JP3660305B2 - 半導体レーザ装置の製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信や光ディスク用の光源となる半導体レーザ装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図9は従来例の半導体レーザ装置を示す断面図である。図9において、1はステム、2,3,4はボンディングポスト、5はキャップ、6はガラス、7はホトダイオード取付け台、8はホトダイオード素子用サブマウント、9はホトダイオード、10はブロック、11はレーザダイオード素子用サブマウント、12はレーザダイオード素子、13は前面光、14は後面光、15は反射による戻り光である。
【0003】
上記半導体レーザ装置において、レーザダイオード素子12は、通常へき開にて端面を作製するため、1個の素子で前端面と後端面の2つの端面を有する。よって、レーザダイオード素子12の駆動時には、前面光13と後面光14の両方が発生することになる。前面光13の強度と後面光14とは1対1のリニアな関係にあるので、後面光14をホトダイオード9で受け、該ホトダイオード9で発生するモニター電流を検出して、レーザダイオード素子12への駆動電流を前記モニター電流が常に一定になるように制御しながら流せば、前面光13の強度は常に一定となる(Automatic Power Control:以下、APC制御と称す)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来例の半導体レーザ装置では、レーザダイオード素子12の前面光13が自由空間に放出されるような場合であれば、戻り光15が存在しないので容易にAPC制御することができる。しかしながら、通常のレーザダイオード素子12は、光学系を通して光ファイバや光ディスクと結合するような構造として使用されることが多い。この場合、前記光学系、光ファイバおよび光ディスクから反射があり、これが戻り光15となってレーザダイオード素子12に返って来る。該戻り光15がレーザダイオード素子12へ与える影響は2種類あって、1つには、レーザダイオード素子12の端面に直接返ってきてレーザダイオード素子12の発振特性を変化させるものであり、もう1つは、直接ホトダイオード9へ入ってモニター電流を変化させるものである。後者の場合は、見かけ上、モニター電流が増えるので、正確なAPC制御ができなくなるといった欠点があった。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑み、戻り光を遮光して正確なAPC制御を可能にし得る半導体レーザ装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係る課題解決手段は、レーザ素子、遮光部材及びマウント部材を有し、かつ上面視上において前記マウント部材が前記レーザー素子及び前記遮光部材よりも大きい半導体レーザ装置の製造方法であって、レーザ素子の上面に第1の半田を介して遮光部材を搭載する工程と、マウント部材の上面に第2の半田を介して前記遮光部材を搭載した前記レーザ素子を搭載する工程と、前記レーザ素子の後端面側に光強度モニタ用受光素子が配されるように前記レーザ素子を配置することにより前記レーザ素子の前端面側と前記受光素子との間に前記遮光部材を介在させる工程とを備え、前記遮光部材を搭載する工程において、前記第1の半田に前記第2の半田より高融点のものを使用する。
【0007】
【発明の実施の形態】
[第1の実施例]
(構成)
図1および図2は本発明の第1の実施例を示す図である。本実施例の半導体レーザ装置は、光学系を通して光ファイバや光ディスクと結合するようにして使用されるもので、端面発光型レーザ素子21(レーザダイオードチップ)と、該レーザ素子21の後端面側(後方)に配された光強度モニタ用受光素子22(ホトダイオード)と、前記レーザ素子21の前端面側(前方)と前記受光素子22との間で光を遮蔽する遮光部材23とを備えたものである。
【0008】
前記レーザ素子21はその端面がへき開にて形成され前後両端面方向へ光を発するよう構成される。該レーザ素子21の裏面電極は、図4および図5に示した半田35(第2の半田)にて銅−タングステン等からなる放熱用サブマウント24(第1のマウント部材)の上面に接着されている。該サブマウント24は、ブロック25(第2のマウント部材)を介して例えば円板状のステム26の中央部に図4および図5に示した半田34(前記半田35と同様の第2の半田)にて接着されている。なお、図2中の21aはレーザ素子21の発光領域である。
【0009】
前記受光素子22は、前記レーザ素子21からの後面光をモニター光として検出しその強度を制御するために用いるもので、表面周囲部が金属膜等で覆われることで表面中央部に所定の径の受光領域27を有している。該受光素子22の裏面電極は図示しない半田等にて放熱用サブマウント28の上面に接着されている。なお、前記サブマウント28は板状の取付け台29を介して前記ステム26の中央部の図示しない電極に接着されてAPC制御回路SCに接続される。該APC制御回路SCは、前記受光素子22からのモニター電流値を検出する電流検出手段Sc1と、該電流検出手段Sc1での検出結果に基づいて前記モニター電流が常に一定になるように前記レーザ素子21への駆動電流を制御する駆動制御手段Sc2とを備える。該駆動制御手段Sc2は前記レーザ素子21を駆動する駆動回路DCに接続される。
【0010】
前記遮光部材23は、例えば図3乃至図5の如く、前記放熱用サブマウント24と同様の銅−タングステン等の金属板23aと、該金属板23aの上下両面に形成されたチタン−金等の金属薄膜23b,23bとから構成されており、図3、図4および図5に示した半田33(第1の半田)にて前記レーザ素子21の上面電極に接着され、ボンディングワイヤ31を介して前記ステム26のポスト32に接続される。前記半田33の融点は、前記半田34,35に比べて高温度に設定される。また、該遮光部材23の幅は、前記受光素子22の受光領域の径より大きく形成され、具体的には、前記レーザ素子21の幅より大とされ、前記レーザ素子21用サブマウント24の幅と略同等とされている。また、該遮光部材23の奥行きは、前記レーザ素子21の上面電極との接続抵抗が増大しない程度であればよく、例えば前記レーザ素子21の奥行きと略同等とされている。
【0011】
(製造方法)
まず、遮光部材23の一方の金属薄膜23bの表面に高融点の半田33を塗布し、図3の如く、遮光部材23を半田33が上面側となるよう配置して、半田33の上面にレーザ素子21をその上面電極が接するように載置する。そして、半田33の溶融温度まで昇温して遮光部材23とレーザ素子21をダイボンディングする。次にブロック25の上面に半田34を介してサブマウント24を載置し、さらにサブマウント24の上面に半田35を介して一体となった遮光部材23およびレーザ素子21を載置する。このとき、図4の如く、レーザ素子21の裏面電極がサブマウント24の上面の半田35に接するように上下反転させて載置する。しかる後、半田33,34,35の溶融温度まで昇温してブロック25とサブマウント24、およびサブマウント24とレーザ素子21の裏面電極を夫々ダイボンディングする。そして、一体となった遮光部材23、レーザ素子21、サブマウント24およびブロック25を、予め受光素子22が取り付けられたステム26に取り付け、図1、図2および図5の如く、ボンディングワイヤ31を接続する。そして、ステム26の背面からAPC制御回路SCおよび駆動回路DCを接続し、半導体レーザ装置は完成する。
【0012】
ここで、遮光部材23のレーザ素子21上へのマウントを高融点の半田33を用いて行っているので、さらに遮光部材23上に別のチップ等を搭載したい場合に、半田33よりも低融点の半田を用いて搭載すれば、半田33の溶融温度より低い温度でチップ等を半田付けできる。すなわち、半導体レーザ装置に他の機能を付加することが容易に可能となり、設計の自由度が増す。また、高融点半田を用いることで、低融点半田を用いる場合に比べて半田の経時的変化によるウィスカー(髭状の突起)の成長を防止でき、レーザ素子の他の部材とのショートを防止できる。
【0013】
(使用方法)
上記半導体レーザ装置において、レーザ素子21の駆動時には、図1の如く、前面光ch1と後面光ch2の両方が発生する。前面光ch1の強度と後面光ch2とは1対1のリニアな関係にあるため、後面光ch2を受光素子22で受け、受光素子22で発生するモニター電流をAPC制御回路SCで検出して、駆動回路DCでのレーザ素子21への駆動電流をモニター電流が常に一定になるように制御し、前面光ch1の強度を常に一定となるようAPC制御する。
【0014】
ここで、光学系を通して光ファイバや光ディスクと結合するようにして使用する場合、光学系、光ファイバまたは光ディスクから反射があり、これが戻り光ch3となってレーザ素子21に返って来る。また、戻り光ch3に外乱光が含まれることもある。このとき、戻り光ch3は遮光部材23の前面に当たって遮光されるため、受光素子22への入射を阻止される。したがって、後面光ch2を受光素子22で受けてAPC制御する際に、戻り光ch3の影響をなくすことができ、精度良いAPC制御が可能となる。
【0015】
[第2の実施例]
図6は本発明の第2の実施例を示す図である。本実施例の半導体レーザ装置は、端面発光型レーザ素子21(レーザダイオードチップ)と、該レーザ素子21の後端面側(後方)に配された光強度モニタ用受光素子22(ホトダイオード)と、前記レーザ素子21の前端面側(前方)と前記受光素子22との間で光を遮蔽する遮光部材とを備えたものである点で、第1の実施例と同様であるが、第1の実施例では前記遮光部材を金属板およびその上下両面の金属薄膜で構成していたのに対し、本実施例では前記遮光部材を結線帯41(導電リボン)で構成する点が異なる。
【0016】
該結線帯41は、可塑変形可能な金等の導電性の良い金属で構成され、その一端がレーザ素子21の表面電極に他端がステム26のポスト32に夫々半田等を介して接続されて、前記レーザ素子21への給電機能を有せしめられる。また、前記結線帯41の幅は、前記受光素子22の受光領域27の径より大きく形成されている。ここで、ステム26のポスト32は前記受光素子22の上方に配置されており、結線帯41が上記のように接続されることで、前記受光素子22の受光領域27の前方は結線帯41により遮蔽される。その他の構成は第1の実施例と同様であるため、その説明は省略する。
【0017】
本実施例において、前方から戻り光ch3が進入してきても、該戻り光ch3は遮光部材としての結線帯41の前面に当たって遮光されるため、第1の実施例と同様に受光素子22への入射を阻止される。したがって、後面光ch2を受光素子22で受けてAPC制御する際に、戻り光ch3の影響をなくすことができ、精度良いAPC制御が可能となる。
【0018】
また、本実施例では、結線帯41を通じて給電を行うので、結線帯41以外にボンディングワイヤを結線する必要がなくなる。
【0019】
[第3の実施例]
図7および図8は本発明の第3の実施例を示す図である。本実施例の半導体レーザ装置は、端面発光型レーザ素子21(レーザダイオードチップ)と、該レーザ素子21の後端面側(後方)に配された光強度モニタ用受光素子22(ホトダイオード)と、前記レーザ素子21の前端面側(前方)と前記受光素子22との間で光を遮蔽する遮光部材23とを備えたものである点で、第1の実施例と同様であるが、第1の実施例では遮光部材23の幅を前記レーザ素子21の幅より大としていたのに対し、本実施例では前記レーザ素子21の幅より小でかつ受光素子22の受光領域27の径より大としている点が異なる。また、本実施例では、ステム26のポスト32との間に結線されるボンディングワイヤ31は、前記レーザ素子21の露出した上面に直接接続される。すなわち、第1の実施例では遮光部材23を導電部材として機能させていたのに対し、本実施例では、遮光部材23を導電部材として機能させる必要がなくなり、安価な材料を用いることで、部材コストを低減できる。また、ボンディングワイヤ31にて直接レーザ素子21に接続されるので、電気的接続に遮光部材23を介在させていた第1の実施例に比べて、電気的抵抗を低減できる。
【0020】
本実施例において、前方から戻り光ch3が進入してきても、該戻り光ch3は遮光部材23の前面に当たって遮光されるため、第1の実施例と同様に受光素子22への入射を阻止される。したがって、後面光ch2を受光素子22で受けてAPC制御する際に、戻り光ch3の影響をなくすことができ、精度良いAPC制御が可能となる。
【0021】
[変形例]
(1)図3乃至図5に示すように、第1の実施例において、遮光部材を金属板および該金属板の上下両面の金属薄膜で構成していたが、金属板のみで構成してもよい。
【0022】
【発明の効果】
本発明の請求項1によると、遮光部材のレーザ素子上へのマウントを高融点の第1の半田を用いて行っているので、さらに遮光部材上にチップ等を搭載したい場合に、低融点半田を用いて搭載すれば、第1の半田の溶融温度より低い温度でチップ等を半田付けできる。すなわち、半導体レーザ装置に他の機能を付加することが容易に可能となり、設計の自由度が増す。また、高融点半田を用いることで、低融点半田を用いる場合に比べて、半田の経時的変化によるウィスカーの発生を防止でき、レーザ素子の他の部材とのショートを防止できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例の半導体レーザ装置を示す斜視図である。
【図2】 本発明の第1の実施例の半導体レーザ装置の要部を示す正面図である。
【図3】 本発明の第1の実施例の半導体レーザ装置の製造工程を示す斜視図である。
【図4】 本発明の第1の実施例の半導体レーザ装置の製造工程を示す斜視図である。
【図5】 本発明の第1の実施例の半導体レーザ装置の製造工程を示す斜視図である。
【図6】 本発明の第2の実施例の半導体レーザ装置を示す斜視図である。
【図7】 本発明の第3の実施例の半導体レーザ装置を示す斜視図である。
【図8】 本発明の第3の実施例の半導体レーザ装置の要部を示す正面図である。
【図9】 従来例の半導体レーザ装置の側面視断面図である。
【符号の説明】
21 レーザ素子、22 受光素子、23 遮光部材、24,25 マウント部材、27 受光領域、34,35 第1の半田、41 結線帯。

Claims (2)

  1. レーザ素子、遮光部材及びマウント部材を有し、かつ上面視上において前記マウント部材が前記レーザー素子及び前記遮光部材よりも大きい半導体レーザ装置の製造方法であって、
    レーザ素子の上面に第1の半田を介して遮光部材を搭載する工程と、
    マウント部材の上面に第2の半田を介して前記遮光部材を搭載した前記レーザ素子を搭載する工程と、
    前記レーザ素子の後端面側に光強度モニタ用受光素子が配されるように前記レーザ素子を配置することにより前記レーザ素子の前端面側と前記受光素子との間に前記遮光部材を介在させる工程とを備え、
    前記遮光部材を搭載する工程において、前記第1の半田に前記第2の半田より高融点のものを使用する半導体レーザ装置の製造方法。
  2. 請求項1に記載の半導体レーザ装置の製造方法であって、
    前記レーザ素子の端面においては、発光領域が前記遮光部材寄りに位置している、半導体レーザ装置の製造方法。
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