JPH02277262A - 集積回路用の給電ピン配置 - Google Patents

集積回路用の給電ピン配置

Info

Publication number
JPH02277262A
JPH02277262A JP2028142A JP2814290A JPH02277262A JP H02277262 A JPH02277262 A JP H02277262A JP 2028142 A JP2028142 A JP 2028142A JP 2814290 A JP2814290 A JP 2814290A JP H02277262 A JPH02277262 A JP H02277262A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
pin
integrated circuit
pins
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2028142A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2885456B2 (ja
Inventor
Roelof H W Salters
ロエロフ・ハーマン・ウィレム・サルターズ
ベティー・プリンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV, Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPH02277262A publication Critical patent/JPH02277262A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2885456B2 publication Critical patent/JP2885456B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49589Capacitor integral with or on the leadframe
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/645Inductive arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 基板上に、ミクロンの10分の1の大きさのオーダーの
最小寸法を持つような構造を実現することが可能である
。しかしながら、常に進歩するこのような小型化は、回
路の電気的寄生効果の受は易さを増加させる結果となる
。このような効果の一例は、回路の動作とボンディング
線及び給電ピンの各インダクタンスとによって生ずるチ
ップ内部給電線上の誘導電圧変動である。そして、デジ
タル回路のスイッチング速度を制限してしまう主たる要
因は、ICに悪影響を及ぼし得るこのような誘導電圧変
動の発生である。
給電ピンが互いに対角線上の反対側に位置するような、
例えばマイクロプロセッサあるいはメモリの、カプセル
封止は、広く受は入れられている標準である。この点に
関しては、SRAM用のピン配列図を示す「フィリップ
スデータハンドブックIC10J 1987年版の10
3頁、ならびにマイクロコントローラ用のピン配列図を
示す[フィリップスデータハンドブックIC14J 1
9g7年版の322頁を参照されたい。しかしながら、
小型化は継続しており、またクロック周波数の最大値も
増加する傾向にあるので、上記標準の欠点はますます明
らかとなってきた。例えば、通常前記第1の給電ピンと
第2の給電ピンとの間に設けられる平滑コンデンサは、
これらの対角的に位置する給電ピン間の距離にわたるた
めに、必然的に長い線を必要としてしまう。
このため、これら線の寄生容量が上記平滑コンデンサの
効率を減少させてしまう。また、このような長い線は、
回路と干渉するような妨害波を受信または送信するアン
テナとして作用してしまう傾向がある。
更に、上記給電ピンに接続されるボンディング線用のボ
ンディングパッドが位置するチップと、これらボンディ
ング線と、上記給電ピン自身とを含む誘導ループは、そ
の面積が比較的大きいので、かなりのインダクタンスを
有している。このため、チップの内部給電線上に誘導電
圧スパイクが発生し、これらスパイクが当該集積回路の
動作を妨害することがある。更に、給電ピンとそれに組
み合わされるボンディング線との直列接続は、従来のデ
ュアルインラインICにおいては最も長い電気通路を持
つことになる。このため、そのインピーダンス(特にイ
ンダクタンス)は、最大となってしまう。
また、デュアルインライン構成のピン配列以外の従来の
ピン配列も上記と同様の欠点を有している。例えば、「
フィリップスデータハンドブックIC14」1987年
版の34頁に示されたマイクロコントローラ用のピン配
列においては、接続ピンは1cの周辺に沿って設けられ
ている。そして、2つの給電ピンは当該ICの各々反対
側に設けられている。
この結果、これら給電ピンの間に接続される平滑コンデ
ンサは、前記と同様に比較的大きなループを形成するこ
とになる。また、接続ピンの他の配列としては、2列以
上および2行以上の格子状に配列された接続ピンを有す
るものがある。このような格子状配列は大きなピン密度
を可能にし、より多くの電力を消費するICにとって有
利である。
しかしながら、特に、電流および電流変化が大きい高電
力消費環境においては、上述した誘導効果によりその動
作が制限されてしまうことになる。
したがって、この発明の目的とするところは、上述した
ような寄生効果を受けにくい集積回路を提供することに
ある。
〔発明の概要〕
この目的を達成するため、この発明による集積回路モジ
ュールは、第1の給電ピンとこれに組み合わされる導電
接続体との第1の総合電気通路長と、第2の給電ピンと
これに組み合わされる導電接続体との第2の総合電気通
路長とが、共に、給電ヒンテナい他の接続ピンとこのピ
ンに組み合ワ′される導電接続体とのいずれの総合電気
通路よりも短いか又は等しいことを特徴としている。こ
の構成によれば、給電ピンとそれに組み合わされる導電
接続体との直列接続のインダクタンスは可能な限り低く
なる。
また、本発明による集積回路モジュールの一実施例は、
第1の給電ピンと第2の給電ピンとが互いに隣接して配
置されていることを特徴としている。このように、第1
と第2の給電ピンを互いに隣接して配置することにより
、前述したループの面積が更に大幅に低減され、したが
ってそのインダクタンスが最小化される。このような給
電ピンの配列の他の利点は、組み合わされるボンディン
グ線及び給電ピンに電流が逆平行の向きで流れるという
ことにある。この構成は、隣接する線のインダクタンス
により発生される電磁場のかなりの相殺により、給電ピ
ンとそれに組み合わされるボンディング線との当該配列
の共通実効インダクタンスを単一のボンディング線のイ
ンダクタンスの半分以下にする。
また、この発明による集積回路モジュールの他の実施例
は、少なくとも2個の第1の給電ピンと少なくとも2個
の第2の給電ピンとが設けられていることを特徴として
いる。この構成は、チップの内部給電線における妨害の
振幅を更に低下させる。これは、供給電圧当たり少なく
とも2つの給電ピン及び給電線が存在することにより、
給電通路当たりの電流が少なくとも2倍減少されるから
である。
また、この発明の更に他の実施例は、上記接続ピンが出
力信号を送出するための出力ピンを有するものにおいて
、上記出力ピンが給電ピンの内の1つと隣接して配置さ
れていることを特徴としている。情報処理システムに組
み込まれて、複数の他の回路が、上記のような出力端子
に接続され得る。上記のような他の回路の各々およびこ
れら他の回路との接続部はインピーダンスを有する。し
たがって、出力信号を他の回路に送出するための出力ピ
ンは、通常、他のピンよりもより強力な信号を負う。そ
れゆえ、上記のような出力ピンを前記給電ピンの部近傍
に配置することにより、チップとこれら出力ピンとの間
の距離は、チップと給電ピンとの間の距離よりも僅かに
大きくなるに過ぎない。この結果、組み合わされる線及
び出力ピンのインダクタンスは、その大きさが僅かに大
きいに過ぎない。更に、大きな電流及び急激な電流変化
は、給電ピンにおける供給電圧に僅かに影響するに過ぎ
ない。というのは、後者はそれらの対構造により充分に
保護されているからである。出力ピンを給電ピンの部近
傍に配置することによる更に重要な利点は、出力ピンか
ら出力信号を送出する出力バッファが、非常に短い給電
線を介して給電されることにある。この構成は、出力バ
ッファの動作時に大きな電流変化により発生する誘導電
圧スパイクの振幅を、同様の環境において従来の集積回
路で発生するスパイクの振幅よりも小さくする。
この発明による集積回路モジュールの更に他の実施例は
、前記接続ピンが、更に、クロック入力、チップエネー
ブル、読出エネーブル、書込エネーブル、プログラムエ
ネーブル、出力エネーブル、リセット入力、割り込み入
力、またはテストエネーブル等の制御ピンを含むものに
おいて、これらの制御ピンが、給電ピンでない又は出力
ピンでない接続ピンよりも、所定の給電ピンにより近く
に配置されることを特徴としている。クロックピンある
いはエネーブルピン等の制御ピンを対の給電ピンの部近
傍に配置することにより、ピンの核部が形成される。こ
のような核を形成するピンは殆ど全てのICに存在する
。したがって、チップの設計者は、誘導妨害に対してよ
り感度が低く、かつ、発生する誘導電圧スパイクが非常
に小さいような回路を作成するに当たり、そのような核
を設計出発点とすることができる。本発明により設計さ
れる回路の拡張は容易に達成することができる。
というのは、ピンの集合の位置、従ってそれらの配置の
主要な部分は、予め決まっているからである。特にメモ
リに関してはこの設計方法は重要な利点を有している。
というのは、メモリセルマトリックスは、アドレス空間
の大きさは異なるが、構成要素の配置は異ならないから
である。
また、本発明によるCMOSメモリに関して行なった実
験によれば、スイッチングにより発生される妨害電圧の
振幅は、従来供給されているメモリにおけるよりも、4
ないし5倍低かった。
〔実施例〕
先ず、本発明の実施例と比較するため従来の構成を説明
する。
第2図には、従来のデュアルインラインICのピン配列
の一例を示している。この図に示すものは、SIIAM
 ICである。このSRAM ICはカプセル封止11
2内に封止された集積回路チップ100を有しているが
、この図ではカプセル封止112は明瞭化のため一部だ
けが示されている。上記チップ100には114および
116等で示すボンディングパッドが設けられ、これら
ボンディングパッドは上記チップ100の周縁の近傍に
配置されている。図示したボンディングパッドは、12
2および124等で示す導電接続体、すなわちボンディ
ング線、を介して、上記カプセル封止112を越えて延
在する接続ピン1ないし24に接続されている。そして
、上記接続ピン1ないし24、および122.124等
のボンディング線が、前記チップ100を外部と接続す
る。
チップ100には、給電ピン24とボンディング線12
4とを介して電源電圧Vccが供給され、給電ピン12
とボンディング線122とを介して電源電圧GNDが供
給される。そして、広く受は入れられている標準に従っ
て、上記給電ピン12および24は、互いに対角線の反
対側に各々配置されている。また、接続ピン9ないし1
1.および13ないし17は、データ伝送用の入力/出
力ピンである。また、接続ピン1ないし8.19.22
および23は、アドレスピンである。また、接続ピン1
8.20および21は、チップ選択信号、出力エネーブ
ル信号および書込エネーブル信号によりチップ100を
各々制御するための制御ピンである。
図から明らかなように、パッド114および116を含
むボンディングパッドの位置は、上記接続ピン丁ないし
24の位置に周方向に対応している。このような構成の
結果、給電ピン12及びボンディング線122と、給電
ピン24及びボンディング線124とを有する電源供給
部の電気通路長が、存在する接続ピンとそれに組み合わ
されるボンディング線との全ての直列接続の中で最も長
いものとなってしまう。
また、他の結果として、上記給電ピン12及び24が互
いに対角線上の反対側に位置するので、これらピン12
及び24の間の距離が、接続ピンの全ての組合せの対の
間の距離の中で最も長くなる。
また、この構成にはいくつかの欠点がある。すなわち、
先ず、給電ピン12とボンディング線122との直列接
続の電気通路長、および給電ピン24とボンディング線
124との直列接続の電気通路長は一番長いので、これ
ら直列接続の各インダクタンスも最も太き(なる。また
、当該ICの動作モードにおいては、大きくかつ急激な
電流が前記給電ピン12.24およびそれらに組み合わ
され、るボンディング線122.124により流される
。そして、電流変化とインダクタンスとが両方とも大き
いので、誘導電圧スパイクが給電ピン丁2.24とそれ
らに組み合わされるボンディング線122.124上に
発生しやすい。これらのスパイクは、次いで、チップの
内部給電線に伝播してしまう。この場合、前述したよう
に電気通路長が長いため、給電ピ、ンおよびボンディン
グ線上に発生される電圧スパイクは、チップの内部給電
線(図示路)上に発生する電圧スパイクと同程度の大き
さとなりえる。
上記のような電圧スパイクの振幅と、これら電圧スパイ
クの他の情報信号に対する妨害とを低減するため、平滑
コンデンサ126が給電ピン12と24との間に接続さ
れる。そして、この従来の構成の他の欠点は、このコン
デンサ12゛6の接続から生じる。前記給電ピン12お
よび24は互いに対角線上の反対側に位置しているので
、上記平滑コンデンサ126はそれらの間に比較的長い
線で以て接続しなければならない。このことは、コンデ
ンサ126の線と、給電ピン12および24と、ボンデ
ィング線122および124とを含む導体のループが存
在することを意味し、その比較的大きな面積が一層の誘
導効果をもたらし、当該ICの動作あるいは同ICの近
傍の(図示せぬ)他の回路を妨害することになる。
また、上記の長い線のインピーダンスは遅延の原因とな
り、これにより上記コンデンサ126の効果が減少して
しまう。
ICの小型化が進み、かつクロック周波数の可能な最高
値は更に上昇する傾向にあるから、従来のピン配列に固
有の上記欠点は一層明らかなものとなる。不断の寸法の
減少およびクロック周波数の上昇の結果、誘導電圧スパ
イクがチップ自身に悪影響を与える傾向にある。例えば
、これら誘導電圧スパイクがトランジスタの破壊を引き
起こすことがある。したがって、電源の電流変化が、従
来のようにピン配列されたICの制限に適応されない限
り(このことは、とりわけ、比較的低い最高クロック周
波数と、その結果としての低い動作速度を意味する)、
そのICの安全な動作は最早可能ではない。
次に、第1図は、本発明によるICのピン配置の一実施
例を示す。
この図の実施例はSRAMであり、このSRAMはカプ
セル封止312内に封止された集積回路チップ300を
有している。なお、上記カプセル封止312は明瞭化の
ため一部だけを示している。上記チップ300には31
4および316等で示すボンディングパッドが設けられ
、これらボンディングパッドはチップ300の周縁の近
傍に配置されている。上記ボンディングパッドは、前記
カプセル封止312を越えて延在する接続ピン1ないし
24に、322オよび324等のボンディング線を介し
て接続されている。
チップ300には、給電ピン6および18を介して電源
電圧Vccが供給され、給電ピン7および19を介して
電源電圧GNDが供給される。第2図に示したピン配列
とは対照的に、給電ピン6および7 (および18およ
び19)は、各ピンとそれらに組み合わされるボンディ
ング線との電気通路長が最小となるような形で配置され
ている。この目的のため、一方においては上記給電ピン
6及び7が、また他方においては給電ピン18及び19
が、それらに対応する接続ピンの系列の中央部に位置さ
れている。
上記電気通路長を最小化するこのより、給電ピンとそれ
に組み合わされるボンディング線との直列接続の総合イ
ンダクタンスは、第2図に示した従来のピン配置による
ICにおいて組み合わされる給電ピントとボンディング
線とに存在する総合インダクタンスに比べて、著しく低
減される。
図におけるピン6および7 (ならびにピン18および
19)のように、VccとGND用の給電ピンを互いに
隣合うように位置させることにより、平滑コンデンサ3
26 (328)は、それらの間に非常に短い接続線を
用いて接続することができる。この結果、2つの給電ピ
ン6及び7、ボンディング線322及び324、チップ
300及びコンデンサ326により形成されるループは
極めて短い周囲を持つようになると共に、それによって
閉じられる面積は極めて小さくなる。また、コンデンサ
326 (32g)を前記給電ピンに接続する線は、第
2図に示した場合に比べて、非常に小さなインピーダン
スを持つことになるので、これらコンデンサの効果は大
幅に増大する。更に、上記ループの面積は第2図に示し
た場合に比べて非常に小さいので、そのループインダク
タンスは非常に小さくなり、従って、例えば外部で発生
される電磁場に対して非常に影背を受けにくくなる。ま
た、もしスペースが許すなら、上記平滑コンデンサ32
6(例えば、表面実装型の場合)は、カプセル封止31
2内で対応する給電ピン間に接続することもできるし、
また、給電ピン自体と一体にすることもできる。
VccピンがGNDピンの直近傍にある給電ピン配置の
他の利点は、これら給電ピンとそれらに組み合わされる
ボンディング線との実効総合インダクタンスが減少する
ことである。この減少は、それぞれが給電ピンとそれに
組み合わされるボンディング線とを含む各導体中に流れ
る電流が逆向きで平行となることによりもたらされる。
互いに平行に配置された導体中の逆平行電流により発生
される相互インダクタンスは、これら平行に配置された
導体の実効インダクタンスを、単一導体のインダクタン
スの半分以下にする。
また、図示のICには、電源電圧Vcc用に2つの給電
ピン6及び18が設けられると共に、電源電圧GND用
にも2つの給電ピン7及び19が設けられている。した
がって、これら給電ピン当たりに流れる電流は、第2図
に示した場合の半分になるので、誘導電圧スパイクの振
幅は更に減少する。
また、νcc用ピン6及び18の位置と、GND用ピン
7及び19の位置とは、図に見られるように、回転対称
となるようにするのが好ましい。これとは対照的に、こ
れら給電ピンを鏡対称とすると、ICが意図せずに回路
基板上に逆向きに、即ち図において上下逆に、挿入され
た場合に、当該ICが破壊されてしまう可能性がある。
また、第1図に示すように、出力ピン5.8.17およ
び20は、給電ピンに隣接するように配置されている。
これらの出力ピンは外部からアクセスすることができる
端子であり、チップ上の図示せぬ出力バッファの出力端
に結合されている。給電ピンに隣接して出力ピンを配列
すると数々の利点が得られる。すなわち、先ず、出力ピ
ンとそれに組み合わされるボンディング線とからなる電
気通路の長さが、給電ピンとそれに組み合わされるボン
ディング線とから構成される電気通路の長さと、等しい
か又は同程度の大きさとなる。結果として、前者のイン
ピーダンス(インダクタンス)も同等に小さくなる。第
2に、出力バッファはチップ300の縁部に位置する。
そして、バッファが、給電ピンと出力ピンとに接続する
ためのボンディングパッドの近傍に位置すると、該バッ
ファはチ゛ツブ上の短い給電線(図示略)を介して給電
することができる。このような短い給電線は出力バッフ
ァにとって特に有利である。何故なら、出力バッファは
通常大きな電流を切り換え、これが対応する給電線上に
誘導電圧スパイクを発生させる可能性があるからである
。そして、上記給電線が出来る限り短く維持されれば、
そのインダクタンスもそれに比例して低くなる。
また、チップ選択信号用の制御ピンlOと、書込エネー
ブル信号用の制御ピン15と、出力エネーブル信号用の
制御ピン22とは、それらに対応する接続ピン系列にお
ける出力ピンに隣接して配置されている。給電ピン6.
7.18.19と、出力ピン4.5.8.9.16.1
7.20.21と、制御ピン1O115,22との組は
、メモリICにおいてしばしば必要なピンの中核、すな
わち制御核部を形成する。また、例えばマイクロコント
ローラのような他の形式のICに関しては、そのICの
特別の応用に必要とされるように、制御ピンを他の組合
せで配置すればよい。上記のように給電ピン、出力ピン
及び制御ピンを核部へ集中し、チップを核部の回路と付
加的回路とに分けると、数々の利点が得られる。すなわ
ち、先ず、当該ICが上述したように誘導電圧スパイク
に敏感でなくなる。第2に、標準接続ピンの核部はIC
設計者にとって出発点となり、該核部は種々の回路配置
に共通であると共に、各種の付加回路および変形回路に
結合するのが比較的容易である。
第1図において、アドレスピン1.2.3.11.12
.13.14.23.24は、制御ピンおよび出力ピン
の向う側に配置されている。このような核部の回路と付
加的回路との分割は、特にメモリの設計者にとって次の
ような利点がある。すなわち、各種の容量のメモリでも
同一の核部を使用することができ、かつ、前述したよう
な誘導妨害に対して感度が低い。
次に、第3図にはその周縁に沿って接続ピンが配置され
るような従来のメモIJIc用のピン配置の一例が示さ
れている。この図のICは、カプセル封止512に封止
されたチップ500を有するものであるが、上記カプセ
ル封止は明瞭化のため一部だけが示されている。このチ
ップ500には、当該チップの縁の近傍に、ボンディン
グパッド514.516等が設けられている。これらボ
ンディングパッドは、ボンディング線522.524等
を介して、接続ピン14.28等に接続されている。こ
の場合、接続ピン28.14は、電源電圧Vcc及びG
NDを各々受入するための給電ピンである。また、接続
ピンl、10.15及び21は接続されていないピンで
ある。
また、接続ピン11ないし13及び16ないし2oは出
力ピンであり、接続ピン2ないし9.26および27は
アドレスピンである。また、接続ピン22ないし25は
種々のチップエネーブル信号を受入するための′制御ピ
ンであり、例えばマイクロプロセッサシステム等におけ
るメモリの拡張を容易にするために設けられている。
図から明らかなように、この従来のICにおいては、給
電ピン14及び28は、誘導妨害の低減の見地からする
と最良の位置にはない。すなわち、第1に、これらのピ
ンは可能な最短の接続ピンではなく、接続はされてはい
ないがピン1及び15の方がより短い。第2に、それら
の給電ピンはICの互いに反対側に位置している。した
がって、平滑コンデンサ526は、当該ICを長い距離
に渡り跨ぐような線を用いてピン28.14の間に接続
しなければならない。そして、第2図のICについて説
明したピン配置のその他の欠点は、この第3図のICに
ついても同様である。
次に、第4図は、その周縁に沿って接続ピンが配置され
るようなIC用の本発明によるピン配置の一例が示され
ている。図において、集積回路チップ600はカプセル
封止612内に封止されている。
このICにおいては、V on給電ピン14および28
が、GN[l給電ピン15および1に各々隣接して配置
されている。更に、GND給電ピンとそれに隣接するV
o、給電ピンとの配列は、対応する接続ピンの系列の中
央部に位置している。すなわち、上記配列にはその両側
に他の接続ピンが並び、これら他の接続ピンの数は両側
において各々略等しい。また、甲滑コンデンサ626お
よび628は好ましくは表面実装型の素子(som、d
、 )であり、給電ピン14.15の間および給電ピン
1.28の間に各々接続される。
また、出力ピン12.13および16.17は、給電ピ
ン14.15の配列に隣接して配置されている。また、
出力ピン3.2および27.26は、給電ピン1.2B
の配列に隣接して配置されている。また、接続ピン22
ないし25は各種のチップエネーブル信号用の制御ピン
を構成し、接続ピン5ないし11.20および21はア
ドレスピンを構成している。
なお、上述した実施例では本発明をメモリについて説明
したが、上記と同様のピン等の配列は、例えばマイクロ
コントローラ等の他の形式の回路についても行なうこと
ができる。同様に、上記と同様な配列は1個以上のチッ
プを持つ集積回路モジュールにも適用でき、そのような
ピン配列は、チップの最も近くにおいて給電ピンを対に
し、かつ、出力ピンをそれらに対応するピン系列におい
て給電ピンに隣接するように配置することにより、誘導
電圧スパイクを低減するという本発明の目的を反映する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、デュアルインラインICにおける、この発明
によるピン配列の一例を示す図、第2図は、従来のデュ
アルインラインICにおけるピン配列を示す図、 第3図は、周方向に配列されたピンを持つ従来のICに
おけるピン配列を示す図、 第4図は、周方向に配列されたピンを持つICにおける
、この発明におけるピン配列の一例を示す図である。 1〜28・・・接続ピン、300.600・・・集積回
路チップ、312・・・カプセル封止、314.316
・・・ボンディングパッド、322.324・・・ボン
ディング線、326.328.626、628−・・平
滑コンデンサ。 出1頭人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペ
ンファブリケン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、配列された接続ピンに各導電接続体を介して結合さ
    れたボンディングパッドを持つ少なくとも1個の集積回
    路チップを有し、かつ、前記接続ピンが第1の供給電圧
    及び第2の供給電圧を各々入力するための第1の給電ピ
    ン及び第2の給電ピンを含む集積回路モジュールにおい
    て、前記第1の給電ピンとこれに組み合わされる前記導
    電接続体との総合電気通路長と、前記第2の給電ピンと
    これに組み合わされる前記導電接続体との総合電気通路
    長とが、共に、給電ピンでない他の接続ピンと該ピンに
    組み合わされる前記導電接続体とのいずれの総合電気通
    路よりも短いか又は等しいことを特徴とする集積回路モ
    ジュール。 2、配列された接続ピンに各導電接続体を介して結合さ
    れたボンディングパッドを持つ少なくとも1個の集積回
    路チップを有し、かつ、前記接続ピンが第1の供給電圧
    及び第2の供給電圧を各々入力するための第1の給電ピ
    ン及び第2の給電ピンを含む集積回路モジュールにおい
    て、前記第1の給電ピンとこれに組み合わされる前記導
    電接続体との総合電気通路長と、前記第2の給電ピンと
    これに組み合わされる前記導電接続体との総合電気通路
    長との和が、給電ピンでない他の接続ピンとこのピンに
    組み合わされる前記導電接続体との組合せのいずれの対
    の各総合電気通路の和よりも短いか又は等しいことを特
    徴とする集積回路モジュール。 3、請求項1または2に記載の集積回路モジュールにお
    いて、前記配列においては少なくともある第1の給電ピ
    ンがある第2の給電ピンに隣接配置されていることを特
    徴とする集積回路モジュール。 4、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の集積回路
    モジュールにおいて、少なくとも2個の第1の給電ピン
    と、少なくとも2個の第2の給電ピンとが設けられてい
    ることを特徴とする集積回路モジュール。 5、請求項3に記載の集積回路モジュールにおいて、少
    なくとも2つの組の給電ピンが設けられ、これら組の各
    々が前記配列において第2の給電ピンに隣接配置された
    第1の給電ピンを含んでいることを特徴とする集積回路
    モジュール。 6、請求項5に記載の集積回路モジュールにおいて、前
    記少なくとも2つの組は順序ずけられた組であり、かつ
    、前記配列において回転対称で配置されていることを特
    徴とする集積回路モジュール。 7、請求項5または6に記載の集積回路モジュールにお
    いて、前記各組が当該モジュールの互いに反対側に配置
    されていることを特徴とする集積回路モジュール。 8、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の集積回路
    モジュールであって、前記接続ピンが出力信号を各々送
    出するための1個の出力ピン又は複数の出力ピンを含む
    集積回路モジュールにおいて、前記1個の出力ピンかま
    たは前記複数の出力ピンの少なくとも大部分が、当該出
    力ピンに最も近い給電ピンから、給電ピンまたは出力ピ
    ンでない他の接続ピンよりも遠くには配置されていない
    ことを特徴とする集積回路モジュール。 9、請求項8に記載の集積回路モジュールであって、前
    記接続ピンが前記集積回路チップ中の回路の動作を制御
    するための、クロック入力、チップエネーブル、読出エ
    ネーブル、書込エネーブル、プログラムエネーブル、出
    力エネーブル、リセット入力、割り込み入力、またはテ
    ストエネーブル等の制御信号を入力するための少なくと
    も1個の制御ピンを含む集積回路モジュールにおいて、
    各制御ピンが、当、該制御ピンに最も近い給電ピンから
    前記配列において又は該配列に沿って、給電ピン又は出
    力ピン又は制御ピンでない他の接続ピンよりも遠くには
    配置されていないことを特徴とする集積回路モジュール
    。 10、少なくとも1個の集積回路が設けられると共に、
    配列されたボンディングパッドを有する半導体基板であ
    って、前記ボンディングパッドが第1の供給電圧及び第
    2の供給電圧を各々入力するための第1の給電パッド及
    び第2の給電パッドを含む半導体基板において、少なく
    とも1個の第1の給電パッドが前記配列において第2の
    給電パッドに隣接して配置されていることを特徴とする
    半導体基板。 11、請求項10に記載の半導体基板において、少なく
    とも2個の第1の給電パッドと2個の第2の給電パッド
    とが設けられていることを特徴とする半導体基板。 12、請求項10に記載の半導体基板において、少なく
    とも2つの組の給電パッドが設けられ、これら組の各々
    が第2の給電パッドに隣接して配置された第1の給電パ
    ッドを含んでいることを特徴とする半導体基板。 13、請求項10に記載の半導体基板において、前記の
    少なくとも2つの組は順序ずけられた組を含み、かつ、
    前記配列において回転対称で配置されていることを特徴
    とする半導体基板。 14、請求項12または13に記載の半導体基板におい
    て、前記各組が当該基板の互いに反対側に配置されてい
    ることを特徴とする半導体基板。 15、請求項10ないし14のいずれか1項に記載の半
    導体基板であって、前記ボンディングパッドが出力信号
    を各々送出するための1個の出力パッド又は複数の出力
    パッドを含む半導体基板において、前記1個の出力パッ
    ドかまたは前記複数の出力パッドの少なくとも大部分が
    、前記配列内でまたは当該配列に沿って、当該出力パッ
    ドに最も近い給電パッドから給電パッドまたは出力パッ
    ドでない他のボンディングパッドよりも遠くには配置さ
    れていないことを特徴とする半導体基板。 16、請求項15に記載の半導体基板において、前記集
    積回路が前記出力パッドに結合された出力端を持つ出力
    バッファを含み、前記出力バッファは前記給電パッドと
    、前記集積回路中の他の回路に給電するためのチップ上
    給電線よりも長くないいチップ上給電線とを介して給電
    されることを特徴とする半導体基板。 17、請求項15または16に記載の半導体基板であっ
    て、前記ボンディングパッドが前記集積回路の動作を制
    御するためのクロック入力、チップエネーブル、読出エ
    ネーブル、書込エネーブル、プログラムエネーブル、出
    力エネーブル、リセット入力、割り込み入力、またはテ
    ストエネーブル等の制御信号を入力するための少なくと
    も1個の制御パッドを含む半導体基板において、実質的
    に各制御パッドが、当該制御パッドに最も近い給電パッ
    ドから前記配列において又は該配列に沿って、給電パッ
    ド又は出力パッド又は制御パッドでない他のボンディン
    グパッドよりも遠くには配置されていないことを特徴と
    する半導体基板。 8、第1の複数系列の接続ピンと、 第2の複数系列のボンディングパッドを有 し、各ボンディングパッドとそれらに組み合わされる接
    続ピンとの間の各々の相互接続部がボンディング線を有
    するような集積回路チップと、 を有してなり、前記接続ピン中には第1の電源供給電圧
    及び第2の電源供給電圧を各々入力するための第1の給
    電ピン及び第2の給電ピンが含まれているような集積回
    路モジュールにおいて、 前記供給ピンの各々は、それらに対応する ピン系列の略中央に配置されると共にそれらに組み合わ
    されるボンディングパッドに相互接続され、上記の組み
    合わされるボンディングパッドは、同様にして、それら
    に対応する系列の略中央に配置され、前記の対応する接
    続ピン系列と前記の対応するボンディングパッド系列と
    は互いに並んで配置されていることを特徴とする集積回
    路モジュール。 19、請求項18に記載の集積回路モジュールにおいて
    、接続ピンの第1の系列と第2の系列とを少なくとも有
    し、前記集積回路チップは前記第1の接続ピン系列と前
    記第2の接続ピン系列との間に配置され、前記第2の給
    電ピンに隣接して配置された前記第1の給電ピンを有す
    るピン配列が前記第1の接続ピン系列と前記第2の接続
    ピン系列の少なくとも一方においてその略中央部に位置
    されていることを特徴とする集積回路モジュール。 20、請求項19に記載の集積回路モジュールであって
    、前記接続ピンが出力信号を送出するための少なくとも
    1個の出力ピンを含むような集積回路モジュールにおい
    て、各出力ピンはそれに対応する接続ピン系列において
    最寄りの給電ピンから、給電ピンでなく又は出力ピンで
    ない他の接続ピンよりも遠くには配置されていないこと
    を特徴とする集積回路モジュール。 21、請求項20に記載の集積回路モジュールであって
    、前記接続ピンがクロック入力、チップエネーブル、読
    出エネーブル、書込エネーブル、プログラムエネーブル
    、出力エネーブル、リセット入力、割り込み入力、また
    はテストエネーブル等の制御信号を入力するための少な
    くとも1個の制御ピンを含むような集積回路モジュール
    において、各制御ピンはそれに対応する接続ピン系列に
    おいて最寄りの給電ピンから、給電ピンでなく又は出力
    ピンでなく又は、制御ピンでない他の接続ピンよりも遠
    くには配置されていないことを特徴とする集積回路モジ
    ュール。 22、複数系列のボンディングパッドを持つ少なくとも
    1個の集積回路チップが設けられ、これらボンディング
    パッド中には第1の供給電圧及び第2の供給電圧を各々
    入力するための第1の給電ボンディングパッド及び第2
    の給電ボンディングパッドが含まれ、これら給電ボンデ
    ィングパッドの各々がそれに対応するボンディングパッ
    ド系列の略中央部に配置されていることを特徴とする半
    導体基板。 23、請求項22に記載の半導体基板において、互いに
    平行に配置された第1の系列のボンディングパッドと第
    2の系列のボンディングパッドとを有し、前記第1の給
    電ボンディングパッドは前記第1のボンディングパッド
    系列の略中央部に配置され、前記第2の給電ボンディン
    グパッドは前記第2のボンディングパッド系列の略中央
    部に配置されていることを特徴とする半導体基板。 24、第1の系列のボンディングパッドと第2の系列の
    ボンディングパッドとを有し、これら系列は互いに平行
    に配置され、第1の供給電圧を入力するための各々の第
    1の給電ボンディングパッドは第2の供給電圧を入力す
    るための各々の第2の給電ボンディングパッドに隣接し
    て配置され、前記第2の給電ボンディングパッドに隣接
    する前記第1の給電ボンディングパッドのボンディング
    パッド配列が前記ボンディングパッド系列の少なくとも
    一方の略中央部に配置されれいることを特徴とする半導
    体基板。 25、請求項22ないし24のいずれか1項に記載の半
    導体基板であって、前記ボンディングパッドが出力信号
    を送出するための他の複数の出力パッドを含む半導体基
    板において、同一のボンディングパッド系列内に位置す
    る前記他の複数の出力パッドの少なくとも大部分が、上
    記同一のボンディングパッド系列内における最寄りの給
    電ボンディングパッドから、給電ボンディングパッドで
    ない又は出力パッドでない当該同一のボンディングパッ
    ド系列中の他のボンディングパッドよりも遠くには配置
    されていないことを特徴とする半導体基板。 26、請求項25に記載の半導体基板であって、前記ボ
    ンディングパッドがクロック入力、チップエネーブル、
    読出エネーブル、書込エネーブル、プログラムエネーブ
    ル、出力エネーブル、リセット入力、割り込み入力、ま
    たはテストエネーブル等の制御信号を入力するための他
    の複数の制御パッドを含むような半導体基板において、
    同一のボンディングパッド系列内に位置する前記他の複
    数の制御パッドの少なくとも大部分が、上記同一のボン
    ディングパッド系列内における最寄りの給電ボンディン
    グパッドから、給電ボンディングパッドでない又は出力
    パッドでない又は制御パッドでない当該同一のボンディ
    ングパッド系列中の他のボンディングパッドよりも遠く
    には配置されていないことを特徴とする半導体基板。 27、請求項9または21に記載の集積回路モジュール
    において、前記集積回路チップが集積メモリ回路を含ん
    でいることを特徴とする集積回路モジュール。 28、請求項17に記載の半導体基板において、前記集
    積回路が集積メモリ回路を含んでいることを特徴とする
    半導体基板。
JP2028142A 1989-02-14 1990-02-07 集積回路用の給電ピン配置 Expired - Lifetime JP2885456B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP89200352.6 1989-02-14
EP89200352A EP0382948B1 (en) 1989-02-14 1989-02-14 Supply pin rearrangement for an integrated circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02277262A true JPH02277262A (ja) 1990-11-13
JP2885456B2 JP2885456B2 (ja) 1999-04-26

Family

ID=8202322

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2028142A Expired - Lifetime JP2885456B2 (ja) 1989-02-14 1990-02-07 集積回路用の給電ピン配置

Country Status (11)

Country Link
EP (2) EP1179848A3 (ja)
JP (1) JP2885456B2 (ja)
KR (1) KR100218076B1 (ja)
CN (1) CN1025904C (ja)
CZ (1) CZ281891B6 (ja)
DE (1) DE68929487T2 (ja)
ES (1) ES2208631T3 (ja)
FI (1) FI113908B (ja)
MY (1) MY105266A (ja)
RU (1) RU2092932C1 (ja)
SK (1) SK64990A3 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1179848A3 (en) * 1989-02-14 2005-03-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Supply pin rearrangement for an I.C.
US5291455A (en) * 1992-05-08 1994-03-01 Motorola, Inc. Memory having distributed reference and bias voltages
US5270964A (en) * 1992-05-19 1993-12-14 Sun Microsystems, Inc. Single in-line memory module
WO1995022839A1 (en) * 1994-02-17 1995-08-24 National Semiconductor Corporation Packaged integrated circuit with reduced electromagnetic interference
ES2173245T3 (es) * 1996-01-22 2002-10-16 Ericsson Telefon Ab L M Un dispositivo semiconductor integrado equilibrado,que funciona con uncircuito resonador en paralelo.
CN101505531A (zh) * 2007-12-21 2009-08-12 北京登合科技有限公司 移动终端的卫星定位导航模组
US7969002B2 (en) * 2008-10-29 2011-06-28 Maxim Integrated Products, Inc. Integrated circuit packages incorporating an inductor and methods
CN102368686B (zh) * 2011-08-01 2016-08-10 刘圣平 一种防短路失控的电路模块端口布置方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3808475A (en) * 1972-07-10 1974-04-30 Amdahl Corp Lsi chip construction and method
JPS5844743A (ja) * 1981-09-10 1983-03-15 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JPS58124262A (ja) * 1982-01-20 1983-07-23 Nec Corp 集積回路装置
JPS601856A (ja) * 1983-06-20 1985-01-08 Nec Corp メモリチツプモジユ−ル
JPS60152039A (ja) * 1984-01-20 1985-08-10 Toshiba Corp GaAsゲ−トアレイ集積回路
JPS61288451A (ja) * 1985-06-17 1986-12-18 Toshiba Corp 集積回路用パツケ−ジの入出力ピンの配置構造
JPS6281743A (ja) * 1985-10-07 1987-04-15 Hitachi Comput Eng Corp Ltd 半導体装置
JPS6290956A (ja) * 1985-10-17 1987-04-25 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体集積回路
EP1179848A3 (en) * 1989-02-14 2005-03-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Supply pin rearrangement for an I.C.

Also Published As

Publication number Publication date
KR900013618A (ko) 1990-09-06
EP0382948B1 (en) 2003-10-08
CN1025904C (zh) 1994-09-07
CZ281891B6 (cs) 1997-03-12
ES2208631T3 (es) 2004-06-16
FI900653A0 (fi) 1990-02-09
KR100218076B1 (ko) 1999-09-01
EP1179848A3 (en) 2005-03-09
MY105266A (en) 1994-09-30
CN1045486A (zh) 1990-09-19
EP0382948A1 (en) 1990-08-22
EP1179848A2 (en) 2002-02-13
JP2885456B2 (ja) 1999-04-26
SK278712B6 (sk) 1998-01-14
SK64990A3 (en) 1998-01-14
CZ64990A3 (en) 1997-01-15
DE68929487T2 (de) 2004-07-22
FI113908B (fi) 2004-06-30
RU2092932C1 (ru) 1997-10-10
DE68929487D1 (de) 2003-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW473751B (en) Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit
US6310400B1 (en) Apparatus for capacitively coupling electronic devices
US7072201B2 (en) Memory module
US20030193081A1 (en) Interdigitated leads-over-chip lead frame and device for supporting an integrated circuit die
KR100271860B1 (ko) 메모리모듈 및 ic카드
US20020041015A1 (en) Semiconductor chip, semiconductor device, methods of fabricating thereof, circuit board and electronic device
JP2004165605A (ja) 半導体ユニット、半導体モジュール及びメモリシステム
US5164817A (en) Distributed clock tree scheme in semiconductor packages
JPH088331B2 (ja) 半導体チップパッケージ
JPH0815167B2 (ja) 半導体装置
US20070285123A1 (en) Programming semiconductor dies for pin map compatibility
TW567602B (en) Multi-chip module
JP2885456B2 (ja) 集積回路用の給電ピン配置
JP2560805B2 (ja) 半導体装置
US4979016A (en) Split lead package
US5126822A (en) Supply pin rearrangement for an I.C.
US7005748B2 (en) Flip chip interface circuit of a semiconductor memory device
EP0041844B1 (en) Semiconductor integrated circuit devices
TW486792B (en) Ball grid array package semiconductor device having improved power line routing
JP4754201B2 (ja) 半導体装置
CN114093863A (zh) 包括存储器芯片和存储器控制器的存储器封装件
JPH0595047A (ja) カスタムlsi設計方法
JPH03200360A (ja) 集積回路モジュール
JP2003224198A (ja) 半導体集積装置
JPH02153459A (ja) 電子装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080212

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090212

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100212

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term