JPH02306639A - 半導体装置の樹脂封入方法 - Google Patents
半導体装置の樹脂封入方法Info
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- JPH02306639A JPH02306639A JP1128399A JP12839989A JPH02306639A JP H02306639 A JPH02306639 A JP H02306639A JP 1128399 A JP1128399 A JP 1128399A JP 12839989 A JP12839989 A JP 12839989A JP H02306639 A JPH02306639 A JP H02306639A
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- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49121—Beam lead frame or beam lead device
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体装置の樹脂封入方法に関するものであ
り、特に放熱板を有する樹脂封入型の装置の樹脂封入方
法に関するものである。
り、特に放熱板を有する樹脂封入型の装置の樹脂封入方
法に関するものである。
(従来の技術)
従来の半導体装置の樹脂封入方法について、工程別の装
置断面を示した第6図を用いて説明する。
置断面を示した第6図を用いて説明する。
これは、装置の平面図である第7図のC−C線に沿う断
面を示したものである。先ず放熱板43の上面にガラス
粉末を置いてさらにその上にリードフレーム42を設置
し、ガラス粉末を約350℃の温度に加熱して溶融させ
ることによって接合する。そして、リードフレーム42
の中央に位置したアイランドの上面に、マウント材を用
いて半導体チップ1をダイボンディングする。半導体チ
ップ1のパッドとリードフレーム1の各リードとの間に
ワイヤボンディングを行い、ワイヤ10で接続する(第
6図(a))。
面を示したものである。先ず放熱板43の上面にガラス
粉末を置いてさらにその上にリードフレーム42を設置
し、ガラス粉末を約350℃の温度に加熱して溶融させ
ることによって接合する。そして、リードフレーム42
の中央に位置したアイランドの上面に、マウント材を用
いて半導体チップ1をダイボンディングする。半導体チ
ップ1のパッドとリードフレーム1の各リードとの間に
ワイヤボンディングを行い、ワイヤ10で接続する(第
6図(a))。
次に、半導体チップ1及びリードフレーム42とが接合
された放熱板43を、下金型45のキャビティの底面に
設置し、上金型48で空間を閉じる(第6図(b))。
された放熱板43を、下金型45のキャビティの底面に
設置し、上金型48で空間を閉じる(第6図(b))。
そして金型45と46で囲まれたキャビティに、溶融し
た樹脂をトランスファモールド法により注入させ、樹脂
52が硬化した後、取り出して所望の半導体装置50を
得る(第6図(C))。
た樹脂をトランスファモールド法により注入させ、樹脂
52が硬化した後、取り出して所望の半導体装置50を
得る(第6図(C))。
(発明が解決しようとする課8)
しかし、このような樹脂封入方法によって得られた半導
体装置には、次のような問題があった。
体装置には、次のような問題があった。
第6図(b)において金型45及び48の内部に樹脂を
注入する際に、放熱板43と下金型45の底面との間の
わずかな隙間に、溶融した樹脂が入り込み、第6図(C
)に示された放熱板43の底面60が樹脂で覆われて、
放熱板43の表面からの放熱の妨げとなっていた。この
場合に、図のように放熱板43の外周部43aを突出さ
せて段差を設けてこの部分の密着性をよくし、樹脂が回
り込まないようにする方法もあるが、十分に防止するこ
とはできなかった。
注入する際に、放熱板43と下金型45の底面との間の
わずかな隙間に、溶融した樹脂が入り込み、第6図(C
)に示された放熱板43の底面60が樹脂で覆われて、
放熱板43の表面からの放熱の妨げとなっていた。この
場合に、図のように放熱板43の外周部43aを突出さ
せて段差を設けてこの部分の密着性をよくし、樹脂が回
り込まないようにする方法もあるが、十分に防止するこ
とはできなかった。
また樹脂を注入する際に、リードフレーム42に撓みが
生じ、半導体装置50をプリント基板に実装する際の作
業性に支障を与えていた。
生じ、半導体装置50をプリント基板に実装する際の作
業性に支障を与えていた。
さらに半導体チップ1はリードフレーム42に接合され
ているため、チップ1の発生した熱は、リードフレーム
42を介して放熱板43に伝わることになる。この場合
に、放熱板43は一般に熱伝導性の高い純銅から成るが
、リードフレーム42は純銅製でない場合も多いため、
放熱性を低下させていた。
ているため、チップ1の発生した熱は、リードフレーム
42を介して放熱板43に伝わることになる。この場合
に、放熱板43は一般に熱伝導性の高い純銅から成るが
、リードフレーム42は純銅製でない場合も多いため、
放熱性を低下させていた。
本発明は上記事情に鑑み、放熱性に優れ、かつリードフ
レームに撓みが発生するのを防止しつる半導体装置の樹
脂封入方法を提供することを目的とする。
レームに撓みが発生するのを防止しつる半導体装置の樹
脂封入方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明の半導体装置の樹脂封入方法は、リードフレーム
のリード以外の部分を放熱板に接合する第1の工程と、
半導体チップを放熱板の表面上にダイボンディングする
第2の工程と、半導体チップとリードフレームのリード
との間でワイヤボンディングを行い、電気的に接続する
第3の工程と、放熱板を下金型のキャビティの底面に設
置し、この底面に向けて放熱板とリードフレームとの接
合部分を押圧した状態にする第4の工程と、金型の内部
に溶融樹脂を注入し、硬化させる第5の工程とを備えた
ことを特徴としている。
のリード以外の部分を放熱板に接合する第1の工程と、
半導体チップを放熱板の表面上にダイボンディングする
第2の工程と、半導体チップとリードフレームのリード
との間でワイヤボンディングを行い、電気的に接続する
第3の工程と、放熱板を下金型のキャビティの底面に設
置し、この底面に向けて放熱板とリードフレームとの接
合部分を押圧した状態にする第4の工程と、金型の内部
に溶融樹脂を注入し、硬化させる第5の工程とを備えた
ことを特徴としている。
ここで第4の工程における下金型のキャビティの底面へ
の放熱板の押圧は、金型として上金型に貫通した穴を有
するものを用い、金型の外部から押圧体を穴から金型内
部に貫通させ、放熱板とリードフレームとの接合部を押
圧体により下金型のキャビティの底面に向って押圧させ
ることによって行うものであってもよい。
の放熱板の押圧は、金型として上金型に貫通した穴を有
するものを用い、金型の外部から押圧体を穴から金型内
部に貫通させ、放熱板とリードフレームとの接合部を押
圧体により下金型のキャビティの底面に向って押圧させ
ることによって行うものであってもよい。
また放熱板として、半導体チップの厚みとほぼ等しい深
さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体チ
ップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリー
ドフレームのリード以外の部分との接合部分とした放熱
板を用いてもよい。
さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体チ
ップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリー
ドフレームのリード以外の部分との接合部分とした放熱
板を用いてもよい。
(作 用)
金型のキャビティの底面に、放熱板とリードフレームと
の接合部分を押圧した状態にすることで、下金型の底面
と放熱板と間に隙間が発生せず、樹脂を注入した際に樹
脂が放熱板の表面にまわり込まず付着しない。これによ
り、放熱板の表面が大気中に露出するため、樹脂で覆わ
れることによって放熱性が損なわれるという事態が回避
される。
の接合部分を押圧した状態にすることで、下金型の底面
と放熱板と間に隙間が発生せず、樹脂を注入した際に樹
脂が放熱板の表面にまわり込まず付着しない。これによ
り、放熱板の表面が大気中に露出するため、樹脂で覆わ
れることによって放熱性が損なわれるという事態が回避
される。
またリードフレームの接合部も下金型のキャビティの底
面に押圧された状態となるため、樹脂を注入させた場合
にリードフレームに撓みが発生するのが防止され、平坦
性が向上する。また半導体チップは放熱板の表面上に接
合されているため、リードフレームを介して接合されて
いる場合と比較し放熱性が向上する。
面に押圧された状態となるため、樹脂を注入させた場合
にリードフレームに撓みが発生するのが防止され、平坦
性が向上する。また半導体チップは放熱板の表面上に接
合されているため、リードフレームを介して接合されて
いる場合と比較し放熱性が向上する。
ここで下金型のキャビティの底面への放熱板の押圧を、
金型として上金型に貫通した穴を有するものを用い、金
型の外部から押圧体を穴から金型内部に貫通させ、放熱
板とリードフレームとの接合部を押圧体により下金型の
キャビティの底面に向って押圧させることによって、放
熱板及びリードフレームが押圧された状態となる。
金型として上金型に貫通した穴を有するものを用い、金
型の外部から押圧体を穴から金型内部に貫通させ、放熱
板とリードフレームとの接合部を押圧体により下金型の
キャビティの底面に向って押圧させることによって、放
熱板及びリードフレームが押圧された状態となる。
さらに放熱板として、半導体チップの厚みとほぼ等しい
深さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体
チップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリ
ードフレームのリード以外の部分との接合部分とした放
熱板を用いた場合には、リードフレームと半導体チップ
との間で行うワイヤボンディング性に優れ、ワイヤ切れ
の発生といった事態が回避される。同時に放熱板の底面
から半導体チップに接合面までの厚みが薄いため、半導
体チップにおいて発生した熱の伝導性に優れ、放熱性が
向上する。
深さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体
チップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリ
ードフレームのリード以外の部分との接合部分とした放
熱板を用いた場合には、リードフレームと半導体チップ
との間で行うワイヤボンディング性に優れ、ワイヤ切れ
の発生といった事態が回避される。同時に放熱板の底面
から半導体チップに接合面までの厚みが薄いため、半導
体チップにおいて発生した熱の伝導性に優れ、放熱性が
向上する。
(実施例)
以下、本発明の第1の実施例による半導体装置の樹脂封
入方法について、工程別の装置断面を示した第1図を用
いて説明する。これは、この方法により製造された装置
の平面図である第2図のA−A線に沿う断面を示したち
のである。
入方法について、工程別の装置断面を示した第1図を用
いて説明する。これは、この方法により製造された装置
の平面図である第2図のA−A線に沿う断面を示したち
のである。
先ず放熱板3の上面に、リードフレーム2を設置する。
この放熱板3は従来のものと異なり、図のようにチップ
の厚みとほぼ等しい深さの凹部を有し、半導体チップ1
が搭載される部分までの底面からの高さhlは、リード
フレーム2が接合される部分までの高さh2よりも、低
くなっている。
の厚みとほぼ等しい深さの凹部を有し、半導体チップ1
が搭載される部分までの底面からの高さhlは、リード
フレーム2が接合される部分までの高さh2よりも、低
くなっている。
このため、搭載された半導体チップ1の表面までの高さ
h3と接合されたリードフレーム2の表面までの高さh
3とは、等しくなっている。
h3と接合されたリードフレーム2の表面までの高さh
3とは、等しくなっている。
そしてリードフレーム2は、第3図に示されるような形
状を有している。従来は、リードフレーム2の四隅のタ
イバー15によって、中央に点線で示されたアイランド
17が設けられていたが、本実施例の場合には存在しな
い。またそれぞれの四本のタイバー15には、放熱板3
にカシメあるいはネジ止め等によって接合するための穴
18が形成されている。ここで、支持バー19は、各リ
ード16が変形しないように、相互間を接続しているも
のである。一方、放熱板3には、上述した穴18に差込
まれる突起4が設けられており、カシメによって、リー
ドフレーム2と接合される。
状を有している。従来は、リードフレーム2の四隅のタ
イバー15によって、中央に点線で示されたアイランド
17が設けられていたが、本実施例の場合には存在しな
い。またそれぞれの四本のタイバー15には、放熱板3
にカシメあるいはネジ止め等によって接合するための穴
18が形成されている。ここで、支持バー19は、各リ
ード16が変形しないように、相互間を接続しているも
のである。一方、放熱板3には、上述した穴18に差込
まれる突起4が設けられており、カシメによって、リー
ドフレーム2と接合される。
第2図にはこの放熱板3とリードフレームとの接合状態
が示されており、放熱板3の四方に伸びた部分3aとリ
ードフレーム2のタイバー15とが接合される。次に、
放熱板3の中央部分に半導体チップ1を搭載し、リード
フレーム2を介さずに、直接放熱板3の上面にマウント
材によってダイボンディングを行う(第1図(a))。
が示されており、放熱板3の四方に伸びた部分3aとリ
ードフレーム2のタイバー15とが接合される。次に、
放熱板3の中央部分に半導体チップ1を搭載し、リード
フレーム2を介さずに、直接放熱板3の上面にマウント
材によってダイボンディングを行う(第1図(a))。
この後、半導体チップ1のパッドとリードフレーム2の
各リード16との間にワイヤボンディングを行い、ワイ
ヤ10で接続する。そして放熱板3を下金型5のキャビ
ティの底面に設置する。下金型5の上方には、上金型6
と押え具8とが設置されている。この押え具8は四本の
棒状体9を有しており、上金型6の穴7をそれぞれ貫通
して接合部分20を押圧するものである。ここで上金型
6には、穴7が四個設けられている。この穴7は、リー
ドフレーム2と放熱板3との接合部分2oの上方に位置
している(第1図(b))。
各リード16との間にワイヤボンディングを行い、ワイ
ヤ10で接続する。そして放熱板3を下金型5のキャビ
ティの底面に設置する。下金型5の上方には、上金型6
と押え具8とが設置されている。この押え具8は四本の
棒状体9を有しており、上金型6の穴7をそれぞれ貫通
して接合部分20を押圧するものである。ここで上金型
6には、穴7が四個設けられている。この穴7は、リー
ドフレーム2と放熱板3との接合部分2oの上方に位置
している(第1図(b))。
次に従来と異なり、この押え具8を下方へ移動させて、
リードフレーム2と放熱板3との接合部分20を押圧す
る。この状態で、金型5及び8て囲まれた内部に、溶融
した樹脂を注入させる(第1図(C))。
リードフレーム2と放熱板3との接合部分20を押圧す
る。この状態で、金型5及び8て囲まれた内部に、溶融
した樹脂を注入させる(第1図(C))。
そして樹脂11が硬化した後、金型5及び8から取出し
て半導体装置11を得る(第1図(d))。
て半導体装置11を得る(第1図(d))。
このように製造することによって、以下のような効果が
得られる。
得られる。
金型5及び6の内部に樹脂を注入させるときに、リード
フレーム2と放熱板3との接合部分20を押圧している
ため、放熱板3と下金型5の底面との間に隙間がなくな
り、樹脂の入り込みが防止される。これにより、半導体
装置14の底面61には樹脂が付着せず放熱板14の表
面は露出しているため、放熱性に優れている。
フレーム2と放熱板3との接合部分20を押圧している
ため、放熱板3と下金型5の底面との間に隙間がなくな
り、樹脂の入り込みが防止される。これにより、半導体
装置14の底面61には樹脂が付着せず放熱板14の表
面は露出しているため、放熱性に優れている。
さらにリードフレーム2と放熱板3との接合部分20を
押圧しているため、樹脂を注入させる際に、リードフレ
ーム2に撓みが生じるのが防止され、プリント配線基板
に実装する際におけるハンダ付けの作業性が向上する。
押圧しているため、樹脂を注入させる際に、リードフレ
ーム2に撓みが生じるのが防止され、プリント配線基板
に実装する際におけるハンダ付けの作業性が向上する。
半導体チップ1を直接放熱板3に接合しているため、チ
ップ1の発生した熱はリードフレーム2を介さずに直接
放熱板3に伝わり、放熱性に優れている。
ップ1の発生した熱はリードフレーム2を介さずに直接
放熱板3に伝わり、放熱性に優れている。
また、リードフレーム2と半導体チップ1の表面上のパ
ッドとは、高さ方向の位置が等しいため、ワイヤボンデ
ィング性が良好である。さらにこのような凹部を有する
形状としたことにより、放熱板3のうちの半導体チップ
1が搭載されている部分から露出している表面までの厚
みhlは、従来の場合よりも薄くなっている。このため
、ワイヤボンディング性のみならず、熱伝導性にも優れ
ている。
ッドとは、高さ方向の位置が等しいため、ワイヤボンデ
ィング性が良好である。さらにこのような凹部を有する
形状としたことにより、放熱板3のうちの半導体チップ
1が搭載されている部分から露出している表面までの厚
みhlは、従来の場合よりも薄くなっている。このため
、ワイヤボンディング性のみならず、熱伝導性にも優れ
ている。
また第6図に示された従来の放熱板43は、平坦な平板
の形状を有しているのに対し、この第1の実施例におけ
る放熱板3の形状は、段差か設けられている。高温の溶
融状態にあった樹脂が冷却される過程において、あるい
は半導体装置11をプリント配線基板にハンダ付けを行
う際における温度上昇によって樹脂が熱収縮するが、こ
のような段差を設けることによって放熱板と樹脂との密
着性が向上し、クラックの発生を防止することができる
。特にパッケージが大型化した場合に、このような効果
は顕著となる。
の形状を有しているのに対し、この第1の実施例におけ
る放熱板3の形状は、段差か設けられている。高温の溶
融状態にあった樹脂が冷却される過程において、あるい
は半導体装置11をプリント配線基板にハンダ付けを行
う際における温度上昇によって樹脂が熱収縮するが、こ
のような段差を設けることによって放熱板と樹脂との密
着性が向上し、クラックの発生を防止することができる
。特にパッケージが大型化した場合に、このような効果
は顕著となる。
次に、第2の実施例による半導体装置の樹脂封入方法に
ついて説明する。第4図に、この場合の工程別の装置断
面を示す。この断面図は、この方法により製造された装
置の平面図を示した第5図のB−B線に沿う断面を表し
ている。
ついて説明する。第4図に、この場合の工程別の装置断
面を示す。この断面図は、この方法により製造された装
置の平面図を示した第5図のB−B線に沿う断面を表し
ている。
この実施例では第1の実施例と異なり、段差が設けられ
ていない放熱板23を用いている。
ていない放熱板23を用いている。
そして、この放熱板23とリードフレーム2との接合は
、第1の実施例ではカシメにより行っていたが、ここで
は溶接により行う。次に、放熱板23の中央部分に半導
体チップ1を搭載し、リードフレーム2を介さずに、直
接放熱板3の上面にマウント材によってダイボンディン
グする(第4図(a))。
、第1の実施例ではカシメにより行っていたが、ここで
は溶接により行う。次に、放熱板23の中央部分に半導
体チップ1を搭載し、リードフレーム2を介さずに、直
接放熱板3の上面にマウント材によってダイボンディン
グする(第4図(a))。
この後、半導体チップ1のパッドとリードフレーム2の
各リード16との間にワイヤボンディングを行い、ワイ
ヤ10で接続する。そして放熱板23を下金型25のキ
ャビティ底面に設置する。
各リード16との間にワイヤボンディングを行い、ワイ
ヤ10で接続する。そして放熱板23を下金型25のキ
ャビティ底面に設置する。
下金型の上方には、上金型26と押え具28とか設置さ
れている。ここで第1の実施例における上金型6には円
形の穴7が形成されていたのに対し、この上金型26に
は細長いスリット状の穴27が四個形成されている。こ
のスリット状の穴27は、リードフレーム2と放熱板3
との接合部分36の上方から両端へ伸びる方向に位置し
ているこの押え具28には、四本の薄い板状体26が設
けられており、金型26のスリット状の穴27をそれぞ
れ貫通して、接合部分36を押圧するものである(第4
図(b))。
れている。ここで第1の実施例における上金型6には円
形の穴7が形成されていたのに対し、この上金型26に
は細長いスリット状の穴27が四個形成されている。こ
のスリット状の穴27は、リードフレーム2と放熱板3
との接合部分36の上方から両端へ伸びる方向に位置し
ているこの押え具28には、四本の薄い板状体26が設
けられており、金型26のスリット状の穴27をそれぞ
れ貫通して、接合部分36を押圧するものである(第4
図(b))。
次にこの押え具28を下方へ移動させて、リードフレー
ム2と放熱板3との接合部分20を押圧する。この状態
で、金型25及び28で囲まれた内部に、溶融した樹脂
を注入させる(第4図(C))。
ム2と放熱板3との接合部分20を押圧する。この状態
で、金型25及び28で囲まれた内部に、溶融した樹脂
を注入させる(第4図(C))。
そして樹脂32が硬化した後、金型25及び28から取
出して半導体装置30を得る(第4図(d))。この半
導体装置30の外観を示した平面図が、上述したように
第5図に相当し、押え具28の板状体26の跡として、
スリット31が対角線上の四方向に伸びるように形成さ
れている。
出して半導体装置30を得る(第4図(d))。この半
導体装置30の外観を示した平面図が、上述したように
第5図に相当し、押え具28の板状体26の跡として、
スリット31が対角線上の四方向に伸びるように形成さ
れている。
このような方法により製造することによって、以下のよ
うな効果が得られる。
うな効果が得られる。
第1の実施例と同様に、リードフレーム2と放熱板23
との接合部分36を、下金型25内部の底面に押圧した
状態で下金型25及び26の内部に樹脂を注入させるた
め、放熱板23と下金型25の底面との間に隙間が生じ
ることがなく、樹脂の入り込みが防止される。これによ
り、半導体装置30の底面62には樹脂が付着せず放熱
板23の表面は露出しており、放熱性が良い。従って、
第1の実施例と比較し、放熱板23の厚みか厚くなって
はいるが、十分な放熱性か確保されている。またリード
フレーム2と放熱板23との接合部分36を押圧してい
ることによって、樹脂を流入させる際にリードフレーム
2に撓みが発生せず、プリント配線基板に実装する際の
ハンダ付は作業の効率が向上する。
との接合部分36を、下金型25内部の底面に押圧した
状態で下金型25及び26の内部に樹脂を注入させるた
め、放熱板23と下金型25の底面との間に隙間が生じ
ることがなく、樹脂の入り込みが防止される。これによ
り、半導体装置30の底面62には樹脂が付着せず放熱
板23の表面は露出しており、放熱性が良い。従って、
第1の実施例と比較し、放熱板23の厚みか厚くなって
はいるが、十分な放熱性か確保されている。またリード
フレーム2と放熱板23との接合部分36を押圧してい
ることによって、樹脂を流入させる際にリードフレーム
2に撓みが発生せず、プリント配線基板に実装する際の
ハンダ付は作業の効率が向上する。
半導体チップ1を直接放熱板23に接合しているため、
チップ1の発生した熱がリードフレーム2を介さずに直
接放熱板23に伝わり、放熱性に優れている。
チップ1の発生した熱がリードフレーム2を介さずに直
接放熱板23に伝わり、放熱性に優れている。
上述した実施例はいずれも一例であって、本発明を限定
するものではない。例えば放熱板とリードフレームとの
接合は、カシメやネジ止めに限らず溶接等により行って
もよい。また樹脂を金型内に注入させる際における、リ
ードフレームと放熱板との接合部の金型のキャビティ底
面への押圧は、実施例のような押え具によるものに限ら
れず、放熱板と金型の底面との間に隙間が生じないよう
に押圧し得るものであれば、他の方法によるものであっ
てもよい。
するものではない。例えば放熱板とリードフレームとの
接合は、カシメやネジ止めに限らず溶接等により行って
もよい。また樹脂を金型内に注入させる際における、リ
ードフレームと放熱板との接合部の金型のキャビティ底
面への押圧は、実施例のような押え具によるものに限ら
れず、放熱板と金型の底面との間に隙間が生じないよう
に押圧し得るものであれば、他の方法によるものであっ
てもよい。
以上のように本発明の半導体装置の樹脂封入方法は、下
金型のキャビティの底面に、放熱板とリードフレームと
の接合部分を押圧した状態で樹脂を注入するため、放熱
板と下金型のキャビティ底面との間に隙間が発生せず、
放熱板の表面は樹脂で覆われることなく露出され、放熱
性に優れる。
金型のキャビティの底面に、放熱板とリードフレームと
の接合部分を押圧した状態で樹脂を注入するため、放熱
板と下金型のキャビティ底面との間に隙間が発生せず、
放熱板の表面は樹脂で覆われることなく露出され、放熱
性に優れる。
同時にリードフレームも、下金型のキャビティ底面に対
して押圧された状態となっているため、樹脂を注入させ
る際に撓みが発生せず、平坦性が向上する。また半導体
チップは放熱板に直接接合されているため、リードフレ
ームを介して接合している場合よりも放熱性に優れてい
る。
して押圧された状態となっているため、樹脂を注入させ
る際に撓みが発生せず、平坦性が向上する。また半導体
チップは放熱板に直接接合されているため、リードフレ
ームを介して接合している場合よりも放熱性に優れてい
る。
ここで下金型のキャビティ底面への放熱板の押圧を、金
型として上金型に貫通した穴を有するものを用い、金型
の外部から押圧体を穴から金型内部に貫通させ、放熱板
とリードフレームとの接合部を下金型のキャビティ底面
に押圧させることによって、下金型のキャビティ底面に
放熱板及びリードフレームが押圧された状態に保つこと
ができ、上述のような効果が得られる。
型として上金型に貫通した穴を有するものを用い、金型
の外部から押圧体を穴から金型内部に貫通させ、放熱板
とリードフレームとの接合部を下金型のキャビティ底面
に押圧させることによって、下金型のキャビティ底面に
放熱板及びリードフレームが押圧された状態に保つこと
ができ、上述のような効果が得られる。
さらに放熱板として、半導体チップの厚みとほぼ等しい
深さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体
チップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリ
ードフレームのリード以外の部分との接合部分とした放
熱板を用いた場合には、リードフレームと半導体チップ
との間で行うワイヤボンディング性に優れ、ワイヤ切れ
の発生といった事態が回避されると同時に、放熱板の底
面から半導体チップに接合面までの厚みが薄いため、半
導体チップの発生した熱の伝導性に優れ、放熱性が向上
する。
深さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を半導体
チップの接合部分とし、底面からの厚みが厚い部分をリ
ードフレームのリード以外の部分との接合部分とした放
熱板を用いた場合には、リードフレームと半導体チップ
との間で行うワイヤボンディング性に優れ、ワイヤ切れ
の発生といった事態が回避されると同時に、放熱板の底
面から半導体チップに接合面までの厚みが薄いため、半
導体チップの発生した熱の伝導性に優れ、放熱性が向上
する。
第1図は本発明の第1の実施例による半導体装置の樹脂
封入方法を示した工程別の装置断面図、第2図は同樹脂
封入方法により製造された半導体装置の平面図、第3図
は同装置に用いられるリードフレームを示した平面図、
第4図は本発明の第2の実施例による半導体装置の樹脂
封入方法を示した工程別の装置断面図、第5図は同樹脂
封入方法により製造された半導体装置の平面図、第6図
は従来の半導体装置の樹脂封入方法を示した工程別の装
置断面図、第7図は同樹脂封入方法により製造された半
導体装置の平面図である。 1・・・半導体チップ、2・・・リードフレーム、3゜
23・・・放熱板、5.25・・・下金型、6,26・
・・上金型、7,27・・・穴、8,28・・・押え具
、9・・・棒状体、10・・・ワイヤ、15・・・タイ
バー、16・・・リード。 出願人代理人 佐 藤 −雄 鳥1 図 為2図 為3図 為4図 華)5図 気6図 気7 図
封入方法を示した工程別の装置断面図、第2図は同樹脂
封入方法により製造された半導体装置の平面図、第3図
は同装置に用いられるリードフレームを示した平面図、
第4図は本発明の第2の実施例による半導体装置の樹脂
封入方法を示した工程別の装置断面図、第5図は同樹脂
封入方法により製造された半導体装置の平面図、第6図
は従来の半導体装置の樹脂封入方法を示した工程別の装
置断面図、第7図は同樹脂封入方法により製造された半
導体装置の平面図である。 1・・・半導体チップ、2・・・リードフレーム、3゜
23・・・放熱板、5.25・・・下金型、6,26・
・・上金型、7,27・・・穴、8,28・・・押え具
、9・・・棒状体、10・・・ワイヤ、15・・・タイ
バー、16・・・リード。 出願人代理人 佐 藤 −雄 鳥1 図 為2図 為3図 為4図 華)5図 気6図 気7 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、リードフレームのリード以外の部分を放熱板に接合
する第1の工程と、 半導体チップを前記放熱板の表面上にダイボンディング
する第2の工程と、 前記半導体チップと前記リードフレームのリードとの間
でワイヤボンディングを行い、電気的に接続する第3の
工程と、 前記放熱板を下金型のキャビティの底面に設置し、この
底面に向けて前記放熱板と前記リードフレームとの接合
部分を押圧した状態にする第4の工程と、 金型の内部に溶融した樹脂を注入し、硬化させる第5の
工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の樹脂封入
方法。 2、前記第4の工程における前記下金型のキャビティの
底面への前記放熱板の押圧は、前記金型として上金型に
貫通した穴を有するものを用い、前記金型の外部から押
圧体を前記穴から前記金型内部に貫通させ、前記放熱板
と前記リードフレームとの接合部を前記押圧体により前
記下金型のキャビティの底面に向って押圧させることに
よって行うことを特徴とする請求項1記載の半導体装置
の樹脂封入方法。 3、前記放熱板として、前記半導体チップの厚みとほぼ
等しい深さの凹部を有し、底面からの厚みが薄い部分を
前記半導体チップの接合部分とし、底面からの厚みが厚
い部分を前記リードフレームのリード以外の部分との接
合部分とした放熱板を用いることを特徴とする請求項1
又は2記載の半導体装置の樹脂封入方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128399A JPH02306639A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 半導体装置の樹脂封入方法 |
US07/524,434 US5091341A (en) | 1989-05-22 | 1990-05-17 | Method of sealing semiconductor device with resin by pressing a lead frame to a heat sink using an upper mold pressure member |
KR1019900007347A KR930011453B1 (ko) | 1989-05-22 | 1990-05-22 | 반도체장치의 수지봉입방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128399A JPH02306639A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 半導体装置の樹脂封入方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02306639A true JPH02306639A (ja) | 1990-12-20 |
JPH0558655B2 JPH0558655B2 (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=14983837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1128399A Granted JPH02306639A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 半導体装置の樹脂封入方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5091341A (ja) |
JP (1) | JPH02306639A (ja) |
KR (1) | KR930011453B1 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0488783A2 (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Lead frame for semiconductor device comprising a heat sink |
WO1993006621A1 (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-01 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
US5252052A (en) * | 1990-12-28 | 1993-10-12 | Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. | Mold for manufacturing plastic integrated circuits incorporating a heat sink |
WO1998008251A1 (fr) * | 1996-08-20 | 1998-02-26 | Hitachi, Ltd. | Semi-conducteur et procede de fabrication correspondant |
US5893724A (en) * | 1995-10-28 | 1999-04-13 | Institute Of Microelectronics | Method for forming a highly reliable and planar ball grid array package |
US5959349A (en) * | 1997-02-25 | 1999-09-28 | Micron Technology, Inc. | Transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink |
US6117797A (en) * | 1998-09-03 | 2000-09-12 | Micron Technology, Inc. | Attachment method for heat sinks and devices involving removal of misplaced encapsulant |
US6297960B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-10-02 | Micron Technology, Inc. | Heat sink with alignment and retaining features |
US6297548B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-10-02 | Micron Technology, Inc. | Stackable ceramic FBGA for high thermal applications |
US6444501B1 (en) | 2001-06-12 | 2002-09-03 | Micron Technology, Inc. | Two stage transfer molding method to encapsulate MMC module |
JP2006156606A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nippon Inter Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2009532676A (ja) * | 2006-03-30 | 2009-09-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放射線検出器配列 |
JP2013016636A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Denso Corp | モールドパッケージの製造方法 |
Families Citing this family (150)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5605863A (en) * | 1990-08-31 | 1997-02-25 | Texas Instruments Incorporated | Device packaging using heat spreaders and assisted deposition of wire bonds |
IT1247649B (it) * | 1990-10-31 | 1994-12-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Procedimento di incapsulamento in resina di un dispositivo a semiconduttore di potenza montato su dissipatore allontanando i reofori dal dissipatore mediante l'azione del controstampo in fase di chiusura dello stampo |
JP2602380B2 (ja) * | 1991-10-23 | 1997-04-23 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
IT1252136B (it) * | 1991-11-29 | 1995-06-05 | St Microelectronics Srl | Struttura di dispositivo a semiconduttore con dissipatore metallico e corpo in plastica, con mezzi per una connessione elettrica al dissipatore di alta affidabilita' |
IT1252575B (it) * | 1991-12-20 | 1995-06-19 | Sgs Thomson Microelectronics | Stampo e procedimento per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore in plastica, con dissipatore metallico visibile per il controllo della saldatura |
DE69318640T2 (de) * | 1992-01-27 | 1998-09-10 | Harris Corp | Halbleitervorrichtung mit einem halbleitersubstrat und einer keramischen scheibe als decke |
US5278446A (en) * | 1992-07-06 | 1994-01-11 | Motorola, Inc. | Reduced stress plastic package |
US5387554A (en) * | 1992-09-10 | 1995-02-07 | Vlsi Technology, Inc. | Apparatus and method for thermally coupling a heat sink to a lead frame |
EP0665591A1 (en) * | 1992-11-06 | 1995-08-02 | Motorola, Inc. | Method for forming a power circuit package |
JP2927660B2 (ja) * | 1993-01-25 | 1999-07-28 | シャープ株式会社 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
US5427984A (en) * | 1993-03-01 | 1995-06-27 | At&T Global Information Solutions | Method of making a cooling package for a semiconductor chip |
US5394607A (en) * | 1993-05-20 | 1995-03-07 | Texas Instruments Incorporated | Method of providing low cost heat sink |
US5420752A (en) * | 1993-08-18 | 1995-05-30 | Lsi Logic Corporation | GPT system for encapsulating an integrated circuit package |
US5444909A (en) * | 1993-12-29 | 1995-08-29 | Intel Corporation | Method of making a drop-in heat sink |
US5434105A (en) * | 1994-03-04 | 1995-07-18 | National Semiconductor Corporation | Process for attaching a lead frame to a heat sink using a glob-top encapsulation |
US5458716A (en) * | 1994-05-25 | 1995-10-17 | Texas Instruments Incorporated | Methods for manufacturing a thermally enhanced molded cavity package having a parallel lid |
US5665653A (en) * | 1995-03-29 | 1997-09-09 | Unifet, Incorporated | Method for encapsulating an electrochemical sensor |
DE19513797A1 (de) * | 1995-04-11 | 1996-10-24 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines Trägerelementes und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US5652463A (en) * | 1995-05-26 | 1997-07-29 | Hestia Technologies, Inc. | Transfer modlded electronic package having a passage means |
US5789270A (en) * | 1996-01-30 | 1998-08-04 | Industrial Technology Research Institute | Method for assembling a heat sink to a die paddle |
DE69624087T2 (de) * | 1996-01-31 | 2003-06-05 | Sumitomo Bakelite Co | Verfahren zur Herstellung von in Epoxyharz eingekapselter Halbleitervorrichtung |
US5822848A (en) * | 1996-06-04 | 1998-10-20 | Industrial Technology Research Institute | Lead frame having a detachable and interchangeable die-attach paddle |
US5798570A (en) * | 1996-06-28 | 1998-08-25 | Kabushiki Kaisha Gotoh Seisakusho | Plastic molded semiconductor package with thermal dissipation means |
KR100214549B1 (ko) * | 1996-12-30 | 1999-08-02 | 구본준 | 버텀리드 반도체 패키지 |
JPH11145364A (ja) * | 1997-11-12 | 1999-05-28 | Denso Corp | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
US7112474B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-09-26 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US6893900B1 (en) | 1998-06-24 | 2005-05-17 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7332375B1 (en) | 1998-06-24 | 2008-02-19 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7071541B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-07-04 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US6143981A (en) | 1998-06-24 | 2000-11-07 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US7005326B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-02-28 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7030474B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-04-18 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US6448633B1 (en) * | 1998-11-20 | 2002-09-10 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and method of making using leadframe having lead locks to secure leads to encapsulant |
KR100403142B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2003-10-30 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
KR100526844B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2005-11-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 및 그 제조방법 |
KR20010037247A (ko) | 1999-10-15 | 2001-05-07 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
US6198163B1 (en) * | 1999-10-18 | 2001-03-06 | Amkor Technology, Inc. | Thin leadframe-type semiconductor package having heat sink with recess and exposed surface |
US6580159B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-06-17 | Amkor Technology, Inc. | Integrated circuit device packages and substrates for making the packages |
US20070176287A1 (en) * | 1999-11-05 | 2007-08-02 | Crowley Sean T | Thin integrated circuit device packages for improved radio frequency performance |
US6847103B1 (en) | 1999-11-09 | 2005-01-25 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with exposed die pad and body-locking leadframe |
KR100421774B1 (ko) * | 1999-12-16 | 2004-03-10 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 및 그 제조 방법 |
US6639308B1 (en) * | 1999-12-16 | 2003-10-28 | Amkor Technology, Inc. | Near chip size semiconductor package |
KR100583494B1 (ko) * | 2000-03-25 | 2006-05-24 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
US7042068B2 (en) * | 2000-04-27 | 2006-05-09 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe and semiconductor package made using the leadframe |
US6643919B1 (en) * | 2000-05-19 | 2003-11-11 | Siliconware Precision Industries Co., Ltd. | Method of fabricating a semiconductor device package having a core-hollowed portion without causing resin flash on lead frame |
KR20020058209A (ko) * | 2000-12-29 | 2002-07-12 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
KR100731007B1 (ko) * | 2001-01-15 | 2007-06-22 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 적층형 반도체 패키지 |
US6545345B1 (en) | 2001-03-20 | 2003-04-08 | Amkor Technology, Inc. | Mounting for a package containing a chip |
US6967395B1 (en) | 2001-03-20 | 2005-11-22 | Amkor Technology, Inc. | Mounting for a package containing a chip |
KR100369393B1 (ko) | 2001-03-27 | 2003-02-05 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법 |
KR100393448B1 (ko) * | 2001-03-27 | 2003-08-02 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
US7064009B1 (en) | 2001-04-04 | 2006-06-20 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same |
US7045883B1 (en) | 2001-04-04 | 2006-05-16 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same |
US6597059B1 (en) | 2001-04-04 | 2003-07-22 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package |
US6396130B1 (en) | 2001-09-14 | 2002-05-28 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package having multiple dies with independently biased back surfaces |
US6900527B1 (en) | 2001-09-19 | 2005-05-31 | Amkor Technology, Inc. | Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module |
US7485952B1 (en) | 2001-09-19 | 2009-02-03 | Amkor Technology, Inc. | Drop resistant bumpers for fully molded memory cards |
US6630726B1 (en) | 2001-11-07 | 2003-10-07 | Amkor Technology, Inc. | Power semiconductor package with strap |
JP4211359B2 (ja) * | 2002-03-06 | 2009-01-21 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
TWI292961B (en) * | 2002-09-05 | 2008-01-21 | Nichia Corp | Semiconductor device and an optical device using the semiconductor device |
US6818973B1 (en) | 2002-09-09 | 2004-11-16 | Amkor Technology, Inc. | Exposed lead QFP package fabricated through the use of a partial saw process |
US7723210B2 (en) | 2002-11-08 | 2010-05-25 | Amkor Technology, Inc. | Direct-write wafer level chip scale package |
US6905914B1 (en) | 2002-11-08 | 2005-06-14 | Amkor Technology, Inc. | Wafer level package and fabrication method |
US7361533B1 (en) | 2002-11-08 | 2008-04-22 | Amkor Technology, Inc. | Stacked embedded leadframe |
US7190062B1 (en) | 2004-06-15 | 2007-03-13 | Amkor Technology, Inc. | Embedded leadframe semiconductor package |
TW567598B (en) * | 2002-11-13 | 2003-12-21 | Advanced Semiconductor Eng | Flip chip semiconductor package |
US6798047B1 (en) | 2002-12-26 | 2004-09-28 | Amkor Technology, Inc. | Pre-molded leadframe |
US6847099B1 (en) | 2003-02-05 | 2005-01-25 | Amkor Technology Inc. | Offset etched corner leads for semiconductor package |
US6750545B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-06-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package capable of die stacking |
US6927483B1 (en) | 2003-03-07 | 2005-08-09 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package exhibiting efficient lead placement |
US6794740B1 (en) | 2003-03-13 | 2004-09-21 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe package for semiconductor devices |
US7001799B1 (en) | 2003-03-13 | 2006-02-21 | Amkor Technology, Inc. | Method of making a leadframe for semiconductor devices |
US7095103B1 (en) | 2003-05-01 | 2006-08-22 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe based memory card |
US7008825B1 (en) | 2003-05-27 | 2006-03-07 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe strip having enhanced testability |
US6897550B1 (en) | 2003-06-11 | 2005-05-24 | Amkor Technology, Inc. | Fully-molded leadframe stand-off feature |
US7245007B1 (en) | 2003-09-18 | 2007-07-17 | Amkor Technology, Inc. | Exposed lead interposer leadframe package |
US6921967B2 (en) * | 2003-09-24 | 2005-07-26 | Amkor Technology, Inc. | Reinforced die pad support structure |
US7138707B1 (en) | 2003-10-21 | 2006-11-21 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package including leads and conductive posts for providing increased functionality |
US7144517B1 (en) | 2003-11-07 | 2006-12-05 | Amkor Technology, Inc. | Manufacturing method for leadframe and for semiconductor package using the leadframe |
US7211879B1 (en) | 2003-11-12 | 2007-05-01 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with chamfered corners and method of manufacturing the same |
US7057268B1 (en) | 2004-01-27 | 2006-06-06 | Amkor Technology, Inc. | Cavity case with clip/plug for use on multi-media card |
US7091594B1 (en) | 2004-01-28 | 2006-08-15 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe type semiconductor package having reduced inductance and its manufacturing method |
DE102005016830A1 (de) * | 2004-04-14 | 2005-11-03 | Denso Corp., Kariya | Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US20080003722A1 (en) * | 2004-04-15 | 2008-01-03 | Chun David D | Transfer mold solution for molded multi-media card |
US7202554B1 (en) | 2004-08-19 | 2007-04-10 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and its manufacturing method |
US7217991B1 (en) | 2004-10-22 | 2007-05-15 | Amkor Technology, Inc. | Fan-in leadframe semiconductor package |
US7224047B2 (en) * | 2004-12-18 | 2007-05-29 | Lsi Corporation | Semiconductor device package with reduced leakage |
US7507603B1 (en) | 2005-12-02 | 2009-03-24 | Amkor Technology, Inc. | Etch singulated semiconductor package |
US7572681B1 (en) | 2005-12-08 | 2009-08-11 | Amkor Technology, Inc. | Embedded electronic component package |
US7615861B2 (en) * | 2006-03-13 | 2009-11-10 | Sandisk Corporation | Methods of promoting adhesion between transfer molded IC packages and injection molded plastics for creating over-molded memory cards |
US7902660B1 (en) | 2006-05-24 | 2011-03-08 | Amkor Technology, Inc. | Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof |
US7968998B1 (en) | 2006-06-21 | 2011-06-28 | Amkor Technology, Inc. | Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package |
US7927923B2 (en) | 2006-09-25 | 2011-04-19 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for directing molding compound flow and resulting semiconductor device packages |
US7687893B2 (en) | 2006-12-27 | 2010-03-30 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package having leadframe with exposed anchor pads |
US7829990B1 (en) | 2007-01-18 | 2010-11-09 | Amkor Technology, Inc. | Stackable semiconductor package including laminate interposer |
US7982297B1 (en) | 2007-03-06 | 2011-07-19 | Amkor Technology, Inc. | Stackable semiconductor package having partially exposed semiconductor die and method of fabricating the same |
US7977774B2 (en) * | 2007-07-10 | 2011-07-12 | Amkor Technology, Inc. | Fusion quad flat semiconductor package |
US7687899B1 (en) | 2007-08-07 | 2010-03-30 | Amkor Technology, Inc. | Dual laminate package structure with embedded elements |
US7777351B1 (en) | 2007-10-01 | 2010-08-17 | Amkor Technology, Inc. | Thin stacked interposer package |
US8089159B1 (en) | 2007-10-03 | 2012-01-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with increased I/O density and method of making the same |
US7847386B1 (en) | 2007-11-05 | 2010-12-07 | Amkor Technology, Inc. | Reduced size stacked semiconductor package and method of making the same |
CN101471407B (zh) * | 2007-12-24 | 2012-02-29 | 亿光电子工业股份有限公司 | 薄型发光二极管装置的封装方法 |
US7956453B1 (en) | 2008-01-16 | 2011-06-07 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with patterning layer and method of making same |
US7723852B1 (en) | 2008-01-21 | 2010-05-25 | Amkor Technology, Inc. | Stacked semiconductor package and method of making same |
US8067821B1 (en) | 2008-04-10 | 2011-11-29 | Amkor Technology, Inc. | Flat semiconductor package with half package molding |
US7768135B1 (en) | 2008-04-17 | 2010-08-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with fast power-up cycle and method of making same |
US7808084B1 (en) | 2008-05-06 | 2010-10-05 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with half-etched locking features |
US8125064B1 (en) | 2008-07-28 | 2012-02-28 | Amkor Technology, Inc. | Increased I/O semiconductor package and method of making same |
US8184453B1 (en) | 2008-07-31 | 2012-05-22 | Amkor Technology, Inc. | Increased capacity semiconductor package |
US7847392B1 (en) | 2008-09-30 | 2010-12-07 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with increased I/O |
US7989933B1 (en) | 2008-10-06 | 2011-08-02 | Amkor Technology, Inc. | Increased I/O leadframe and semiconductor device including same |
US8008758B1 (en) | 2008-10-27 | 2011-08-30 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe |
US8089145B1 (en) | 2008-11-17 | 2012-01-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including increased capacity leadframe |
US8072050B1 (en) | 2008-11-18 | 2011-12-06 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe including passive device |
US7875963B1 (en) | 2008-11-21 | 2011-01-25 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe having power bars and increased I/O |
US7982298B1 (en) | 2008-12-03 | 2011-07-19 | Amkor Technology, Inc. | Package in package semiconductor device |
US8487420B1 (en) | 2008-12-08 | 2013-07-16 | Amkor Technology, Inc. | Package in package semiconductor device with film over wire |
US20170117214A1 (en) | 2009-01-05 | 2017-04-27 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with through-mold via |
US8680656B1 (en) | 2009-01-05 | 2014-03-25 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe structure for concentrated photovoltaic receiver package |
US8058715B1 (en) | 2009-01-09 | 2011-11-15 | Amkor Technology, Inc. | Package in package device for RF transceiver module |
US8026589B1 (en) | 2009-02-23 | 2011-09-27 | Amkor Technology, Inc. | Reduced profile stackable semiconductor package |
US7960818B1 (en) | 2009-03-04 | 2011-06-14 | Amkor Technology, Inc. | Conformal shield on punch QFN semiconductor package |
US8575742B1 (en) | 2009-04-06 | 2013-11-05 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe including power bars |
CN101582480B (zh) * | 2009-05-08 | 2011-06-22 | 华灿光电股份有限公司 | 带热沉的led芯片及其制造方法 |
US8796561B1 (en) | 2009-10-05 | 2014-08-05 | Amkor Technology, Inc. | Fan out build up substrate stackable package and method |
US8937381B1 (en) | 2009-12-03 | 2015-01-20 | Amkor Technology, Inc. | Thin stackable package and method |
US9691734B1 (en) | 2009-12-07 | 2017-06-27 | Amkor Technology, Inc. | Method of forming a plurality of electronic component packages |
US8324511B1 (en) | 2010-04-06 | 2012-12-04 | Amkor Technology, Inc. | Through via nub reveal method and structure |
US8294276B1 (en) | 2010-05-27 | 2012-10-23 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device and fabricating method thereof |
TWI445139B (zh) * | 2010-06-11 | 2014-07-11 | Advanced Semiconductor Eng | 晶片封裝結構、晶片封裝模具與晶片封裝製程 |
US8440554B1 (en) | 2010-08-02 | 2013-05-14 | Amkor Technology, Inc. | Through via connected backside embedded circuit features structure and method |
US8487445B1 (en) | 2010-10-05 | 2013-07-16 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer |
US8791501B1 (en) | 2010-12-03 | 2014-07-29 | Amkor Technology, Inc. | Integrated passive device structure and method |
US8674485B1 (en) | 2010-12-08 | 2014-03-18 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with downsets |
US8390130B1 (en) | 2011-01-06 | 2013-03-05 | Amkor Technology, Inc. | Through via recessed reveal structure and method |
TWI557183B (zh) | 2015-12-16 | 2016-11-11 | 財團法人工業技術研究院 | 矽氧烷組成物、以及包含其之光電裝置 |
US8648450B1 (en) | 2011-01-27 | 2014-02-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with a combination of leads and lands |
CN102738022B (zh) * | 2011-04-15 | 2017-05-17 | 飞思卡尔半导体公司 | 组装包括绝缘衬底和热沉的半导体器件的方法 |
US8552548B1 (en) | 2011-11-29 | 2013-10-08 | Amkor Technology, Inc. | Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device |
US9704725B1 (en) | 2012-03-06 | 2017-07-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with leadframe configured to facilitate reduced burr formation |
US9048298B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-06-02 | Amkor Technology, Inc. | Backside warpage control structure and fabrication method |
US9129943B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-09-08 | Amkor Technology, Inc. | Embedded component package and fabrication method |
KR101486790B1 (ko) | 2013-05-02 | 2015-01-28 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 강성보강부를 갖는 마이크로 리드프레임 |
KR101563911B1 (ko) | 2013-10-24 | 2015-10-28 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 |
JP6166654B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2017-07-19 | 矢崎総業株式会社 | 電子回路ユニットにおける外装ケースの成形方法 |
US9673122B2 (en) | 2014-05-02 | 2017-06-06 | Amkor Technology, Inc. | Micro lead frame structure having reinforcing portions and method |
US10426963B2 (en) | 2015-10-30 | 2019-10-01 | Zoll Medical Corporation | Estimating shock success by monitoring changes in spectral data |
US9799580B2 (en) * | 2016-03-24 | 2017-10-24 | Nxp Usa, Inc. | Semiconductor device package and methods of manufacture thereof |
US10541223B2 (en) * | 2017-05-05 | 2020-01-21 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Methods of operating a wire bonding machine to improve clamping of a substrate, and wire bonding machines |
IT201700053915A1 (it) * | 2017-05-18 | 2018-11-18 | St Microelectronics Srl | Procedimento di packaging di prodotti a semiconduttore, prodotto ed utensile di stampaggio corrispondenti |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3729573A (en) * | 1971-01-25 | 1973-04-24 | Motorola Inc | Plastic encapsulation of semiconductor devices |
JPS587322A (ja) * | 1981-07-06 | 1983-01-17 | Kazuo Bando | 樹脂封入成形方法とその金型装置 |
US4470786A (en) * | 1981-07-28 | 1984-09-11 | Omron Tateisi Electronics Co. | Molding apparatus with retractable preform support pins |
US4377548A (en) * | 1981-11-27 | 1983-03-22 | Sprague Electric Company | Method for encapsulating a radial leaded electrical component |
JPS5963735A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-11 | Rohm Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPS5965437A (ja) * | 1982-10-06 | 1984-04-13 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
FR2572987B1 (fr) * | 1984-09-21 | 1987-01-02 | Pont A Mousson | Procede et dispositif de surmoulage d'un entourage de dimensions precises sur le pourtour d'une piece plane ou galbee a tolerances dimensionnelles |
JPS61234536A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-18 | Nec Corp | 樹脂封止金型 |
DE3675321D1 (de) * | 1985-08-16 | 1990-12-06 | Dai Ichi Seiko Co Ltd | Halbleiteranordnung mit packung vom steckerstifttyp. |
JPS63175435A (ja) * | 1987-01-14 | 1988-07-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置用モ−ルド金型 |
JPH01179332A (ja) * | 1987-12-31 | 1989-07-17 | Sanken Electric Co Ltd | 樹脂封止型電子装置の製造方法 |
-
1989
- 1989-05-22 JP JP1128399A patent/JPH02306639A/ja active Granted
-
1990
- 1990-05-17 US US07/524,434 patent/US5091341A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-22 KR KR1019900007347A patent/KR930011453B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0488783A2 (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Lead frame for semiconductor device comprising a heat sink |
US5252052A (en) * | 1990-12-28 | 1993-10-12 | Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. | Mold for manufacturing plastic integrated circuits incorporating a heat sink |
WO1993006621A1 (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-01 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
US5200809A (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
US5893724A (en) * | 1995-10-28 | 1999-04-13 | Institute Of Microelectronics | Method for forming a highly reliable and planar ball grid array package |
WO1998008251A1 (fr) * | 1996-08-20 | 1998-02-26 | Hitachi, Ltd. | Semi-conducteur et procede de fabrication correspondant |
US6249050B1 (en) | 1997-02-25 | 2001-06-19 | Micron Technology, Inc. | Encapsulated transfer molding of a semiconductor die with attached heat sink |
US5959349A (en) * | 1997-02-25 | 1999-09-28 | Micron Technology, Inc. | Transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink |
US6583504B2 (en) | 1997-02-25 | 2003-06-24 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor die with attached heat sink and transfer mold |
US6869811B2 (en) | 1997-02-25 | 2005-03-22 | Micron Technology, Inc. | Methods for transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink |
US6001672A (en) * | 1997-02-25 | 1999-12-14 | Micron Technology, Inc. | Method for transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink |
US6403387B1 (en) | 1997-02-25 | 2002-06-11 | Micron Technology | Method and apparatus for transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink |
US6373132B2 (en) | 1997-02-25 | 2002-04-16 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor die with attached heat sink and transfer mold |
US6297548B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-10-02 | Micron Technology, Inc. | Stackable ceramic FBGA for high thermal applications |
US6297960B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-10-02 | Micron Technology, Inc. | Heat sink with alignment and retaining features |
US6858926B2 (en) | 1998-06-30 | 2005-02-22 | Micron Technology, Inc. | Stackable ceramic FBGA for high thermal applications |
US6650007B2 (en) | 1998-06-30 | 2003-11-18 | Micron Technology, Inc. | Stackable ceramic fbga for high thermal applications |
US6525943B2 (en) | 1998-06-30 | 2003-02-25 | Micron Technology, Inc. | Heat sink with alignment and retaining features |
US6760224B2 (en) | 1998-06-30 | 2004-07-06 | Micron Technology, Inc. | Heat sink with alignment and retaining features |
US7285442B2 (en) | 1998-06-30 | 2007-10-23 | Micron Technology, Inc. | Stackable ceramic FBGA for high thermal applications |
US6451709B1 (en) | 1998-09-03 | 2002-09-17 | Micron Technology, Inc. | Methodology of removing misplaced encapsulant for attachment of heat sinks in a chip on board package |
US6806567B2 (en) | 1998-09-03 | 2004-10-19 | Micron Technology, Inc. | Chip on board with heat sink attachment and assembly |
US6229204B1 (en) | 1998-09-03 | 2001-05-08 | Micron Technology, Inc. | Chip on board with heat sink attachment |
US6117797A (en) * | 1998-09-03 | 2000-09-12 | Micron Technology, Inc. | Attachment method for heat sinks and devices involving removal of misplaced encapsulant |
US6730995B2 (en) | 2001-06-12 | 2004-05-04 | Micron Technology, Inc. | Two-stage transfer molding device to encapsulate MMC module |
US6538311B2 (en) | 2001-06-12 | 2003-03-25 | Micron Technology, Inc. | Two-stage transfer molding method to encapsulate MMC module |
US6764882B2 (en) | 2001-06-12 | 2004-07-20 | Micron Technology, Inc. | Two-stage transfer molding method to encapsulate MMC module |
US6444501B1 (en) | 2001-06-12 | 2002-09-03 | Micron Technology, Inc. | Two stage transfer molding method to encapsulate MMC module |
US7279781B2 (en) | 2001-06-12 | 2007-10-09 | Micron Technology, Inc. | Two-stage transfer molding device to encapsulate MMC module |
US7288441B2 (en) | 2001-06-12 | 2007-10-30 | Micron Technology, Inc. | Method for two-stage transfer molding device to encapsulate MMC module |
JP2006156606A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nippon Inter Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2009532676A (ja) * | 2006-03-30 | 2009-09-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放射線検出器配列 |
JP2013016636A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Denso Corp | モールドパッケージの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0558655B2 (ja) | 1993-08-27 |
KR930011453B1 (ko) | 1993-12-08 |
US5091341A (en) | 1992-02-25 |
KR900019206A (ko) | 1990-12-24 |
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