JPH02279681A - 化合物およびこれを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 - Google Patents
化合物およびこれを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な液晶性化合物、それを含有する液晶組
成物およびそれを使用した液晶素子に関し、さらに詳し
くは電界に対する応答特性が改善された新規な液晶組成
物、およびそれを利用した液晶表示素子や液晶−光シャ
ッタ等に利用される液晶素子に関するものである。
成物およびそれを使用した液晶素子に関し、さらに詳し
くは電界に対する応答特性が改善された新規な液晶組成
物、およびそれを利用した液晶表示素子や液晶−光シャ
ッタ等に利用される液晶素子に関するものである。
従来より、液晶は電気光学素子として種々の分野で応用
されている。現在実用化されている液晶素子はほとんど
が、例えばエム シャット(M、5chadt)とダブ
リュ ヘルフリツヒ(W、He1frich)著“アプ
ライド フィジックス レターズ” (”Applie
dPhysics Letters”) Vo、18
. No、4 (1971゜2.15) P、127〜
128の“Voltage Dependent0pt
ical Activity of a Tw
isted NematicLiquid Cry
sta1″に示されたTN (TwistedNema
tie)型の液晶を用いたものである。
されている。現在実用化されている液晶素子はほとんど
が、例えばエム シャット(M、5chadt)とダブ
リュ ヘルフリツヒ(W、He1frich)著“アプ
ライド フィジックス レターズ” (”Applie
dPhysics Letters”) Vo、18
. No、4 (1971゜2.15) P、127〜
128の“Voltage Dependent0pt
ical Activity of a Tw
isted NematicLiquid Cry
sta1″に示されたTN (TwistedNema
tie)型の液晶を用いたものである。
これらは、液晶の誘電的配列効果に基づいており、液晶
分子の誘電異方性のために平均分子軸方向が、加えられ
た電場により特定の方向に向く効果を利用している。こ
れらの素子の光学的な応答速度の限界はミリ秒であると
いわれ、多くの応用のためには遅すぎる。一方、大型平
面デイスプレィへの応用では、価格、生産性などを考え
合わせると、単純マトリクス方式による駆動が最も有力
である。単純マトリクス方式においては、走査電極群と
信号電極群をマトリクス状に構成した電極構成が採用さ
れ、その駆動のためには、走査電極群に順次周期的にア
ドレス信号を選択印加し、信号電極群には所定の情報信
号をアドレス信号と同期させて並列的に選択印加する時
分割駆動方式が採用されている。
分子の誘電異方性のために平均分子軸方向が、加えられ
た電場により特定の方向に向く効果を利用している。こ
れらの素子の光学的な応答速度の限界はミリ秒であると
いわれ、多くの応用のためには遅すぎる。一方、大型平
面デイスプレィへの応用では、価格、生産性などを考え
合わせると、単純マトリクス方式による駆動が最も有力
である。単純マトリクス方式においては、走査電極群と
信号電極群をマトリクス状に構成した電極構成が採用さ
れ、その駆動のためには、走査電極群に順次周期的にア
ドレス信号を選択印加し、信号電極群には所定の情報信
号をアドレス信号と同期させて並列的に選択印加する時
分割駆動方式が採用されている。
しかし、この様な駆動方式の素子に前述したTN型の液
晶を採用すると、走査電極が選択され、信号電極が選択
されない領域、或いは走査電極が選択されず、信号電極
が選択される領域(所謂“半選択点”)にも有限に電界
がかかってしまう。
晶を採用すると、走査電極が選択され、信号電極が選択
されない領域、或いは走査電極が選択されず、信号電極
が選択される領域(所謂“半選択点”)にも有限に電界
がかかってしまう。
選択点にかかる電圧と、半選択点にかかる電圧の差が充
分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列させるのに要
する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定されるならば、
表示素子は正常に動作するわけであるが、走査線数(N
)を増加して行なった場合、画面全体(lフレーム)を
走査する間に一つの選択点に有効な電界がかかっている
時間(d u t y比)がl/Nの割合で減少してし
まう。
分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列させるのに要
する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定されるならば、
表示素子は正常に動作するわけであるが、走査線数(N
)を増加して行なった場合、画面全体(lフレーム)を
走査する間に一つの選択点に有効な電界がかかっている
時間(d u t y比)がl/Nの割合で減少してし
まう。
このために、(り返し走査を行なった場合の選択点と非
選択点にかかる実効値としての電圧差は、走査線数が増
えれば増える程小さ(なり、結果的には画像コントラス
トの低下やクロストークが避は難い欠点となっている。
選択点にかかる実効値としての電圧差は、走査線数が増
えれば増える程小さ(なり、結果的には画像コントラス
トの低下やクロストークが避は難い欠点となっている。
この様な現象は、双安定性を有さない液晶(電極面に対
し、液晶分子が水平に配向しているのが安定状態であり
、電界が有効に印加されている間のみ垂直に配向する)
を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即ち、繰り返し
走査する)ときに生ずる本質的には避は難い問題点であ
る。
し、液晶分子が水平に配向しているのが安定状態であり
、電界が有効に印加されている間のみ垂直に配向する)
を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即ち、繰り返し
走査する)ときに生ずる本質的には避は難い問題点であ
る。
この点を改良する為に、電圧平均化法、2周波駆動法や
、多重マトリクス法等が既に提案されているか、いずれ
の方法でも不充分であり、表示素子の大画面化や高密度
化は走査線数が充分に増やせないことによって頭打ちに
なっているのが現状である。
、多重マトリクス法等が既に提案されているか、いずれ
の方法でも不充分であり、表示素子の大画面化や高密度
化は走査線数が充分に増やせないことによって頭打ちに
なっているのが現状である。
このような従来型の液晶素子の欠点を改善するものとし
て°、双安定性を有する液晶素子の使用がクラーク(C
1ark)およびラガウエル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭56−107216号公報
、米国特許用4,367.924号明細書等)。
て°、双安定性を有する液晶素子の使用がクラーク(C
1ark)およびラガウエル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭56−107216号公報
、米国特許用4,367.924号明細書等)。
双安定性液晶としては、一般にカイラルスメクテイツク
C相(S m C*相)又はH相(SmH*相)を有す
る強誘電性液晶が用いられる。
C相(S m C*相)又はH相(SmH*相)を有す
る強誘電性液晶が用いられる。
この強誘電性液晶は電界に対して第1の光学的安定状態
と第2の光学的安定状態からなる双安定状態を有し、従
って前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子とは
異なり、例えば一方の電界ベクトルに対して第1の光学
的安定状態に液晶が配向し、他方の電界ベクトルに対し
ては第2の光学的安定状態に液晶が配向されている。ま
た、この型の液晶は、加えられる電界に応答して、上記
2つの安定状態のいずれかを採り、且つ電界の印加のな
いときはその状態を維持する性質(双安定性)を有する
。
と第2の光学的安定状態からなる双安定状態を有し、従
って前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子とは
異なり、例えば一方の電界ベクトルに対して第1の光学
的安定状態に液晶が配向し、他方の電界ベクトルに対し
ては第2の光学的安定状態に液晶が配向されている。ま
た、この型の液晶は、加えられる電界に応答して、上記
2つの安定状態のいずれかを採り、且つ電界の印加のな
いときはその状態を維持する性質(双安定性)を有する
。
以上の様な双安定性を有する特徴に加えて、強誘電性液
晶は高速応答性であるという優れた特徴を持つ。それは
強誘電性液晶の持つ自発分極と印加電場が直接作用して
配向状態の転移を誘起するためであり、誘電率異方性と
電場の作用による応答速度より3〜4オーダー速い。
晶は高速応答性であるという優れた特徴を持つ。それは
強誘電性液晶の持つ自発分極と印加電場が直接作用して
配向状態の転移を誘起するためであり、誘電率異方性と
電場の作用による応答速度より3〜4オーダー速い。
このように強誘電性液晶はきわめて優れた特性を潜在的
に有しており、このような性質を利用することにより、
上述した従来のTN型素子の問題点の多(に対して、か
なり本質的な改善が得られる。特に、高速光学光シャッ
ターや高密度、大画面デイスプレィへの応用が期待され
る。このため強誘電性を持つ液晶材料に関しては広(研
究がなされているが、現在までに開発された強誘電性液
晶材料は、低温作動特性、高速応答性等を含めて液晶素
子に用いる十分な特性を備えているとは云い難い。
に有しており、このような性質を利用することにより、
上述した従来のTN型素子の問題点の多(に対して、か
なり本質的な改善が得られる。特に、高速光学光シャッ
ターや高密度、大画面デイスプレィへの応用が期待され
る。このため強誘電性を持つ液晶材料に関しては広(研
究がなされているが、現在までに開発された強誘電性液
晶材料は、低温作動特性、高速応答性等を含めて液晶素
子に用いる十分な特性を備えているとは云い難い。
応答時間τと自発分極の大きさPsおよび粘度ηの間に
は、下記の式[1] (ただし、Eは印加電界である) の関係が存在する。従って応答速度を速くするには、(
ア)自発分極の大きさPsを太き(する(イ)粘度ηを
小さ(する (つ)印加電界Eを大きくする 方法がある。しかじ印加電界は、IC等で駆動するため
上限があり、出来るだけ低い方が望ましい。
は、下記の式[1] (ただし、Eは印加電界である) の関係が存在する。従って応答速度を速くするには、(
ア)自発分極の大きさPsを太き(する(イ)粘度ηを
小さ(する (つ)印加電界Eを大きくする 方法がある。しかじ印加電界は、IC等で駆動するため
上限があり、出来るだけ低い方が望ましい。
よって、実際には粘度ηを小さくするか、自発分極の大
きさPsの値を大きくする必要がある。
きさPsの値を大きくする必要がある。
一般的に自発分極の大きい強誘電性カイラルスメクチッ
ク液晶化合物においては、自発分極のもたらすセルの内
部電界も太き(、双安定状態をとり得る素子構成への制
約が多(なる傾向にある。
ク液晶化合物においては、自発分極のもたらすセルの内
部電界も太き(、双安定状態をとり得る素子構成への制
約が多(なる傾向にある。
また、いたずらに自発分極を太き(しても、それにつれ
て粘度も大きくなる傾向にあり、結果的には応答速度は
あまり速(ならないことが考えられる。
て粘度も大きくなる傾向にあり、結果的には応答速度は
あまり速(ならないことが考えられる。
また、実際のデイスプレィとしての使用温度範囲が、例
えば5〜40℃程度とした場合、応答速度の変化が一般
に20倍程もあり、駆動電圧および周波数による調節の
限界を越えているのが現状である。
えば5〜40℃程度とした場合、応答速度の変化が一般
に20倍程もあり、駆動電圧および周波数による調節の
限界を越えているのが現状である。
以上述゛べたように、強誘電性液晶素子を実用化するた
めには、粘度が低(高速応答性を有し、かつ応答速度の
温度依存性の小さな強誘電性カイラルスメクチック液晶
組成物が要求される。
めには、粘度が低(高速応答性を有し、かつ応答速度の
温度依存性の小さな強誘電性カイラルスメクチック液晶
組成物が要求される。
本発明の目的は、強誘電性液晶素子を実用できるように
するために、応答速度が速く、しかもその応答速度の温
度依存性が軽減された液晶組成物、特に強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶組成物、および該液晶組成物を使用
する液晶素子を提供することにある。
するために、応答速度が速く、しかもその応答速度の温
度依存性が軽減された液晶組成物、特に強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶組成物、および該液晶組成物を使用
する液晶素子を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、下記一般式[Iコ
一般式[1]で示される液晶性化合物のうち、X。
は好ましくは単結合、 −O−、−CO−であり、X2
は好(式中、R1+ R2はそれぞれ置換基を有して
いてもよい炭素原子数1〜16のアルキル基であり、X
l、X2はそれぞれ単結合、−0−A2はそれぞれ ÷ 舎 さらにより好ましいR1! R2は下記(i)〜(i
v )から選ばれる。
は好(式中、R1+ R2はそれぞれ置換基を有して
いてもよい炭素原子数1〜16のアルキル基であり、X
l、X2はそれぞれ単結合、−0−A2はそれぞれ ÷ 舎 さらにより好ましいR1! R2は下記(i)〜(i
v )から選ばれる。
(i)c+〜C16のn−アルキル基、より好ましくは
03〜CI9のn−アルキル基 ここで、X3.X4はそれぞれ水素原子+F+CI、B
r、CH3,CNまたはCF3であり、Zは一〇−また
は−S−を示す。)で示される液晶性化合物、該液晶性
化合物の少なくとも1種を含有する強誘電性カイラルス
メクチック液晶組成物及び該液晶組成物を1対の電極基
板間に配置してなる液晶素子を提供するものである。
03〜CI9のn−アルキル基 ここで、X3.X4はそれぞれ水素原子+F+CI、B
r、CH3,CNまたはCF3であり、Zは一〇−また
は−S−を示す。)で示される液晶性化合物、該液晶性
化合物の少なくとも1種を含有する強誘電性カイラルス
メクチック液晶組成物及び該液晶組成物を1対の電極基
板間に配置してなる液晶素子を提供するものである。
(ただし、mは1〜6の整数であり、nは2〜8の整数
である。又、光学活性であっても良い。)(ただし、r
は0〜6の整数であり、Sは0もしくはlである。又、
tは1〜12の整数である。
である。又、光学活性であっても良い。)(ただし、r
は0〜6の整数であり、Sは0もしくはlである。又、
tは1〜12の整数である。
又これは光学活性であっても良い。)
(iv)
CH2CHCx H2x+s
*
(ただし、
Xは1N14の整数である。)
〔発明の詳細な説明〕
前記一般式(丁)で表わされる液晶性化合物の一般的な
合成例を以下に示す。
合成例を以下に示す。
フェノール類のニトロ化■にはり、Gatterman
nによるDie Praxis des Organischen Chemike
rsの214ページの方法、R,Adams eta
l、、 J、Am。
nによるDie Praxis des Organischen Chemike
rsの214ページの方法、R,Adams eta
l、、 J、Am。
Chem、Soc、、63,196 (1941)の方
法などがある。0−アミノフェノール類のベンゾオキサ
ゾール環への閉環■、■にはり、W、He1n et
al、、 J、Am。
法などがある。0−アミノフェノール類のベンゾオキサ
ゾール環への閉環■、■にはり、W、He1n et
al、、 J、Am。
Chem、Soc、、 79,427 (1957)や
Y、Kanaokaetal、、Chem、Pharm
、Bull、、18,587 (1970)などの方法
がある。X、、X2が一〇−、−0C−A、あるいはA
2に存在する水酸基またカルボキシル基を保護し、ベン
ゾオキサゾール環に閉環した後に保護基を脱離させ、そ
の後R,−X、−A1−あるいはR、−X 、 −A
2−とすることも可能である。
Y、Kanaokaetal、、Chem、Pharm
、Bull、、18,587 (1970)などの方法
がある。X、、X2が一〇−、−0C−A、あるいはA
2に存在する水酸基またカルボキシル基を保護し、ベン
ゾオキサゾール環に閉環した後に保護基を脱離させ、そ
の後R,−X、−A1−あるいはR、−X 、 −A
2−とすることも可能である。
前記一般式(I)で表わされる液晶性化合物の具体的な
構造式を以下に示す。
構造式を以下に示す。
(1−No)
(1−a6)
(1−”166)
r
(X−257)
(1,−260)
す
化合物No。
H3
本発明の液晶組成物は前記一般式[1]で示される液晶
性化合物の少なくとも1種と、他の液晶化合物1種以上
とを適当な割合で混合することにより得ることができる
。
性化合物の少なくとも1種と、他の液晶化合物1種以上
とを適当な割合で混合することにより得ることができる
。
また、本発明による液晶組成物は、強誘電性液晶組成物
、特に強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物が好ま
しい。
、特に強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物が好ま
しい。
本発明で用いる他の液晶性化合物の具体例を下記に挙げ
る。
る。
H3
H3
H3
CH3
CH3
CH3
(29) CHa
C6H13舎oc(oバ)ocH2CHC2)1 。
*
CH。
CH3
υ
CH。
CH3
CH3
CH。
CH3
CH3
CH3
H3
H3
H3
H3
H3
H3
H3
H3
CH3
○
CH3
CH。
○
(1°゛) 費
c 、2H2,0告oc −@−OCH2cHctt−
e CH3) 211* CI! l す r r c 、 H、O−@−CO−@−OCH2CHC2H。
e CH3) 211* CI! l す r r c 、 H、O−@−CO−@−OCH2CHC2H。
11*
す
す
CF3
CF3
c 、 H170−@−@−COCHC、H,3*
CF3
C8H、、O−@−@−COCH2CH2CHC4H。
*
CF。
CtoH210+Co+0−JCCH2)2 CHC4
He* N c BH、、4合QC6H13 CF3 C5H11婦号砕C6H13 ○ (21B) す C3゜H2,O−@−CH2o−@−oc 9H、。
He* N c BH、、4合QC6H13 CF3 C5H11婦号砕C6H13 ○ (21B) す C3゜H2,O−@−CH2o−@−oc 9H、。
C1□H260−@−CH20舎QC、H73本発明の
液晶性化合物と1種以上の他の液晶性化合物、あるいは
それを含む液晶組成物(これらは強誘電性液晶化合物、
および強誘電性液晶組成物であっても良い。以下、これ
らを液晶材料と略す。)との配合割合は液晶材料100
重1部当り、本発明による液晶性化合物を1〜500重
量部とすることが好ましい。
液晶性化合物と1種以上の他の液晶性化合物、あるいは
それを含む液晶組成物(これらは強誘電性液晶化合物、
および強誘電性液晶組成物であっても良い。以下、これ
らを液晶材料と略す。)との配合割合は液晶材料100
重1部当り、本発明による液晶性化合物を1〜500重
量部とすることが好ましい。
また、本発明の液晶性化合物を2種以上用いる場合も液
晶材料との配合割合は前述した液晶材料lOO重貴部当
り、本発明による液晶性化合物の2種以上の混合物を1
〜500重1部とすることが好ましい。
晶材料との配合割合は前述した液晶材料lOO重貴部当
り、本発明による液晶性化合物の2種以上の混合物を1
〜500重1部とすることが好ましい。
第1図は強誘電性液晶素子の構成の説明のために、本発
明の強誘電性液晶層を有する液晶素子の一例の断面概略
図である。
明の強誘電性液晶層を有する液晶素子の一例の断面概略
図である。
第1図において符号lは強誘電性液晶層、2はガラス基
板、3は透明電極、4は絶縁性配向制御層、5はスペー
サー、6はリード線、7は電源、8は偏光板、9は光源
を示している。
板、3は透明電極、4は絶縁性配向制御層、5はスペー
サー、6はリード線、7は電源、8は偏光板、9は光源
を示している。
2枚のガラス基板2には、それぞれIn 203゜Sn
O2あるいはITO(Indium−Tin 0xi
de)等の薄膜から成る透明電極が被覆されている。そ
の上にポリイミドの様な高分子の薄膜をガーゼやアセテ
ート植毛布等でラビングして、液晶をラビング方向に並
べる絶縁性配向制御層が形成されている。また絶縁物質
として例えばシリコン窒化物、水素を含有するシリコン
炭化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する
硼素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機物質絶縁層を形成し、その上にポリビニルア
ルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステ
ルイミド、ポリバラキシレン、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、アクリル樹脂やフォ
トレジスト樹脂などの有機絶縁物質を配向制御層として
、2層で絶縁性配向制御層が形成されていてもよ(、ま
た無機物質絶縁性配向制御層あるいは有機物質絶縁性配
向制御層単層であっても良い。この絶縁性配向制御層が
無機系ならば蒸着法などで形成でき、有機系ならば有機
絶縁物質を溶解させた溶液、またはその前駆体溶液(溶
剤に0.1〜20重世%、好ましくは0.2〜10重量
%)を用いて、スピンナー塗布法、浸漬塗布法、スクリ
ーン印刷法、スプレー塗布法、ロール塗布法等で塗布し
、所定の硬化条件下(例えば加熱下)で硬化させ形成さ
せることができる。
O2あるいはITO(Indium−Tin 0xi
de)等の薄膜から成る透明電極が被覆されている。そ
の上にポリイミドの様な高分子の薄膜をガーゼやアセテ
ート植毛布等でラビングして、液晶をラビング方向に並
べる絶縁性配向制御層が形成されている。また絶縁物質
として例えばシリコン窒化物、水素を含有するシリコン
炭化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する
硼素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機物質絶縁層を形成し、その上にポリビニルア
ルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステ
ルイミド、ポリバラキシレン、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、アクリル樹脂やフォ
トレジスト樹脂などの有機絶縁物質を配向制御層として
、2層で絶縁性配向制御層が形成されていてもよ(、ま
た無機物質絶縁性配向制御層あるいは有機物質絶縁性配
向制御層単層であっても良い。この絶縁性配向制御層が
無機系ならば蒸着法などで形成でき、有機系ならば有機
絶縁物質を溶解させた溶液、またはその前駆体溶液(溶
剤に0.1〜20重世%、好ましくは0.2〜10重量
%)を用いて、スピンナー塗布法、浸漬塗布法、スクリ
ーン印刷法、スプレー塗布法、ロール塗布法等で塗布し
、所定の硬化条件下(例えば加熱下)で硬化させ形成さ
せることができる。
絶縁性配向制御層の層厚は通常30人〜1μm、好まし
くは30人〜3000人、さらに好ましくは50人〜1
000人が適している。
くは30人〜3000人、さらに好ましくは50人〜1
000人が適している。
この2枚のガラス基板2はスペーサー5によって任意の
間隔に保たれている。例えば所定の直径を持つシリカビ
ーズ、アルミナビーズをスペーサーとしてガラス基板2
枚で挟持し、周囲をシール材、例えばエポキシ系接着材
を用いて密封する方法がある。その他スペーサーとして
高分子フィルムやガラスファイバーを使用しても良い。
間隔に保たれている。例えば所定の直径を持つシリカビ
ーズ、アルミナビーズをスペーサーとしてガラス基板2
枚で挟持し、周囲をシール材、例えばエポキシ系接着材
を用いて密封する方法がある。その他スペーサーとして
高分子フィルムやガラスファイバーを使用しても良い。
この2枚のガラス基板の間に強誘電性液晶が封入されて
いる。
いる。
強誘電性液晶が封入された強誘電性液晶層は、一般には
0.5〜20μm1好ましくは1〜5μmである。
0.5〜20μm1好ましくは1〜5μmである。
又、この強誘電性液晶は、室温を含む広い温度域(特に
低温側)でSmC*相(カイラルスメクチック相)を有
し、高速応答性を有することが望ましい。さらに応答速
度の温度依存性が小さいこと、及び駆動電圧マージンが
広いことが望まれる。
低温側)でSmC*相(カイラルスメクチック相)を有
し、高速応答性を有することが望ましい。さらに応答速
度の温度依存性が小さいこと、及び駆動電圧マージンが
広いことが望まれる。
又、特に素子とした場合に、良好な均−配向性を示しモ
ノドメイン状態を得るには、その強誘電性液晶は、等吉
相からch相(コレステリック相)−S m A相(ス
メクチック相)−SmC*相(カイラルスメクチックC
相)という相転移系列を有していることが望ましい。
ノドメイン状態を得るには、その強誘電性液晶は、等吉
相からch相(コレステリック相)−S m A相(ス
メクチック相)−SmC*相(カイラルスメクチックC
相)という相転移系列を有していることが望ましい。
透明電極3からはリード線によって外部電源7に接続さ
れている。
れている。
またガラス基板2の外側には偏光板8が貼り合わせであ
る。
る。
第1図は透過型なので光源9を備えている。
第2図は強誘電性液晶素子の動作説明のために、セルの
例を模式的に描いたものである。21aと21bはそれ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板(ガラス仮)であり、その間に液晶分
子層22がガラス面に垂直になるよう配向したSmC*
相又はSmH木相の液晶が封入されている。太線で示し
た線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
はその分子に直交した方向1こ双極子モーメンI−(P
土)24を有している。基板21aと21b上の電極間
に一定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23の
らせん構造がほどけ、双極子モーメント(P±)24が
すべて電界方向に向くよう、液晶分子23は配向方向を
変えることができる。液晶分子23は細長い形状を有し
ており、その長袖方向と短軸方向で屈折率異方性を示し
、従って例えばガラス面の上下に互いにクロスニコルの
偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わ
る液晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
例を模式的に描いたものである。21aと21bはそれ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板(ガラス仮)であり、その間に液晶分
子層22がガラス面に垂直になるよう配向したSmC*
相又はSmH木相の液晶が封入されている。太線で示し
た線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
はその分子に直交した方向1こ双極子モーメンI−(P
土)24を有している。基板21aと21b上の電極間
に一定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23の
らせん構造がほどけ、双極子モーメント(P±)24が
すべて電界方向に向くよう、液晶分子23は配向方向を
変えることができる。液晶分子23は細長い形状を有し
ており、その長袖方向と短軸方向で屈折率異方性を示し
、従って例えばガラス面の上下に互いにクロスニコルの
偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わ
る液晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セルは
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
3図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(34a)又は下向き(34b)のど
ちらかの状態をとる。このようなセルに、第3図に示す
如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを電
圧印加手段31aと31bにより付与すると、双極子モ
ーメントは電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して
上向き34a又は下向き34bと向きを変え、それに応
じて液晶分子は、第1の安定状態33aかあるいは第2
の安定状態33bの何れか一方に配向する。
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
3図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(34a)又は下向き(34b)のど
ちらかの状態をとる。このようなセルに、第3図に示す
如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを電
圧印加手段31aと31bにより付与すると、双極子モ
ーメントは電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して
上向き34a又は下向き34bと向きを変え、それに応
じて液晶分子は、第1の安定状態33aかあるいは第2
の安定状態33bの何れか一方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は先にも述べたが2つある。
利点は先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を例えば第3図によって更に説明すると、電界Eaを
印加すると液晶分子は第1の安定状態33aに配向する
が、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向き
の電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態3
3I)に配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又与える電界Ea
あるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ前
の配向状態にやはり維持されている。
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を例えば第3図によって更に説明すると、電界Eaを
印加すると液晶分子は第1の安定状態33aに配向する
が、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向き
の電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態3
3I)に配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又与える電界Ea
あるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ前
の配向状態にやはり維持されている。
以下実施例により本発明について更に詳細に説明するが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
\ 1.−、、、/
−Jj−・
実施例1
2−(4−オクチルフェニル)−5−(トランス−4−
オクチルシクロヘキシル)ベンゾオキサゾールの合成
例示化合物(1−218) (1) 4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル
)フェノール 3 、 OOg (10、4mmole
)をベンゼン8.8mlおよび酢酸5 、2 m l
の混合溶媒に懸濁させ、氷水冷撹拌下反応温度を8℃以
下に保ち、硝酸(60%、 d=1.38) 1.2m
A’をゆっ(り滴下した。反応終了後反応物を水にあけ
て酢酸エチルで抽出し、有機層を芒硝乾燥後減圧乾固、
する。
オクチルシクロヘキシル)ベンゾオキサゾールの合成
例示化合物(1−218) (1) 4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル
)フェノール 3 、 OOg (10、4mmole
)をベンゼン8.8mlおよび酢酸5 、2 m l
の混合溶媒に懸濁させ、氷水冷撹拌下反応温度を8℃以
下に保ち、硝酸(60%、 d=1.38) 1.2m
A’をゆっ(り滴下した。反応終了後反応物を水にあけ
て酢酸エチルで抽出し、有機層を芒硝乾燥後減圧乾固、
する。
残渣をメタノールで再結晶し、2−ニトロ−4(トラン
ス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノールを2.0
5g (収率59.1%)得た。
ス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノールを2.0
5g (収率59.1%)得た。
(2)50ml三つロフラスコに2−二トロー4−(ト
ランス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノール 1
、90 g(5、70rnmole ) 、活性炭0
.35g、塩化第二鉄・6永和物0.04g、エタノー
ル15mfを入れ、加熱撹拌上内温を55〜65℃に保
って抱水ヒドラジン(80%) 1.8m、i’を徐々
に滴下した。滴下終了後内温70℃で20分間加熱撹拌
し晶を濾取し、エタノールから再結晶して2−アミノ−
4−(トランス−4−オクチルシクロへキシル)フェノ
ールを1.49 (収率8642%)得た。
ランス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノール 1
、90 g(5、70rnmole ) 、活性炭0
.35g、塩化第二鉄・6永和物0.04g、エタノー
ル15mfを入れ、加熱撹拌上内温を55〜65℃に保
って抱水ヒドラジン(80%) 1.8m、i’を徐々
に滴下した。滴下終了後内温70℃で20分間加熱撹拌
し晶を濾取し、エタノールから再結晶して2−アミノ−
4−(トランス−4−オクチルシクロへキシル)フェノ
ールを1.49 (収率8642%)得た。
(3)ポリリン酸log、 2−アミノ−4−(トラン
ス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノール0 、4
0 g (1、32mmole ) 、 4−オクチル
安息香酸0.31g (1,32mmole)を50m
Aナスフラスコに入れ、250℃付近で4時間加熱撹拌
した。反応終了後反応物を水にあけ、水に不溶な部分を
濾取する。濾取物を10%炭酸カリウム水溶液に入れて
十分撹拌し、固型部分を濾取水洗後シリカゲルカラム(
溶出溶媒:トルエン)で精製し、2−(4−オクチルフ
ェニル)−’5−(トランス−4−オクチル−シクロヘ
キシル)ベンゾオキサゾールを0.11g(収率16.
7%)得た。
ス−4−オクチルシクロヘキシル)フェノール0 、4
0 g (1、32mmole ) 、 4−オクチル
安息香酸0.31g (1,32mmole)を50m
Aナスフラスコに入れ、250℃付近で4時間加熱撹拌
した。反応終了後反応物を水にあけ、水に不溶な部分を
濾取する。濾取物を10%炭酸カリウム水溶液に入れて
十分撹拌し、固型部分を濾取水洗後シリカゲルカラム(
溶出溶媒:トルエン)で精製し、2−(4−オクチルフ
ェニル)−’5−(トランス−4−オクチル−シクロヘ
キシル)ベンゾオキサゾールを0.11g(収率16.
7%)得た。
相転移温度(’C)
実施例2
2−(4−オクチルフェニル)−5−(4−デシルフェ
ニル)ベンゾオキサゾールの合成 例示化合物(1−6
0) (1)4−(4−デシルフェニル)フェノール5.00
gを合成例1の(1)と同様にしてニトロ化し、2ニト
ロ−4−(4−デシルフェニル)フェノールを3.50
g (収率61.1%)得た。
ニル)ベンゾオキサゾールの合成 例示化合物(1−6
0) (1)4−(4−デシルフェニル)フェノール5.00
gを合成例1の(1)と同様にしてニトロ化し、2ニト
ロ−4−(4−デシルフェニル)フェノールを3.50
g (収率61.1%)得た。
(2)2−ニトロ−4−(4−デシルフェニル)フェノ
ール3.40gを合成例1の(2)と同様にして還元し
、2−アミノ−4−(4−デシルフェニル)フェノール
を2.42g (収率77.7%)得た。
ール3.40gを合成例1の(2)と同様にして還元し
、2−アミノ−4−(4−デシルフェニル)フェノール
を2.42g (収率77.7%)得た。
(3)2−アミノ−4−(4−デシルフェニル)フェノ
ール0 、85 g (2、61mmole ) 、
4−オクチル−安息香酸塩化物0.68g、 ジオ
キサン25mfを50m1三つロフラスコに入れ、内温
を90 ’C付近に保って撹拌しなからピリジン0.9
4mA’をゆっ(り滴下した。7N!N路下後同温度で
1時間加熱撹拌した。反応終了後反応物を水150m1
にあけ、析出した結晶を濾取してメタノールで洗浄し、
2−(4−オクチルベンゾイルアミノ) −4−(4−
デシルフェニル)フェノールを1.34g (収率94
.7%)得た。
ール0 、85 g (2、61mmole ) 、
4−オクチル−安息香酸塩化物0.68g、 ジオ
キサン25mfを50m1三つロフラスコに入れ、内温
を90 ’C付近に保って撹拌しなからピリジン0.9
4mA’をゆっ(り滴下した。7N!N路下後同温度で
1時間加熱撹拌した。反応終了後反応物を水150m1
にあけ、析出した結晶を濾取してメタノールで洗浄し、
2−(4−オクチルベンゾイルアミノ) −4−(4−
デシルフェニル)フェノールを1.34g (収率94
.7%)得た。
(4)2−(4−オクチルベンゾイルアミン)−4−(
4−デシルフェニル)フェノール1.30g (2,4
0mmote ) 、 p −トルエンスルホン酸0
.13g (0,68mmole ) + O−ジクロ
ルベンゼン20m1を50 m !!ナスフラスコに入
れ、189〜192℃で40分間加熱撹拌を行った。反
応終了後。−ジクロルベンゼンを減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラム(溶出溶媒:トルエン)で精製し、2−
(4〜オクチルフエニル)−5−’(4−デシルフェニ
ル)ベンゾオキサゾールを0.62g (収率49.3
%)得た。
4−デシルフェニル)フェノール1.30g (2,4
0mmote ) 、 p −トルエンスルホン酸0
.13g (0,68mmole ) + O−ジクロ
ルベンゼン20m1を50 m !!ナスフラスコに入
れ、189〜192℃で40分間加熱撹拌を行った。反
応終了後。−ジクロルベンゼンを減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラム(溶出溶媒:トルエン)で精製し、2−
(4〜オクチルフエニル)−5−’(4−デシルフェニ
ル)ベンゾオキサゾールを0.62g (収率49.3
%)得た。
相転移温度(’C)
実施例3
合成例2と同様にして2−(4−デシルオキシフェニル
)−5−(4−デシルフェニル)ベンゾオキサゾールを
得た。例示化合物(1−133)相転移温度(℃) 実施例4 2−(4−オクチルフェニル)−5−(5−ドデシルピ
リミジン−2−イル)ベンゾオキサゾールの合成 例示
化合物(1−253) (1)4−(5−ドデシルピリミジン−2−イル)フェ
ノール2 、 OOg (5、87mmole )を濃
硫酸20 m lに懸濁させ、冷却撹拌上反応温度を2
〜8℃に保つて硝酸(60%、d=1,38)0.50
mfをゆっ(り滴下した。滴下終了後内温を5℃付近に
保って30分間撹拌した。反応終了後反応物を氷水15
0m1にあけ、析出した結晶を濾取水洗し、エタノール
で再結晶して2−ニトロ−4−(5−ドデシルピリミジ
ン−2−イル)フェノールを1.85g(収率81.7
%)得た。
)−5−(4−デシルフェニル)ベンゾオキサゾールを
得た。例示化合物(1−133)相転移温度(℃) 実施例4 2−(4−オクチルフェニル)−5−(5−ドデシルピ
リミジン−2−イル)ベンゾオキサゾールの合成 例示
化合物(1−253) (1)4−(5−ドデシルピリミジン−2−イル)フェ
ノール2 、 OOg (5、87mmole )を濃
硫酸20 m lに懸濁させ、冷却撹拌上反応温度を2
〜8℃に保つて硝酸(60%、d=1,38)0.50
mfをゆっ(り滴下した。滴下終了後内温を5℃付近に
保って30分間撹拌した。反応終了後反応物を氷水15
0m1にあけ、析出した結晶を濾取水洗し、エタノール
で再結晶して2−ニトロ−4−(5−ドデシルピリミジ
ン−2−イル)フェノールを1.85g(収率81.7
%)得た。
(2)合成例1の(2)と同様にして2−ニトロ−4−
(5−ドデシルピリミジン−2−イル)フェノール1.
80gを還元し、2−アミノ−4−(5−ドデシルピリ
ミジン−2−イル)フェノールを1.51g(収率91
,0%)得た。
(5−ドデシルピリミジン−2−イル)フェノール1.
80gを還元し、2−アミノ−4−(5−ドデシルピリ
ミジン−2−イル)フェノールを1.51g(収率91
,0%)得た。
(3)合成例2の(3)および(4)と同様にして2−
(4−オクチルフェニル)−5−(5−ドデシルピリミ
ジン−2−イル)ベンゾオキサゾールを得た。
(4−オクチルフェニル)−5−(5−ドデシルピリミ
ジン−2−イル)ベンゾオキサゾールを得た。
相転移温度(’C)
実施例5
下記例示化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物A
を作成した。
を作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量部
′J−・ さらに、この液晶組成物Aに対して、以下に示す例示化
合物を、各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物B
を作成した。
′J−・ さらに、この液晶組成物Aに対して、以下に示す例示化
合物を、各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物B
を作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部(以下余・白) 次に、2枚の0.7mm厚のガラス板を用意し、それぞ
れのガラス板上にITO膜を形成し、電圧印加電極を作
成し、さらにこの上にSiO2を蒸着させ絶縁層とした
。ガラス板上にシランカップリング剤[信越化学■製K
BM−602] 0.2%イソプロピルアルコール溶液
を回転数200Or、p、mのスピンナーで15秒間塗
布し、表面処理を施した。
部(以下余・白) 次に、2枚の0.7mm厚のガラス板を用意し、それぞ
れのガラス板上にITO膜を形成し、電圧印加電極を作
成し、さらにこの上にSiO2を蒸着させ絶縁層とした
。ガラス板上にシランカップリング剤[信越化学■製K
BM−602] 0.2%イソプロピルアルコール溶液
を回転数200Or、p、mのスピンナーで15秒間塗
布し、表面処理を施した。
この後、120℃にて20分間加熱乾燥処理を施した。
さらに表面処理を行なったITO膜付きのガラス板上に
ポリイミド樹脂前駆体[東し■5P−510]1.5%
ジメチルアセトアミド溶液を回転数200Or、p、m
のスピンナーで15秒間塗布した。成膜後、60分間、
300℃加熱縮合焼成処理を施した。この時の塗膜の膜
厚は約250人であった。
ポリイミド樹脂前駆体[東し■5P−510]1.5%
ジメチルアセトアミド溶液を回転数200Or、p、m
のスピンナーで15秒間塗布した。成膜後、60分間、
300℃加熱縮合焼成処理を施した。この時の塗膜の膜
厚は約250人であった。
この焼成後の被膜には、アセテート植毛布によるラビン
グ処理がなされ、その後イソプロピルアルコール液で洗
浄し、平均粒径2μmのアルミナビーズを一方のガラス
板上に散布した後、それぞれのラビング処理軸が互いに
平行となる様にし、接着シール剤[リクソンボンド(チ
ッソ@)]を用いてガラス板をはり合わせ、60分間、
100℃にて加熱乾燥しセルを作成した。このセルのセ
ル厚をベレツク位相板によって測定したところ約2μm
であった。
グ処理がなされ、その後イソプロピルアルコール液で洗
浄し、平均粒径2μmのアルミナビーズを一方のガラス
板上に散布した後、それぞれのラビング処理軸が互いに
平行となる様にし、接着シール剤[リクソンボンド(チ
ッソ@)]を用いてガラス板をはり合わせ、60分間、
100℃にて加熱乾燥しセルを作成した。このセルのセ
ル厚をベレツク位相板によって測定したところ約2μm
であった。
このセルに液晶組成物Bを等方性液体状態で注入し、等
吉相から20℃/hで25℃まで徐冷することにより、
強誘電性液晶素子を作成した。
吉相から20℃/hで25℃まで徐冷することにより、
強誘電性液晶素子を作成した。
この強誘電性液晶素子を使ってピーク・トウ・ピーク電
圧vpp=2ovの電圧印加により直交ニコル下での光
学的な応答(透過光量変化O〜90%)を検知して応答
速度(以後光学応答速度という)を測定した。
圧vpp=2ovの電圧印加により直交ニコル下での光
学的な応答(透過光量変化O〜90%)を検知して応答
速度(以後光学応答速度という)を測定した。
その結果を次に示す。
15℃ 25℃ 36℃
応答速度 131μsec 90μse
c 75μsec比較例1 実施例5で混合した液晶組成物Aをセル内に注入する以
外は全(実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。
c 75μsec比較例1 実施例5で混合した液晶組成物Aをセル内に注入する以
外は全(実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃応答
速度 155 p see 100 p
see 80 μ5ec(以□、下余白) 帽−5,:すゝ 実施例6 実施例5で使用した例示化合物1−7. 1−133の
かわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部
で混合し、液晶組成物Cを作成した。
速度 155 p see 100 p
see 80 μ5ec(以□、下余白) 帽−5,:すゝ 実施例6 実施例5で使用した例示化合物1−7. 1−133の
かわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部
で混合し、液晶組成物Cを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量部
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
測定結果を次に示す。
15℃
25℃
35℃
応答速度
133 μ5ec
92μ5eC
78μsec
2/′+
(以′下余白)
ゞ、し−一〆
実施例7
実施例5で使用した例示化合物1−7.1−133のか
わりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で
混合し、液晶組成物りを作成した。
わりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で
混合し、液晶組成物りを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部!−153 この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
部!−153 この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
測定結果を次に示す。
15℃
25℃
35℃
応答速度
115μ5ec
78μ5ec
66μsec
実施例8
実施例5で使用した例示化合物1−7. l−133
のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量
部で混合し、液晶組成物Eを作成した。
のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量
部で混合し、液晶組成物Eを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定した。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定した。
測定結果を次に示す。
15℃
25℃
35℃
応答速度
127 μ5ec
88μ5ec
72μsec
゛・−二′4/
実施例9
実施例5で使用した例示化合物1−7.1−133のか
わりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で
混合し、液晶組成物Fを作成した。
わりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で
混合し、液晶組成物Fを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例6と同様の方
法で光学応答速度を測定した。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例6と同様の方
法で光学応答速度を測定した。
測定結果を次に示す。
15℃
25℃
35℃
応答速度
135 p 5ec
87μ5ec
71μsec
実施例10
実施例5で使用した例示化合物1−7. 1−133の
かわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部
で混合し、液晶組成物Gを作成した。
かわりに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部
で混合し、液晶組成物Gを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量部
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定した。
測定結果を次に示す。
15℃
25℃
35°C
応答速度
134 μ5ec
91μ5ec
72μsec
実施例11
下記例示化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物H
を作成した。
を作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部さらに、この液晶組成物Hに対して以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合()、液晶組成物■
を作成した。
部さらに、この液晶組成物Hに対して以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合()、液晶組成物■
を作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部態を観察した。
部態を観察した。
この液晶素子内の均一配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 344 μsec 215 μ
sec 163 μsec比較例2 実施例11で混合した液晶組成物Hをセル内に注入する
以外は全(実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
sec 163 μsec比較例2 実施例11で混合した液晶組成物Hをセル内に注入する
以外は全(実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃応答
速度 450 μsec 270 μs
ec 195 μsecこの液晶組成物を用い
た以外は実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、実施例5と同様の方法で光学応答速度を測定し、
スイッチング状1ミ1゛−/ 実施例12 実施例itで使用した例示化合物1−15. 1−17
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Jを作成した。
速度 450 μsec 270 μs
ec 195 μsecこの液晶組成物を用い
た以外は実施例5と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、実施例5と同様の方法で光学応答速度を測定し、
スイッチング状1ミ1゛−/ 実施例12 実施例itで使用した例示化合物1−15. 1−17
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Jを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量部
この液晶組成物を用いた以外は全(実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察した
。
この液晶組成物を用いた以外は全(実施例5と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方法
で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察した
。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 370 μsec 231 μ
sec 173 μsecまた、駆動時には明
瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際
の双安定性も良好であった。
sec 173 μsecまた、駆動時には明
瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際
の双安定性も良好であった。
実施例13
実施例11で使用した例示化合物1−15.1−17゜
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物Kを作成した。
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物Kを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 351 μsec 223 μ
sec 170 It secまた、駆動時に
は明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止め
た際の双安定性も良好であった。
sec 170 It secまた、駆動時に
は明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止め
た際の双安定性も良好であった。
す
実施例14
実施例11で使用した例示化合物1−15.1−17゜
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物りを作成した。
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物りを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 340μsec 219μse
c 170μSecまた、駆動時には明瞭なス
イッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際の双安
定性も良好であった。
c 170μSecまた、駆動時には明瞭なス
イッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際の双安
定性も良好であった。
実施例15
実施例11で使用した例示化合物1−15.1−17゜
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物Mを作成した。
1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以下
に示す重量部で混合し、液晶組成物Mを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全(実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例6と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
部この液晶組成物を用いた以外は全(実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例6と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 352 μsec 220 p
sec 170 μsecまた、駆動時には
明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた
際の双安定性も良好であった。
sec 170 μsecまた、駆動時には
明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた
際の双安定性も良好であった。
(社)
実施例16
実施例11で使用した例示化合物1−15. 1−17
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Nを作成した。
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Nを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 341 μsec 210 μ
sec 16111secまた、駆動時には明
瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際
の双安定性も良好であ−うた。
sec 16111secまた、駆動時には明
瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際
の双安定性も良好であ−うた。
実施例17
実施例11で使用した例示化合物1−15. 1−17
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物0を作成した。
゜1−221のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物0を作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
部この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例5と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様の方
法で光学応答速度を測定し、スイッチング状態を観察し
た。
この液晶素子内の均一配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
応答速度 3601t sec 228
μsec 173 p secまた、駆動時に
は明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止め
た際の双安定性も良好であった。
μsec 173 p secまた、駆動時に
は明瞭なスイッチング動作が観察され、電圧印加を止め
た際の双安定性も良好であった。
実施例18〜21
実施例5で用いた例示化合物及び液晶組成物に代えて、
表1に示した例示化合物、及び液晶組成物を各重量部で
用い、P−8の液晶組成物を得た。これらを用いた他は
、全〈実施例5と同様の方法により、強誘電性液晶素子
を作成し、実施例5と同様の方法で光学応答速度を測定
し、スイッチング状態等を観察した。この液晶素子内の
均−配向性は良好であり、モノドメイン状態が得られた
。
表1に示した例示化合物、及び液晶組成物を各重量部で
用い、P−8の液晶組成物を得た。これらを用いた他は
、全〈実施例5と同様の方法により、強誘電性液晶素子
を作成し、実施例5と同様の方法で光学応答速度を測定
し、スイッチング状態等を観察した。この液晶素子内の
均−配向性は良好であり、モノドメイン状態が得られた
。
測定結果を表1に示す。
表1
実施例18〜21より明らかなように、本発明による液
晶組成物p−sを含有する強誘電性液晶素子は、低温に
おける作動特性、高速応答性が改善され、また応答速度
の温度依存性も軽減されたものとなっている。
晶組成物p−sを含有する強誘電性液晶素子は、低温に
おける作動特性、高速応答性が改善され、また応答速度
の温度依存性も軽減されたものとなっている。
実施例22
実施例5で使用したポリイミド樹脂前駆体1.5%ジメ
チルアセトアミド溶液に代えて、ポリビニルアルコール
樹脂[クラレ■製PUA−117] 2%水溶液を用い
た他は全く同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実
施例5と同様の方法で光学応答速度を測定した。
チルアセトアミド溶液に代えて、ポリビニルアルコール
樹脂[クラレ■製PUA−117] 2%水溶液を用い
た他は全く同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実
施例5と同様の方法で光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
15°0 25℃ 35℃125 μse
c 82 μsec 73 μsec実施例2
3 実施例5で使用したSiO□を用いずに、ポリイミド樹
脂だけで配向制御層を作成した以外は全(実施例5と同
様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様
の方法で光学応答速度を測定した。
c 82 μsec 73 μsec実施例2
3 実施例5で使用したSiO□を用いずに、ポリイミド樹
脂だけで配向制御層を作成した以外は全(実施例5と同
様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例5と同様
の方法で光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
15℃ 25℃ 35℃
121 μsec 79 μsec 70
μsec実施例22.23より明らかな様に、素子構成
を変えた場合でも本発明に従う強誘電性液晶組成物を含
有する素子は、実施例5と同様に低温作動特性の非常に
改善され、かつ、応答速度の温度依存性が軽減されたも
のとなっている。
μsec実施例22.23より明らかな様に、素子構成
を変えた場合でも本発明に従う強誘電性液晶組成物を含
有する素子は、実施例5と同様に低温作動特性の非常に
改善され、かつ、応答速度の温度依存性が軽減されたも
のとなっている。
本発明の強誘電性液晶組成物を含有する素子は、スイッ
チング特性が良好で、低温作動特性の改善された液晶素
子、及び応答速度の温度依存性の軽減された液晶、素子
とすることができる。
チング特性が良好で、低温作動特性の改善された液晶素
子、及び応答速度の温度依存性の軽減された液晶、素子
とすることができる。
第1図は強誘電性液晶を用いた液晶素子の一例の断面概
略図。 第2図および第3図は強誘電性液晶素子の動作説明のた
めに、素子セルの一例を模式的に表わす斜視図。 第1図において、 l ・・・・・・・・・・・・・強誘電性液晶層2・・
・・・・・・・・・・・・ガラス基板3・・・・・・・
・・・・・・・・・透明電極4・・・・・・・・・・・
絶縁性配向制御層5・・・・・・・・・・・・・・・ス
ペーサー6 ・・・・・・・・・・・・・・・・リード
線7・・・・・・・・・・・・・・・・・・電源8・・
・・・・・・・・・・・・・・・偏光板9・・・・・・
・・・・・・・・・・・・光源Io ・・・・・・・・
・・・・・・・・入射光I・・・・・・・・・・・・・
・・・・透過光第2図において、 21a ・・・・・・・・・・・・・・・・・基板1b 24 ・・・・・・・・ 第3図において、 1a 1b 3a 3b 34a・・・・・・・ 34b・・・・・・・ a b 基板 強誘電性液晶層 液晶分子 双極子モーメント(P土) 電圧印加手段 電圧印加手段 第1の安定状態 第2の安定状態 上向きの双極子モーメント 下向きの双極子モーメント 上向きの電界 下向きの電界 Z1υ
略図。 第2図および第3図は強誘電性液晶素子の動作説明のた
めに、素子セルの一例を模式的に表わす斜視図。 第1図において、 l ・・・・・・・・・・・・・強誘電性液晶層2・・
・・・・・・・・・・・・ガラス基板3・・・・・・・
・・・・・・・・・透明電極4・・・・・・・・・・・
絶縁性配向制御層5・・・・・・・・・・・・・・・ス
ペーサー6 ・・・・・・・・・・・・・・・・リード
線7・・・・・・・・・・・・・・・・・・電源8・・
・・・・・・・・・・・・・・・偏光板9・・・・・・
・・・・・・・・・・・・光源Io ・・・・・・・・
・・・・・・・・入射光I・・・・・・・・・・・・・
・・・・透過光第2図において、 21a ・・・・・・・・・・・・・・・・・基板1b 24 ・・・・・・・・ 第3図において、 1a 1b 3a 3b 34a・・・・・・・ 34b・・・・・・・ a b 基板 強誘電性液晶層 液晶分子 双極子モーメント(P土) 電圧印加手段 電圧印加手段 第1の安定状態 第2の安定状態 上向きの双極子モーメント 下向きの双極子モーメント 上向きの電界 下向きの電界 Z1υ
Claims (3)
- (1)下記一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] (式中、R_1、R_2はそれぞれ置換基を有していて
もよい炭素原子数1〜16のアルキル基であり、X_1
、X_2はそれぞれ単結合、−O−▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼を示す。 A_1、A_2はそれぞれ▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
す▼を示す。 ここで、X_3、X_4はそれぞれ水素原子、F、Cl
、Br、CH_3、CNまたはCF_3であり、Zは−
O−または−S−を示す。)で示される液晶性化合物。 - (2)請求項1記載の液晶性化合物の少なくとも1種を
含有することを特徴とする液晶組成物。 - (3)請求項2記載の液晶組成物を1対の電極基板間に
配置してなることを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1102238A JP2832028B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 化合物およびこれを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 |
AT90107329T ATE111505T1 (de) | 1989-04-20 | 1990-04-18 | Mesomorphische verbindung, sie enthaltende flüssigkristallzusammensetzung und sie enthaltende flüssigkristallvorrichtung. |
EP90107329A EP0393613B1 (en) | 1989-04-20 | 1990-04-18 | Mesomorphic compound, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device using same |
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