JPH02258646A - コーティング用組成物及びその製造法 - Google Patents

コーティング用組成物及びその製造法

Info

Publication number
JPH02258646A
JPH02258646A JP1268390A JP26839089A JPH02258646A JP H02258646 A JPH02258646 A JP H02258646A JP 1268390 A JP1268390 A JP 1268390A JP 26839089 A JP26839089 A JP 26839089A JP H02258646 A JPH02258646 A JP H02258646A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkoxide
coating composition
metal
aluminum
composition according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1268390A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2881847B2 (ja
Inventor
Tatsuya Nogami
野上　達哉
Kenichi Oshu
尾首　憲一
Yoshitsugu Watabe
渡部　淑胤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP1268390A priority Critical patent/JP2881847B2/ja
Priority to US07/449,817 priority patent/US5091009A/en
Priority to NO89895079A priority patent/NO895079L/no
Priority to KR1019890018669A priority patent/KR0130759B1/ko
Priority to DE89123227T priority patent/DE68910654T2/de
Priority to EP89123227A priority patent/EP0374754B1/en
Publication of JPH02258646A publication Critical patent/JPH02258646A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2881847B2 publication Critical patent/JP2881847B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
    • C04B41/455—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application the coating or impregnating process including a chemical conversion or reaction
    • C04B41/4554—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application the coating or impregnating process including a chemical conversion or reaction the coating or impregnating material being an organic or organo-metallic precursor of an inorganic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/87—Ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/213—SiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上夏肌朋公國 本発明はコーティング用組成物及びその製法に関するも
のであり、更に詳しくはガラス、セラミック、金属、プ
ラスチック等の基材上に機械的強度に優れ、任意の屈折
率を有する被膜を形成でき且つ、成膜安定性及び貯蔵安
定性に優れたコーティング用組成物及びその製造法に関
するものである。
従３ｍ避 従来よりガラス、セラミック、金属、プラスチック等の
基材表面に、種々の目的で無機被膜を形成させることが
行なわれている。基材表面に無機被膜を形成させること
により基材に電気的特性、光学的特性、化学的特性、機
械的特性を付与することが可能となり、導電膜、絶縁膜
、光線の選択透過又は吸収膜、アルカリ溶出防止膜、耐
薬品膜、ハードコート膜等として実用化されている。
この様な無機被膜を形成させる方法として、ＣＶＤ、　
ＰＶＤ、スパッタリングなどの気相法またはアルコキシ
ド化合物等を用いた液相法が行なわれている。
一般に気相法は、真空蒸着装置の様に高価な装置が必要
であり、装置の大きさにより基材の大きさ或いは形状が
制限されるという問題がある。
アルコキシド化合物等を用いたいわゆるゾル−ゲル法は
大面積への塗布が行なえるという利点を有するが一般に
アルコキシド化合物は、シリコンアルコキシドを除いて
は加水分解速度が速いため、塗布液の管理及び湿度等の
雰囲気の調整が困難な場合が多い（特開昭５２−１３８
５１２）。
アルコキシド化合物の加水分解速度を調整する目的で、
アセチルアセトン等のキレート化剤を作用させて、塗布
液とすることが試みられているが、一般にキレート化さ
れた化合物は、熱分解温度が高くなり、４５０″Ｃ以上
の加熱が必要となる（特開昭６３−２５８９５９）。
一方、シリカ−チタニア系塗布液としてシリコンアルコ
キシドとチタンアルコキシドの加水分解物に鉱酸を添加
することにより、キレート化等の安定化手段を用いずに
透明なコーテイング液とすることが試みられているが、
塗布液の貯蔵安定性特に水分に対する安定性が劣るとい
う問題がある（特開昭５５−２５４８７）。
加水分解速度の遅いシリコンアルコキシドを用いた塗布
液は、アルカリ溶出防止膜等に実用化されているが低温
で焼成した場合、機械的強度に劣る問題があった（特公
昭６３−５８８６７）。
シリカ−アルミナ系の塗布液として、テトラエトキシシ
ランと硝酸アルミニウムのエタノール溶液がムライトコ
ーテイング液として報告されているが（６２年窯業協会
年会　講演番号２Ｇ３９）このものは、液の成膜安定性
に劣り合成直後は均一な成膜性を示すが、数日すると塗
膜を塗布乾燥中にアルミニウム成分の析出が見られる。
“　しよ゛と　る 本発明は、上記の様な従来技術に伴なう問題点を解決し
ようとするものであって、塗布膜を高温で焼成すること
なしに機械的強度に優れた被膜を形成することができる
と共に、塗布液の貯蔵安定性及び成膜安定性に優れたコ
ーティング組成物及びその製法に関するものである。
本発明は、−絞入（Ｉ） Ｍ（ＯＲ）、　　　　　　　　（１） （式中、Ｍは金属を、Ｒは０１〜Ｃ２のアルキル基を、
ｎはＭの価数を表す） で示される金属アルコキシドをアルニウム塩の存在下に
有機溶媒中で加水分解・縮合することにより得られ、更
には組成物中に被膜形成時にアルミニウム塩の析出を防
止する効果を有する析出防止剤を含むことを特徴として
おり、また更には組成物中にチタンアルコキシド成分を
含む場合には有機溶媒中にアルキレングリコール又はそ
のモノエーテルを含み、チタンアルコキシド成分の安定
性を向上させたコーティング剤組成物及びその製造法に
関するものである。
更に、上記コーティング組成物は貯蔵安定性及び成膜安
定性に優れ、且つ塗布被膜を高温で焼成することなく機
械的強度に優れ、被膜の屈折率を１．４〜２．１の範囲
で任意に調整しうる被膜を形成することができる。
晋　　　　　”か　　の 本発明のコーティング用組成物及びその製造法は、金属
アルコキシドをアルミニウム塩の存在下に有機溶媒中で
加水分解縮合し、更に析出防止剤を添加して得られるコ
ーティング用組成物に関するものである。
金属アルコキシドとしてはＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｂ
、ＡＩ、Ｍｇ、Ｚｎ等のアルコキシドが挙げられるが、
経済的及び得られるコーティング組成物の貯蔵安定性等
を考慮した場合、特にシリコンアルコキシド若しくはそ
の部分縮合物及び／又はチタンアルコキシドが有用であ
り、これらのアルコキシドをアルミニウム塩の存在下に
有機溶媒中で加水分解・縮合したものであり、更にはコ
ーティング組成物に塗布被膜を形成した際塗膜中にアル
ミニウム塩が析出することを防止する効果を有する析出
防止剤を含むものである。
又、特に組成物中にチタンアルコキシド成分を含む場合
には有機溶媒中にチタンアルコキシド成分を安定化させ
る効果を有するアルキレングリコール類又はそのモノエ
ーテルを含むことを特徴とする。
本発明の組成物中にチタンアルコキシド成分を含むコー
ティング組成物の製法において、コーティング組成物の
貯蔵安定性をよくするため即ち、チタンアルコキシドを
安定化する目的で、チタンアルコキシドとアルキレング
リコール類又はそのモノエーテルを混合安定化後、チタ
ンアルコキシド単独又はシリコンアルコキシドと混合し
アルミニウム塩の存在下、加水分解・縮合する。
特に組成物中にチタンアルコキシドとシリコンアルコキ
シド両成分を含む場合には、シリコノア５ルコキシドを
アルミニウム塩の存在下加水分解した後、前もってグリ
コール類又はそのモノエーテル類を混合安定化したチタ
ンアルコキシドを混合することを特徴としている。
本発明に用いられる金属アルコキシドは一般式％式％ （式中、Ｍは金属を、ＲはＣ８〜Ｃ１のアルキル基を、
ｎはＭの価数を表す） 特にシリコンアルコキシド又はその部分縮合物は一般式
　　　Ｓ　ｉ　（ＯＲ’）ｎ　　　　　　　　　（ｎ（
但し、Ｒ′は０１〜Ｃ３のアルキル基）で示される化合
物の一種または二種以上の混合物、又は部分縮合物（５
量体以下）が用いられる。
又、チタンアルコキシドは一般式、 Ｔ　ｉ　（ＯＲ”）４ （但し、ＲＩ　ＩはＣ１〜Ｃ２のアルキル基）で示され
る化合物の一種又は二種以上の混合物が用いられる。
本発明に用いられるアルミニウム塩は水又は有機溶媒に
溶解性を示すものな、らよく、硝酸アルミニウム、硫酸
アルミニウム、酢酸アルミニウム、塩化アルミニウム、
蓚酸アルミニウム、スフアミン酸アルミニウム及びその
塩基性塩等があげられる。特に硝酸アルミニウム、塩化
アルミニウム、蓚酸アルミニウム及びその塩基性塩など
が好ましい。
本発明に用いられる有機溶媒は、メタノール、エタノー
ル、ｎ−又はｉ−プロパツール、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブ
タノール等のアルコール類、酢酸エチルエステル等のエ
ステル類、エチレングリコール等のグリコール類及びそ
のエステル誘導体、ジエチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、ヘンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類な
どが、単独または組合せで用いられる。
本発明において組成物中にチタンアルコシト成分を含む
場合には有機溶媒中に含まれるアルキレングリコール類
又はそのモノエーテルとして、例をあげるならばエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ヘキシレングリコール及びそれらのモノメチル
、モノエチル１．モノプロピル、モノブチル、モノフェ
ニルエーテル等がある。
本発明に用いられる有機溶媒に含まれるグリコール類又
はそのモノエーテルは、チタンアルコキシドに対してモ
ル比が１未満であるとチタンアルコキシドの安定性に効
果が少なく、コーティング用組成物の貯蔵安定性が悪く
なる。
グリコール類又はそのモノエーテルを多量に用いること
は何ら問題はない。
勿論、本発明に用いられる有機溶媒が全て前記グリコー
ル類又はそのモノエーテルであっても差支えない。
しかしながら本発明のコーティング用組成物において、
チタンアルコキシドを含まない場合、前記グリコール類
及び／又はそのモノエーテルは特に含む必要がない。
本発明の塗布液組成物に含まれる、塗布被膜を形成する
際に塗膜中にアルミニウム塩の析出を防止する析出防止
剤は、Ｎ−メチル−ピロリドン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール及ヒその誘導体を少なくとも一種以上使
用することができる。
本発明に用いられる析出防止剤は、アルミニウムをＡｌ
２Ｏ３に換算して、析出防止剤／Ａｌ２Ｏ３≧１（重量
比）の比率で用いられる。重量比が１未満であると被膜
を塗布乾燥時にアルミニウム塩の析出防止効果が少ない
が、析出防止剤を多量に用いることは、コーティング用
組成物に何ら影響を与えない。
析出防止剤は、金属アルコキシド特に、シリコンアルコ
キシド及び／又はチタンアルコキシドがアルミニウム塩
の存在下に加水分解・縮合反応が行なわれる場合に添加
されていても、加水分解縮合反応の終了後添加されても
どちらでもかまわない。
本発明のコーティング用組成物に含まれる金属アルコキ
シドの金属原子Ｍとアルミニウム原子のモル比は で用いられる。
この値が０．０１より小さいと得られる被膜の機械的強
度が充分でないため好・ましくなく、一方０．７を越す
と被膜の基材への密着性が低下し、更に４５０　’Ｃ以
下の低温で焼成した場合被膜の耐薬品性が低下する傾向
にある。
又、上記塗布液中金属アルコキシドをＭＯ，，７□、及
びアルミニウム塩をＡ２□０．として換算した場合、固
形分トＬ　”’ＣＭ　Ｏ、ｌｚｚ　＋　Ａ　ｆ　ｚＯ＋
は０．５〜２０ｗｔ％の範囲が好ましい。
固形分が２０−ｔ％を越えると塗布液の貯蔵安定性が悪
くなり、又被膜の膜厚制御が困難になる。
一方モル比が０．５ｗｔ％以下では被膜の厚みが薄くな
り所定の膜厚を得るために多数回の塗布が必要となる。
本発明は、Ｍ（ＯＲ）、、で示される金属アルコキシド
をアルニウム塩の存在下に有機溶媒中で加水分解・縮合
するものであり、シリコンアルコキシド及び／又はチタ
ンアルコキシドの加水分解に用いられる水の量は、シリ
コンアルコキシド及び／又はチタンアルコキシドの総モ
ル数に対して２モル以下の場合には、アルコキシドの加
水分解が不充分となり成膜性や得られるコーティング被
膜の強度等に対して好ましくない。
勿論、他の金属アルコキシドを用いた場合にもこの条件
に準拠する。
又、加水分解過程において共存するアルミニウム塩が含
水塩の場合には、その含水分が反応に関与す゛るため加
水分解に用いる水の量に対して含水分を考慮する必要が
ある。
本発明は金属アルコキシドを加水分解縮合させるもので
あり、特にシリコンアルコキシドとチタンアルコキシド
の組成モル比は、コーティング用２組成物を塗布し焼成
した後の塗膜に要求される屈折率により決定されるが、
その組成比は任意である。
例えば、シリコンアルコキシドのみを加水分解すること
により得られる塗布液による塗膜の屈折率は１．４５で
あり、又チタンアルコキシド単独の場合は２，１である
。
従って、必要な屈折率に合わせてシリコンアルコキシド
とチタンアルコキシドを任意の割合で用いることができ
る。
更に、他の金属アルコキシドを用いることによっても屈
折率の澗整は可能である。
しかしながら特に組成物にチタンアルコキシド成分を含
む場合には、上記方法で得られたコーティング用組成物
は実用上問題はないものの、室温保存下体々に粘度が上
昇するという性質を有し、精密な塗膜厚みを制御するに
は管理が複雑となる。
この様な現象はチタンアルコキシドの組成比率が多くな
るに従い顕著となる。
これはチタンアルコキシドがシリコンアルコキシドに対
して加水分解速度及び縮合反応が速いためと考えられる
。
そこで本願発明者は、より粘度変化の少ないコーティン
グ用組成物について鋭意検討した結果チタンアルコキシ
ド成分を含む場合において、次の二つの製法を見出すに
至った。
ｌ）チタンアルコキシドをアルミニウム塩の存在下、加
水分解する際にあらかじめグリコール類とチタンアルコ
キシドを充分混合した後、必要に応してシリコンアルコ
キシドと混合し、有機溶媒の存在下加水分解することに
より粘度変化の少ないコーティング用組成物が得られる
。
これはチタンアルコキシドをグリコール類と混合した際
に発熱が観察されることから、チタンアルコキシドのア
ルコキシド基とグリコール類のエステル交換反応が起こ
り、加水分解縮合反応に対し安定化されるためと考えら
れる。
２）シリコンアルコキシドをアルミニウム塩の存在下あ
らかじめ加水分解反応を行い、その後グリコール類と混
合されたチタンアルコキシド溶液を混合することにより
縮合反応を行いコーティング用組成物とする方法である
。
シリコンアルコキシドは加水分解反応は速いスピードで
行われるがその後の縮合反応はチタンアルコキシドに比
較して遅い。それ故加水分解反応後、速やかにチタンア
ルコキシドを加えることによって、加水分解反応したシ
リコンアルコキシドのシラノール基とチタンアルコキシ
ドが均一に反応するためチタンアルコキシドの縮合反応
性を加水分解されたシリコンアルコキシドが安定化させ
るためと考えられる。
このようにあらかじめ加水分解されたシリコンアルコキ
シドとチタンアルコキシドを混合する方法は既に試みら
れているが、反応に用いられる有機溶媒にグリコール類
を含んでいない場合には、貯蔵安定性に優れたコーティ
ング用組成物は得られない。
又、２）の方法は他の加水分解速度の速い金属アルコキ
シドとシリコンアルコキシドからコーティング組成物を
得る場合にも有用である。
本発明のコーティング用組成物は、一般に行われている
塗布法即ち、デイツプコート法、スピンコード法、スプ
レーコート法、刷毛塗り法、ロール転写法、スクリーン
印刷法等が用いられる。
以下に実施例に従い本発明を詳述するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
実施例１（−船釣方法） シリコンアルコキシドとしてテトラアルコキシシラン２
０．８　ｇ及び有機溶媒としてエタノール７２．３ｇ及
びアルミニウム塩として硝酸アルミニウム・９水和物１
２．５ｇ及び析出防止剤としてエチレングリコール１７
ｇ及び水５，４ｇを均一に混合しアルミニウムが２０モ
ル％含まれるコーティング用組成物を得た。この塗布液
の組成を表−１に示す。
実施例２及び３（析出防止剤の異なる場合）析出防止剤
として実施例１のエチレングリコールに代りＮ−メチル
−ピロリドン（実施例２）、ジメチルホルムアミド（実
施例３）を用いた以外は、実施例１と同様な方法でコー
ティング用組成物を得たく表−１）。
実施例４（析出防止剤を多量に用いた場合）実施何重の
析出防止剤エチレングリコールを５１ｇ用いた以外は実
施例１と同様な方法でコーティング用組成物を得た（表
−１）。
実施例５及び６（アルミニウム塩が異なる場合）アルミ
ニウム塩として実施何重の硝酸アルミニウム・９水和物
に代り塩化アルミニウム・６水和物（実施例５）、塩基
性蓚酸アルミニウム（Ａｊ２含量１２．８％）（実施例
６）を用いた以外は、実施例１と同様な方法でコーティ
ング用組成物を得た（表−１）。
実施例７〜８（アルミニウムのモル比が異る場合）実施
例１のアルミニウム含量を１０モル％（実施例７）、５
０モル％（実施例８）となる様にシリコンアルコキシド
及びアルミニウム塩の量を変えた以外は、実施例Ｉと同
様な方法でコーティング用組成物を得た（表−１）。
実施例９（シリコンアルコキシドが縮合物の場合）実施
例１のテトラエトキシシランに代わりにその部分縮合物
（エチルシリケート４０．コルコート■　ＳｉＯ□含量
４０％）を用いた以外は実施例１と同様な方法でコーテ
ィング用組成物を得た。
（表−１）。
比較例１（析出防止剤を含まない場合）実施例１の析出
防止剤としてのエチレングリコールを使用しない以外は
、実施例１と同様な方法でコーティング用組成物を得た
。（表−１）。
比較例２（アルミニウム塩を含まない場合）実施例１に
従い、テトラエトキシシラン２０．８ｇ及びエタノール
７３．７ｇ及び水５．４ｇ及び触媒として濃塩酸０．１
ｇを均一に混合し塗布液とした。
（表−１）。
〔以下　余白〕
実施例１０ 実施例１〜９、比較例１及び２で得られた塗布液を用い
て塗布の方法としてガラス板に回転数３０００ｒｐｍで
スピンコードしホットプレート上で８０°Ｃで１０分間
乾燥後２００°Ｃで２０分間焼成し、鉛筆硬度及び透明
性を観察した（以下、初期成膜という）。
成膜安定性として塗布液を５０°Ｃの恒温槽に１ケ月間
放置後同様に成膜・焼成し評価した。
両者の比較を表−２に示す。
表−２ 膜厚　　初期成膜 （入）透明性　鉛筆硬度 放置後の成膜 透明性　鉛筆硬度 実施例１１〜２０（合成法Ｉ） シリコンアルコキシドとしてテトラエトキシシランを、
チタンアルコキシドとしてテトライソプロポキシランを
、アルミニウム塩として硝酸アルミニウム・９水和物を
、析出防止剤としてエチレングリコールを、アルキレン
グリコール類としてヘキシルグリコールをそれぞれ用い
表−３に示す組成でエタノール溶媒中で、以下の手順で
加水分解・縮合反応を行いコーティング用組成物とした
。
エタノールとヘキシレングリコールの混合有機溶媒に、
テトラエポキシシラン及びテトライソプロポキシシラン
を加え、充分に混合した後硝酸アルミニウム・９水和物
を水とエチレングリコールに溶解したものを加え、室温
下３０分間攪拌することにより加水分解・縮合反応を行
った。
以下、末法を〔合成法Ｉ〕とする。
反応後の粘度と室温保存下、１ケ月後の粘度を２５°Ｃ
にてＥ型粘度計を用い測定した（表−３）。
実施例２１（合成法Ｉ） テトライソプロポキシランに代わりテトラエトキシチタ
ン１３．７　ｇ　（０，０６モル）を用いエタノールを
７１．６ｇを用いた以外は実施例１６と同様の方法で反
応を行いコーティング用組成物を得た。
結果を表−３に示す。
実施例２２（合成法Ｉ） ヘキシレングリコールに代わりエチレングリコールを用
いた以外は実施例１６と同様の方法で反応を行い、コー
ティング用組成物を得た（表−３）実施例２３（合成法
■） ヘキシレングリコールに代わりブチルセロソルブを用い
た以外は実施例１６と同様の方法で反応を行いコーティ
ング用組成物を得た（表−３）。
実施例２４ 析出防止剤であるエチレングリコールの代わりにＮ−メ
チルピロリドンを用いた以外は実施例１６と同様の方法
で反応を行いコーティング用組成物を得た（表−３）。
実施例２５〜２７（合成法■） 実施例１６．１７及び１８に対応するよう同じ組成で実
施例２５．２６及び２７を以下の三つの液を用いた方法
で行いコーティング用組成物を得た。
〔Ａ液〕　：ヘキシレングリコールの代わりにテトライ
ソプロポキシチタンを室温下で混合した。
〔Ｂ液〕　；エタノールにテトラエトキシシランを混合
し充分に攪拌した。
〔Ｃ液〕　：硝酸アルミニウム・９Ｈ２０と水及びエチ
レングリコールを攪拌・混合し均一な透明溶液とした。
実施例２５は〔Ａ液〕を、実施例２６及び２７は（Ａ液
〕と〔Ｂ液〕を混合した後に、又実施例２７は〔Ａ液〕
に所定量のエタノールを加えた後、室温下で〔Ｃ液〕を
加えて混合・攪拌してコーティング用組成物とした（表
−３）。
以下、末法を（合成法■）とする。
実施例２８　（合成法−■） 実施例１６と同じ組成で以下に示す三つの方法を用いコ
ーティング用組成物を得た。
〔Ｄ液］　：　ヘキシレングリコールにテトライソプロ
ポキシチタンを室温下で加え攪拌した。
〔Ｅ液］　：　テトラエトキシシランのエタノール溶液
に硝酸アルミニウムを水とエチレングリコールに溶解し
た液を室温下加え、３０分間撹拌混合した。
〔Ｄ液〕と（Ｅ液〕を室温上攪拌・混合しコーティング
用組成物とした（表−３）。
以下、本性を〔合成法■〕とする。
実施例２９ タンクルペンタブトキシド１４　ｇをエタノール４８．
６ｇに溶解し、析出防止剤としてエチレングリコール５
ｇと硝酸アルミニウム２．４ｇをエタノール３０ｇに溶
解した溶液を混合しコーティング用組成物とした。
この溶液を回転数２００Ｏｒｐｍでガラス板上にスピン
コードし、８０°Ｃで乾燥後３００°Ｃで２０分間焼成
したところ鉛筆硬度９Ｈ以上の透明な塗膜が得られた。
実施例３０ 公知の手法によりマグネシウムエトキシド１１゜ｇとア
ルミニウムイソプロポキシド４０．８　ｇをイソプロパ
ツール　２００ｇに混合し、１時間還流し均一溶液とし
た後室温迄冷却した。
そこへテトラエトキシシラン　８３．２ｇと硝酸アルミ
ニウム３７．５　ｇ及びエチレングリコール５０ｇをエ
タノール　２８１　ｇに混合し部分加水分解した溶液を
加えて混合し、均一透明なコーティング用組成物とした
。
この溶液を回転数２０００ｒｐｍでガラス板上にスピン
コードし、８０°Ｃで乾燥後３００°Ｃで２０分間焼成
したところ鉛筆硬度９Ｈ以上の透明な塗膜が得られた。
実施例３１ トリエトキシボラン６．７　ｇをエタノール１００ｇに
溶解し均一溶液とした。
そこへテトラエトキシシラン４１．６　ｇと硝酸アルミ
ニウム２３．４　ｇとエチレングリコール１５　ｇをエ
タノール９３．３　ｇに均−混合上溶液を加え、コーテ
ィング用組成物とした。
この溶液を回転数２００Ｏｒｐｍでガラス板上にスピン
コードし、８０°Ｃで乾燥後３００　’Ｃで２０分間焼
成したところ鉛筆硬度９Ｈ以上の透明な塗膜が得られた
。
比較例３ 実施何重６のヘキシレングリコールを用いず析出防止剤
にＮ−メチルピロリドンを用いてコーティング用組成物
を合成したところ、１か月後にゲル化した（表−３）。
比較例４ 実施例２７のヘキシレングリコールに代わりエタノール
を用い、析出防止剤にＮ−メチルピロリドンを用いてコ
ーティング用組成物を合成したところ、１か月後にはゲ
ル化した（表−３）。
比較例５ 実施例１６の硝酸アルミニウムを用いずに、触媒として
濃硝酸０．１ｇ（アルコキシドに対し１モル％）を用い
てコーティング用組成物を合成した〔以下、余白〕 （表−３）。
表−３の説明 （注）ＨＧ：ヘキシレングリコール ＥＧ　：エチレングリコール ＢＧ　ニブチルセロソルブ ＊　：析出防止剤としてＮ−メチルピロリドンを使用 試験例 実施例１、及び１１〜２８、比較例１〜３で得られたコ
ーティング用組成物を用い、ガラス基板上で８０’Ｃ１
’ＩＯ分間乾燥後、３００’Ｃで２０分間焼成して膜厚
及び鉛筆硬度を測定し、実施例１及びＩＩ〜１８につい
ては屈折率を測定した。
又、１か刃稜同様に成膜し膜厚を測定した。
結果を表−４に示した 〔以下、予白〕 実施例 膜厚（ 入） 表−４ 鉛筆硬度 屈折率 １か列後の膜厚 又、チタン成分を組成物中に含む場合には、請求項９又
は１０に記載した製造法を用いることにより、更に長期
間安定に貯蔵可能なコーティング用組成物を得ることが
できる。
本発明の組成に従えば、成膜安定性に優れしかも低温で
機械的強度に優れ且つ、屈折率を１．４５〜２．１の範
囲で任意に調整しうる被膜を形成するためのコーティン
グ用組成物が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）下記一般式〔 I 〕 Ｍ（ＯＲ）＿ｎ〔 I 〕 （式中、Ｍは金属を、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿５のアルキル基
    を、ｎはＭの価数を表す） で示される金属アルコキシドをアルニウム塩の存在下に
    有機溶媒中で加水分解・縮合し、更に析出防止剤を添加
    して得られるコーティング用組成物 ２）金属アルコキシドが全てシリコンアルコキシド又は
    その部分縮合物である請求項１記載のコーティング用組
    成物 ３）金属アルコキシドがシリコンアルコキシド又はその
    部分縮合物とチタンアルコキシドの混合物である請求項
    １記載のコーティング用組成物 ４）金属アルコキシドが全てチタンアルコキシドである
    請求項１記載のコーティング用組成物 ５）析出防止剤がＮ−メチル−ピロリドン、エチレング
    リコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
    ド、ジエチレングリコール及びその誘導体であることを
    特徴とする請求項１記載のコーティング用組成物 ６）コーティング用組成物に含まれるアルミニウム原子
    のモル比が金属アルコキシドの金属原子Ｍに対し、 ０．０１≦（Ａｌ／Ｍ＋Ａｌ）≦０．７ であることを特徴とする請求項１記載のコーティング用
    組成物 ７）アルミニウム塩が硝酸アルミニウム、塩化アルミニ
    ウム、蓚酸アルミニウム及びその塩基性塩であることを
    特徴とする請求項１記載のコーティング用組成物 ８）有機溶媒がその組成中にアルキレングリコール類又
    はそのモノエーテル誘導体を含むことを特徴とする請求
    項３又は４記載のコーティング用組成物 ９）チタンアルコキシドがあらかじめアルキレングリコ
    ール類及びそのモノエーテルと混合された後、チタンア
    ルコキシド単独又はシリコンアルコキシドと共にアルミ
    ニウム塩の存在下で加水分解縮合することを特徴とする
    請求項３又は４記載のコーティング用組成物の製造法 １０）シリコンアルコキシドをアルミニウム塩の存在下
    で加水分解した後、チタンアルコキシドのアルキレング
    リコール類及びそのモノエーテル溶液と混合して縮合す
    ることを特徴とする請求項４記載のコーティング用組成
    物の製造法
JP1268390A 1988-12-15 1989-10-16 コーティング用組成物及びその製造法 Expired - Lifetime JP2881847B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1268390A JP2881847B2 (ja) 1988-12-15 1989-10-16 コーティング用組成物及びその製造法
US07/449,817 US5091009A (en) 1988-12-15 1989-12-13 Coating composition and a process for manufacturing the same
NO89895079A NO895079L (no) 1988-12-15 1989-12-15 Belegningsblanding, samt fremstilling derav.
KR1019890018669A KR0130759B1 (ko) 1988-12-15 1989-12-15 피복 조성물(被覆組成物) 및 그 제조방법
DE89123227T DE68910654T2 (de) 1988-12-15 1989-12-15 Beschichtungszusammensetzung und Verfahren zu ihrer Herstellung.
EP89123227A EP0374754B1 (en) 1988-12-15 1989-12-15 Coating composition and a process for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63-317009 1988-12-15
JP31700988 1988-12-15
JP1268390A JP2881847B2 (ja) 1988-12-15 1989-10-16 コーティング用組成物及びその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02258646A true JPH02258646A (ja) 1990-10-19
JP2881847B2 JP2881847B2 (ja) 1999-04-12

Family

ID=26548289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1268390A Expired - Lifetime JP2881847B2 (ja) 1988-12-15 1989-10-16 コーティング用組成物及びその製造法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5091009A (ja)
EP (1) EP0374754B1 (ja)
JP (1) JP2881847B2 (ja)
KR (1) KR0130759B1 (ja)
DE (1) DE68910654T2 (ja)
NO (1) NO895079L (ja)

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5700391A (en) * 1993-02-18 1997-12-23 Nissan Chemical Industries, Ltd. Liquid coating composition forming a liquid crystal display element insulating film
JP2004291540A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Nippon Paper Industries Co Ltd 高反射フィルム又はシート材
WO2007020781A1 (ja) * 2005-08-19 2007-02-22 Nissan Chemical Industries, Ltd. 被膜形成用塗布液の製造方法
JP2007145948A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Ube Nitto Kasei Co Ltd 非晶質酸化チタン含有複合膜形成用コーティング組成物、その製造方法および用途
JP2008260791A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Adeka Corp 塗布液組成物および該塗布液組成物を用いる複合金属酸化物膜の製造方法
JP2009073720A (ja) * 2006-12-15 2009-04-09 Tdk Corp チタン含有金属酸化物の製造方法、ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体
US7553358B2 (en) 2007-05-01 2009-06-30 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus
US8153212B2 (en) 2008-06-23 2012-04-10 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording medium
WO2012099253A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 日産化学工業株式会社 タッチパネル用コーティング組成物、コート膜およびタッチパネル
WO2013065696A1 (ja) * 2011-10-31 2013-05-10 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液の製造方法、金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
WO2013115333A1 (ja) * 2012-02-01 2013-08-08 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
WO2013187450A1 (ja) * 2012-06-14 2013-12-19 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
WO2014054748A1 (ja) * 2012-10-03 2014-04-10 日産化学工業株式会社 微細塗布可能な無機酸化物被膜形成用塗布液及び微細無機酸化物被膜の製造方法
WO2014119680A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 日産化学工業株式会社 ガラス基板及びそれを用いたデバイス
WO2014203951A1 (ja) * 2013-06-19 2014-12-24 日産化学工業株式会社 金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜
WO2015182657A1 (ja) * 2014-05-29 2015-12-03 日産化学工業株式会社 酸化アルミニウム又はアルミニウム基板用の密着被膜形成剤
JP5920220B2 (ja) * 2010-10-26 2016-05-18 日産化学工業株式会社 静電容量方式のタッチパネルの製造方法
JP2016172669A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 セイコーインスツル株式会社 ガラスのアルカリ溶出防止方法
JP2016191003A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日揮触媒化成株式会社 透明被膜形成用塗布液、その製造方法および透明被膜付基材
WO2019124269A1 (ja) * 2017-12-21 2019-06-27 Ａｇｃ株式会社 機能層付き物品および機能層付き物品の製造方法
JP2020170171A (ja) * 2014-09-30 2020-10-15 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付ガラス基板、低反射コーティング付ガラス基板を製造する方法、及び光電変換装置

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5037871A (en) * 1990-05-23 1991-08-06 Eastman Kodak Company Protective overcoat compositions and photographic elements containing same
GB9304575D0 (en) * 1993-03-05 1993-04-21 Glaverbel Coated glass and method of manufacturing same
WO1995023119A1 (en) * 1994-02-28 1995-08-31 Philips Electronics N.V. Coating solution suitable for the manufacture of a magnesium-oxide layer and a method of manufacturing such a layer
US5763008A (en) * 1995-01-06 1998-06-09 Trustees Of Boston University Chemical vapor deposition of mullite coatings
US5510147A (en) * 1995-03-03 1996-04-23 International Paper Company Sol gel barrier films
JP3318186B2 (ja) * 1995-05-19 2002-08-26 科学技術振興事業団 ガスクラスターの形成方法と薄膜形成方法
US6319852B1 (en) 1995-11-16 2001-11-20 Texas Instruments Incorporated Nanoporous dielectric thin film formation using a post-deposition catalyst
US6380105B1 (en) 1996-11-14 2002-04-30 Texas Instruments Incorporated Low volatility solvent-based method for forming thin film nanoporous aerogels on semiconductor substrates
US5807607A (en) * 1995-11-16 1998-09-15 Texas Instruments Incorporated Polyol-based method for forming thin film aerogels on semiconductor substrates
US6130152A (en) 1995-11-16 2000-10-10 Texas Instruments Incorporated Aerogel thin film formation from multi-solvent systems
TW397927B (en) * 1996-02-16 2000-07-11 Nissan Chemical Ind Ltd Process for forming a liquid crystal alignment film
DE19609942C1 (de) * 1996-03-14 1997-10-30 Heraeus Gmbh W C Lüsterfarbe für die Dekoration von Glas, Keramik und Porzelan
DE19736925A1 (de) * 1996-08-26 1998-03-05 Central Glass Co Ltd Hydrophiler Film und Verfahren zur Erzeugung desselben auf einem Substrat
US6399229B1 (en) * 1997-07-22 2002-06-04 Nippon Sheet Glass Co., Ltd Light-transmitting color film, method for producing the same, and coating solution for forming the color film
DE19743723C2 (de) * 1997-10-02 2001-11-22 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Beschichtung von Verstärkungskomponenten für Verbundkeramiken
US6460988B1 (en) 2000-06-12 2002-10-08 Canon Kabushiki Kaisha Ink set, recording method, recording unit, ink cartridge and recording apparatus
US6702882B2 (en) 2000-06-23 2004-03-09 Canon Kabushiki Kaisha Ink set, ink jet recording method, recording unit, ink cartridge and ink jet recording apparatus
US6736890B2 (en) * 2000-07-25 2004-05-18 Kansai Paint Co., Ltd. Coating material for forming titanium oxide film, method for forming titanium oxide film and use of said coating material
CA2356809C (en) 2000-09-04 2005-11-22 Canon Kabushiki Kaisha Ink set for ink jet recording
US6811839B2 (en) 2000-11-09 2004-11-02 Canon Kabushiki Kaisha Recording medium and image forming process using the same
US7008671B2 (en) 2000-12-28 2006-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Recorded matter, method of producing recorded matter, method for improving image fastness, image fastness-improving agent, image fastness improving kit, dispenser, and applicator
US6833158B2 (en) 2001-08-09 2004-12-21 Canon Kabushiki Kaisha Coating apparatus and coating method of liquid for protection of recorded product, and protection process of recorded product
US6851880B2 (en) 2001-09-04 2005-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Coating tool and coating set
US20040037960A1 (en) * 2002-06-27 2004-02-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid transfer device, liquid transfer method and liquid remaining amount monitoring method of liquid transfer device
US6976755B2 (en) * 2002-10-02 2005-12-20 Canon Kabushiki Kaisha Aqueous ink, ink jet recording method, ink tank recording unit and ink jet recording apparatus
JP3793223B2 (ja) 2004-07-02 2006-07-05 キヤノン株式会社 インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置
JP3793222B2 (ja) 2004-07-02 2006-07-05 キヤノン株式会社 インクジェット用インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置
JP3977385B2 (ja) 2004-07-02 2007-09-19 キヤノン株式会社 インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
JP3885086B2 (ja) 2004-07-02 2007-02-21 キヤノン株式会社 インクジェット用ブラックインク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
JP3833235B2 (ja) 2004-07-02 2006-10-11 キヤノン株式会社 インク、インクジェット記録方法、記録ユニット、インクカートリッジ及びインクジェット記録装置
JP2006063330A (ja) 2004-07-29 2006-03-09 Canon Inc インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
JP4794936B2 (ja) 2004-07-29 2011-10-19 キヤノン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジのセット及び記録ユニット
JP2006070258A (ja) 2004-08-04 2006-03-16 Canon Inc インクジェット用イエローインク、インクジェット用淡インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
JP4794940B2 (ja) 2004-08-04 2011-10-19 キヤノン株式会社 インクタンク、インクジェット記録方法及びインクタンクの再生方法
JP4324138B2 (ja) 2004-08-04 2009-09-02 キヤノン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法、記録ユニット及びインクジェット記録装置
KR20070054188A (ko) * 2004-08-16 2007-05-28 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 앞유리에 대해 서리 형성을 방지하고 겨울 강설의 제거를촉진하는 방법 및 거기에 사용하기 위한 조성물
JP5171252B2 (ja) 2005-05-31 2013-03-27 キヤノン株式会社 被記録媒体
JP4795221B2 (ja) 2005-12-21 2011-10-19 キヤノン株式会社 インク、インクジェット記録方法、記録ユニット、インクカートリッジ、及びインクジェット記録装置
US7611571B2 (en) 2007-05-01 2009-11-03 Canon Kabushiki Kaisha Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit, and ink jet recording apparatus
US7618484B2 (en) 2007-05-01 2009-11-17 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus
US7550037B2 (en) 2007-07-05 2009-06-23 Canon Kabushiki Kaisha Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus
US7566362B2 (en) 2007-08-10 2009-07-28 Canon Kabushiki Kaisha Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus
US20090163656A1 (en) 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid vehicle systems
US8114472B2 (en) 2008-01-08 2012-02-14 Guardian Industries Corp. Method of making a temperable antiglare coating, and resulting products containing the same
WO2009113702A1 (en) 2008-03-14 2009-09-17 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording medium and production process thereof, and fine particle dispersion
JP5835965B2 (ja) 2011-02-28 2015-12-24 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
JP5816608B2 (ja) 2012-05-11 2015-11-18 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
KR102170063B1 (ko) 2012-10-11 2020-10-26 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 무기 산화물 피막 형성용 도포액, 무기 산화물 피막, 및 표시 디바이스
US8927439B1 (en) 2013-07-22 2015-01-06 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Organoaluminum materials for forming aluminum oxide layer from coating composition that contains organic solvent
EP3225600B1 (en) * 2014-11-28 2020-11-04 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass plate with low-reflection coating
JP6647820B2 (ja) * 2015-09-04 2020-02-14 日揮触媒化成株式会社 透明被膜形成用塗布液、透明被膜形成用塗布液の製造方法、透明被膜付基材、および透明被膜付基材の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL256677A (ja) * 1959-11-24
US3377494A (en) * 1965-05-24 1968-04-09 Westinghouse Electric Corp Fluorescent lamp envelope with transparent protective coatings
GB1417403A (en) * 1972-06-22 1975-12-10 Ici Ltd Coating composition
US4159209A (en) * 1978-02-09 1979-06-26 Manchem Limited Metal complexes
US4361598A (en) * 1979-08-10 1982-11-30 Westinghouse Electric Corp. Polymerized solutions for depositing optical oxide coatings
CA1217927A (en) * 1983-04-15 1987-02-17 Tsutomu Nanao Inorganic composite material and process for preparing the same
US4808653A (en) * 1986-12-04 1989-02-28 Dow Corning Corporation Coating composition containing hydrogen silsesquioxane resin and other metal oxide precursors

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5700391A (en) * 1993-02-18 1997-12-23 Nissan Chemical Industries, Ltd. Liquid coating composition forming a liquid crystal display element insulating film
JP2004291540A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Nippon Paper Industries Co Ltd 高反射フィルム又はシート材
JP4490641B2 (ja) * 2003-03-28 2010-06-30 日本製紙株式会社 高反射フィルム又はシート材
WO2007020781A1 (ja) * 2005-08-19 2007-02-22 Nissan Chemical Industries, Ltd. 被膜形成用塗布液の製造方法
JP4941302B2 (ja) * 2005-08-19 2012-05-30 日産化学工業株式会社 被膜形成用塗布液の製造方法
JP2007145948A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Ube Nitto Kasei Co Ltd 非晶質酸化チタン含有複合膜形成用コーティング組成物、その製造方法および用途
JP2009073720A (ja) * 2006-12-15 2009-04-09 Tdk Corp チタン含有金属酸化物の製造方法、ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体
JP2008260791A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Adeka Corp 塗布液組成物および該塗布液組成物を用いる複合金属酸化物膜の製造方法
US7553358B2 (en) 2007-05-01 2009-06-30 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus
US8153212B2 (en) 2008-06-23 2012-04-10 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording medium
JP5920220B2 (ja) * 2010-10-26 2016-05-18 日産化学工業株式会社 静電容量方式のタッチパネルの製造方法
WO2012099253A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 日産化学工業株式会社 タッチパネル用コーティング組成物、コート膜およびタッチパネル
JP6048148B2 (ja) * 2011-01-20 2016-12-21 日産化学工業株式会社 タッチパネル用コーティング組成物、コート膜およびタッチパネル
JPWO2012099253A1 (ja) * 2011-01-20 2014-06-30 日産化学工業株式会社 タッチパネル用コーティング組成物、コート膜およびタッチパネル
WO2013065696A1 (ja) * 2011-10-31 2013-05-10 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液の製造方法、金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
JPWO2013065696A1 (ja) * 2011-10-31 2015-04-02 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液の製造方法、金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
WO2013115333A1 (ja) * 2012-02-01 2013-08-08 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
JPWO2013115333A1 (ja) * 2012-02-01 2015-05-11 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
WO2013187450A1 (ja) * 2012-06-14 2013-12-19 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
JPWO2013187450A1 (ja) * 2012-06-14 2016-02-08 日産化学工業株式会社 金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜
JPWO2014054748A1 (ja) * 2012-10-03 2016-08-25 日産化学工業株式会社 微細塗布可能な無機酸化物被膜形成用塗布液及び微細無機酸化物被膜の製造方法
CN104822783A (zh) * 2012-10-03 2015-08-05 日产化学工业株式会社 能够微细涂布的无机氧化物被膜形成用涂布液以及微细无机氧化物被膜的制造方法
WO2014054748A1 (ja) * 2012-10-03 2014-04-10 日産化学工業株式会社 微細塗布可能な無機酸化物被膜形成用塗布液及び微細無機酸化物被膜の製造方法
WO2014119680A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 日産化学工業株式会社 ガラス基板及びそれを用いたデバイス
JPWO2014119680A1 (ja) * 2013-01-31 2017-01-26 日産化学工業株式会社 ガラス基板及びそれを用いたデバイス
WO2014203951A1 (ja) * 2013-06-19 2014-12-24 日産化学工業株式会社 金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜
JPWO2014203951A1 (ja) * 2013-06-19 2017-02-23 日産化学工業株式会社 金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜
WO2015182657A1 (ja) * 2014-05-29 2015-12-03 日産化学工業株式会社 酸化アルミニウム又はアルミニウム基板用の密着被膜形成剤
JPWO2015182657A1 (ja) * 2014-05-29 2017-04-20 日産化学工業株式会社 酸化アルミニウム又はアルミニウム基板用の密着被膜形成剤
JP2020170171A (ja) * 2014-09-30 2020-10-15 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付ガラス基板、低反射コーティング付ガラス基板を製造する方法、及び光電変換装置
JP2016172669A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 セイコーインスツル株式会社 ガラスのアルカリ溶出防止方法
JP2016191003A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日揮触媒化成株式会社 透明被膜形成用塗布液、その製造方法および透明被膜付基材
WO2019124269A1 (ja) * 2017-12-21 2019-06-27 Ａｇｃ株式会社 機能層付き物品および機能層付き物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR900009894A (ko) 1990-07-05
NO895079D0 (no) 1989-12-15
DE68910654D1 (de) 1993-12-16
EP0374754B1 (en) 1993-11-10
EP0374754A1 (en) 1990-06-27
JP2881847B2 (ja) 1999-04-12
DE68910654T2 (de) 1994-04-28
US5091009A (en) 1992-02-25
NO895079L (no) 1990-06-18
KR0130759B1 (ko) 1998-04-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2881847B2 (ja) コーティング用組成物及びその製造法
KR100306978B1 (ko) 액정표시 소자용 절연피막 형성용 도포액
JP2729373B2 (ja) 金属酸化膜形成用塗布液
US20060189163A1 (en) Method of forming thick silica-based film
EP0443760A2 (en) Precursor polymer for ceramic coatings
JP3127542B2 (ja) 液晶表示素子絶縁被膜形成用塗布液
JP3825813B2 (ja) 液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液
JP3278876B2 (ja) 金属酸化物被膜形成用塗布液
JPS63248865A (ja) ジルコニア系コ−テイング用組成物
JP3360408B2 (ja) 金属酸化物被膜形成用塗布液
JP2000104019A (ja) コーティング組成物、及び機能性塗膜
JPH04337373A (ja) 塗料組成物
JPH0971438A (ja) 被膜形成用組成物
JPS6358191B2 (ja)
JPH04357111A (ja) 酸化アルミニウム前駆体ゲル状物及びその製造方法
JPH03290483A (ja) コーティング用組成物
JPS63280777A (ja) コ−ティング用組成物およびその製造方法
JPS63190175A (ja) 透明性被膜を有する基材
JPH0360353B2 (ja)
JPH0543839A (ja) ＺｒＯ２−ＳｉＯ２−ＣａＯ系コ−テイング組成物
JPS6366903B2 (ja)
JPH03126643A (ja) 熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液
JPS61253724A (ja) 透明導電膜形成用組成物
JPH03279221A (ja) 黄色系透明被膜形成用組成物および黄色系透明被膜を有する透明ガラス
JP2003240908A (ja) 反射防止フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090205

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205

Year of fee payment: 11