７２５，
　１６２０，　１４８０．　１４５０実施例１３ （１）メチル−２−ヒドロキシーフーメチルスルホニル
アミノ−６−フェノキシフェニル−ケトン３、　２１９
、酢酸エチル５（７および水素化ナトリウム（純度６０
％）３．２ｙを混合し、この混合物舎４時間還流する。
反応液を氷水２００ｍｌに導入し、水餅を分取する。水
石を４Ｎｊ温醒てｐ１１４に調整した後、酢酸エチル５
　０　ｍｌ！ずつで２回抽出する。抽出した有機層を合
わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物にトルエンを加えて結晶を項数し、酢酸エチ
ルおよび゛シイソプロピルエーテルの混合溶媒から再結
晶すれば、融点１４２〜１４３°Ｃを示す２−（２−ヒ
ドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェノキ
シベンゾイル）アセトン２．６５ｓ　（収率７３％）を
得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２３０．１６２０．１
５８０．１４９０．１３４５゜１３２０、１２５０．１
２２０．１１６０．１１３０（２）２−（２−ヒドロキ
シ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェノキシベン
ゾイル）アセ１−ン３、６３９をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１８ｄに溶解させ、これｔこＮ、＼−ジメチル
ホルムアミドジメチルアセクール２．６２Ｌｊを加え、
この混合物を２０〜２５°Ｃで１時間撹拌する。ついで
、反応液を水１００　ｄに導入し、４Ｎ塩酸でｐ１］５
に調整した後、酢酸エチル１００威で抽出する。抽出し
た有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
１Ｗられた残留物をエタノールから再結晶すれば、融点
１７５〜１７７°Ｃを示す３−アセチル−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピ
ラン−４−オン２．３ＪＪ　（収率６４％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｒｎ−１：　３２２０．１６８０．
１６４０．　ｔ６２０．１４８５１４５０、１３３０．
１２９５．１２１０．１１５５実施例１４ メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル−ケトン５．０９をエタノー
ル８５ｍＡに懸濁させ、これにシュウ酸ジエチル４．５
ｍｌを加える。ついで、これに水素化ナトリウム（純度
６０％）３．１ｙを１０分間を要して分割添加し、この
混合物を１．５時間還流する。
ついで、反応液を氷水３００　ｍｆ！に導入し、４Ｎ塩
酸でＩ）８２に調整し、析出する結晶を枦取する。得ら
れた結晶を酢酸５０ｄに懸濁させ、これに濃塩酸１ｍｅ
を加え、この混合物を８０’Ｃで１０分間撹拌する。
反応終了後、これに水２００ｍｆｃＢよび酢酸エチル２
００　ｍを加え、有機層を分取する。有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、酢酸エチルおよびジ
イソプロピルエーテルの混合溶媒から再結晶すれば、融
点１５５〜１５６°Ｃを示ず２−エトキシカルボニル−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ− −４−オン３．５　ａ　（収率５６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２３５，　１７４０，
　１６４５，　１６２０．　１４８５１４５０、　１３
６０．　１２５０　１１４５実施例１５ メチル−５−（２．４−ジフルオロフェノキシ）−２−
ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノフェニル−ケ
トン２．０！？および酢酸ナトリウム５　５　０ｍｇに
無水酢酸１．０６ｄを加え、この混合物を１時間還流す
る。反応液を酢酸エチル５０ｍｌおよび水５０成の混合
液に導入し、有機層を分取する。有機層を水で洗浄した
後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をエタノー
ル２０７に溶解させ、これに１Ｎ水酸化ナトリウム水溶
液１２ｄを加え、この混合物を１０分間還流する。反応
液を酢酸エチル５０ｄおよび水５０威の混合液に導入し
、４Ｎ塩酸でｐＨ２、０に調整した後、有機層を分取す
る。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、胃られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン：酢酸エチ
ル＝１０：１）で精製すれば、６−（２．４−ジフルオ
ロフェノキシ）−２−メチル−７−メチルスルホニルア
ミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３００　ｍ’
Ｊ　（収率１４．４％）を得る。
融点：１８０〜１８１°Ｃ（イソプロピルアルコールか
ら再結晶） ＪＲ（ＫＢＩ”　）　ｃｍ−’　：　３１００，　１６
４０，　１６０５，　１５００．　１４６０１３９０、
　１３６０，　１１６０．　１１４０実施例１６ エチル＝２−　（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニ
ルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテート３．
９３３’Ｅ：＼，Ｎージメチルホルムアミド２０ｄに溶
解させ、これに水素化ナトリウム（純度６０％）　　３
３Ｑｍｙを加え、この混合物Ｇ２５　〜３０’Ｃで３０
分間撹拌する。反応液を氷水１００　ｍｅに導入し、こ
れにジエチルエーテル５（７を加え、水層を分取する。
水層を４Ｎ塩酸でｐＨ５に調整し、酢酸エチル５０ｍｌ
ずつで２回抽出する。ついで、抽出した有機層を合わせ
、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をアセトニトリルから再結晶すれば、融点２５０
’Ｃ以上を示す２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニル
アミノ−６−フェノキシ−４ｈｌ　−１−ベンゾピラン
−４−オン３．０５９（収率８７．９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３５３０，３４００．３
３００．１６８０．１６２０゜１５６０、１４８０．１
３３０．１２２５．１１４０実施例１７ （１）メチル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシフェニル−ケトン２０３および
３，４−ジメトキシヘンズアルデヒト１．０３ｇをメタ
ノール２５ｍ（、：！Ｍ濁させ、これに５０％水酸化ブ
トリウム水溶液５ｍｌを加え、この混合物を至濡で３時
間撹拌する。反応液を酢酸エチル？Ｏｄおよび水２０雁
の混合液に導入し、４Ｎ塩酸でｐＨ２，０（こ＆闇整す
る。（浮られたにδ晶をン月収し、７．１くおよび酢酸
エチルで順次洗浄した後、酢酸から再結晶すれば、融点
２１０〜２］２°Ｃを示す２−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）ビニル−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニ
ルアミノ−５−フェノキシフェニル−ケトン２．２　ｇ
（収率７５，６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ”　：　３５２０．３２５０．
１６２５．１４９０．１３４０゜（２）２−（３，４−
ジメトキシフェニル）ビニル−２−ヒビシ−シー４−メ
チルスルホニルアミノ−５−フェノキシフェニル−ケト
ン２，０３をメタノール２０７に懸濁させ、これに１５
％水酸化ナトリウム水溶液３．７ｄを加えて溶解させる
。ついで、これに０〜５°Ｃで１５％過酸化水素水２．
５ｄを１０分間を要して滴下した後、この混合物を同温
度で１０時間撹拌する。反応液を酢酸エチル５０ｍ１お
よび水５０ｄの混合液に導入し、有機層を分取する。有
機層を水で洗浄した後、無水硫巖マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマ１〜グラフイー（溶出液；クロロホルム：メタノー
ル＝２００：１）で積装すれば、３−ヒ１−ロキシー７
−メチルスルホニルアミノ−２−（３，４−ラメ１〜キ
シフエニル〉−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン２２０ｍｇ（収率１０．７％）を得る。
融点；２２２〜２２３．５°Ｃ（アセトニトリルから再
結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２２５．１６３０．１
４９０．１３２０．１２１０゜実施例１８ （１）２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３
．４７　ｇを酢酸５ｏｍｆ！に′！′Ｊ、洩させ、これ
に溌硝醒（比重１．３８）　１．６７ｍｆ！を加え、こ
の混合物を１００〜１１０’Ｃて２０分間撹拌する。反
応液を氷水３００　ｍ’ｌに導入し、析出物を項数する
。得られた結晶を水で洗浄した後、アセトニド１ノルか
ら再結晶すれば、融点２２８〜２３０°Ｃ（分解）を示
す２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ−３−
二トロー６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４
−オン８００　ｍｇ　（収率２０．４％）を冑る。
ＩＲ［ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３３００．１７５５．１
７４０．１６２０．１６００゜１５３５、１４８５．１
４４０．１３９０．１３３０１２０５．１１４５ （２）２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ−
３−二トロー６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オン３．９２９に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液８
０ｄを加え、この混合物を２０〜２５°Ｃて５時間撹拌
する。ついで、４Ｎ塩酸でｐＨ５に調整した後、酢酸エ
チル５０−を加え、有機層を分取する。有微層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られる黄色固体
をＮ、＼−ジメチルホルムアミド５（７に溶解させ、こ
れにＮ、　Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセター
ル２，６２３を加え、この混合物を２０〜２５°Ｃで１
時間撹拌する。反応液を水３００　ｄに導入し、４Ｎ塩
酸でｐＨ２に調整する。析出物を炉腹し、水で洗浄した
後、アセトニド１ノルから再結晶すれば、融点？？５〜
２２７°Ｃを示ず７−メチルスルホニルアミノ−３−二
トロー６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン１．５４ｇ（収率４１％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３１７０．３０７０．１
６７０．１６２０．１４８０１４５０１３３０１３ＱＯ
１１５０ 実施例１９ 実施例７〜１８と同様にして、表−２４の化合物を得た
。
なお、これらの化合物の物性は、実施例１〜４に記載の
化合物の物性と一致した。
（以下余白） 表−２４（続き） 表−２４ 表−２４（続き） 表−２４（続き） 表−２４（Ｐ：き） 表 ２４（続き） 表 ２４（続き） 表−２４（続き） 表−２４（続き） 表−２４（続き） 表 ２４〈続き） 表−２４（続き） 表 ２４（続き） 表−２４（続き） 表−２４（続き） 表−２４（続き） Ｃ以下余白） ／ 実施例２０ （１）水酸化ナトリウム８．０３を水２４０　ｄに溶解
させ、これに３−アセチルアミノ−４−フェノキシフェ
ノール２４．３９を）容解させる。ついで、これに３−
クロロプロピオンｆｉ１０．９９を加え、この混合物を
３０分間還流する。反応液を水冷し、析出晶を枦去した
後、ン戸液を４Ｎ塩酸でｐＨ９に調整し、酢酸エチル５
０ｗｄ２ずつで２回洗浄する。水層を分取し、４Ｎ塩酸
でｐＨ４に調整した後、酢酸エチル２００ｄで抽出する
。抽出液を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた結晶にジエチルエーテルを加え、析出した結晶を項
数すれば、融点１３８〜１４０　’Ｃを示す３−（３−
アセチルアミノ−４−フェノキシフェノキシ）プロピオ
ン１４１０．０９（収率３１．７％）を１昇る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：　３２７０．１７３０．１
６３０．１５９０．１５４０゜１４７５、１４２５．１
２２Ｏ Ｎ）ＩＲ（ｄ６−０８３０）　δ１直：２、００（３１
−１，ｓ）、　２．６８（２月、　ｔ、　Ｊ＝６）１ｚ
）４．１４（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２）、６．５０〜７．
９２（７Ｈ，ｍ）。
７、６７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．４Ｈｚ）、　９．２２
（ｔＨ，ｂｓ）（２）実施例１（２）と同様にして、つ
ぎの化合物を得た。
０７−アセチルアミノ−２，３−ジヒドロ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン 融点；２１４〜２１５℃（アセトニトリル−酢酸エチル
から再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３０５．１７００．１６
６５．１６１５．１５９０１５２０、１４３８．１２７
０．１２４５．１２２ＯＮ１（Ｒ（ＣＤＣＩ３＋ｄ６−
Ｄ）ＩｓＯ）δ値；２、１６（３Ｈ，Ｓ）　、　２．６
９（２Ｈ，ｔ＋　Ｊ＝６Ｈ７）　。
４．４９（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、６．７５〜７．５
４（５Ｈ，ｍ）。
７、１９（ＩＨ，ｓ）、　８．０６（ＩＨ，ｓ）、　９
．３２　（ＩＨ，ｂｓ）（３）実施例１（３）と同様に
して、つぎの化合物を得た。
０７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−４−オン 融点；　２３３〜２３５°Ｃ（クロロホルムーエタンー
ルから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２５０．３０６０．１６
９５．１６３５．１５１０゜１４３５、１３０３．１２
４５．１２１ＯＮ）ＩＲ（ｄ６−Ｄ）ＩＳＯ）δ値； ２、２２　（３Ｍ、　ｓ）、　６．２４（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝６ｔｌｚ）　。
７、１０〜７．６３（６Ｍ、　ｍ）　、　８．２１　（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。
８、５３（ＩＨ，ｓ）、　９．９１　（ＩＨ，ｂｓ）（
４）７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オン２．９５ｇをＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド３０７に溶解させる。これに水冷下、水素
化ナトリウム（純度６０％）　４４０〜３を添加する。
この混合物を同温度で水素ガスの発生が止むまで撹拌し
た後、これにメタンスルホニルクロリド１．２６ｇを滴
下する。この混合物を２０〜２５°Ｃで１時間撹拌した
後、これに水２００ｄおよび酢酸エチル２００　ｄを加
え、有機層を分取する。有芸層を水および飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、結晶をエタノールから再結晶すれば、
融点１６６〜１６９°Ｃを示す７−（Ｎ−アセチル−Ｎ
−メチルスルホニルアミノ）−６−フェノキシ−４日−
１ベンゾピラン−４−オン３．２２！７　（収率８６．
１％）を１ｑる。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　１７００．１６４０．１６
２０１４８０．１４４５１３６０、１２９５．１１５５ Ｎ）ＩＲ（ＣＤＣｌ２＞δ値： ２、１２（３Ｎ、　ｓ）　、　３．４０（３Ｎ、　Ｓ）
　。
６．３０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）　７．１１〜７．６
３（７Ｎ、ｍ）。
７、８６（１Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２） 実施例２１ ７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベン
ゾピラン−４−オン２．９５７をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド３０ｍ１に溶解させる。これに水冷下、カリウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシド１．３５ｇを加え、この混合物
を同温度で３０分間撹拌した後、これにエタンスルホニ
ルクロリド１．５５’ｌを滴下する。この混合物を２０
〜２５°Ｃで１時間撹拌した後、これに水２００　ｄお
よび酢酸エチル２００　ｍｌを加え、有機層を分取する
。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶に１Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液２０威およびエタノール１０ｍ！！を加
え、この混合物を２時間還流する。
これに水１００　ｍｌおよび酢酸エチル１００　ｄを加
えた後、４Ｎ塩酸でｐＨ４に調整し、有機層を分取する
。
得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去し、１ｑられた残留物をカラムクロマトグラフィーく
溶出液；トルエン：酢酸エチル＝５：１）で精製すれば
、７−エチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日
−１−ベンゾピラン−４−オン０．７５９　（収率２１
．７％）を得る。
融点；２１６〜２１８℃　エタノールから再結晶）ＩＲ
（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３０７０．６２０．１５８２
．１４９０．１４５５１３３５、２００，１１５５．１
１３８ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２・ｄ６−Ｄ）ＩＳＯ）δ値；
１、３７（３Ｍ、　ｔ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ　、　３．２
５　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７．２Ｈ２）。
６．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、７．０１〜７．４
７（５Ｎ、ｍ）。
７．６８（ＩＨ，ｓ）、７．７６（ＩＨ，ｓ）７、９３
（１Ｍ、　ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２）、　９．２１　（１１−
１，ｂｓ）実施例２２ （１）７−アセチルアミノ−２，３−ジヒドロ−〇−フ
ェノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン２９．７
７、エタノール３０ｄおよび６Ｎ塩！３００ｄを混合し
、この混合物を１時間遠流する。反応液を氷水３１に導
入し、析出した結晶を項数した後、エタノールから再結
晶すれば、融点１５４〜１５５°Ｃを示す７−アミノ−
２，３−ジヒドロ−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾ
ピラン−４−オン２３．５７（収率９２．２％）を得る
。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４７０．３３３０．１６
５５．１６１０．１５７０１５００．１４６０１３２０
１３００．１２５５（２）７−アミノ−２，３−ジヒド
ロ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ン２５．５７をピリジン２００　ｄに溶解させ、これに
２０〜２５°Ｃに保ちながらメタンスルホニルクロリド
１２．６ｙを滴下する。この混合物を同温度で１２時間
反応させた後、減圧下に反応液の溶媒を留去する。得ら
れた残留物を酢酸エチル２００　ｄに溶解させ、１Ｎ水
酸化ナトリウム水）容液５００ｄずつで２回抽出する。
抽出した水層を合わせ、４ｘｚ醒でｐＨ４に調整し、酢
酸エチル３００　ｄすつで２回抽出する。抽出した有機
層を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた結晶をメタノールから再結晶すれば、２，３
−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−４−オン２７．０９　
（収率８１，１％）を得る。
この化合物の物性（融点およびＩＲ）は、実施例１（２
）で得られた化合物の物性と一致した。
同様にして、表−２５および２６の化合物を得た。
（以下余白） 実施例２３ 実施例２０．２１または２２と同様にして、表２７の化
合物を得た。
なお、これらの化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮＨＲ
）は、実施例１〜４に記載の化合物の物性と一致した。
（以下余白） 表−２７（続き） 表−２７ 表−２７（続き） 表−２７（続き） ！−２７（続き） 表−２７（＄ｌ’ｌき） 表−２７（続き） 表 ２７（ｌＦ＋き） 表 ２７（続き） 表 ２７（続き） 表−２７（続き） 表−２７（続き） 表−２７（続き） 実施例２４ （１）４−メトキシ−２−メチルスルホニルアミノフェ
ノール６．７ｇを塩化メチレン６０ｄに溶解させ、これ
に塩化アセチル７．３ｇを加え、５°Ｃに冷却する。こ
れに塩化アルミニウム１６．５ＣＪを５〜１０℃で３０
分を要して分割添加する。この混合物を５〜１０°Ｃで
１時間、ざらに２０〜２５°Ｃで１時間撹拌する。
反応液を氷水２００　ｄに導入し、析出する結晶をン月
収する。得られた結晶をアセトニトリルから再結晶すれ
ば、融点２０５〜２０６．５°Ｃを示すメチル−５−ア
セトキシ−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミ
ノフェニル−ケトン３．６９　（収率４１％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２５０．１７６０．１６
３５．１５８０．１４９５゜１３６５、１３２０．１１
９０ （２）メチル−５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−４−
メチルスルホニルアミノフェニル−ケトン２．０９をオ
ルトギ酸エチル１４ｄに懸濁させ、これに水冷下、７０
％（Ｗ／Ｗ）過塩素酸２．０３を１０分間を要して滴下
する。この混合物を２０〜２５°Ｃで１．５時間撹拌し
た後、反応液にジイソプロピルエーテル２０ｍ１を加え
、析出した結晶をン月収する。得られた結晶に水２０ｍ
１を加え、この混合物を５分間還流する。冷却した後、
これに酢酸エチル５０ｍを加え、有機層を分取する。有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を１Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液１４威に溶解させ、この混合物を２０〜
２５°Ｃで３０分間撹拌する。反応液を６Ｎ塩酸でＤＨ
２に調整し、析出した結晶を項数する。ｉｑられた結晶
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドおよび水の混合溶媒か
ら再結晶すれば、融点２５０℃以上を示す６−ヒトロキ
シー７−メチルスルホニルアミノー４日−１−ベンゾピ
ラン−４−オン１．０９（収率５９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　；　３３００．３２５０．１
６２０．１５９５．１４６０゜１４２５、１４００．１
３３０．１３００．１２５５（３）６−ヒトロキシー７
−メチルスルホニルアミノー４日−１−ベンゾピラン−
４−オン２００　ｍｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
２ｄに溶解させ、これにブロモベンゼン３９０　ｍｓ、
炭酸カリウム１１３ｍｇおよび銅粉５２ｍｇを加え、こ
の混合物を１５０℃で１．５時間撹拌する。反応液を氷
水１０ｄに導入し、４Ｎ塩酸てｐ１１２に調整した後、
これに酢酸エチル１０ｍｆ！を７１０え、有機層を分取
する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去
し、１ｑられた残留物をアセトニ１〜リルから再結晶す
れば、７−メチルスルホニルアミン−６−フェノキシ−
４Ｈ−１−ベンゾビラン−４−オン２１０　ｍｇ　（収
率８０％）を傳る。
この化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮＨＲ）は、実施
例１（３）で得られた化合物の物性と一致した。
実施例２５ 実施例２４（３）と同様にして、表−２８の化合物を冑
だ。
なお、これらの化合物の物性は、実施例１〜４に記載の
化合物の物性と一致した。
（以下余白） 表 ２８（続き） ゝｖｌｅ １−イ ＼４ｅ＝、　、、＋ ○ 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（Ｍき） ｆｉ−２８（続き） 表 ２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８〈続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 表−２８（続き） 実施例２６ （１）無水酢酸３０．６９にギ酸２７．６　！７を加え
、この混合物を４０〜４５°Ｃで１．５時間撹拌する。
この反応液を３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ
−６＝フ工ノキジー４日−１−ベンゾピラン−４−オン
３４．６９の塩化メチレン４００　ｍｆ！溶液に滴下し
、この混合物を２０〜２５℃で１時間撹拌する。ついで
、これにジイソプロピルエーテル４００ｄを加え、析出
品８ン戸取した後、アセトニトリルから再結晶すれば、
融点２３６〜２３８°Ｃを示す３−ホルミルアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オン２７．３ｇ（収率７３％）を
得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４０．３２６０．１６
８０．１６１５．１６００１４８５、１４６０．１３４
０．１２１０．１１５ＯＮＮＲ（（１６−Ｄ）ＩＳＯ）
５値； ３．２４（３Ｈ，ｓ）、７．０９〜７．６２（５Ｈ，ｍ
）７．３５（ＩＨ，ｓ）、７．７２（ＩＨ，ｓ）、８．
３６（ＩＨ，ｓ）。
９、２８（ＩＨ，ｓ）、　９．７９（ＩＨ，ｓ）　、　
１０．０４（ＩＨ，５）（２）３−ホルミルアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オン３７．４！Ｊを＼、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３７０　ｒｎ（！に溶解させ、これに
水冷下、水系化リトリウム（純度６０％）８．８７を３
０分間を要して添Ｉ用する。添加終了後、反応液を４５
°Ｃまて加温し、１０分間撹拌する。ついで、これに反
応温度を２５〜３０’Ｃに保ちながらヨウ化メチル１５
．６！Ｊを滴下し、このン昆合物を同温度で３０分間撹
拌する。反応液を水２Ｊに導入し、ジエチルエーテル２
００ｍ１で洗浄した後、４　Ｎ　塩ＷでｐＨ４に調整し
、酢酸エチル５００　ｒｄ！ずつで２回抽出する。抽出
した有機層を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで屹燥する。減圧下に溶媒を留
去し、得られたｔδ晶をアセトニトリルから再結晶すれ
ば、融点１８５〜１８６°Ｃを示す３−（Ｎ−ホルミル
−Ｎ−メチルアミン）−７−メチルスルボニルアミノ−
６−フニノキシー４日−１−ベンゾピラン−４−オン２
９．１ｓ　（収率７５％）を得る。
ＩＲ（Ｋｔ３ｒ）　ｃｍ−１；　１６５５．１６２５．
１６１０．１４９０．１３３０゜１２７５１１６Ｏ Ｎ）ＩＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値： ３．０４（３Ｈ，ｓ）、３．２４（３Ｈ，ｓ）。
７．０９〜７．６２（５Ｈ，ｍ）、７．３４（ＩＨ，ｓ
）７、７６（ＩＨ，Ｓ）、　８．０９（ＩＨ，Ｓ）。
８．６３（ＩＨ，ｓ）、１０．０７（１Ｈ，ｓ）同様に
して、表−２９の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（以下余白） ／ ／ ／ ／ ／ ／ （３）３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミン）−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オン３．８８ｃＪをメタノール８０
ｍに懸濁させ、ついで、これに濃塩酸４０ｄを加え、こ
の混合物を４０〜４５°Ｃで５時間撹拌する。減圧下に
反応液の溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチル３
００　ｄおよび水２００　ｍ！！を加え、この混合物を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１）Ｈ４に調整゛した
後、有機層を分取する。有機層を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶をエタノールから再結晶すれば、
融点１９２．５〜１９３℃を示す３−メチルアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オン３．３２ｇ（収率９２．２％
）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３３５０．３１００．１
６００．１５８５．１５６０゜１４８０、１４１５．１
３３０．１２７５．１２１０゜１２００、１１４Ｏ ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； ２．８２（３Ｍ、ｓ）、３．２０（３Ｈ，ｓ）。
４．５０〜５゜２０（ＩＨ，ｂｒ）、　７．０７〜７．
５０（５Ｈ，ｍ）。
７．３４（ＩＨ，ｓ）、７．６３（ＩＨ，ｓ）、７．６
７（ＩＨ，ｓ）。
９、８８（１１１，Ｓ） 同様にして、つぎの化合物を得た。
０３−エチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン 融点；２２１〜２２２°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３３４０，３１００．１５
８０．１５５５．１４８０゜１４２０、１２１５．１１
４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ値： １、２９（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝８．０Ｈ２１３，００（２
Ｈ，ｑ、　Ｊ＝８．０Ｈ２）３、１１（３Ｈ，Ｓ）　、
　６．７０〜８．００（７Ｈ，ｍ）。
７、３５　（１Ｍ、　Ｓ）　、　７．６４（ＩＨ，Ｓ）
、　７．７０（ＩＨ，ｓ）実施例２７ ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．４６９を
塩化メチレン７０７２に加え、ついで、これにピリジン
８７０ｍｇを加えた後、氷冷する。この溶液にクロロ炭
醒メチル１．０４７の塩化メチレン３゜Ｉｎｌ１溶液を
１０分間を要して滴下する。この混合物を２０〜２５°
Ｃで３０分間撹拌した後、これに水５（７！を加え、４
ＮＪ！酸でｐＨ４に調整した後、有機層を分取する。有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた結晶をアセトニトリルから再結晶すれば、融点２３
３〜２３５°Ｃを示す３−メトキシカルボニルアミノ−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オン２．９５ｇ（収率７３％）
を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３３９０．３３３０．１
７２０．１６２０．１６０５゜１５２５、１４５５．１
３３５．１２１０．１１６ＯＮＭＲ（６６−Ｄ）ＩＳＯ
）δ値； ３．２３（３Ｈ，ｓ）、３．６６（３Ｎ、ｓ）。
７、０９〜７．５０（５Ｎ、　ｍ）　、　７．３４（Ｉ
Ｈ，ｓ）。
７．７２（ＩＨ，ｓ）、８．３４（ＩＨ，ｓ）。
８、７４（１Ｎ、　ｓ）、　１０．００（ＩＨ，ｓ）実
施例２８ （１）３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．４
６９をクロロホルム１００　ｄに溶解させ、これに２５
〜３０’Ｃで臭素１．９２ｆｆを滴下する。この混合物
を同温度で２時ｌ′Ｓｉ１撹拌した後、析出晶を枦取ず
れば、融点１６５°Ｃ（分解）を示す３−アミノ−２−
ブロモ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの臭化水素酸塩３
．６０９　（収率７１．１％）を得る。
ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ”　；　１６２０．１４８０．１
４５０．１３５０．１２６０゜（２）無水酢酸３．０６
９にキ酸２．７６Ｊを加え、この混合物を１１０〜４５
°Ｃで１．５時間撹拌し、混合巖無水物を調製する。一
方、３−アミノ−２−ブロモ−７−メチルスルホニルア
ミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの臭化水素酸塩５．０６９を塩化メチレン１００　
ｍｆ！に懸濁させ、これに水冷下、トリエチルアミン１
．０６ｇを加え、同温度で３０分間撹拌する。これに上
記混合−無水物を和え、この混合物を２０〜・２５°Ｃ
で１時間撹拌する。
減圧下に反応液の）各法を留去し、得られた残留物に水
２００　ｍＩ！を加える。碍られた結晶を項数し、酢酸
エチル−ジイソプロピルエーテルから再結晶すれば、融
点２３７〜２３８°Ｃを示す２−ブロモ−３−ホルミル
アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４．１５ｇ（収率
９７．６％）を１昇る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３１７０．１６７０．１
６３５．１６１０．１４７５゜１４４０、１３２５．１
２６０．１２００．１１５ＯＮ１・ＩＲ（ｄ６−ＤＩ−
１ｓＯ）δ値；３、２３（３Ｎ、　ｓ）、　７．０４〜
７．６３（５Ｈ，ｍ）７、２３（ＩＨ，ｓ）、　７．７
３（１）１．　ｓ）、　８．２１　ＴｌＨ，Ｓ）９．６
３（１Ｈ，ｓ）、１０．１７（月１，５）（３）メタノ
ール６（Ｗに金属ナトリウム５１０ｍｙを加えて溶解さ
せた後、水冷する。これに２−ブロモ−３−ホルミルア
ミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−
４日−１−ベンゾピラン−４−オン４．２５　ｇ　Ｓ−
加え、この混合物を０〜５°Ｃで２時間撹拌する。つい
て、これに水６００　ｄを加え、酢酸エチル２００ばで
洗浄した後、４Ｎ塩酸でｐＨ４，０に調整し、酢酸エチ
ル３００威すつで２回抽出する。抽出した有機層を合わ
せ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、冑られた結晶をアセトニトリル
から再結晶すれば、融点１８８°Ｃ（分解）を示す３−
ホルミルアミノ−２−メトギシ−７−メチルスルボニル
アミノ−６−フ１ツキシー４）−（−１−ベンゾピラン
−４−オン２．８７ｇ　（収率７１％）を（ワる。
ＩＲｆＫＢｒ）　ｃｍ−１＋　１６７５．１６１０．１
５６０．１４５０．１３２０゜；ＪＨＲ（ｄ６−ＤＩ−
１ｓＯ）　６ｆ七３、１９（３Ｈ，Ｓ）、　Ｌ　１７（
３ｔｌ　Ｓ）７、０４〜７．６１（５）１．　ｍ）　、
　７．２９（ＩＨ，Ｓ）。
７、７７（１Ｈ，ｓ）、　８．１６（ＩＨ，Ｓ）９、０
７ｆｌＨ，ｓ）、　１０．０６［ＩＨ，５）（４）２−
ブロモ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルア
ミノ−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−
オンに１Ｎ水酸化す１，１ノウム水溶液を反応させて、
３−ホルミルアミノ−２−ヒドロキシ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ペンツピラ
ン−４−オンを１ｑる。
融点：２５０’Ｃ以上（分解；エタノールから再￥占晶
） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−”　；　３３５０，３２８０．
１６９５　１６７０　１６２０実１馳例２９ （１）３〜アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４日−ローペンゾピラン−４−オーリ′を
＼、Ｎ−シメチルホルムアミドジメチ／レアセタールと
反応させ、３−（＼、＼−ジメチルアミノ）メチレンア
ミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−
４）−（−１−ベンゾピラン−４−オン８得る。
融点：１０３〜１０４°Ｃ（ジエチルエーテルから再結
晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　；　１６３０１５８０１４
７０１４３０１３３０（２）３−アミノ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６〜フェノキシ−４日−１−ベンゾピ
ラン−４−オンを２−アセトキシプロピオン酸クロリド
と反応させた後、メタノール中でナトリウムメトキシド
で処理して、３−（２−ヒドロキシプロピオニル）アミ
ノ−７−メチルスルホニルアミノ−〇−フェノキシー４
日−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点：　　２１９．５〜２２１．５℃（エタノールから
再結晶） ＴＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４５０．３３５０．３
２５０．１６Ｂ０．１６２０゜１５９０、１５２０．１
４８０．１４６０．１３８０゜１３４０、１２６０．１
２２０．１２００．１１６０（３）３−アミノ−７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日−１−ベ
ンゾピラン−４−オンをジシクロへキシルカルボジイミ
ドの存在下、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアラニ
ンと反応させた後、この反応物をトリフルオロ酢酸で処
理して、３−（２−アミノプロピオニル）アミノ−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；１１１〜１１３°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３２５０．１６８０．１６
２０．１５００．１３５０゜１２１０、１１６０ （４）３−アミン・−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをメ
タンスルホニルクロリドと反応させて、３．７−ビス（
メチルスルホニルアミノ）−６−フェノキシ−４日−１
−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；１９９〜２００°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　Ｃｍ−１；　３２４０．１８４０．１６
３０．１５００．１３４０゜１３３０．１２１０１１５
０ 実施例３０ ６−（２−メトキシフェノキシ）−７−メチルスルホニ
ルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを実施例
４０（１）　、４０（２）および２６と同様に処理して
、３−ホルミルアミノ−６−（２−メトキシフェノキシ
）−７−メチルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オンを得る。
融点：２２６．５〜２２７°Ｃ（酢酸エチルから再結晶
）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２８０．１６８５．
１６２０．１６００．１４９５゜１４６０、１３３５　
、１１４５ 実施例３１ 実施例２６（１）　、２７．２８（２）または２９と同
様にして、表−３０の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４で得られた化
合物の物性と一致した。
（以下余白） ／ ／ ／ 表−３０ 表−３０（続き） 表−３０（続き） ／ ／ ／ ／ 実施例３２ ３−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ− −オン３．７５９をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７５
威に懸濁させる。ついで、これに−１０〜−５°Ｃでオ
キシ塩化１ノン４．６９を滴下する。この混合物を同温
度で３時間撹拌した後、反応液を１０〜２０°Ｃで淵ア
ンモニア水４（７に滴下する。この混合物を同温度で３
０分間撹拌した後、４Ｎ塩酸でｌ）Ｈ４に調整する。析
出晶をン月収し、水洗した後、酢酸から再結晶すれば、
融点２５０’Ｃ以上を示す３−カルバモイル−７−メチ
ルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日−１−ベン
ゾピラン−４−オン２．８１７（収率７５．１％）を１
■る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−”　：　３３５０．　１７０５
，　１６２０，　１５８５．　１４８５頁廁例３３ ３−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ６−フェ
ノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをＮ，Ｎ−
−ジシクロヘキシルカルボジイミド せて、７−メチルスルホニルアミノ−６−フニノキシー
３−　［　（１．２，３．４−テｌ〜ラゾールー５ーイ
ル）アミノカルボニルニー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンを轡る。
ａ％点：　２５０°Ｃ以上（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３３：１１０、１６８０，
　１６２０，　１５８０，　１４９５１４６５、　１３
１０，　１２２０．　１１７０実施例３４ 実施例３２または３３と同様にして、表−３１の化合物
を得た。
なお、これらの化合物の物ｉ生は、実施例４に記載の化
合物の物性と一致した。
（以下余白） 表−３１（続き） 表−３１ ／ ／′ ／ ／ ／ 実施例３５ ３−シアノ−６−（２−フルオロフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン３．７４９に濃塩酸３０Ｉｎｌおよび酢酸６０ｍを
加え、この混合物を３０分間還流する。反応終了後、減
圧下に反応液の溶媒を留去し、得られた残留物を水で洗
浄した後、酢酸から再結晶すれば、融点２４９〜２５１
°Ｃを示す３−カルバモイル６−（２−フルオロフェノ
キシ）−７−メチルスルホニルアミノ−４日−１−ベン
ゾピラン−４−オン１．６５！Ｊ　（収率４２，１％）
を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３３３０．３２６０．３
１５０．１６９５．１６２０゜１４９０、１４５５．１
３３０．１２８０．１１５５実施例３６ ３−シアノ−６−（２−フルオロフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン３．７３７を塩化水素で飽和したキ酸１００　ｍに
溶解させ、この混合物を２５〜３０°Ｃで２４時間撹拌
する。ついで、減圧下に反応液の溶媒を留去した後、水
１００ｍ１を加える。結晶を項数し、酢酸から再結晶す
れば、３−カルバモイル−６−（２−フルオロフェノキ
シ）−７−メチルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オン２．５４９　（収率６５％）を得る。
この化合物の物性（融点およびＩＲ）は、実施例４で得
られた化合物の物性と一致した。
実施例３７ 実施例３５または３６と同様にして、表−３２の化合物
を得た。
なあ、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（以下余白） （以下余白） 実施例３８ ６−　（２，４−ジフルオロフェノキシ）−７−メチル
スルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
３．６７９を酢Ｍ６０ｄに！！濁させ、これに５％パラ
ジウム−炭素４００　ｍＦＩを加え、常圧下、４０〜５
０°Ｃで水素添加を行う。反応終了後、触媒を項六し、
炉液を濃縮する。得られた結晶をエタノールから再結晶
すれば、融点１６３．５〜１６５°Ｃを示す６−（２，
４−ジフルオロフェノキシ）−２゜３−ジヒドロ−７−
メチルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン３．１６９　（収率８５．６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　；３２２０．１６＆５．１６
０５．１５７５．１４９５．１４２０同様にして、表−
３３の化合物を冑た。
（以下余白） 実施例３９ （１）３−（３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノ
キシフェノキシ）−３−メチルアクリル酸６．５３をエ
タノール２００ｍ１に懸濁させ、ついで、これに１０％
パラジウム−炭素１．３９を加え、常圧下、４０〜５０
°Ｃで水素添加を行う。反応終了後、触媒を項六し、減
圧下に反応液の溶媒を留去する。
得られた結晶をトルエンから再結晶すれば、融点１２１
〜１２４°Ｃを示す３−（３−メチルスルホニルアミノ
−４−フェノキシフェノキシ）−３−メチルプロピオン
ｌｉ５．６９ｇ（収率８７％）を得る。
ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ”　；　３３５０．１７１０．　
ｔ５００．１３３５．１２１５（２）３−（３−メチル
スルホニルアミノ−４−フェノキシフェノキシ）−３−
メチルプロピオン酸５．６９Ｊにポリリン１ｉｏｏ　ｓ
を加え、この混合物を６５°Ｃで１時間撹拌する。つい
で、反応液を氷水４００ｍ１に導入し、これに酢酸エチ
ル１５０ｄを加えた後、有機層を分取する。減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物を１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液１５０威に溶解させ、この溶液をジエチルエーテ
ルで洗浄した後、４Ｎ塩酸でｐＨ４に調整し、これに酢
酸エチル１５０　ｄを加え、有□層を分取する。
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；ト
ルエン：酢酸エチル＝２５：１）で精製した後、エタノ
ールから再結晶すれば、２゜３−ジヒドロ−２−メチル
−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４日
−１−ベンゾピラン−４−オン２．１６７　（収率４０
％）を得る。
この化合物の物性（融点およびＩＲ）は、実施例２２で
得られた化合物の物性と一致した。
実施例４０ （１）２．３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン
３３．３Ｌ３をクロロホルム３００　ｍｌに溶解させる
。この溶液に反応温度を２５〜３０’Ｃに保ちながら、
奥ｉ１［５，３９を３０分間を要して滴下する。滴下終
了後、この混合物を２５〜３０’Ｃで３０分間撹拌し、
これに水ｉｏｏ　ｍｌを加えた後、有機層を分取する。
有機層を５％チオｆｊ［ナトリウム水溶液、水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去すれば、３−ブロモ−２，
３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４０．１ｇ
（収率９７．３％）を得る。
融点；１３７〜１４０℃（トルエンから再結晶）ＩＲ（
ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２５０．１６８０．１６１０
．１４８５．１３２５゜１２６０、１２０５ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３　）　δイ直； ３、１４（３Ｈ，ｓ）　、　４．５４〜４．７０（３１
−１，ｍ）　。
６．９１〜７．３８　（８ｔ１．、ｍ）（２）３−ブロ
モ−２，３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４
０．１９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２８０　ｍｌ
に溶解させる。ついで、これにアジ化ナトリウム１３．
９９を加え、この混合物を７０〜７５°Ｃで１時間撹拌
する。反応液を水１，５１および酢酸エチル３００　ｍ
Ｉ！の混合溶媒に導入し、濃塩酸でｐＨ０，１に調整し
た後、水層を分取する。水層を酢酸エチル２００　ｍｌ
で洗浄した後、１０％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ４
，０に調整し、酢酸エチル５００　ｍｆ！ずつで２回抽
出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食塩水
で順次洗浄した）股、無水５Ｉｆ、酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をエタノ
ールから再結晶すれば、融点１６２〜１６３°Ｃを示す
３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン２．８４９　
（収率８２．１％）を得る。
ＩＲ（ＫＢＩ’）ｃｍ−１：　３４４０．３３３０．３
１８０．１６００．１５８０゜１５５０、１４８０．１
４６５．１３３０．１２０５゜１５Ｏ ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； ３、１９（３Ｈ，ｓ）、　５．５０〜７．００（２Ｈ，
ｂｒ）。
７、０４〜７．４９（５Ｈ，ｍ）　、　７．３５　（Ｉ
Ｈ，Ｓ）７、６２（１Ｍ、　Ｓ）、　７．９４（ＩＨ，
ｓ）実施例４１ 実施例４０（１）および（２）と同体にして、表−３４
の化合物を得た。
なあ、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（以下余白） 表−３４ ／′ ／ 表−３４（続き） ７＼ （以下余白） ／ 実施例４２ （１）２．３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
３．３３９をクロロホルム５０ｍｇに溶解させ、これに
３５〜４０’Ｃで臭素３．３６！７を２０分間を要して
滴下する。この混合物を同温度で３０分間撹拌した後、
水５０ｄに導入し、有□層を分取する。有機層を５％チ
オ＆［？Ｅナトｊノウム水水液液水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、照水硫駁マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去すれば、３，３−ジブロモ−２，３−
ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン４．８’ｌＪ　
（収率９８％）を得る。
融点；１６９〜１７０　’Ｃ（アセトニトリルから再結
晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；３３３０．１６９０．１６
１０．１４８５．１３２５．１２５５＋、ＩＨＲ（ＣＤ
Ｃｌ２）δ値： ３、１５（３Ｈ，ｓ）、４．７０（２ｔ（、ｓ）、６．
９１〜７．５７（６Ｎ、ｍ）。
７．３２［ＩＨ，Ｓ）、７．４０（ＩＨ，Ｓ）（２）３
．３−ジブロモ−２，３−ジヒドロ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オン４．８１９をピリジン２０威に溶解させ、こ
の溶液を２０分間遠流する。反応液を水２００　ｄに導
入し、濃塩酸で１）１１４に調整した後、酢酸エチル１
００　ｍずつで２回抽出する。抽出した有殿層を合わせ
、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をアセトニトリル
から再結晶すれば、融点２１５〜２１６℃を示す３−ブ
ロモ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−
４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．３０ｇ　（収率
８２％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　Ｃｍ−’　：　３１００，３０８０．
１６３５．１６２０１４８５、１４５５．１３３５．１
１５５Ｎ）ＩＲ（ｄ６−Ｄ閂ｓｏ）δ値； ３．２３（３Ｈ，Ｓ）、７．０６〜７．６６（５８ｍ）
。
７．３０（ＩＨ，ｓ）、７．７２（ＩＨ，ｓ）、８．８
１（ＩＨ，ｓ）。
１０、０７（ＩＨ，ｓ） また、実施例４２（１）および（２）と同様にして、つ
ぎの化合物を得た。
０３−クロロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン 融点：　２００〜２０１°Ｃ（酢酸エチル−ジイソプロ
ピルエーテルから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　Ｃｍ”１：　３２２０，３０５０．１
６４５．１６００．１５６０゜１４８０、１４５０ （３）　２５％メチルアミン水溶液５０ｄを氷冷し、こ
れに３−ブロモ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４．１７
を加え、この混合物を０〜５℃で２時間撹拌する。つい
で、これに水１００ｍ１を加え、４Ｎ塩酸でｐＨ４に調
整した後、酢酸エチル１００　ｍｌで抽出する。抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル
−５：１）で精製し、エタノールから再結晶すれば、３
−メチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４００　
ｍｇ（収率１１．１％）を得る。
この化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮＨＲ）は、実施
例４で得られた化合物の物性と一致した。
同様にして、表−３５の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（以下余白） 表−３５ （以下余白） （４）無水酢Ｗ３４０　ｍｇとギ［３１０ｍｇを混合し
、この混合物を４０〜４５°Ｃで１．５時間撹拌する。
これに塩化メチレン１（７を加え、ついで、３−メチル
アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４００１ｎ９を加
え、この混合物を２５〜３０°Ｃで１時間撹拌する。
これにジイソプロピルエーテル１０ｍを加え、析出晶を
ン月収した後、アセトニトリルから再結晶すれば、３−
（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミン）−ブーメチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン３３０　／＃ｇ（収率７６．７％）を１昇
る。
この化合物の物性（融点、ＩＲおよびＮＭＲ）は、実施
例４で得られＩ；化合物の物性と一致した。
実施例４３ ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン５００〜３を
酢酸２０ｄおよび水１（７に溶解ざぜ、３５°Ｃに加温
する。これにシアン酸ナトＩノウム１９０　ｍｇを水５
ｍｌに溶解させた）芥液を５分間を要して滴下する。こ
の混合物を同温度で３０分間撹拌した後、これに水２０
威を加え、析出晶をン月収する。析出晶を酢酸から再結
晶すれば、融点２５０°Ｃ以上を示す７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−３−ウレイド−４日−１
−ベンゾピラン−４−オン３５０　ｍ’ｊ　（収率６２
．３％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４９５．３３４０．３
３００．１６８０．１６２０５９Ｏ ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； ３．２１（３ＨＳ）、６．３４（２Ｈ，Ｓ）７．０２〜
７．５５（６Ｈ，ｍ）、７．６９（ＩＨ，ｓ）、８．０
２（１Ｈ，ｓ）９．０９（ＩＨ，ｓ）、９．９０（ＩＨ
，ｂｓ）実施例４４ ３−メチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン５００
〜３を塩化メチレン１０ｍ！！に溶解させ、これに０〜
５°Ｃでクロロスルホニルイソシアナ−１〜２２０ｍｙ
を滴下する。この混合物を同温度で１０分間撹拌した後
、これに水２０ｍを加え、有は層を分取する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物にメタノール５ｄおよび
２Ｎ塩酸５ｄを加え、この混合物を２０〜２５°Ｃで１
時間撹拌する。反応液に塩化メチレン２０ｄあよひ′水
２０威を加え、有機層を分取する。有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物分力ラ
ムクロマトグラフィ＝（溶出液；トルエン：酢酸エチル
＝１：１）で情製すれば、７−メチルスルホニルアミノ
−３−（１−メチルウレイド）−６−フェノキシ−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オン２２０　ｍｙ　（収率３
５，１％）を得る。
融点：１４５〜１４５．５°Ｃ （エタノールから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｒｒ−’　：　３４５０，３３５０
．１６４０，１６２０．１４８０４５Ｏ ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値： ２．９５（３Ｈ，ｓ）、３．２０（３Ｈ，ｓ）、５．８
５（２ｔＬｂｓ）７．０６〜７．５０（６Ｈ，ｍ）、　
７．７０（１Ｈ，ｓ）８．４３（ＩＨ，Ｓ）、１０．０
０（月１．ｂｓ）実施例４５ ３−　［Ｎ−（３−カルボキシプロピオニル〉アミノ１
−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オン４００ｍ３に無水酢１４
ｄおよび酢酸ナトリウム２００　（ｎ３を加え、この混
合物を９０〜１００　’Ｃで３０分間撹拌した後、空温
まで冷却する。これに水３０ｍＩ！および酢酸エチル３
０ｍ１を加え、有機層を分取する。有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸
エチルで再結晶すれば、融点２２０〜２２１°Ｃを示す
７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−
６−フニノキシー３−（１−スクシンイミノ）−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オン３００　ｍ’ｊ　（収率７
９％）ヲ得ル。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３０５０．１７８０．１
７２０．１６５０．１６２０゜Ｎ）ＪＲ（ｄ６−ＤＭＳ
Ｏ）δ値； ２、１３（３Ｈ，Ｓ）　、　２．８８（４Ｈ，Ｓ）　、
　３．５９（３Ｈ，Ｓ）。
７、１７〜７．５６（６Ｍ、　ｍ）　、　８．２７（Ｉ
Ｈ，Ｓ）　、　８．６３ｆＩＨ，Ｓ）実施例４６ ３−　（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メトキシカルボニルメチル
アミノ）−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−４日−１−ベンゾビラン−４−オン４．４６ｇを１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液４５ｒｐｉに溶解させ、この
溶液を２５〜３０’Ｃで１．５時間撹拌した後、４Ｎ塩
酸で［ＩＨ３に調整し、酢酸エチル５０ｒｄ！ずつで２
回抽出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチル
エーテルを加え、結晶を項数すれば、融点９８〜１００
℃を示す３−　（Ｎ−ホルミル−Ｎ−力ルポキシメチル
アミン）−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３．５７！？（
収率８２．６％〉を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３２２０．１７３０．１
Ｂ６５．１６１０．１４９０゜１４４５、１３３５．１
２０５．１１６ＯＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； ３、２２（３Ｈ，Ｓ）、　４．２５　（２Ｈ，ｓ）　。
７、０７〜７．６５（５Ｈ，ｍ）、　７．３２（ＩＨ，
ｓ）、　７．７６（ＩＨ，ｓ）８、１９（１Ｈ，ｓ）、
　８．５６（ＩＨ，ｓ）、　１０．００（ＩＨ，ｂｓ）
実施例４７ ２−ブロモ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オン４．２５９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５
０ｄに溶解させ、これにシアン化第−銅１．９７ＣＪを
加え、この混合物を８５〜９０℃で２時間撹拌する。反
応液を水３００ｍ１に導入し、４Ｎ塩酸でｐＨ４，０に
調整した後、酢酸エチル２００　ｄずつで２回抽出する
。抽出した有成層を合わせ、水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をアセトニトリルから再
結晶すれば、融点２２９〜２３０　’Ｃを示す２−シア
ノ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン
２．０５９　（収率５５．３％）を１ｑる。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１；　３２６０，２２２５．１
７１５．１６１０．１４８５１４６０、１３３０．１２
１５．１１５ＯＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； ３、２８（３Ｈ，Ｓ）、　７．０７〜７．６２　（５Ｈ
，ｍ）７、２７（ＩＨ，ｓ）、　７．７６（ＩＨ，ｓ）
。
８、３７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝３．０Ｈｚ）１０．２２（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３．０Ｈｚ）、　１０．２２（ＩＨ，ｓ
）実施例４８ ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンｓｏｏｍｇお
よび２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン２５０ｙを
酢酸５威に溶解させ、この混合物を７０〜８０’Ｃで３
０分間撹拌する。反応液を空温まで冷却した後、水５０
ｍ１を加え、析出晶をｉ月収する。
この結晶を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルから再
結晶すれば、融点２３８．５〜２４０　’Ｃを示す７−
メチルスルホニルアミノ−６−フニノキシー３−（１−
ピロリル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン２５０
　ｍｇ　（収率４３，７％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　１６４０．１６１５．１
５７５．１４７５．１４４０゜１４２５、１４１０ 実施例４９ ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．４６ｇを
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３５ｍ１に溶解させる。
これにブロモベンゼン７ｍ、ヨウ化カリウム１．６６９
、炭酸カリウム１．３８９Ｉ３よび銅粉０．６４！７を
加え、この混合物を６時間還流する。反応液を水３００
　ｄおよび酢酸エチル２００　ｄの混合液に導入し、不
溶物を゛枦去した後、炉液を４Ｎ塩酸でｐＨ４に調整し
、有は層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水ＦｉＡ酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（）容出液
；トルエン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、アセト
ニトリルから再結晶すれば、融点２１２〜２１３°Ｃを
示す７−メチルスルホニルアミノ−３−フェニルアミノ
−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
４３０　ｍｇ（収率１０．２％）を得る。
ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１：　３２４０．１６４５．１
６２０．１５８０．１４８５１４５５、１３４０．１２
６５．１１６０ＮＭＲ（ｄ６−ＤＩ−ＩＳＯ）δ値： ３．２２　（３Ｈ，Ｓ）、　６．９２〜７．５９（１２
Ｈ，ｍｌ　。
７、７６（１１Ｌ　ｓ）、　８．５８（ＩＨ，ｓＬ　１
０．０１　（１Ｈ，ｂｓ）実施例５０ （１）２−エトキシ力ルホニル−７−メチルスルホニル
アミノ−６−フエノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン３．５９を酢１３（７に懸濁させ、これにＦ１２
０ｄを加え、この混合物を１時間遠流する。反応液に水
１００　ｄを加え、析出する結晶を炉腹する。得られた
結晶をエタノールから再結晶すれば、融点２５０’Ｃ以
上を示す２−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
３．ＯＣｊ（収率９１％）を得る。
ＩＲ［ＫＢｒ）　ｃｒｎ−’　：　３２４５．１７３０
．１６２５．１５９０．１４６（１１３３５１２２０，
１１６０ （２）２−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン３
．０３を塩化メチレン３０ｄに懸濁させ、これに塩化チ
オニル３．８９およびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドｏ
、ｉｍ１を加え、この混合物を１，５時間遠流する。反
応終了後、減圧下に反応液の溶媒を留去すれば、７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸クロリド３．１
７　（収率９８．４％）を得る。
ＩＲに−ト＞　ｃｍ−１：　１７６０ （３）７−メチルスルホニルアミノ−６−フニノギシー
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ク
ロリドをアンモニアと反応させて、２−カルバモイル−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２５０°Ｃ以上（メタノールから再結晶）ＩＲ（
ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３４２５．１７００．１６４５
．１６２５．１４５０１３２５、１２１０．１１３５ （４）７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−
４Ｈ−１−ベンツ゛ピラン−４−オン−２−力ルボン酸
クロリドを水素化ホウ系ナトリウムで遷元して、２−ヒ
ドロキシメチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２１ｏ〜２１５°Ｃ（分解；酢酸エチルから再結
晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”３３７５３２４０．　ｌＧ３０
１５８５．１４８０１４５５、１３９５．１３７０．１
３２５．１２６０（５）７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン−
２−力ルボン酸クロリド３１ｇを無水テトラヒドロフラ
ン８０ｍｆ！に溶解させる。この溶液をアジ化ナト１ノ
ウム１．２６！７を含む水溶液１０ｍに５〜１０°Ｃで
１０分間を要して滴下した後、この混合物を１０〜２０
’Ｃて１，５時間撹拌する。析出する結晶を炉腹すれば
、融点１４６〜１４９°Ｃ（分解）を示す７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オン−２−カルボン酸アジｌ−”１．４５ｇ
（収率４６？も）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ　１；　３２００，２１２５．１
７００．１６４０．１６１０１４８０、１４４０．１３
２０．１２００．１１３０（６）７−メチルスルホニル
アミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン−２−力ルボン酸アジドをエタノール中で加熱反
応させ、２−エトキシカルボニルアミノ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ− ゾピラン−４−オンを得る。
融点；２０７〜２０９°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２３０，　１７４０，　
１６２０，　１５３５，　１４８０。
１４５０、　１３２５，　１２１０．　１１４０（７）
７−メチルスルボニルアミノ−６−フニノキシー４日−
１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸アジドを
ｔｅｒｔ−ブタノール中で加熱反応させ、２　−　ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルホニルアミノ−７一メチルスルホニ
ルアミノ−６−フエノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンを）ｑる。
融点；１４７〜１５０　’Ｃ　（ベンゼンから再結晶）
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−”　：　３２５０，　１７４５
，　１６２０，　１５２５，　１４９０。
１４５０、　１３６０，　１３３０，　１２３０．　１
１４０（８）７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１ーベンツ゛ピラン−４−オン−２−力ル
ボン酸アジドをギ酸中でｈ０熱反応させ、２−ホルミル
アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−４日−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２１４〜２１６°Ｃ（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２２５，３１２０．１
７１０．１６２５．１６１０゜１５５５、１４５０．１
２１５．１１５０．１１４５（９）７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オン−２−力ルボン酸アジドを酢酸中で加熱反応さ
せ、２−アセチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ
−〇−フェノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
を得る。
融点：２３６〜２３８°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　１：　３１７０．１７００．１６
２０．１６００．１５２５゜１４５０、１３５０．１２
５０．１２４０．１２２０．１１４５（１０）　２−　
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−−１−ベンゾピラン−
４−オンをトリフルオロ酢酸と反応させ、２−アミノ−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２２３〜２２５°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｔ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２２５．　１６６０．　
１６１５，　１５５０．　１４８０実施例５１ （１）３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オンを水
素化ホウ累ナトリウムで還元して、３−ヒドロキシメチ
ル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フエノキシ−４
Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点：１６５〜１６６、５°Ｃ（酢酸エチル−ジエチル
エーテルから再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４５０，　３２５０，
　１６３５，　１６０５．　１４８５１４６０、　１３
２５，　１２１０．　１１５０（２）３−ホルミル−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オンを次亜塩素酸ナトリウムと反
応させて、３−クロロ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを
ｈる。
この化合物の物性（融点およびＩＲ）は、実施例４て得
られた化合物の物性と一致した。
（３）３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをカ
リウムｔｅｒｔーブトキシドの存在下、ベンジル１〜リ
フエニルホスホニウムブロミドと反応させて、７−メチ
ルスルホニルアミノ−６−フニノキシー３−（２−フェ
ニルビニル）＝４Ｈー１ーベンゾピランー４ーオンを得
る。
融点；１７４〜１７５°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３４００，　１６３０，　
１６２０，　１４８０．　１４５０１３３０、　１２０
０，　１１５り （４）３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをメ
チルマグネシウムヨーシトと反応させて、３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る
。
融点；１３６〜１３８°Ｃ（酢酸エチルから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３３２５，３２２５，　１
６１５，　１５９０．　１４８０（５）３−ホルミル−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オンを２，４−ジメトキシベン
ジルアミンと反応させる。この反応物を水素化ホウ素ナ
トリウムで還元して、３−（２．４−ジメトキシベンジ
ルアミノ）メチル−７−メチルスルホニルアミノ−〇ー
フェノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る
。
ついで、この化合物をメタノール中で無水酢酸と反応さ
せる。この反応物をトリフルオロ酢酸で処理して、３−
アセチルアミノメチル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを
得る。
融点；２４０〜２４２°Ｃ（イソプロピルアルコールか
ら再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３３５０，　３２５０．
　１６Ｂ０，　１６４０．　１６００１４６０、１３４
０．１２１５．１１５０（６）３−アセチルアミノメチ
ル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−４
Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを６Ｎ塩酸で処理して
、３−アミノメチル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フエノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを１
ｑる。
融点：１９０〜１９５°Ｃ（分解；酢酸エチルから再結
晶） ■旧にＢｒ）　ｃｍ−１：　３４５０．３０７０．１６
３５．１５８０．１４８０１４５５、１３８５．１３２
０．１２７５実施例５２ ３−アセチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−４Ｈ−１−ヘンゾピラン−４＝オンを臭素と反
応させて、３−（２−ブロモアセチル）−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ヘンゾピ
ラン−４−オンを得る。この反応物をチオホルムアミド
と反応させて、７−メチルスルホニルアミノ−６−フニ
ノキシー３−（チアゾール−４−イル）−４Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−４−オンを得る。
融点：　　２５０’Ｃ以上（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３２６０．１６３５．１
６２０．１４８０．１４５０゜実施例５３ （１）６−　（２−メトキシカルボニルフェノキシ）−
７−メチルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンを実施例５（２）と同様に処理して、６−（
２−カルボキシフェノキシ）−７−メチルスルホニルア
ミノ−４日−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２４３〜２４６°Ｃ（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３１５０．１７２０．１
６７０．１６４０．１６０５１４８０、１３６０．１３
３０．１２６０．１２２０（２）６−（２−カルボキシ
フェノキシ）−７−メチルスルホニルアミノ−４日−１
−ベンゾピラン−４−オンを実施例５０（２）、５０　
（５）　、５０（７）および５０（１０）と同様に処理
して、６−（２−アミノフェノキシ）−７−メチルスル
ホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを１
ｑる。
融点；２３８〜２４０　’Ｃ（アセトニトリルから再結
晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３４１５，３３００，
３２００．１６３５．１６２０１４５５、１３３０．１
２９０．１１５５（３）６−（２−アミノフェノキシ）
−７−メチルスルホニルアミノ−４日−１−ベンゾピラ
ン−４−オンを参考例２と同様に処理して、６−（２−
アセチルアミノフェノキシ）−７−メチルスルホニルア
ミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；１３０〜１３２°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３２５０１６２０１４８
０１４５０１３２５（４）６−　（２−アミノフェノキ
シ）−７−メチルスルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オンを実施例２６（１）と同様に処理して
、６−（２−ホルミルアミノフェノキシ）−７−メチル
スルホニルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
を得る。
融点；２０３〜２０４°Ｃ（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３２２０．１６６５．１
６２０．１４９０．１４５０１３２０、１２９５．１１
５０ 実施例５４ ６−（２−メトキシフェノキシ）−７−メチルスルホニ
ルアミノ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを参考例
８（２）と同様に処理して、６−（２−ヒドロキシフェ
ノキシ）−７−メチルスルポニルアミノー４Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−４−オンを得る。
融点：　　１８６．５〜１８７°Ｃ（イソプロピルアル
コールから再結晶） ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ”　：　３２５０．１６２０．１
５８５．１４８０．１４５０１３２０、１２９０．１１
６０．１１４０実施例５５ （１）３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フニノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４９
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍ１に）容解させ
、これにヒドロキシルアミン・塩酸塩８５０　ｍ３を加
え、この混合物を２０〜２５°Ｃて１時間撹拌する。反
応液に酢酸エチル５０威および水１００ｍ１を加え、有
機層を分取する。有数層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた結晶をエタノールで再結晶すれ
ば、融点１９９〜２００　’Ｃを示す３−ヒドロキシイ
ミノメチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．０　ｇ（
収率７２．３％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；３２５０．１６２０．１４
９５．１３３０．１２１０．１１６０同様にして、表−
３６の化合物を得た。
（以下余白） （２）３−ヒドロキシイミノメチル−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オン３．ＯＬ３を酢酸３０−に懸濁させる。これ
に酢酸ナトリウム９００　ｍｇを加え、この混合物を３
時間還流する。反応終了後、減圧下に反応液の溶媒を留
去し、酢酸エチル５０ｍ１および水５０７を加え、有機
層を分取する。有椴層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた結晶を酢酸エチルおよびエタノー
ルの混合溶媒で再結晶すれば、融点２１９．５〜２２０
．５°Ｃを示ず３−シアノ−７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ン２．４９　（収率８３．９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　３１４０．２２４０．１
６５０．１６２０．１４８５゜１４５５、１３３０．１
１５５ 同様にして、表−３７の化合物を冑だ。
（以下余白） 表−３７ 実施例５６ ３−カルバモイル−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド中、塩化チオニルと反応させ
、３−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−４Ｈ＝１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
この化合物の物性（融点およびＪＲ）は、実施例４て得
られた化合物の物性と一致した。
実施例５７ （月６−（２，４−ジフルオロフェノキシ）−アメチル
スルホニルアミノ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン
を参考例２と同様に処理して、６（２，４−ジフルオロ
フェノキシ）　−７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスル
ホニルアミノ）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを
得る。
融点：１７６〜１７８°Ｃ（イソプロピルアルコールか
ら再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　１７０５．１６４０．
１６２０．１４４０．１３３５同様にして、つぎの化合
物を得た。
ｏ６−（２，４−ジフルオロフェノキシ）−３−ホルミ
ルアミノ−７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスルホニル
アミノ）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン 融点；２３７〜２３９°Ｃ（アセトニトリルから再結晶
） ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１；　３３２０．１７０５．１
６８５．１６１０．１５２０゜１４８５、１４４０．１
３４５．１２４０．１２１５（２）７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンを塩化アルミニウムの存在下、ベンゾイルクロ
リドと反応させ、７−（Ｎ−ヘンシイルーＮ−メチルス
ルホニルアミノ）−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オンを得る。
融点；１６４〜１６５．５°Ｃ（酢信エチルから再結晶
）ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ”　：　１６８５．１６５０
．１６１０．１４７５．１４３５１３６０、１２８５．
１２６０．１２００．１１６０（３）７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンを水素化ナトリウムの存在下、ヨウ化メチル
と反応させ、７−　（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニ
ルアミノ）−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４オンを得る。
融点；１８７〜１８９°Ｃ（エタノールから再結晶）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ　）　ｃｍ”　；　１６３０．１６１０．１
４８０．１４４０．１３４０．１１５０実施例５８ ３−（４−クロロブチＩノルアミン）−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オンをＮ、＼−ジメチルホルムアミド中、水素
化ナト１ノウムと反応ざぜ、７−メチルスルホニルアミ
ノー３−（２−オキソピロリジン−１−イル）−６−フ
ェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを１専る
。
融点；１９２〜１９３（エタノールから再結晶）ＩＲｆ
ＫＢｒ）　ｃｍ−”　；　１６８０．１６３５．１６１
０１４８５１３３５実施例５９ ２−カルポギシー７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンをＮ、Ｎ
”−ジシクロへキシルカルボジイミドの存在下、５−ア
ミノテトラゾールと反応させて、７−メチルスルホニル
アミノ−６−フエツキシー２−　［（１，２，３，４−
テトラゾール−５−イル）アミノカルボニル］−４Ｈ−
１−ベンゾビラン−４−オン 融点；２５０°Ｃ以上（エチレングリコール七ツメチル
エーテルより再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３１２０．１６９０．１
６３０．１５９０．１５７０゜１４５０、１３７０．１
３２５．１２００．１１４０実施例６０ ３−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６＝フェノ
キシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オンを塩化アルミ
ニウムの存在下、アジ化ナトリウムを反応させて、７−
メチルスルホニルアミノ−６−フニノキシー３−　（１
，２，３，４−テトラゾール−５−イル）−４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点；２５０°Ｃ以上（シオキサンージイソプロピルエ
ーテルより再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３３７０．３１７０．１
６３０．１４Ｂ０．１４６０゜１３４０、１２９５．１
１６０ 実施例６１ ３−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−４日−１−ベンゾピラン−４−オン３．５６ｇ、
ヒドロキシルアミン・塩酸１９７０　ｍｇ、水１．５　
ｄ、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｄおよびエタノー
ル１５０＋ｍを混合し、この混合物を３時間還流する。
反応液を冷却した後、析出品を項数し、アセトニトリル
から再結晶すれば、融点２５０　°Ｃ以上を示す２−ア
ミノ−３−カルバモイル−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
２．８　！７　（収率７２％〉を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４６０，３３８０，３
１２５．１６４０．１５７０゜１５４５、１４７５．１
３２０．１２２０．１１５０実施例６２ ２．３−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン１．０
０７を無水テトラヒドロフラン−ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド（７：３）の混合液１０７！に溶解させ
る。この溶液に一７８°Ｃで１゜１．１，３，３．３−
へキサメチルジシラザン１．１幻およびｎ−ブチルリチ
ウム６．６ミリモルから調製した１、１．１．３，３．
３−へキサメチルジシラザン−リチウム塩のテトラヒド
ロフラン溶液１０ｍ１を加え、この混合物を４０分間撹
拌した後、同温度でメタンチオールスルホン酸メチル５
００／／Ｉｆｆを加え、この混合物を１５分間撹拌する
。ついで、反応液を空温まで昇温する。反応液を水冷下
、２Ｎ塩１１８０ｄに導入し、この混合物を酢酸エチル
４０ｄずつで２回抽出する。抽出液を合わせ、水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた油状物をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチ
ル＝５０：１）で精製すれば、２．３−ジヒドロ−７−
メチルスルホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノ
キシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン４８０　ｍｇ
（収率３９．６％）を得る。
この化合物の物性（融点およびＩＲ）は、実施例２２　
（２）で得られた化合物の物性と一致した。
（以下余白） 製剤例１ 以下の成分を用いて硬ゼラチンカプセルを調製する。
６−（２−フルオロフェノキシ） −３−ホルミルアミノ−７−メチ ルスルホニルアミノ−４Ｈ−１− ベンゾピラン−４−オン　　　　　　　５０ｍｇ乳糖　
　　　　　　　　　　　　　　１１４．５ｍｇコーンス
ターチ　　　　　　　　　　　２０ｍ３ヒドロキシプロ
ピルセルロース　　　　　２ｍｙ軽貿軽水無水ケイ酸　
　　　　　　　１．５ｍｇカルボキシメチルセルロース カルシウム（ＥＣＧ　　５０５＞ ステアリン酸マグネシウム　　　　　　２ｍｇ計　　　
　　　　　　　　　　　　　２００　ｍ３以上を１力プ
セル分の材料として常法により硬カプセルに充填する。
製剤例２ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノー７−メチ ルスルホニルアミノ−６−フエ ノキシー４Ｈ−１−ベンゾピラ シー４−オン　　　　　　　　　　　　２５ｍ３乳糖　
　　　　　　　　　　　　　　　４９ｍ’ｊ黴結晶セル
ロース　　　　　　　　　　３６／ｉ！ｇビトロキシプ
ロピルセルロース　　　　　１ｍｇカルボキシメチルセ
ルロース カルシウム（ＥＣＧ　　５０５） ステアリン酸マグネシウム　　　　　１．２ｍ３計　　
　　　　　　　　　　　　　　　ｉｏｏｍｙ以上を１綻
分の材Ｉｔとして常法により錠剤とする。
製剤例３ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノ−７−メチ ルスルホニルアミノ−６−フェ ノキシ−４日−１−ベンゾピラ シー４ーオン　　　　　　　　　　　　５０ｍ３乳糖　
　　　　　　　　　　　　　　　７４ｍｇ微結晶セルロ
ース　　　　　　　　　　５５ｍｇヒドロキシプロピル
セルロース　　　　２ｍｇカルボキシメチルセルロース
　　　　　、５１３カルシウム（ＥＣＧ　　５０５） ステアリン酸マグネシウム　　　　　　２ｍ３計　　　
　　　　　　　　　　　　　　２００ｍ３以上を１錠分
の材料として常法により錠剤とする。
製剤例４ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノ−７−メチ ルスルホニルアミノ−６−フェ ノキシ−４日−１−ベンゾピラ シー４ーオン　　　　　　　　　　　１００ｍ３乳糖　
　　　　　　　　　　　　　　　４９ｍ３１放キ．吉晶
セルロース　　　　　　　　　　５５ｍｇヒドロキシプ
ロピルセルロース　　　　２ｍｇカルボキシメチルセル
ロース　　　　　１５ｏ。
カルシウム（ＥＣＧ　　５０５） ステアリン酸マグネシウム　　　　　　２ｍ３計　　　
　　　　　　　　　　　　　　　２２５ｍｇ以上を１錠
分の材料として常法により錠剤とする。
製剤例５ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−カルバモイル−７−メチルス ルホニルアミノ−６−フェノキ シ− ＝４−オン　　　　　　　　　　　　　２０Ｏｍｙ微結
晶セルロース　　　　　　　　　　１０（Ｍ＋７グリコ
ール皿ナト］ノウムデンプン　　　３０ｍｇ計　　　　
　　　　　　　　　　　　　３３３ｍ３以上を１錠分の
材料として常法により錠剤とする。
上ス　よ二

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、Ｒ＾１はハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基を；Ｒ
    ＾２は水素原子、アルキル基またはアシル基を；Ｒ＾３
    は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、カル
    ボキシル基、ヒドロキシル基、ホルミル基もしくはアル
    コキシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
    ル、アルコキシ、フェノキシ、シクロアルキル、カルバ
    モイル、アミノもしくはフェニル基を；Ｒ＾４は水素原
    子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
    基、アシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカル
    ボニル基または置換されていてもよいアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、フェニルチオ、低級アルキニル、
    低級アルケニル、スルファモイル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、アミジノ、フェニルもしくは
    複素環式基、または式 ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
    学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６は水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基
    もしくはアルコキシカルボニル基または置換されていて
    もよいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、
    アシル、カルバモイル、アルキルスルホニル、イミノメ
    チルもしくはアミジノ基；Ｒ＾７は水素原子、置換され
    ていてもよいアルキル、アルコキシ、フェニル、シクロ
    アルキルもしくは複素環式基を示すかまたはＲ＾６とＲ
    ＾７が隣接する窒素原子と一緒になつて３〜７員環の置
    換されていてもよい複素環式基を示す。）を；Ｒ＾５は
    置換されていてもよいフェニル、チエニル、フリルまた
    はピリジル基を；Ｚは酸素原子、硫黄原子またはイミノ
    基を；および破線は単結合または二重結合を示す。」で
    表わされる４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体お
    よびその塩。
  2. （２）Ｚが酸素原子または硫黄原子を；Ｒ＾５が置換さ
    れていてもよいフェニルまたはピリジル基を；Ｒ＾１は
    ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基ま
    たは低級アルケニル基を；Ｒ＾２が水素原子またはアシ
    ル基を；Ｒ＾３およびＲ＾４が同一または異なって水素
    原子、カルバモイル基、カルボキシル基、ホルミル基、
    ヒドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくはフ
    ェニル基を；および破線が二重結合である特許請求の範
    囲第（１）項記載の４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
    誘導体およびその塩。
  3. （３）Ｒ＾５が置換されていてもよいフェニルまたはピ
    リジル基を；Ｚが酸素原子または硫黄原子を；Ｒ＾１が
    ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルまた
    は低級アルケニル基を；Ｒ＾２が水素原子またはアシル
    基を；Ｒ＾４が式▲数式、化学式、表等があります▼（
    式中、Ｒ＾６が水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基も
    しくはアルコキシカルボニル基または置換されていても
    よいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、ア
    シル、カルバモイル、イミノメチルもしくはアミジノ基
    を；Ｒ＾７が水素原子または置換されていてもよいアル
    キルもしくはシクロアルキル基を示すかまたはＲ＾６お
    よびＲ＾７が隣接する窒素原子と一緒になって置換され
    ていてもよい４〜６員環の複素環式基を示す。）を；Ｒ
    ＾３が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、
    カルバモイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基もし
    くはアルコキシカルボニル基または置換されていてもよ
    いアルキル、アルコキシ、アミノもしくはフェニル基を
    ；および破線が二重結合である特許請求の範囲第（１）
    項記載の４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体およ
    びその塩。
  4. （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、Ｒ＾１はハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基を；Ｒ
    ＾２は水素原子、アルキル基またはアシル基を；Ｒ＾３
    は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、カル
    ボキシル基、ヒドロキシル基、ホルミル基もしくはアル
    コキシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
    ル、アルコキシ、フェノキシ、シクロアルキル、カルバ
    モイル、アミノもしくはフェニル基を；Ｒ＾４は水素原
    子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
    基、アシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカル
    ボニル基または置換されていてもよいアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、フェニルチオ、低級アルキニル、
    低級アルケニル、スルファモイル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、アミジノ、フェニルもしくは
    複素環式基、または式 ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
    学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６は水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基
    もしくはアルコキシカルボニル基または置換されていて
    もよいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、
    アシル、カルバモイル、アルキルスルホニル、イミノメ
    チルもしくはアミジノ基；Ｒ＾７は水素原子、置換され
    ていてもよいアルキル、アルコキシ、フェニル、シクロ
    アルキルもしくは複素環式基を示すかまたはＲ＾６とＲ
    ＾７が隣接する窒素原子と一緒になつて３〜７員環の置
    換されていてもよい複素環式基を示す。）を；Ｒ＾５は
    置換されていてもよいフェニル、チエニル、フリルまた
    はピリジル基を；Ｚは酸素原子、硫黄原子またはイミノ
    基を示で表わされる４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
    誘導体またはその塩を含有する抗炎症剤。
  5. （５）Ｚが酸素原子または硫黄原子を；Ｒ＾５が置換さ
    れていてもよいフェニルまたはピリジル基を；Ｒ＾１は
    ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基ま
    たは低級アルケニル基を；Ｒが水素原子またはアシル基
    を；Ｒ＾３およびＲ＾４が同一または異なって水素原子
    、カルバモイル基、カルボキシル基、ホルミル基、ヒド
    ロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置換
    されていてもよいアルキル、アルコキシもしくはフェニ
    ル基である特許請求の範囲第（４）項記載の４Ｈ−１−
    ベンゾピラン−４−オン誘導体またはその塩を含有する
    抗炎症剤。
  6. （６）Ｒ＾５が置換されていてもよいフェニルまたはピ
    リジル基を；Ｚが酸素原子または硫黄原子を；Ｒ＾１が
    ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルまた
    は低級アルケニル基を；Ｒ＾２が水素原子またはアシル
    基を；Ｒ＾４が式▲数式、化学式、表等があります▼（
    式中、Ｒ＾６が水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基も
    しくはアルコキシカルボニル基または置換されていても
    よいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、ア
    シル、カルバモイル、イミノメチルもしくはアミジノ基
    を；Ｒ＾７が水素原子または置換されていてもよいアル
    キルもしくはシクロアルキル基を示すかまたはＲ＾６お
    よびＲ＾７が隣接する窒素原子と一緒になつて置換され
    ていてもよい４〜６員環の複素環式基を示す。）を；Ｒ
    ＾３が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、
    カルバモイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基もし
    くはアルコキシカルボニル基または置換されていてもよ
    いアルキル、アルコキシ、アミノもしくはフェニル基で
    ある特許請求の範囲第（４）項記載の４Ｈ−１−ベンゾ
    ピラン−４−オン誘導体またはその塩を含有する抗炎症
    剤。
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