JPH0429993A - 液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 - Google Patents
液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/40—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals
- C09K19/406—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な液晶性化合物、それを含有する液晶組
成物およびそれを使用した液晶素子に関し、さらに詳し
くは電界に対する応答特性が改善された新規な液晶組成
物、およびそれを使用した液晶表示素子や液晶−光シヤ
ツター等に利用される液晶素子に関するものである。
成物およびそれを使用した液晶素子に関し、さらに詳し
くは電界に対する応答特性が改善された新規な液晶組成
物、およびそれを使用した液晶表示素子や液晶−光シヤ
ツター等に利用される液晶素子に関するものである。
従来より、液晶は電気光学素子として種々の分野で応用
されている。現在実用化されている液晶素子はほとんど
が、例えばエム シャット(M、5chadt)とダブ
リュ ヘルフリツヒ(W、He1frich)著“アプ
ライド フィジックス レターズ(“AppliedP
hysics Letters”) Vol、18.
Na4 (1971゜2.15) P、127〜12
8の“Voltage DependentOptic
al Activity of a Twisted
NematicLiquid Crysta+”に示
されたTN (TwistedN e m a t i
c )型の液晶を用いたものである。
されている。現在実用化されている液晶素子はほとんど
が、例えばエム シャット(M、5chadt)とダブ
リュ ヘルフリツヒ(W、He1frich)著“アプ
ライド フィジックス レターズ(“AppliedP
hysics Letters”) Vol、18.
Na4 (1971゜2.15) P、127〜12
8の“Voltage DependentOptic
al Activity of a Twisted
NematicLiquid Crysta+”に示
されたTN (TwistedN e m a t i
c )型の液晶を用いたものである。
これらは、液晶の誘電的配列効果に基づいており、液晶
分子の誘電異方性のために平均分子軸方向が、加えられ
た電場により特定の方向に向く効果を利用している。こ
れらの素子の光学的な応答速度の限界はミリ秒であると
いわれ、多くの応用のためには遅すぎる。一方、大型平
面ダイスプレイへの応用では、価格、生産性などを考え
合ぜると単純マトリクス方式による駆動が最も有力であ
る。単純マトリクス方式においては、走査電極群と信号
電極群をマトリクス状に構成した電極構成が採用され、
その駆動のためには、走査電極群に順次周期的にアドレ
ス信号を選択印加し、信号電極群には所定の情報信号を
アドレス信号と同期させて並列的に選択印加する時分割
駆動方式が採用されている。
分子の誘電異方性のために平均分子軸方向が、加えられ
た電場により特定の方向に向く効果を利用している。こ
れらの素子の光学的な応答速度の限界はミリ秒であると
いわれ、多くの応用のためには遅すぎる。一方、大型平
面ダイスプレイへの応用では、価格、生産性などを考え
合ぜると単純マトリクス方式による駆動が最も有力であ
る。単純マトリクス方式においては、走査電極群と信号
電極群をマトリクス状に構成した電極構成が採用され、
その駆動のためには、走査電極群に順次周期的にアドレ
ス信号を選択印加し、信号電極群には所定の情報信号を
アドレス信号と同期させて並列的に選択印加する時分割
駆動方式が採用されている。
しかし、この様な駆動方式の素子に前述したTN型の液
晶を採用すると走査電極が選択され、信号電極が選択さ
れない領域、或いは走査電極が選択されず、信号電極が
選択される領域(所謂“半選択点”)にも有限に電界が
かかってしまう。
晶を採用すると走査電極が選択され、信号電極が選択さ
れない領域、或いは走査電極が選択されず、信号電極が
選択される領域(所謂“半選択点”)にも有限に電界が
かかってしまう。
選択点にかかる電圧と、半選択点にかかる電圧の差が充
分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列させるのに要
する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定されるならば、
表示素子は正常に動作するわけであるが、走査線(N)
を増加して行った場合、画面全体(1フレーム)を走査
する間に一つの選択点に有効な電界がかかっている時間
(duty比)が17Nの割合で減少してしまう。
分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列させるのに要
する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定されるならば、
表示素子は正常に動作するわけであるが、走査線(N)
を増加して行った場合、画面全体(1フレーム)を走査
する間に一つの選択点に有効な電界がかかっている時間
(duty比)が17Nの割合で減少してしまう。
このために、(り返し走査を行った場合の選択点と非選
択点にかかる実効値としての電圧差は、走査線数が増え
れば増える程小さくなり、結果的には画像コントラスト
の低下やクロストークが避は難い欠点となっている。
択点にかかる実効値としての電圧差は、走査線数が増え
れば増える程小さくなり、結果的には画像コントラスト
の低下やクロストークが避は難い欠点となっている。
この様な現象は、双安定性を有さない液晶(電極面に対
し、液晶分子が水平に配向しているのが安定状態であり
、電界が有効に印加されている間のみ垂直に配向する)
を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即ち、繰り返し
走査する)ときに生ずる本質的には避は難い問題点であ
る。
し、液晶分子が水平に配向しているのが安定状態であり
、電界が有効に印加されている間のみ垂直に配向する)
を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即ち、繰り返し
走査する)ときに生ずる本質的には避は難い問題点であ
る。
この点を改良するために、電圧平均化法、2周波駆動法
や、多重マトリクス法等が既に提案されているが、いず
れの方法でも不充分であり、表示素子の大画面化や高密
度化は走査線数が充分に増やせないことによって頭打ち
になっているのが現状である。
や、多重マトリクス法等が既に提案されているが、いず
れの方法でも不充分であり、表示素子の大画面化や高密
度化は走査線数が充分に増やせないことによって頭打ち
になっているのが現状である。
この様な従来型の液晶素子の欠点を改善するものとして
、双安定性を有する液晶素子の使用がクラーク(C1a
rk)およびラガウエル(Lagerwall)により
提案されている(特開昭56−107216号公報、米
国特許第4367924号明細書等)。
、双安定性を有する液晶素子の使用がクラーク(C1a
rk)およびラガウエル(Lagerwall)により
提案されている(特開昭56−107216号公報、米
国特許第4367924号明細書等)。
双安定性液晶としては、一般にカイラルスメクチックC
相(SmC*相)またはH相(Sm、H*相)を有する
強誘電性液晶が用いられる。
相(SmC*相)またはH相(Sm、H*相)を有する
強誘電性液晶が用いられる。
この強誘電性液晶は、電界に対して第1の光学的安定状
態と第2の光学的安定状態からなる双安定状態を有し、
従って前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子と
は異なり、例えば、一方の電界ベクトルに対して第1の
光学的安定状態に液晶が配向し、他方の電界ベクトルに
対しては第2の光学的安定状態に液晶が配向されている
。また、この型の液晶は、加えられる電界に応答して、
上記2つの安定状態のいずれかを取り、かつ電界の印加
のないときは、その状態を維持する性質(双安定性)を
有する。
態と第2の光学的安定状態からなる双安定状態を有し、
従って前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子と
は異なり、例えば、一方の電界ベクトルに対して第1の
光学的安定状態に液晶が配向し、他方の電界ベクトルに
対しては第2の光学的安定状態に液晶が配向されている
。また、この型の液晶は、加えられる電界に応答して、
上記2つの安定状態のいずれかを取り、かつ電界の印加
のないときは、その状態を維持する性質(双安定性)を
有する。
以上の様な双安定性を有する特徴に加えて、強誘電性液
晶は高速応答性であるという優れた特徴を持つ。それは
強誘電性液晶の持つ自発分極と印加電場が直接作用して
配向状態の転移を誘起するためであり、誘電率異方性と
電場の作用による応答速度より3〜4オーダー速い。
晶は高速応答性であるという優れた特徴を持つ。それは
強誘電性液晶の持つ自発分極と印加電場が直接作用して
配向状態の転移を誘起するためであり、誘電率異方性と
電場の作用による応答速度より3〜4オーダー速い。
この様に強誘電性液晶はきわめて優れた特性を潜在的に
有しており、この様な性質を利用することにより、上述
した従来の′rN型素子の問題点の多くに対して、かな
り本質的な改善が得られる。特に、高速光学光シャッタ
ーや高密度、大画面デイスプレィへの応用が期待される
。このため強誘電性を持つ液晶材料に関しては広く研究
がなされているが、現在までに開発された強誘電性液晶
材料は、低温作動特性、高速応答性等を含めて液晶素子
に用いる十分な特性を備えているとは言い難い。
有しており、この様な性質を利用することにより、上述
した従来の′rN型素子の問題点の多くに対して、かな
り本質的な改善が得られる。特に、高速光学光シャッタ
ーや高密度、大画面デイスプレィへの応用が期待される
。このため強誘電性を持つ液晶材料に関しては広く研究
がなされているが、現在までに開発された強誘電性液晶
材料は、低温作動特性、高速応答性等を含めて液晶素子
に用いる十分な特性を備えているとは言い難い。
応答時間τと自発分極の大きさPsおよび粘度ηの間に
は、下記の式[n] η τ 5IIE [II] (ただし、Eは印加電界である) の関係が存在する。したがって応答速度を速くするには
、 (ア)自発分極の大きさPsを大きくする(イ)粘度η
を小さくする (つ)印加電界Eを大きくする 方法がある。しかじ印加電界は、IC等で駆動するため
上限があり、出来るだけ低い方が望ましい。
は、下記の式[n] η τ 5IIE [II] (ただし、Eは印加電界である) の関係が存在する。したがって応答速度を速くするには
、 (ア)自発分極の大きさPsを大きくする(イ)粘度η
を小さくする (つ)印加電界Eを大きくする 方法がある。しかじ印加電界は、IC等で駆動するため
上限があり、出来るだけ低い方が望ましい。
よって、実際には粘度ηを小さくするか、自発分極の大
きさPsの値を大きくする必要がある。
きさPsの値を大きくする必要がある。
一般的に自発分極の大きい強誘電性カイラルスメクチッ
ク液晶化合物においては、自発分極のもたらすセルの内
部電界も太き(、双安定状態をとり得る素子構成への制
約が大きくなる傾向にある。
ク液晶化合物においては、自発分極のもたらすセルの内
部電界も太き(、双安定状態をとり得る素子構成への制
約が大きくなる傾向にある。
また、いたずらに自発分極を太き(しても、それにつれ
て粘度も大きくなる傾向にあり、結果的には応答速度は
あまり速くならないことが考えられる。
て粘度も大きくなる傾向にあり、結果的には応答速度は
あまり速くならないことが考えられる。
また、実際のデイスプレィとしての使用温度範囲が例え
ば5〜40℃程度とした場合、応答速度の変化が一般に
20倍程もあり、駆動電圧及び周波数による調節の限界
を越えているのが現状である。
ば5〜40℃程度とした場合、応答速度の変化が一般に
20倍程もあり、駆動電圧及び周波数による調節の限界
を越えているのが現状である。
以上述べたように、強誘電性液晶素子を実用化するため
には、粘度が低(高速応答性を有し、かつ応答速度の温
度依存性の小さな強誘電性カイラルスメクチック液晶組
成物が要求される。
には、粘度が低(高速応答性を有し、かつ応答速度の温
度依存性の小さな強誘電性カイラルスメクチック液晶組
成物が要求される。
本発明の目的は、強誘電性液晶素子を実用できるように
するために、応答速度が速く、シかもその応答速度の温
度依存性が軽減された液晶組成物、特に強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶組成物、および該液晶組成物を使用
する液晶素子を提供することにある。
するために、応答速度が速く、シかもその応答速度の温
度依存性が軽減された液晶組成物、特に強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶組成物、および該液晶組成物を使用
する液晶素子を提供することにある。
即ち、本発明は、下記−形成(I)
(I)
(式中、R1は炭素原子数2〜16の直鎖状または分岐
状のアルキル基であり、該アルキル基中の1つまたは隣
接していない2つの−CH2−基はo−−s−−co−
−coo−−oc。
状のアルキル基であり、該アルキル基中の1つまたは隣
接していない2つの−CH2−基はo−−s−−co−
−coo−−oc。
で交換されていてもよ(、また水素原子はフッ素原子に
置換されていてもよい。AはA、または−A、−A2−
を示し、Bは−B1−またはB、−B2−を示す。AI
+ A2 + Bl + B2であり、ここでYI
+ Y 2は水素原子、 F、 Cβ。
置換されていてもよい。AはA、または−A、−A2−
を示し、Bは−B1−またはB、−B2−を示す。AI
+ A2 + Bl + B2であり、ここでYI
+ Y 2は水素原子、 F、 Cβ。
Br、CH3,CNまたはCF3である。2..22R
3,R4は炭素原子数1〜16の直鎖状または分岐状の
アルキル基であり、該アルキル基中のへテロ原子と隣り
合わない−CH2−基は一〇qは0またはlであり、p
+q≦1である。nは1〜12の整数を表わす。) で示される液晶性化合物、該液晶性化合物の少な(とも
一種を含有する液晶組成物、および該液晶組成物を一対
の電極基板間に配置してなる液晶素子を提供するもので
ある。
3,R4は炭素原子数1〜16の直鎖状または分岐状の
アルキル基であり、該アルキル基中のへテロ原子と隣り
合わない−CH2−基は一〇qは0またはlであり、p
+q≦1である。nは1〜12の整数を表わす。) で示される液晶性化合物、該液晶性化合物の少な(とも
一種を含有する液晶組成物、および該液晶組成物を一対
の電極基板間に配置してなる液晶素子を提供するもので
ある。
また一般式(I)で示される化合物において、R1は好
ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルカノイルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基である。
ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルカノイルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基である。
また、AI、A2+ B It B2は好ましくは
R2+ R3+ R4は好ましくは炭素原子数1〜12
のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1〜8
の直鎖状アルキル基である。
R2+ R3+ R4は好ましくは炭素原子数1〜12
のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1〜8
の直鎖状アルキル基である。
本発明者等は、骨格中にアフタレン環を有し、かつ側鎖
にトリアルキルシリルアルキル基を有する化合物が、低
い融点を有し、しかも広い温度範囲で液晶相を有するこ
と、またこの化合物を少なくとも一種含有する強誘電性
カイラルスメクチック液晶組成物、およびそれを使用し
た液晶素子を用いることにより、良好な配向性、高速応
答性、応答速度の温度依存性の軽減等の緒特性の改良が
なされ、良好な表示特性が得れることを見出したもので
ある。
にトリアルキルシリルアルキル基を有する化合物が、低
い融点を有し、しかも広い温度範囲で液晶相を有するこ
と、またこの化合物を少なくとも一種含有する強誘電性
カイラルスメクチック液晶組成物、およびそれを使用し
た液晶素子を用いることにより、良好な配向性、高速応
答性、応答速度の温度依存性の軽減等の緒特性の改良が
なされ、良好な表示特性が得れることを見出したもので
ある。
前記一般式(I)
で表わされる化合物の合成法
の−例を以下に示す。
1゜
q==Qの場合
OOH
0゜
lの場合
ることも可能である。
R3
(R+ 。
R2+
R3゜
R4+
A。
B。
Zl。
Z2゜
z3゜
I
I
nは前記定義のとおりである。)
一般式(I)
で示される液晶性化合物の具体的
な構造式の例を以下に示す。
(I
(I
(I
しh3
(I
(工
(■
(I−8)
H3
(工
(工
(I−13)
圧
しtt3
(I
(工
(I
(I
(工
H3
H3
(I
(工
(工
(I
(I
し113
(I−、,1O)
(I
(工
(I
(工
(工
(I
(I
(I
(工
H3
(■
(工
(工
(工
(I
しPI3
(I
(工
(I
(■
(I −49)
しPI3
(工
(工
(工
(I
(工
しH3
(I
(工
(I
(I −58)
(工
H3
(工
(I
(I
(I −63)
(工
(I
(工
(■
(I
(I−69)
(I
(I
(I
(エ
フ3)
(エ
フ4)
(エ
フ5)
(I
(I
(I
(■
(I
(工
(工
(■
(I
(工
(工
(工
(I
(工
しh3
(I−90)
(工
(I
(■
(工
(■
(■
(I
本発明の液晶組成物は前記−形成(i)で示される液晶
性化合物の少な(とも1種と他の液晶性化合物1種以上
とを適当な割合で混合することにより得ることができる
。
性化合物の少な(とも1種と他の液晶性化合物1種以上
とを適当な割合で混合することにより得ることができる
。
又、本発明による液晶組成物は強誘電性液晶組成物、特
に強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物が好ましい
。
に強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物が好ましい
。
本発明で用いる他の液晶性化合物を一般式(m)〜(X
l[)で次に示す。
l[)で次に示す。
(I[[)
e:0または1 f:0またはま
ただしe+f=Oまたはl
Y’:H,ハロゲン、CH3,CF3
X1′、X2′ :単結合、 −co−+ −oc−、
−o−、−oc。
−o−、−oc。
II II IIOO0
X3′、X4′ :単結合、−Co−、−QC−、−O
CH2I]11 CH20 れる。
CH2I]11 CH20 れる。
(IV)
l
h:0またはま
ただしg+h
i、0または1
II
、X2
:単結合、 −co−、−oc
OCH2
(IV)式の好ましい化合物として(IVa)〜(IV
c)が挙げられる。
c)が挙げられる。
(V)
J:0または1
y 、 L・Y2
、Y3
H,ハロゲン、CH3,CF 3
単結合、 −co−、−oc−、−o−、−oc。
、X4
単結合、 −co−、−oc
OCH20
CH2
−(:CH2チCo−、−CH=CH−CC)−、−0
(V)式の好ましい化合物として(Va)。
(V)式の好ましい化合物として(Va)。
れる。
(Vb)が挙げら
(Vl)
k、n、m:0またはま
ただしに+4?−1−m
0゜
1゜
X3 、X4′ ・単結合、−CO−、−QC−、−C
H20−、−OCH2ここで、R1′、R2′は炭素数
1〜炭素数18の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり
、該アルキル基中の1つもしくは隣接しない2つ以上の
−CH2基は−CHハロゲン−によって置き換えられて
いても良い。さらにxl、X2と直接結合するOCH2
−基を除く1つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2
N OCH3 に置き換えられていても良い。
H20−、−OCH2ここで、R1′、R2′は炭素数
1〜炭素数18の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり
、該アルキル基中の1つもしくは隣接しない2つ以上の
−CH2基は−CHハロゲン−によって置き換えられて
いても良い。さらにxl、X2と直接結合するOCH2
−基を除く1つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2
N OCH3 に置き換えられていても良い。
ただし、
R2′またはR2′が1個のCH2基をCHハロゲン
で置き換えたハロゲン化アルキ
ルである場合、R、1
またはR2′は環に対して単結
合で結合しない。
R2′は好ましくは、
】)
炭素数1〜15の直鎖アルキル基
ii)
θ〜5
q ・ 1〜11
整数
光学活性でもよい
X11)
r : 0〜6
s:0.it
1〜14
整数
光学活性でもよい
iv)
子CH2ヂ、lCH
*
Cv H2V+1
u:0.1
1〜16
整数
CH3
■
CHCOCw H2W+1
1〜15
整数
光学活性でもよい
N
+:CH2矢ACH
CB H2R+
0〜2
B : 1〜15
整数
光学活性でもよい
vii )
+CH2
N
■
ヂCC−CDH2D+1
CH3
C: 0〜2
D = 1〜15
整数
光学活性でもよい
(I[[a)
(I[Id)
のさらに好ましい化合物とし
て
(II[aa)
(lIIdc)
が挙げられる。
(IV a )
(rV c )
のさらに好ましい化合物とし
て
(IVaa)
(IV c b )
が挙げられる。
(Va)
(V d)
のさらに好ましい化合物とし
て
(Vaa)
(Vbf)
が挙げられる。
(VI a )
(Vl f)
のさらに好ましい化合物とし
て
(VIaa)
(W f a )
が挙げられる。
R1′舎CH2O号沓R2
(Vlab)
R、′$ocH2+R2
(vrbb)
E:0またはl
F。
G:0またはl
(■)
(■)のより好ましい化合物として(■a)。
られる。
(■b)が挙げ
れる。
(■bb)が挙げられる。
ここで、R3′、R4′は炭素数1〜炭素数18の直鎖
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1
つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2基は−CHハ
ロゲン−によって置き換えられていても良い。さらにX
、、X2と直接結合する一CH2−基を除(1つもしく
は隣接しない2つ以上の−CH2N CCH3−に置き換えられていても良い。
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1
つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2基は−CHハ
ロゲン−によって置き換えられていても良い。さらにX
、、X2と直接結合する一CH2−基を除(1つもしく
は隣接しない2つ以上の−CH2N CCH3−に置き換えられていても良い。
ただし、R3′またはR4′が1個のCH2基をCHハ
ロゲン−で置き換えたハロゲン化アルキルである場合、
R3′またはR4′は環に対して単結合で結合しない。
ロゲン−で置き換えたハロゲン化アルキルである場合、
R3′またはR4′は環に対して単結合で結合しない。
さらにR3、R4′は好ましくは、
i)炭素数1−15の直鎖アルキル晶
子CH2
CH3
矢 p CHCq H2q+1
p・0〜5
q: 1〜11
整数
光学活性でもよい
iii )
r : 0〜6
S ・ O9
t : l〜14
整数
光学活性でもよい
iv)
% CH2”r u CH
*
Cv H2V+1
u : 0〜5
v : 1〜16
整数
■)
I
w:1〜15 整数
光学活性でもよい
N
壬CH2矢ACH−CBH2B+1
A ・ 0〜2 B ・ 1〜15整数
光学活性でもよい
vii )
cCH2
N
) cC−CnH2n+1
CH3
C: 0〜2 D : 1〜15
整数
光学活性でもよい
(IX)
H9
J:0またはま
ただしH十J
0または1
(X)
、X2′
:単結合、−00
0C−、−O
、X2
:単結合、 −co−、−oc
、−0
X3′ :単結合、−Co−、−QC−、−CH20−
、−OCH2(IX)式の好ましい化合物として(IX
a)〜(IXc)が挙げられる。
、−OCH2(IX)式の好ましい化合物として(IX
a)〜(IXc)が挙げられる。
(X)式の好ましい化合物として(Xa)。
れる。
(xb)が挙げら
(IXa)〜(IX c )のさらに好ましい化合物と
して(IXaa)〜(IXcc)が挙げられる。
して(IXaa)〜(IXcc)が挙げられる。
(Xa)。
(xb)のさらに好ましい化合物として(Xaa)〜(
xbb)が挙げられる。
xbb)が挙げられる。
(X[)のより好ましい化合物として(X[a)〜(M
g)が挙げられる。
g)が挙げられる。
ここで、R5’+R6′は炭素数1〜炭素数18の直鎖
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中のX
l + X 2と直接結合する一CH2−基を除く1
つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2N CH3 −に置き換えられていても良い。
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中のX
l + X 2と直接結合する一CH2−基を除く1
つもしくは隣接しない2つ以上の−CH2N CH3 −に置き換えられていても良い。
さらにR5’+R6′は好ましくは、
i)炭素数が1〜15の直鎖アルキル基1f)
pro〜5 q : 1〜11
光学活性でもよい
整数
r : 0〜6
S 二 〇。
t:1−14
整数
光学活性でもよい
I
w ; l〜15
整数
光学活性でもよい
■)
A : 0〜2
B : 1〜15
整数
光学活性でもよい
vi)
C: 0〜2
D : l〜15
整数
光学活性でもよい
本発明の液晶性化合物と、1種以上の上述の液晶性化合
物、あるいは液晶組成物とを混合する場合、混合して得
られた液晶組成物中に占める本発明の液晶性化合物の割
合は0.5%〜80%、好ましくは1%〜60%とする
ことが望ましい。
物、あるいは液晶組成物とを混合する場合、混合して得
られた液晶組成物中に占める本発明の液晶性化合物の割
合は0.5%〜80%、好ましくは1%〜60%とする
ことが望ましい。
また、本発明の液晶性化合物を2種以上用いる場合は、
混合して得られた液晶組成物中に占める本発明の液晶性
化合物2種以上の混合物の割合は1%〜80%、好まし
くは1%〜60%とすることが望ましい。
混合して得られた液晶組成物中に占める本発明の液晶性
化合物2種以上の混合物の割合は1%〜80%、好まし
くは1%〜60%とすることが望ましい。
さらに、本発明による強誘電性液晶素子における強誘電
性液晶層は、先に示したようにして作製した強誘電性液
晶組成物を真空中、等方性液体温度まで加熱し、素子セ
ル中に封入し、徐々に冷却して液晶層を形成させ常圧に
もどすことが好ましい。
性液晶層は、先に示したようにして作製した強誘電性液
晶組成物を真空中、等方性液体温度まで加熱し、素子セ
ル中に封入し、徐々に冷却して液晶層を形成させ常圧に
もどすことが好ましい。
第1図は、強誘電性液晶素子の構成を説明するための、
強誘電性液晶層を有する液晶表示素子の一例の厚さ方向
模式断面図である。
強誘電性液晶層を有する液晶表示素子の一例の厚さ方向
模式断面図である。
第1図を参照して、液晶表示素子は、それぞれ透明電極
3および配向制御層4を設けた一対のガラス基板2間に
強誘電性液晶層lを配置し且つその層厚をスペーサ5で
設定してなるものであり、一対の透明電極3間にリード
線6を介して電源7より電圧を印加可能に接続する。ま
た一対の基板2は、一対のクロスニコル偏光板8により
挾持され、その一方の外側には光源9が配置される。
3および配向制御層4を設けた一対のガラス基板2間に
強誘電性液晶層lを配置し且つその層厚をスペーサ5で
設定してなるものであり、一対の透明電極3間にリード
線6を介して電源7より電圧を印加可能に接続する。ま
た一対の基板2は、一対のクロスニコル偏光板8により
挾持され、その一方の外側には光源9が配置される。
すなわち、2枚のガラス基板2には、それぞれIn2O
3,5n02あるいはITO(Indium−TinO
xide)等の薄膜から成る透明電極3が被覆されてい
る。その上にポリイミドの様な高分子の薄膜をガーゼや
アセテート植毛布等でラビングして、液晶をラビング方
向に配列するための配向制御層4が形成されている。ま
たこの配向制御層4としては、例えばシリコン窒化物、
水素を含有するシリコン窒化物、シリコン炭化物、水素
を含有するシリコン炭化物、シリコン酸化物、硼素窒化
物、水素を含有する硼素窒化物、セリウム酸化物、アル
ミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物や
フッ化マグネシウムなどの無機物質絶縁層を形成し、そ
の上にポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエステルイミド、ポリパラキシレン、ポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセクール、
ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリス
チレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、
アクリル樹脂やフ第1・レジスト樹脂などの有機物質を
層形成した2層構造であってもよく、また無機物質配向
制御層あるいは有機物質配向制御層単層であっても良い
。この配向制御膜4が無機系ならば蒸着法などで形成で
き、有機系ならば有機物質を溶解させた溶液またはその
前駆体溶液(溶剤に0.1〜20重量%、好ましくは0
.2〜lO重量%)を用いて、スピンナー塗布法、浸漬
塗布法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法、ロール塗
布法等で塗布し、所定の硬化条件下(例えば加熱下)で
硬化させ形成させることができる。
3,5n02あるいはITO(Indium−TinO
xide)等の薄膜から成る透明電極3が被覆されてい
る。その上にポリイミドの様な高分子の薄膜をガーゼや
アセテート植毛布等でラビングして、液晶をラビング方
向に配列するための配向制御層4が形成されている。ま
たこの配向制御層4としては、例えばシリコン窒化物、
水素を含有するシリコン窒化物、シリコン炭化物、水素
を含有するシリコン炭化物、シリコン酸化物、硼素窒化
物、水素を含有する硼素窒化物、セリウム酸化物、アル
ミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物や
フッ化マグネシウムなどの無機物質絶縁層を形成し、そ
の上にポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエステルイミド、ポリパラキシレン、ポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセクール、
ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリス
チレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、
アクリル樹脂やフ第1・レジスト樹脂などの有機物質を
層形成した2層構造であってもよく、また無機物質配向
制御層あるいは有機物質配向制御層単層であっても良い
。この配向制御膜4が無機系ならば蒸着法などで形成で
き、有機系ならば有機物質を溶解させた溶液またはその
前駆体溶液(溶剤に0.1〜20重量%、好ましくは0
.2〜lO重量%)を用いて、スピンナー塗布法、浸漬
塗布法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法、ロール塗
布法等で塗布し、所定の硬化条件下(例えば加熱下)で
硬化させ形成させることができる。
絶縁性配向制御層の層厚は通常30人〜1μm、好まし
くは30人〜3000人、さらに好ましくは50人〜1
000人が適している。
くは30人〜3000人、さらに好ましくは50人〜1
000人が適している。
この2枚のガラス基板2はスペーサー5によって任意の
間隔に保たれている。例えば所定の直径を持つシリカビ
ーズ、アルミナビーズをスペーサーとしてガラス基板2
枚で挟持し、周囲をシール材、例えばエポキシ系接着材
を用いて密封する方法がある。その他スペーサーとして
高分子フィルムやガラスファイバーを使用しても良い。
間隔に保たれている。例えば所定の直径を持つシリカビ
ーズ、アルミナビーズをスペーサーとしてガラス基板2
枚で挟持し、周囲をシール材、例えばエポキシ系接着材
を用いて密封する方法がある。その他スペーサーとして
高分子フィルムやガラスファイバーを使用しても良い。
この2枚のガラス基板の間に強誘電性液晶4が封入され
ている。一般には0.5〜20μm1好ましくは1〜5
μmの厚さに設定されている。
ている。一般には0.5〜20μm1好ましくは1〜5
μmの厚さに設定されている。
透明電極3はリード線によって外部電源7に接続されて
いる。またガラス基板2の外側には、互いの偏光軸を例
えば直交クロスニコル状態とした一対の偏光板8が貼り
合わせである。第1図の例は透過型であり、光源9を備
えている。
いる。またガラス基板2の外側には、互いの偏光軸を例
えば直交クロスニコル状態とした一対の偏光板8が貼り
合わせである。第1図の例は透過型であり、光源9を備
えている。
第2図は強誘電性液晶素子の動作説明のために、セルの
例を模式的に描いたものである。21aと21bはそれ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板(ガラス板)であり、その間に液晶分
子層22がガラス面に垂直になるよう配向したSmC*
相又はSmH’相の液晶が封入されている。太線で示し
た線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
はその分子に直交した方向に双極子モーメント(P±)
14を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせ
ん構造がほどけ、双極子モーメント(P土)24がすべ
て電界方向に向くよう、液晶分子23は配向方向を変え
ることができる。液晶分子23は細長い形状を有してお
り、その長袖方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従
って例えばガラス面の上下に互いにクロスニコルの偏光
子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わる液
晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
例を模式的に描いたものである。21aと21bはそれ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板(ガラス板)であり、その間に液晶分
子層22がガラス面に垂直になるよう配向したSmC*
相又はSmH’相の液晶が封入されている。太線で示し
た線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
はその分子に直交した方向に双極子モーメント(P±)
14を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせ
ん構造がほどけ、双極子モーメント(P土)24がすべ
て電界方向に向くよう、液晶分子23は配向方向を変え
ることができる。液晶分子23は細長い形状を有してお
り、その長袖方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従
って例えばガラス面の上下に互いにクロスニコルの偏光
子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わる液
晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セルは
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
3図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(34a)又は下向き(34−b )
のどちらかの状態をとる。このようなセルに、第3図に
示す如(一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEb
を電圧印加手段31. aと31bにより付与すると、
双極子モーメントは電界Ea又はEbの電界ベクトルに
対応して上向き34a又は下向き34 bと向きを変え
、それに応じて液晶分子は、第1の安定状態33aかあ
るいは第2の安定状態33bの何れか一方に配向する。
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
3図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(34a)又は下向き(34−b )
のどちらかの状態をとる。このようなセルに、第3図に
示す如(一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEb
を電圧印加手段31. aと31bにより付与すると、
双極子モーメントは電界Ea又はEbの電界ベクトルに
対応して上向き34a又は下向き34 bと向きを変え
、それに応じて液晶分子は、第1の安定状態33aかあ
るいは第2の安定状態33bの何れか一方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は先にも述べたが2つある。
利点は先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を例えば第3図によって更に説明すると、電界Eaを
印加すると液晶分子は第1の安定状態33aに配向する
が、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向き
の電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態3
3bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電界
を切ってもこの状態に留っている。又与える電界Eaあ
るいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ前の
配向状態にやはり維持されている。
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を例えば第3図によって更に説明すると、電界Eaを
印加すると液晶分子は第1の安定状態33aに配向する
が、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向き
の電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態3
3bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電界
を切ってもこの状態に留っている。又与える電界Eaあ
るいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ前の
配向状態にやはり維持されている。
以下実施例により本発明について更に詳細に説明するが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
下記の例において、「部」はいずれも「重量部」を示す
。
。
実施例1
下記工程に従い6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸3−
(プチルジノチルンリル)プロピル(例示化合物ニー5
)を製造した。
(プチルジノチルンリル)プロピル(例示化合物ニー5
)を製造した。
6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸1.Og (3,O
mmol)、ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピル
シラン0.52g (3,Ommol)にジクロロメタ
ン20 m I!を加え室温で撹拌下N、 N’ −
ジシクロへキシルカルボジイミド(D CC) 0 、
58 g (2、8m m o 1 )、4ピロリジノ
ピリジン0.05gを加え添加後室温で20時間撹拌し
た。生成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジクロロ
メタンで洗浄し、濾液にあわせた。このジクロロメタン
溶液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒トルエン/ヘキサン−5/1)で精製
し、6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジ
メチルシリル)プロピル0.98gを得た。収率72.
3%。
mmol)、ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピル
シラン0.52g (3,Ommol)にジクロロメタ
ン20 m I!を加え室温で撹拌下N、 N’ −
ジシクロへキシルカルボジイミド(D CC) 0 、
58 g (2、8m m o 1 )、4ピロリジノ
ピリジン0.05gを加え添加後室温で20時間撹拌し
た。生成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジクロロ
メタンで洗浄し、濾液にあわせた。このジクロロメタン
溶液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒トルエン/ヘキサン−5/1)で精製
し、6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジ
メチルシリル)プロピル0.98gを得た。収率72.
3%。
相転移温度(℃)
実施例2
下記工程に従い5−(ブチルジメチルシリル)ブタン酸
2−(6−ゾシルオキシカルポニル)ナフチル(例示化
合物ニー4)を製造した。
2−(6−ゾシルオキシカルポニル)ナフチル(例示化
合物ニー4)を製造した。
H3
(1)4−ペンテン酸2−(6−ゾシルオキンカルポニ
ル)ナフチルの合成 4−ペンテン酸0 、30 g (3、05m m o
l )にジクロロメタン5 m I!を加え、室温で
撹拌下、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸デシル1.O
g (3,05mmol)を加えテトラヒドロフラン1
mlを加え溶かした。
ル)ナフチルの合成 4−ペンテン酸0 、30 g (3、05m m o
l )にジクロロメタン5 m I!を加え、室温で
撹拌下、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸デシル1.O
g (3,05mmol)を加えテトラヒドロフラン1
mlを加え溶かした。
さらにN、 N’ −ジシクロへキシルカルボジイミ
ド0.63g (3,05mmo+)、4−ピロリジノ
ピリジン0.05g、ジクロロメタン5mI!を加え、
添加後室温で20時間撹拌した。生成したジシクロヘキ
シル尿素を濾別し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液にあ
わせた。このジクロロメタン溶液を減圧下に濃縮し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ト
ルエン)で精製し、4−ペンテン酸2−(6−デシルオ
キシカルボニル)ナフチル1.13gを得た。収率90
.4%。
ド0.63g (3,05mmo+)、4−ピロリジノ
ピリジン0.05g、ジクロロメタン5mI!を加え、
添加後室温で20時間撹拌した。生成したジシクロヘキ
シル尿素を濾別し、ジクロロメタンで洗浄し、濾液にあ
わせた。このジクロロメタン溶液を減圧下に濃縮し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ト
ルエン)で精製し、4−ペンテン酸2−(6−デシルオ
キシカルボニル)ナフチル1.13gを得た。収率90
.4%。
(2) 5−(ブチルジメチルシリル)ブタン酸2−(
6デシルオキシカルボニル)ナフチルの合成4−ペンテ
ン酸2−(6−デシルオキシカルボニル)ナフチル1.
13g (2,76mmol)にトルエン2mlを加え
室温下撹拌した。塩化白金酸微少量、イソプロピルアル
コール10滴、ついてブチルジメチルシリル0,35g
(3,03mmol)を添加した。添加後80℃に加
熱し、5時間撹拌した。水50mj+に注入し酢酸エチ
ルで抽出した。水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。硫酸マグネシウムを濾過後、溶媒を留去しシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン/ヘキサ
ン−10/2)で精製し5−(ブチルジメチルシリル)
ブタン酸2−(6−ゾシルオキシカルポニル)ナフチル
0.21gを得た。収率14.5%。
6デシルオキシカルボニル)ナフチルの合成4−ペンテ
ン酸2−(6−デシルオキシカルボニル)ナフチル1.
13g (2,76mmol)にトルエン2mlを加え
室温下撹拌した。塩化白金酸微少量、イソプロピルアル
コール10滴、ついてブチルジメチルシリル0,35g
(3,03mmol)を添加した。添加後80℃に加
熱し、5時間撹拌した。水50mj+に注入し酢酸エチ
ルで抽出した。水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。硫酸マグネシウムを濾過後、溶媒を留去しシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン/ヘキサ
ン−10/2)で精製し5−(ブチルジメチルシリル)
ブタン酸2−(6−ゾシルオキシカルポニル)ナフチル
0.21gを得た。収率14.5%。
相転移温度(°C)
実施例3
下記工程に従いtrans−4−ペンチルシクロヘキサ
ンカルボン酸6−〔3−(トリメチルシリル゛)プロピ
ル〕−2−ナフチル(例示化合物l−21)を製造した
。
ンカルボン酸6−〔3−(トリメチルシリル゛)プロピ
ル〕−2−ナフチル(例示化合物l−21)を製造した
。
し13
H3
(1)p−)ルエンスルホン酸3−(トリメチルシリル
)プロピルの合成 3−(トリメチルシリル)プロパツール5.0g(37
、8m m o I )にピリジン50mjl!を加え
撹拌した。水冷下p−1−ルエンスルホニルクロリド7
.2g(37、8m m o l )を添下し、この温
度で1時間撹拌し、ついで室温で5時間撹拌した。冷水
中に注入し塩酸を加え酸性(pH〜1)とし、酢酸エチ
ル抽出した。水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。
)プロピルの合成 3−(トリメチルシリル)プロパツール5.0g(37
、8m m o I )にピリジン50mjl!を加え
撹拌した。水冷下p−1−ルエンスルホニルクロリド7
.2g(37、8m m o l )を添下し、この温
度で1時間撹拌し、ついで室温で5時間撹拌した。冷水
中に注入し塩酸を加え酸性(pH〜1)とし、酢酸エチ
ル抽出した。水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。
硫酸マグネシウムを濾過後、濾液を濃縮してp−トルエ
ンスルホン酸3−(トリメチルシリル)プロピル8.5
gを得た。収率78.6%。
ンスルホン酸3−(トリメチルシリル)プロピル8.5
gを得た。収率78.6%。
(2)6− (3−()リメチルシリル)プロピル〕−
2ヒドロキシナフタレンの合成 2.6−シヒドロキシナフタレン2.4g (14,5
4mmol)、85%水酸化カリウム0.76g (1
1,49mmol)、メタノール4m!!およびエタノ
ール20mj!を加え65℃で撹拌下、p−)ルエンス
ルホン酸3−(トリメチルシリル)プロピル3 、0
g (10、47m m o l )を35分かけて滴
下した。滴下後この温度で30分撹拌し、ついで80℃
で5.5時間加熱撹拌した。冷水中に注入し、塩酸で酸
性(pH〜l)と・し、酢酸エチルで抽出した。水洗後
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
濾過後、濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒クロロホルム)で精製し、6−[3−(
)1,1メチルシリル)プロピルツー2−ヒドロキシナ
フタレン1.12gを得た。収率39.0%。
2ヒドロキシナフタレンの合成 2.6−シヒドロキシナフタレン2.4g (14,5
4mmol)、85%水酸化カリウム0.76g (1
1,49mmol)、メタノール4m!!およびエタノ
ール20mj!を加え65℃で撹拌下、p−)ルエンス
ルホン酸3−(トリメチルシリル)プロピル3 、0
g (10、47m m o l )を35分かけて滴
下した。滴下後この温度で30分撹拌し、ついで80℃
で5.5時間加熱撹拌した。冷水中に注入し、塩酸で酸
性(pH〜l)と・し、酢酸エチルで抽出した。水洗後
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
濾過後、濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒クロロホルム)で精製し、6−[3−(
)1,1メチルシリル)プロピルツー2−ヒドロキシナ
フタレン1.12gを得た。収率39.0%。
(3) trans−4−ペンチルシクロヘキサンカル
ボン酸6−(3−()リメチルシリル)プロピル〕−2
ナフチルの合成 trans−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸0
.36g (1,82mmol)、6− [3−(1−
リメチルシリル)プロピルツー2−ヒドロキシナフタレ
ン0 、50 g (1,82m m o 1 )にジ
・りooメタン10 m 12を加え室温で撹拌下、N
、 N’ −ジシクロへキシルカルボジイミドD CC
O、37g (1、80m m o l )、4ピロリ
ジノピリジン0.02gを添加し、この温度で22時間
撹拌した。生成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジ
クロロメタンで洗浄し濾液にあわた。
ボン酸6−(3−()リメチルシリル)プロピル〕−2
ナフチルの合成 trans−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸0
.36g (1,82mmol)、6− [3−(1−
リメチルシリル)プロピルツー2−ヒドロキシナフタレ
ン0 、50 g (1,82m m o 1 )にジ
・りooメタン10 m 12を加え室温で撹拌下、N
、 N’ −ジシクロへキシルカルボジイミドD CC
O、37g (1、80m m o l )、4ピロリ
ジノピリジン0.02gを添加し、この温度で22時間
撹拌した。生成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジ
クロロメタンで洗浄し濾液にあわた。
このジクロロメタン溶液を減圧下に濃縮し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン/ヘ
キサン=3/l)で精製し、トルエン/メタノールから
再結晶し、trans−4−ペンチルシクロヘキサンカ
ルボン酸6− [3−(トリメチルシリル)プロピル)
−2−ナフチル0.67gを得た。収率80,5%。
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン/ヘ
キサン=3/l)で精製し、トルエン/メタノールから
再結晶し、trans−4−ペンチルシクロヘキサンカ
ルボン酸6− [3−(トリメチルシリル)プロピル)
−2−ナフチル0.67gを得た。収率80,5%。
相転移温度(℃)
実施例4
下記工程に従い3−フルオロ−4−ドデシルオキシ安息
香酸6− f:3− ()リメチルシリル)プロピル〕
−2−ナフチル(例示化合物l−9))を製造した。
香酸6− f:3− ()リメチルシリル)プロピル〕
−2−ナフチル(例示化合物l−9))を製造した。
3−フルオロ−4−ドデシルオキシ安息香酸0.59g
(1、82m m o l )、6−[3−(トリメチ
ルシリル)プロピル〕−2−ヒドロキシナフタレン0.
5g(1,82m m o 1 )にジクロロメタン1
0mI!、テトラヒドロフラン10 m lを加え室温
で撹拌下、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド
(DCC) 0.38g (1,82m m o ]
)、]4−ピロリジノピリジン0.02を添加し、この
温度で20時間撹拌した。生成したジシクロヘキシル尿
素を濾別し、ジクロロメタンで洗浄し濾液にあわせた。
(1、82m m o l )、6−[3−(トリメチ
ルシリル)プロピル〕−2−ヒドロキシナフタレン0.
5g(1,82m m o 1 )にジクロロメタン1
0mI!、テトラヒドロフラン10 m lを加え室温
で撹拌下、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド
(DCC) 0.38g (1,82m m o ]
)、]4−ピロリジノピリジン0.02を添加し、この
温度で20時間撹拌した。生成したジシクロヘキシル尿
素を濾別し、ジクロロメタンで洗浄し濾液にあわせた。
このジクロロメタン溶液を減圧下に濃縮し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン)で
精製しエタノール/酢酸エチルから再結晶し3−フルオ
ロ−4−ドデシルオキシ安息香酸6− (3−()リメ
チルシリル)プロピル−2−ナフチル0.86gを得た
。収率81.1%。
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒トルエン)で
精製しエタノール/酢酸エチルから再結晶し3−フルオ
ロ−4−ドデシルオキシ安息香酸6− (3−()リメ
チルシリル)プロピル−2−ナフチル0.86gを得た
。収率81.1%。
相転移温度(℃)
実施例5
下記工程に従い4−ノニルオキシ安息香酸6−〔3(ブ
チルジメチルシリル)プロピルオキシカルボニル〕−2
−ナフチル(例示化合物l−13)を製造した。
チルジメチルシリル)プロピルオキシカルボニル〕−2
−ナフチル(例示化合物l−13)を製造した。
(1)6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジ
メチルシリル)プロピルの合成 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸2.Og (IQ、6
mmol)、ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピル
シラン3.71g (21,3mmol)、p−)ルエ
ンスルホン酸0.25g (1,31mmo+)および
キシレン30 m A’を加え、撹拌下6時間還流した
。放冷後減圧下に溶媒を留去し、残渣をヘキサンで洗浄
した後、イソプロピルエーテル/ヘキサンから再結晶し
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジメチル
シリル)プロピル1.40gを得た。収率38.2%。
メチルシリル)プロピルの合成 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸2.Og (IQ、6
mmol)、ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピル
シラン3.71g (21,3mmol)、p−)ルエ
ンスルホン酸0.25g (1,31mmo+)および
キシレン30 m A’を加え、撹拌下6時間還流した
。放冷後減圧下に溶媒を留去し、残渣をヘキサンで洗浄
した後、イソプロピルエーテル/ヘキサンから再結晶し
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジメチル
シリル)プロピル1.40gを得た。収率38.2%。
(2)4−ノニルオキシ安息香酸6− (1−(ブチル
ジメチルシリル)プロピルオキシカルボニルクー2ナフ
チルの合成 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジメチル
シリル)プロピル0.50g (1,45mmol)、
4−ノニルオキシ安息香酸0 、42 g (1、59
m m o 1 )を加え室温で撹拌下、N、 N’
−ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)0.30
g (1,45mmol)、4−ジメチルアミノピリジ
ン0.04gを添加し、この温度で7時間撹拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素を濾別しジクロロメタンで
洗浄し濾液にあわせた。このジクロロメタン溶液を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒トルエン)で精製し、トルエン/メタノー
ルから再結晶し4−ノニルオキシ安息香酸6−〔3−(
ブチルジメチルシリル)プロピルオキシカルボニル〕−
2−ナフチル0.69gを得た。収率805%。
ジメチルシリル)プロピルオキシカルボニルクー2ナフ
チルの合成 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸3−(ブチルジメチル
シリル)プロピル0.50g (1,45mmol)、
4−ノニルオキシ安息香酸0 、42 g (1、59
m m o 1 )を加え室温で撹拌下、N、 N’
−ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)0.30
g (1,45mmol)、4−ジメチルアミノピリジ
ン0.04gを添加し、この温度で7時間撹拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素を濾別しジクロロメタンで
洗浄し濾液にあわせた。このジクロロメタン溶液を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒トルエン)で精製し、トルエン/メタノー
ルから再結晶し4−ノニルオキシ安息香酸6−〔3−(
ブチルジメチルシリル)プロピルオキシカルボニル〕−
2−ナフチル0.69gを得た。収率805%。
相転移温度(’C)
実施例6
下記工程に従い6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸4−
(3−(ブチルジメチルシリル)プロポキシ〕フェニル
(例示化合物l−59)を製造した。
(3−(ブチルジメチルシリル)プロポキシ〕フェニル
(例示化合物l−59)を製造した。
しI′13
(1)p−)ルエンスルホン酸3−(ブチルジメチルシ
リル)プロピルの合成 ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピルシラン5 、
0 g (28、68m m o + )をピリジン5
0 m Itを加え撹拌した。水冷下p−トルエンスル
ホニルクロリド5 、4 g (28、32m m o
] )を添加し、この温度で30分撹拌し、ついで室
温で4時間撹拌した。冷水中に注入し、塩酸を加え酸性
(pH〜2)とし、酢酸エチルで抽出した。水洗後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾
過後、濾液を濃縮してp−トルエンスルホン酸3−(ブ
チルジメチルシリル)プロピル7.6gを得た。収率8
1.7%。
リル)プロピルの合成 ブチルジメチル−3−ヒドロキシプロピルシラン5 、
0 g (28、68m m o + )をピリジン5
0 m Itを加え撹拌した。水冷下p−トルエンスル
ホニルクロリド5 、4 g (28、32m m o
] )を添加し、この温度で30分撹拌し、ついで室
温で4時間撹拌した。冷水中に注入し、塩酸を加え酸性
(pH〜2)とし、酢酸エチルで抽出した。水洗後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾
過後、濾液を濃縮してp−トルエンスルホン酸3−(ブ
チルジメチルシリル)プロピル7.6gを得た。収率8
1.7%。
(2)4− (3−(ブチルジメチルシリル)プロポキ
シ〕フェノールの合成 ハイドロキノン2.32g (21,1mmol)、8
5%水酸化カリウム1 、13 g (17、1m m
o l )、メタノール6mlおよびエタノール30
mnを加え、65℃で撹拌下、p−トルエンスルホン酸
3−(ブチルジメチルシリル)プロピルを45分かけて
滴下した。滴下後この温度で30分撹拌し、ついで80
℃で6時間加熱撹拌した。冷水中に注入し塩酸で酸性(
pH〜2)とし、酢酸エチルで抽出した。水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒トルエン)で精製し、4〔3−(ブチルジメ
チルシリル)プロポキシ〕フェノール2.05gを得た
。収率50,6%。
シ〕フェノールの合成 ハイドロキノン2.32g (21,1mmol)、8
5%水酸化カリウム1 、13 g (17、1m m
o l )、メタノール6mlおよびエタノール30
mnを加え、65℃で撹拌下、p−トルエンスルホン酸
3−(ブチルジメチルシリル)プロピルを45分かけて
滴下した。滴下後この温度で30分撹拌し、ついで80
℃で6時間加熱撹拌した。冷水中に注入し塩酸で酸性(
pH〜2)とし、酢酸エチルで抽出した。水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒トルエン)で精製し、4〔3−(ブチルジメ
チルシリル)プロポキシ〕フェノール2.05gを得た
。収率50,6%。
(3)6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸4−〔3(ブ
チルジメチルシリル)プロ′ポキシ〕フェニルの合成 6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸0.62g (1゜
89 m m o l )、4−[:3−(ブチルジメ
チルシリル)プロポキシタフエノール0.50g (1
,88mmol)にジクロロメタン20mjl!を加え
、室温で撹拌下、N。
チルジメチルシリル)プロ′ポキシ〕フェニルの合成 6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸0.62g (1゜
89 m m o l )、4−[:3−(ブチルジメ
チルシリル)プロポキシタフエノール0.50g (1
,88mmol)にジクロロメタン20mjl!を加え
、室温で撹拌下、N。
N′−ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)0.
38g (1,84mmo+)、4−ピロリジノピリジ
ン0.02gを加え、添加後室温で6時間撹拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジクロロメタン
で洗浄し濾液にあわせた。このジクロロメタン溶液を減
圧下に濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒トルエン)で精製し、エタノール/酢酸エチルか
ら再結晶し6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸4−(3
−(ブチルジメチルシリル)プロポキシ〕フェニル0.
83gを得た。収率78.3%。
38g (1,84mmo+)、4−ピロリジノピリジ
ン0.02gを加え、添加後室温で6時間撹拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素を濾別し、ジクロロメタン
で洗浄し濾液にあわせた。このジクロロメタン溶液を減
圧下に濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒トルエン)で精製し、エタノール/酢酸エチルか
ら再結晶し6−デシルオキシ−2−ナフトエ酸4−(3
−(ブチルジメチルシリル)プロポキシ〕フェニル0.
83gを得た。収率78.3%。
相転移温度(’C)
< −506587
実施例7
下記化合物を下記の重量部で混合し液晶組成物Aを作成
した。
した。
構
造
式
%式%
式
重量部
更に、
この液晶組成物Aに対して、
例示化合物
■
59を以下に示す重量部で混合し、
液晶組成物
Bを作成した。
例示化合物No。
構
造
式
これは下記の相転移温度を示す。(単位二℃)実施例8
2枚の0 、7 m m厚のガラス板を用意し、それぞ
れのガラス板上にTTO膜を形成し、電圧印加電極を作
成し、さらにこの上にSiO3を蒸着させ絶縁層とした
。ガラス板上にシランカップリング剤[信越化学■製K
BM−602] 0.2%イソプロピルアルコール溶液
を回転数200Or、p、mのスピンナーで15秒間塗
布し、表面処理を施した。この後、120℃にて20分
間加熱乾燥処理を施した。
れのガラス板上にTTO膜を形成し、電圧印加電極を作
成し、さらにこの上にSiO3を蒸着させ絶縁層とした
。ガラス板上にシランカップリング剤[信越化学■製K
BM−602] 0.2%イソプロピルアルコール溶液
を回転数200Or、p、mのスピンナーで15秒間塗
布し、表面処理を施した。この後、120℃にて20分
間加熱乾燥処理を施した。
さらに表面処理を行なったITO膜付きのガラス板上に
ポリイミド樹脂前駆体[東し■5P−510]1.5%
ジメチルアセトアミド溶液を回転数200Or、p、m
のスピンナーで15秒間塗布した。成膜後、60分間、
300℃加熱縮合焼成処理を施した。この時の塗膜の膜
厚は約250人であった。
ポリイミド樹脂前駆体[東し■5P−510]1.5%
ジメチルアセトアミド溶液を回転数200Or、p、m
のスピンナーで15秒間塗布した。成膜後、60分間、
300℃加熱縮合焼成処理を施した。この時の塗膜の膜
厚は約250人であった。
この焼成後の被膜には、アセテート植毛布によるラビン
グ処理がなされ、その後イソプロピルアルコール液で洗
浄し、平均粒径2μmのアルミナビーズを一方のガラス
板上に散布した後、それぞれのラビング処理軸が互いに
平行となる様にし、接着シール剤[リクソンボンド(チ
ッソ■)〕を用いてガラス板をはり合わせ、60分間、
100°Cにて加熱乾燥しセルを作成した。
グ処理がなされ、その後イソプロピルアルコール液で洗
浄し、平均粒径2μmのアルミナビーズを一方のガラス
板上に散布した後、それぞれのラビング処理軸が互いに
平行となる様にし、接着シール剤[リクソンボンド(チ
ッソ■)〕を用いてガラス板をはり合わせ、60分間、
100°Cにて加熱乾燥しセルを作成した。
このセルに実施例7で混合した液晶組成物Bを等方性液
体状態で注入し、等吉相から20°C/hで25℃まで
徐冷することにより、強誘電性液晶素子を作成した。こ
のセルのセル厚をベレツク位相板によって測定したとこ
ろ約2μmであった。
体状態で注入し、等吉相から20°C/hで25℃まで
徐冷することにより、強誘電性液晶素子を作成した。こ
のセルのセル厚をベレツク位相板によって測定したとこ
ろ約2μmであった。
この強誘電性液晶素子を使って自発分極の大きさPsと
ピーク・トウ・ ピーク電圧Vl)I)=20Vの電圧
印加により直交ニコル下での光学的な応答(透過光量変
化O〜90%)を検知して応答速度(以後光学応答速度
という)を測定した。その結果を次に示す。
ピーク・トウ・ ピーク電圧Vl)I)=20Vの電圧
印加により直交ニコル下での光学的な応答(透過光量変
化O〜90%)を検知して応答速度(以後光学応答速度
という)を測定した。その結果を次に示す。
10°C
25℃
応答速度
538μ5eC
188μsec
Ps
2.8nC/cイ
1.7nC/c rd
実施例9
下記化合物を下記の重量部で混合し、
液晶組成
物Cを作成した。
構
造
式
式
重量部
構
造
式
更に、この液晶組成物Cに対して、以下に示す例示化合
物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物りを作
成した。
物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物りを作
成した。
例示化合物No。
構
造
式
液晶組成物りをセル内に注入する以外は全〈実施例8と
同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度
を測定し、スイッチング状態等を観察した。
同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度
を測定し、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均一配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°0 25℃ 40℃応答速度
546μsec 260μsec 1
43 μsecまた、駆動時には明瞭なスイッチング動
作が観察され、電圧印加を止めた際の双安定性も良好で
あった。
546μsec 260μsec 1
43 μsecまた、駆動時には明瞭なスイッチング動
作が観察され、電圧印加を止めた際の双安定性も良好で
あった。
比較例1
実施例9で混合した液晶組成物Cをセル内に注入する以
外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。
外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
10℃ 2580 40℃応答速度
784 μsec 373 μsec
197 μsec実施例10 実施例9で使用した例示化合物1−1.l−3I −8
,I −13のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Eを作成した。
784 μsec 373 μsec
197 μsec実施例10 実施例9で使用した例示化合物1−1.l−3I −8
,I −13のかわりに以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Eを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部この液晶組成物を用いた以外は全(実施例8と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定
し、スイッチング状態等を観察した。
部この液晶組成物を用いた以外は全(実施例8と同様の
方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定
し、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 486 μsec 234 μ
sec 131 μsec実施例11 実施例9で使用した例示化合物I −1,I −3゜I
−8,l−13のかわりに以下に示す例示化合物を各
々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Fを作成した
。
sec 131 μsec実施例11 実施例9で使用した例示化合物I −1,I −3゜I
−8,l−13のかわりに以下に示す例示化合物を各
々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Fを作成した
。
例示化合物NO構 造 式 重量部■−57
■
■
例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 593μsec 288μse
c 1.62μsec実施例12 下記化合物を下記の重量部で混合し液晶組成物Gを作成
した。
c 1.62μsec実施例12 下記化合物を下記の重量部で混合し液晶組成物Gを作成
した。
構
造
式
構
造
式
式
重量部
Ca H13+OCH2(C涙OペアH15更に、この
液晶組成物Gに対して、以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Hを作成した。
液晶組成物Gに対して、以下に示す例示化合物を各々以
下に示す重量部で混合し、液晶組成物Hを作成した。
例示化合物No、 構 造 式 、 重量
部■ 例示化合物N。
部■ 例示化合物N。
構
造
式
液晶組成物Hをセル内に注入する以外は全〈実施例8と
同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度
を測定し、スイッチング状態等を観察しプこ。
同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度
を測定し、スイッチング状態等を観察しプこ。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 552μsec 268μse
c 139μsecまた、駆動時には明瞭なス
イッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際の双安
定性も良好であった。
c 139μsecまた、駆動時には明瞭なス
イッチング動作が観察され、電圧印加を止めた際の双安
定性も良好であった。
比較例2
実施例12で混合した液晶組成物Gをセル内に注入する
以外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
以外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
10℃ 2560 408C
応答速度 653μsec 317μse
c 159μsec実施例13 実施例12で使用した例示化合物I −5,I −22
゜I −31,I −36のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物■を
作成した。
応答速度 653μsec 317μse
c 159μsec実施例13 実施例12で使用した例示化合物I −5,I −22
゜I −31,I −36のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物■を
作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部■−20 ■ ■ 例示化合物No。
部■−20 ■ ■ 例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全(実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 502μsec 246 p
sec 128 μsec実施例14 実施例12で使用した例示化合物I −5,I −22
゜I −31,I −36のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Jを
作成した。
sec 128 μsec実施例14 実施例12で使用した例示化合物I −5,I −22
゜I −31,I −36のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Jを
作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部■−17 ■ ■ 例示化合物No。
部■−17 ■ ■ 例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全(実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
106C25℃ 40℃
応答速度 594 μsec 271 p
sec 146μSeC実施例15 下記化合物を下記の重量部で混合し液晶組成物Kを作成
した。
sec 146μSeC実施例15 下記化合物を下記の重量部で混合し液晶組成物Kを作成
した。
構
造
式
式
重量部
構
造
式
この液晶組成物Kに対して、
以下に示す
例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組酸物りを作成した。
例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均一配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10’C25°C40°C
応答速度 508 μsec 266 μ
sec 155 p sec比較例3 実施例15で混合した液晶組成物Kをセル内に注入する
以外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
sec 155 p sec比較例3 実施例15で混合した液晶組成物Kをセル内に注入する
以外は全〈実施例8と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 668μsec 340μse
c 182μsec実施例16 実施例15で使用した例示化合物I −9,I −18
゜I −51,I −63のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Mを
作成した。
c 182μsec実施例16 実施例15で使用した例示化合物I −9,I −18
゜I −51,I −63のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Mを
作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量
部■−59 ■ 例示化合物No。
部■−59 ■ 例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
10°C25°C40°C
応答速度 497μsec 269μse
c 164μsec実施例17 実施例15で使用した例示化合物I −9,I −18
゜I −51,I −63のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Nを
作成した。
c 164μsec実施例17 実施例15で使用した例示化合物I −9,I −18
゜I −51,I −63のかわりに以下に示す例示化
合物を各々以下に示す重量部で混合し、液晶組成物Nを
作成した。
例示化合物No、 構 造 式 重量部
■−14 ■ ■ 例示化合物No。
■−14 ■ ■ 例示化合物No。
構
造
式
この液晶組成物を用いた以外は全〈実施例8と同様の方
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応答速度を測定し
、スイッチング状態等を観察した。
この液晶素子内の均−配向性は良好であり、モノドメイ
ン状態が得られた。
ン状態が得られた。
測定結果を次に示す。
106C25℃ 40°C応答速度
449μsec 237 μsec
142 μsec実施例18 実施例9で使用したポリイミド樹脂前駆体1.5%ジメ
チルアセトアミド溶液に代えて、ポリヒニルアルコール
樹脂[クラレ(掬製PU−A−117] 2%、水溶液
を用いた他は全く同様の方法で強誘電性液晶素子を作成
し、実施例8と同様の方法で光学応答速度を測定した。
449μsec 237 μsec
142 μsec実施例18 実施例9で使用したポリイミド樹脂前駆体1.5%ジメ
チルアセトアミド溶液に代えて、ポリヒニルアルコール
樹脂[クラレ(掬製PU−A−117] 2%、水溶液
を用いた他は全く同様の方法で強誘電性液晶素子を作成
し、実施例8と同様の方法で光学応答速度を測定した。
その結果を次に示す。
10°C25°C40°C
538μsec 258 μsec
144 p sec実施例19 実施例9で使用したSiC2を用いずに、ポリイミド樹
脂だけで配向制御層を作成した以外は全〈実施例8と同
様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例8と同様
の方法で光学応答速度を測定した。その結果を次に示す
。
144 p sec実施例19 実施例9で使用したSiC2を用いずに、ポリイミド樹
脂だけで配向制御層を作成した以外は全〈実施例8と同
様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例8と同様
の方法で光学応答速度を測定した。その結果を次に示す
。
106C258C40℃
547 μsec 256 μsec
142 μsec実施例18. 19より明らかな様
に、素子構成を変えた場合でも本発明に従う強誘電性液
晶組成物を含有する素子は、実施例9と同様に低温作動
特性の非常に改善され、かつ、応答速度の温度依存性が
軽減されたものとなっている。
142 μsec実施例18. 19より明らかな様
に、素子構成を変えた場合でも本発明に従う強誘電性液
晶組成物を含有する素子は、実施例9と同様に低温作動
特性の非常に改善され、かつ、応答速度の温度依存性が
軽減されたものとなっている。
上述したように、本発明によればスイッチング特性が良
好で、低温作動特性の改善された液晶素子、及び応答速
度の温度依存性の軽減された液晶素子、ならびにそのよ
うな液晶素子を構成するために有用な液晶性化合物およ
び液晶組成物が提供される。
好で、低温作動特性の改善された液晶素子、及び応答速
度の温度依存性の軽減された液晶素子、ならびにそのよ
うな液晶素子を構成するために有用な液晶性化合物およ
び液晶組成物が提供される。
第1図は強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の一例の断
面概略図、第2図および第3図は強誘電性液晶素子の動
作説明のために素子セルの一例を模式的に表わす斜視図
である。 強誘電液晶層 ガラス基板 透明電極 O ■ 1a 1b 24 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・1a 1b 3a 3b 34a ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・34b ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・a 配向制御層 スペーサー リード線 電源 偏光板 光源 入射光 透過光 基板 基板 強誘電液晶層 液晶分子 双極子モーメント(P±) 電圧印加手段 電圧印加手段 第1の安定状態 第2の安定状態 上向きの双極子モーメント 下向きの双極子モーメント 上向きの電界 Eb 下向きの電界
面概略図、第2図および第3図は強誘電性液晶素子の動
作説明のために素子セルの一例を模式的に表わす斜視図
である。 強誘電液晶層 ガラス基板 透明電極 O ■ 1a 1b 24 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・1a 1b 3a 3b 34a ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・34b ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・a 配向制御層 スペーサー リード線 電源 偏光板 光源 入射光 透過光 基板 基板 強誘電液晶層 液晶分子 双極子モーメント(P±) 電圧印加手段 電圧印加手段 第1の安定状態 第2の安定状態 上向きの双極子モーメント 下向きの双極子モーメント 上向きの電界 Eb 下向きの電界
Claims (3)
- (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) (式中、R_1は炭素原子数2〜16の直鎖状または分
岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1つまたは
隣接していない2つの−CH_2−基は−O−、−S−
、−CO−、−COO−、−OCO−で交換されていて
もよく、また水素原子がフッ素原子に置換されていても
よい。AはA_1または−A_1−A_2−を示し、B
は−B_1−または−B_1−B_2−を示す。A_1
、A_2、B_1、B_2は、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼または
▲数式、化学式、表等があります▼で あり、ここでY_1、Y_2は水素原子、F、Cl、B
r、CH_3、CNまたはCF_3である。Z_1、Z
_2は▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式
、化学式、表等があります▼を示し、Z_3は−O−、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
す▼を示す。R_2、R_3、R_4は炭素原子数1〜
16の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、該アル
キル基中のヘテロ原子と隣り合わない−CH_2−基は
−O−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼で交換されていてもよい。p
、qは0または1であり、p+q≦1である。nは1〜
12の整数を表わす。)で示される液晶性化合物。 - (2)請求項(1)記載の液晶性化合物を少なくとも一
種含有することを特徴とする液晶組成物。 - (3)請求項(2)記載の液晶組成物を1対の電極基板
間に配置してなることを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (5)
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---|---|---|---|
JP2134674A JP2899064B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 |
US07/702,320 US5188762A (en) | 1990-05-23 | 1991-05-20 | Mesomorphic compound, liquid crystal composition, liquid crystal device, display apparatus and display method |
AT91108327T ATE116671T1 (de) | 1990-05-23 | 1991-05-22 | Mesomorphe verbindung, flüssigkristallzusammensetzung, flüssigkristalapparat, anzeigevorrichtung und anzeigeverfahren. |
EP91108327A EP0458320B1 (en) | 1990-05-23 | 1991-05-22 | Mesomorphic compound, liquid crystal composition, liquid crystal device, display apparatus and display method |
DE69106437T DE69106437T2 (de) | 1990-05-23 | 1991-05-22 | Mesomorphe Verbindung, Flüssigkristallzusammensetzung, Flüssigkristalapparat, Anzeigevorrichtung und Anzeigeverfahren. |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2134674A JP2899064B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0429993A true JPH0429993A (ja) | 1992-01-31 |
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JP2010090265A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Sony Corp | 液晶分子、液晶材料、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
WO2012086840A1 (ja) * | 2010-12-24 | 2012-06-28 | 住友化学株式会社 | ジエポキシ化合物およびその製造方法 |
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---|---|---|---|---|
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JP3308626B2 (ja) * | 1992-02-12 | 2002-07-29 | キヤノン株式会社 | 液晶性化合物、これを含む液晶組成物、それを有する液晶素子、それらを用いた表示方法、および表示装置 |
US5861108A (en) * | 1995-07-07 | 1999-01-19 | Mitsui Chemicals, Inc. | Naphthalene compound, and liquid crystal composition and liquid crystal element using the same |
US5608095A (en) * | 1996-04-30 | 1997-03-04 | Hoechst Marion Roussel, Inc. | Alkyl-4-silyl-phenols and esters thereof as antiatherosclerotic agents |
JP2007523237A (ja) * | 2004-02-11 | 2007-08-16 | ディスプレイテック,インコーポレイテッド | シリルテール基を有する液晶材料 |
FR2883883A1 (fr) * | 2005-04-01 | 2006-10-06 | Thales Sa | Molecules complexes a fort pouvoir dispersant a base de fonction cristal liquide et de particule d'oxyde metallique |
GB0823013D0 (en) | 2008-12-18 | 2009-01-28 | Cambridge Entpr Ltd | Wide temperature-range smectic liquid crystall materials |
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US4367924A (en) * | 1980-01-08 | 1983-01-11 | Clark Noel A | Chiral smectic C or H liquid crystal electro-optical device |
US4316041A (en) * | 1980-02-19 | 1982-02-16 | Union Carbide Corporation | Liquid crystal silanes |
JPS60252486A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-13 | Toray Silicone Co Ltd | 液晶性有機けい素化合物 |
DE3827600A1 (de) * | 1988-08-13 | 1990-02-15 | Hoechst Ag | Organosilylalkyl- oder -alkenyl-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in fluessigkristallinen mischungen |
CA2019380C (en) * | 1989-06-22 | 1995-01-10 | Wolfgang Haas | Silylated benzoic acid derivatives |
-
1990
- 1990-05-23 JP JP2134674A patent/JP2899064B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-20 US US07/702,320 patent/US5188762A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-22 EP EP91108327A patent/EP0458320B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-22 DE DE69106437T patent/DE69106437T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-22 AT AT91108327T patent/ATE116671T1/de not_active IP Right Cessation
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JP2008150334A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Sony Corp | 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
JP4650408B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2011-03-16 | ソニー株式会社 | 液晶材料、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
JP2010090057A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Sony Corp | 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
JP2010090265A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Sony Corp | 液晶分子、液晶材料、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
JP4636161B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2011-02-23 | ソニー株式会社 | 液晶材料、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
US7935395B2 (en) | 2008-10-08 | 2011-05-03 | Sony Corporation | Liquid crystal molecule, liquid crystal display device and liquid crystal optical spatial modulation device |
WO2012086840A1 (ja) * | 2010-12-24 | 2012-06-28 | 住友化学株式会社 | ジエポキシ化合物およびその製造方法 |
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---|---|
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US5188762A (en) | 1993-02-23 |
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JP2899064B2 (ja) | 1999-06-02 |
EP0458320A1 (en) | 1991-11-27 |
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