JPH02254783A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
- Publication number
- JPH02254783A JPH02254783A JP1077722A JP7772289A JPH02254783A JP H02254783 A JPH02254783 A JP H02254783A JP 1077722 A JP1077722 A JP 1077722A JP 7772289 A JP7772289 A JP 7772289A JP H02254783 A JPH02254783 A JP H02254783A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- element mounting
- semiconductor laser
- laser
- heat sink
- insulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/023—Mount members, e.g. sub-mount members
- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/02208—Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
- H01S5/02212—Can-type, e.g. TO-CAN housings with emission along or parallel to symmetry axis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
- H01S5/4043—Edge-emitting structures with vertically stacked active layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は光デイスク装置等の光源として用いられる半
導体レーザ装置に関するものである。
導体レーザ装置に関するものである。
第2図は従来の2ビ一ムアレイ半導体レーザ装置を示す
断面図であり、図において、10はモノリシックな2ビ
一ムアレイ半導体レーザ(以下2ビームアレイLDとす
る)チップ、11はこの2ビームアレイLDチツプ10
をボンディングしたStサブマウント、12はヒートシ
ンク、5は2ビームアレイLDチツプ10のモニタ光を
受光するために設置されたモニタ用受光素子、6は上記
ヒートシンク12とモニタ用受光素子5をボンディング
したステム、7はキャップ、8はキャップに取り付けら
れた窓ガラスである。
断面図であり、図において、10はモノリシックな2ビ
一ムアレイ半導体レーザ(以下2ビームアレイLDとす
る)チップ、11はこの2ビームアレイLDチツプ10
をボンディングしたStサブマウント、12はヒートシ
ンク、5は2ビームアレイLDチツプ10のモニタ光を
受光するために設置されたモニタ用受光素子、6は上記
ヒートシンク12とモニタ用受光素子5をボンディング
したステム、7はキャップ、8はキャップに取り付けら
れた窓ガラスである。
次に動作について説明する。
2ビームアレイL Dチップ10から出射された2つの
モニタ光は、ステム6上に設置された1つのモニタ用受
光素子5により光検出される。次に、このモニタ用受光
素子5で光信号を電気信号に変換し、該電気信号を外部
のA P C(Auto T’ower Contro
f) 回路へ送り、2ビームアレイLDチツプ10の前
端面より出射されるレーザ光の光出力を調整する。
モニタ光は、ステム6上に設置された1つのモニタ用受
光素子5により光検出される。次に、このモニタ用受光
素子5で光信号を電気信号に変換し、該電気信号を外部
のA P C(Auto T’ower Contro
f) 回路へ送り、2ビームアレイLDチツプ10の前
端面より出射されるレーザ光の光出力を調整する。
しかるにこのような従来の装置では、2ビームアレイL
Dチツプ10から出射される2つのモニタ光を1つのモ
ニタ用受光素子5で受光するため、同時に2つのレーザ
光を発光させる場合、それぞれのレーザ光を独立にAP
C駆動させることができず、また熱的、電気的干渉を受
けやすかった。
Dチツプ10から出射される2つのモニタ光を1つのモ
ニタ用受光素子5で受光するため、同時に2つのレーザ
光を発光させる場合、それぞれのレーザ光を独立にAP
C駆動させることができず、また熱的、電気的干渉を受
けやすかった。
そこで、上記従来例の改善をはかったものとして以下に
示すものがある。
示すものがある。
第3図は特開昭60−175476号に記載された半導
体装置を示す図であり、図において、14は半導体基板
、13は電極、15は絶縁領域、16はヒートシンク体
、17は絶縁体である。ここではヒートシンク体となる
金属片と電極分離のための絶縁体片をサンドウィンチ状
に張り合わせ、それぞれのヒートシンク体に半導体チッ
プをマウントシたものである。このようにした半導体装
置では、各半導体チップを電気的及び熱的に分離するこ
とができる。
体装置を示す図であり、図において、14は半導体基板
、13は電極、15は絶縁領域、16はヒートシンク体
、17は絶縁体である。ここではヒートシンク体となる
金属片と電極分離のための絶縁体片をサンドウィンチ状
に張り合わせ、それぞれのヒートシンク体に半導体チッ
プをマウントシたものである。このようにした半導体装
置では、各半導体チップを電気的及び熱的に分離するこ
とができる。
また、第4図は特開昭61−159788号に記載され
た半導体レーザアレイ装置を示す図であり、図において
、18は半導体レーザアレイ、19はn型GaAsヒー
トシンク、20はSin型GaAsヒートシンク19上
に形成されたpn接合フォトダイオード、21は電極、
22はn型GaAsヒートシンク19をエツチングで残
した部分である。
た半導体レーザアレイ装置を示す図であり、図において
、18は半導体レーザアレイ、19はn型GaAsヒー
トシンク、20はSin型GaAsヒートシンク19上
に形成されたpn接合フォトダイオード、21は電極、
22はn型GaAsヒートシンク19をエツチングで残
した部分である。
ここでは、複数の半導体レーザ素子よりなる半導体レー
ザアレイ18をヒートシンク19上に保持し、該ヒート
シンク19上の個々の半導体レーザ素子の直後にその光
出力をモニタするpn接合フォトダイオード20を設け
、かつ個々のフォトダイオードの間にヒートシンクを凸
状に残した領域22を設けたものである。このように構
成することによって、個々の半導体レーザ素子の後方端
面から放出されるレーザ光は、フォトダイオード20に
よって正確にモニタできると共に、隣接するフォトダイ
オード間には凸状のG a A、 s 95域22があ
るので、個別的にそれぞれのレーザ光のみを正確にモニ
タできる。
ザアレイ18をヒートシンク19上に保持し、該ヒート
シンク19上の個々の半導体レーザ素子の直後にその光
出力をモニタするpn接合フォトダイオード20を設け
、かつ個々のフォトダイオードの間にヒートシンクを凸
状に残した領域22を設けたものである。このように構
成することによって、個々の半導体レーザ素子の後方端
面から放出されるレーザ光は、フォトダイオード20に
よって正確にモニタできると共に、隣接するフォトダイ
オード間には凸状のG a A、 s 95域22があ
るので、個別的にそれぞれのレーザ光のみを正確にモニ
タできる。
しかしながら、上記特開昭60−175476号に示さ
れた半導体装置において、上記半導体チップとしてLD
チップを用いた場合、複数のLDチップは同一主面上に
置かれるため、それぞれのレーザ光を同時に発光させ受
光素子でモニタする場合、お互いの熱的、電気的干渉が
問題となる。また、それぞれのレーザ光を独立にAPC
%li動させることはできない。
れた半導体装置において、上記半導体チップとしてLD
チップを用いた場合、複数のLDチップは同一主面上に
置かれるため、それぞれのレーザ光を同時に発光させ受
光素子でモニタする場合、お互いの熱的、電気的干渉が
問題となる。また、それぞれのレーザ光を独立にAPC
%li動させることはできない。
また、上記特開昭61−159788号に示された半導
体レーザアレイ装置では、各レーザ素子は同一主面上に
置かれているので、その光出力をモニタする複数のpn
接合フォトダイオードは、このように隣接する該フォト
ダイオード間に上記凸状のGa A s t+i域22
を設ける場合においても、半導体レーザアレイに極めて
近接して設ける必要があり、製造が困難であるという問
題があった。またヒートシンクにGaAsを使用してい
るので、熱の放散性が悪いという問題があった。
体レーザアレイ装置では、各レーザ素子は同一主面上に
置かれているので、その光出力をモニタする複数のpn
接合フォトダイオードは、このように隣接する該フォト
ダイオード間に上記凸状のGa A s t+i域22
を設ける場合においても、半導体レーザアレイに極めて
近接して設ける必要があり、製造が困難であるという問
題があった。またヒートシンクにGaAsを使用してい
るので、熱の放散性が悪いという問題があった。
この発明は上記のような従来のものの問題点を解消する
ためになされたもので、1つ1つのレーザ光を独立にA
PCwA動できるとともに、熱的。
ためになされたもので、1つ1つのレーザ光を独立にA
PCwA動できるとともに、熱的。
電気的干渉のない半導体レーザ装置を得ることを目的と
する。
する。
この発明に係る半導体レーザ装置は、そのヒートシンク
を、素子搭載面を有する複数の素子搭載部と、該各素子
搭載部を相互に電気的に絶縁分離する絶縁体とから構成
し、1組の半導体レーザ素子及び受光素子を、これが他
の組のものと同一平面上に位置しないよう上記各素子搭
載部の素子搭載面上に配置するようにしたものである。
を、素子搭載面を有する複数の素子搭載部と、該各素子
搭載部を相互に電気的に絶縁分離する絶縁体とから構成
し、1組の半導体レーザ素子及び受光素子を、これが他
の組のものと同一平面上に位置しないよう上記各素子搭
載部の素子搭載面上に配置するようにしたものである。
〔作用〕
この発明における半導体レーザ装置では、そのヒートシ
ンクを素子搭載部と絶縁体とから構成し、該素子搭載部
の素子搭載面には1!IJlのレーザ素子及び受光素子
を、これが他の組のものと同一平面上に位置しないよう
に配置するようにしたので、それぞれのレーザ素子が互
いに熱的、電気的干渉を受けることなく、それぞれのレ
ーザ光を個別的に正確にモニタできる。さらに、1つの
レーザ素子に対して1つの受光素子を設けているので、
互いに独立したAPC駆動が可能となる。
ンクを素子搭載部と絶縁体とから構成し、該素子搭載部
の素子搭載面には1!IJlのレーザ素子及び受光素子
を、これが他の組のものと同一平面上に位置しないよう
に配置するようにしたので、それぞれのレーザ素子が互
いに熱的、電気的干渉を受けることなく、それぞれのレ
ーザ光を個別的に正確にモニタできる。さらに、1つの
レーザ素子に対して1つの受光素子を設けているので、
互いに独立したAPC駆動が可能となる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図(a)はこの発明の一実施例による2ビ一ムア1
/イ半導体レーザ装置を示す断面図、同図(b)はその
上面図である0図において、2は積層ヒートシンクで、
熱伝導性が悪いアルミナからなる絶縁体4を、熱伝導性
が良い銀からなる素子搭載部3で挟んだものである。1
a、1bは上記素子搭載部3の素子搭載面に、上記絶縁
体4を挟むかたちで設けられた半導体レーザチップ(以
下LDと略す)であり、それぞれの後方にはモニタ用受
光素子(以下PDと略す)5a、5bが設けられている
。6は5本のリード端子を存するステム、7はキャップ
、8は窓ガラスである。また、装置外部にはPD5a、
5bに対して別々のAPC回路が設けられている。
/イ半導体レーザ装置を示す断面図、同図(b)はその
上面図である0図において、2は積層ヒートシンクで、
熱伝導性が悪いアルミナからなる絶縁体4を、熱伝導性
が良い銀からなる素子搭載部3で挟んだものである。1
a、1bは上記素子搭載部3の素子搭載面に、上記絶縁
体4を挟むかたちで設けられた半導体レーザチップ(以
下LDと略す)であり、それぞれの後方にはモニタ用受
光素子(以下PDと略す)5a、5bが設けられている
。6は5本のリード端子を存するステム、7はキャップ
、8は窓ガラスである。また、装置外部にはPD5a、
5bに対して別々のAPC回路が設けられている。
次に動作について説明する。
LDla、lbから出射されたモニタ光は、それぞれの
LDの後方に別々に設けられたPD5a。
LDの後方に別々に設けられたPD5a。
5bで受光され電流となる。該電流は、PD5a5bに
対応して外部に別々に設けられたAPC回路へ送られる
。ここで、上記電流の大きさとLDO前端面より出射さ
れるレーザ光の光出力は比例するので、PD5a、5b
が受ける電流を一定にするようにそれぞれのAPC回路
よりPD5a。
対応して外部に別々に設けられたAPC回路へ送られる
。ここで、上記電流の大きさとLDO前端面より出射さ
れるレーザ光の光出力は比例するので、PD5a、5b
が受ける電流を一定にするようにそれぞれのAPC回路
よりPD5a。
5bに電流を加えて調整する。このようにして、LDl
a、lbの前端面より出射されるレーザ光の光出力を一
定に保つことができる。
a、lbの前端面より出射されるレーザ光の光出力を一
定に保つことができる。
また、LDla、lbは発光すると同時に発光点近傍に
おいて発熱するが、その熱は積層ヒートシンク2の銀か
らなる素子搭載部3からステム6へと伝導する。該素子
搭載部3はその中心に熱伝導性の悪いアルミナからなる
絶縁体4を挟んでいるので、LDla、lbが互いに熱
的、電気的干渉を受けることなく、それぞれのレーザ光
を個別的に正確にモニタできる。
おいて発熱するが、その熱は積層ヒートシンク2の銀か
らなる素子搭載部3からステム6へと伝導する。該素子
搭載部3はその中心に熱伝導性の悪いアルミナからなる
絶縁体4を挟んでいるので、LDla、lbが互いに熱
的、電気的干渉を受けることなく、それぞれのレーザ光
を個別的に正確にモニタできる。
なお上記実施例では、LDla、lbとヒートシンク3
とは直接接合させたが、その間に熱応力緩和のためのS
tサブマウントを介してもよい。
とは直接接合させたが、その間に熱応力緩和のためのS
tサブマウントを介してもよい。
また上記実施例では素子搭載部3には銀を、絶縁体4に
はアルミナを用いたが、素子搭載部は銅、または鉄でも
よく、絶縁体は石英ガラスであってもよい。
はアルミナを用いたが、素子搭載部は銅、または鉄でも
よく、絶縁体は石英ガラスであってもよい。
さらに上記実施例では2ビームアレイLDを例に説明し
たが、本発明はこれに限るものではなく、複数の素子搭
載部を持つヒートシンクの同一素子搭載面上に1組のL
DとPDを備え、かつ該素子搭載部が絶縁層によって互
いに電気的に分離されている構成であれば、第5図に示
すような3ビームアレイLD、または第6図に示すよう
な4ビームアレイLD、あるいはそれ以外のものでもよ
く、上記実施例と同様の効果を奏する。
たが、本発明はこれに限るものではなく、複数の素子搭
載部を持つヒートシンクの同一素子搭載面上に1組のL
DとPDを備え、かつ該素子搭載部が絶縁層によって互
いに電気的に分離されている構成であれば、第5図に示
すような3ビームアレイLD、または第6図に示すよう
な4ビームアレイLD、あるいはそれ以外のものでもよ
く、上記実施例と同様の効果を奏する。
以上のように、この発明に係る半導体レーザ装置によれ
ば、ヒートシンクを、素子搭載面を有する複数の素子搭
載部と該各素子搭載部を絶縁分離する絶縁体とから構成
し、1組のLD及びPDを、これが他の組のものと同一
平面上に位置しないように上記各素子搭載面上に設置す
るようにしたので、互いのLDが熱的、電気的干渉を受
けることなく、それぞれのレーザ光を個別的に正確にモ
ニタできる。また、複数のLDを独立APCwA動する
ように構成したので、同時に安定した発光が可能となる
。
ば、ヒートシンクを、素子搭載面を有する複数の素子搭
載部と該各素子搭載部を絶縁分離する絶縁体とから構成
し、1組のLD及びPDを、これが他の組のものと同一
平面上に位置しないように上記各素子搭載面上に設置す
るようにしたので、互いのLDが熱的、電気的干渉を受
けることなく、それぞれのレーザ光を個別的に正確にモ
ニタできる。また、複数のLDを独立APCwA動する
ように構成したので、同時に安定した発光が可能となる
。
第1図(a)はこの発明の一実施例による2ビ一ムアレ
イ半導体レーザ装置を示す断面図、同図(b)はその上
面図、第2図は従来の2ビ一ムアレイ半導体レーザ装置
を示す断面図、第3図は従来の他の実施例による半導体
装置の斜視図、第4図は従来の他の実施例による半導体
レーザアレイ装置の構造図、第5図2第6図はこの発明
の他の実施例による3ビームアレイLD、及び4ビーム
アレイLDを上から見た場合の概略構成図である。 図において、la、lbはLD、2は積層ヒートシンク
、3は銀よりなる素子搭載部、4はアルミナよりなる絶
縁体、5a、5bはPD、6はステム、7はキャップ、
8は窓ガラス、10は2ビ−ムアレイLD、11はSt
サブマウント、12゜16.19はヒートシンク、13
は電極、14は半導体基板、15は絶縁領域、17は絶
縁体、10は半導体レーザアレイ、20はフォトダイオ
ード、21は電極、22はヒートシンクをエツチングで
残した部分である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
イ半導体レーザ装置を示す断面図、同図(b)はその上
面図、第2図は従来の2ビ一ムアレイ半導体レーザ装置
を示す断面図、第3図は従来の他の実施例による半導体
装置の斜視図、第4図は従来の他の実施例による半導体
レーザアレイ装置の構造図、第5図2第6図はこの発明
の他の実施例による3ビームアレイLD、及び4ビーム
アレイLDを上から見た場合の概略構成図である。 図において、la、lbはLD、2は積層ヒートシンク
、3は銀よりなる素子搭載部、4はアルミナよりなる絶
縁体、5a、5bはPD、6はステム、7はキャップ、
8は窓ガラス、10は2ビ−ムアレイLD、11はSt
サブマウント、12゜16.19はヒートシンク、13
は電極、14は半導体基板、15は絶縁領域、17は絶
縁体、10は半導体レーザアレイ、20はフォトダイオ
ード、21は電極、22はヒートシンクをエツチングで
残した部分である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)半導体レーザ素子及び該レーザ光のモニタ用受光
素子の複数組を搭載したヒートシンクを有し、外部制御
回路により上記レーザ光出力を調整するようにした半導
体レーザ装置において、上記ヒートシンクを、素子搭載
面を有する複数の素子搭載部と、該各素子搭載部を相互
に絶縁分離する絶縁体とから構成し、 1組の半導体レーザ素子及び受光素子を、これが他の組
のものと同一平面上に位置しないよう上記各素子搭載部
の素子搭載面上に配置したことを特徴とする半導体レー
ザ装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1077722A JPH0719929B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 半導体レーザ装置 |
DE69009266T DE69009266T2 (de) | 1989-03-28 | 1990-02-06 | Halbleiterlaser-Vorrichtung. |
EP90301272A EP0390313B1 (en) | 1989-03-28 | 1990-02-06 | A semiconductor laser device |
US07/479,614 US5022035A (en) | 1989-03-28 | 1990-02-13 | Semiconductor laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1077722A JPH0719929B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02254783A true JPH02254783A (ja) | 1990-10-15 |
JPH0719929B2 JPH0719929B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=13641788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1077722A Expired - Fee Related JPH0719929B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5022035A (ja) |
EP (1) | EP0390313B1 (ja) |
JP (1) | JPH0719929B2 (ja) |
DE (1) | DE69009266T2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07193336A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Xerox Corp | レーザダイオード後面放射モニタリング装置及びレーザダイオードアレイ構成方法 |
JPH07193340A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Xerox Corp | 正確に位置決めされたダイオード・レーザーの非モノリシック・アレイ |
JP2003218471A (ja) * | 1993-11-22 | 2003-07-31 | Xerox Corp | レーザダイオード生成方法 |
JP2006529058A (ja) * | 2003-05-28 | 2006-12-28 | ソウル セミコンダクター シーオー エルティディ | 少なくとも2個のヒートシンクを有する発光ダイオードパッケージ及び発光ダイオードシステム |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2677716B2 (ja) * | 1991-03-15 | 1997-11-17 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ装置 |
US5499262A (en) * | 1992-03-18 | 1996-03-12 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor laser light source unit |
US5513200A (en) * | 1992-09-22 | 1996-04-30 | Xerox Corporation | Monolithic array of independently addressable diode lasers |
JP2863678B2 (ja) * | 1992-09-28 | 1999-03-03 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置及びその製造方法 |
US5640188A (en) * | 1992-12-18 | 1997-06-17 | Xerox Corporation | Multiple diode laser employing mating substrates |
JPH0851247A (ja) * | 1994-08-05 | 1996-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | 集積型半導体レーザ装置の製造方法,及び集積型半導体レーザ装置 |
JPH11103120A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-04-13 | Rohm Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
EP1309048A1 (en) * | 2001-11-06 | 2003-05-07 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Electronic or opto-electronic packages |
US20050196112A1 (en) * | 2004-03-08 | 2005-09-08 | Toshio Takagi | Transmitting optical subassembly capable of monitoring the front beam of the semiconductor laser diode |
JP5522977B2 (ja) * | 2009-06-09 | 2014-06-18 | 三菱電機株式会社 | 多波長半導体レーザ装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5842286A (ja) * | 1981-09-07 | 1983-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レ−ザ装置 |
JPS59172787A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-09-29 | Sharp Corp | 半導体レ−ザのサブマウント装置 |
JPS60175476A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-09 | Toshiba Corp | 集積化半導体装置の製造方法 |
JPS61159788A (ja) * | 1985-01-07 | 1986-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レ−ザアレイ装置 |
KR910004265B1 (ko) * | 1987-03-26 | 1991-06-25 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 반도체 레이저 장치와 그 제조 방법 및 그것을 사용한 광 헤드 |
JPS63287085A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-24 | Omron Tateisi Electronics Co | マルチビ−ム光源 |
-
1989
- 1989-03-28 JP JP1077722A patent/JPH0719929B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-02-06 EP EP90301272A patent/EP0390313B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-06 DE DE69009266T patent/DE69009266T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-13 US US07/479,614 patent/US5022035A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07193336A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Xerox Corp | レーザダイオード後面放射モニタリング装置及びレーザダイオードアレイ構成方法 |
JPH07193340A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Xerox Corp | 正確に位置決めされたダイオード・レーザーの非モノリシック・アレイ |
JP2003218471A (ja) * | 1993-11-22 | 2003-07-31 | Xerox Corp | レーザダイオード生成方法 |
JP2004274085A (ja) * | 1993-11-22 | 2004-09-30 | Xerox Corp | レーザダイオードアレイ |
JP2006529058A (ja) * | 2003-05-28 | 2006-12-28 | ソウル セミコンダクター シーオー エルティディ | 少なくとも2個のヒートシンクを有する発光ダイオードパッケージ及び発光ダイオードシステム |
US7994526B2 (en) | 2003-05-28 | 2011-08-09 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting diode package and light emitting diode system having at least two heat sinks |
US8823036B2 (en) | 2003-05-28 | 2014-09-02 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting diode package and light emitting diode system having at least two heat sinks |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0719929B2 (ja) | 1995-03-06 |
EP0390313A3 (en) | 1991-03-27 |
DE69009266T2 (de) | 1994-09-22 |
EP0390313A2 (en) | 1990-10-03 |
US5022035A (en) | 1991-06-04 |
DE69009266D1 (de) | 1994-07-07 |
EP0390313B1 (en) | 1994-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6678292B2 (en) | Top contact VCSEL with monitor | |
JPH02254783A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH08264843A (ja) | オプトエレクトロニクス変換器 | |
JP2005150692A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US20040028097A1 (en) | Semiconductor laser device | |
JP3386571B2 (ja) | デュアル・ビーム半導体レーザーの製造方法 | |
JP2000156510A (ja) | 光半導体素子および光半導体素子の製造方法ならびに光電子装置 | |
JPH02106989A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2001208939A (ja) | 光素子モジュール、モニタ付レーザチップの製造方法、積層チップの実装方法、光素子モジュールの製造方法 | |
JPH05183239A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH0563309A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US7232264B2 (en) | Optoelectronic arrangement having a laser component, and a method for controlling the emitted wavelength of a laser component | |
JPS63234585A (ja) | 半導体レ−ザアレイ装置 | |
JP2538451Y2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2005026333A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH05102614A (ja) | 光電子装置 | |
JP3660305B2 (ja) | 半導体レーザ装置の製造方法 | |
JP2595880B2 (ja) | 半導体光結合装置の製造方法 | |
JPS63287084A (ja) | 半導体レ−ザモジュ−ル | |
JP2000323791A (ja) | 垂直共振器型面発光レーザと光検出用モニターとのアセンブリー及びそのアセンブリング方法 | |
JP2004111446A (ja) | 半導体レーザ素子の実装方法及びその実装方法を用いた半導体レーザ装置並びに光学モジュール | |
JPS63248191A (ja) | 半導体レ−ザアレイ装置 | |
JPH0330385A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2008004914A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2009071001A (ja) | 光送受信モジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |