JPS5842286A - 半導体レ−ザ装置 - Google Patents

半導体レ−ザ装置

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Publication number
JPS5842286A
JPS5842286A JP14062181A JP14062181A JPS5842286A JP S5842286 A JPS5842286 A JP S5842286A JP 14062181 A JP14062181 A JP 14062181A JP 14062181 A JP14062181 A JP 14062181A JP S5842286 A JPS5842286 A JP S5842286A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser diode
thermal stress
semiconductor laser
support
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14062181A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Nagai
永井 精一
Shoichi Kakimoto
柿本 昇一
Toshio Sogo
十河 敏雄
Saburo Takamiya
高宮 三郎
Shigeyuki Nitsuta
仁田 重之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP14062181A priority Critical patent/JPS5842286A/ja
Publication of JPS5842286A publication Critical patent/JPS5842286A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
    • H01S5/02212Can-type, e.g. TO-CAN housings with emission along or parallel to symmetry axis

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体レーザ装置に係り、特にその封止容器内
での位置および光軸の方向が正確に保持されるようなマ
ウント構造に関するものである〇半導体レーザ装置は広
い分野での適用が期待され、現在様々な分野でその応用
の研究開発が活発に行なわれている。その中で重要な適
用分野として光通信分野、並びにビデオディスクおよび
オーディオディスクに設けられた配置担体を光走査し情
報を光学的に読み取る分野がある。本発明にがかる装置
は後者、すなわち記脅担体の光走査に用いるのに適して
いる。
上述の分野に用いられる。半導体レーザ装置は以下のよ
うな様々な条件を満さねばカらない。すなわち、レーザ
装置を長時間動作させるために、高い電流密度で動作す
るレーザダイオードの放熱が十分であること、レーザダ
イオードの光軸の位置が正確に固定されていること、気
密封止された容器の中にレーザダイオードが収納されて
いること、装置社組立てるのが容易であり、廉価に構成
されていること等が必要である。
本発明は上述のような条件を満たす新規な装着構造の半
導体レーザ装置を提供することを目的としている。
以下、本発明の一実施跡について説明する。半導体レー
ザダイオード素子(以下単に「レーザダイオード」とい
う。)は熱応力がそれに及ぶのを緩和する熱応力緩和部
材を介して支持体に取りつけられ、その支持体がペース
に固定される。第1図はこの実施例に用いる支持体を示
す斜視図、第2図Aはベースの構造例を示す平面図、第
2図Bは第2図Aの[B−lB線での断面図、第3図は
レーザダイオードの支持体への取りつけ状態を示し、第
3図Aはその平面図、第3図BFiその正面図である。
第4図はこの実施例の組立て完成状態を示し、第4図A
はその平面図、第4図Bはその正断面図で゛ある。銅な
どの熱伝導のよい円柱状部材を用いて形成された支持体
(1)には一つの平面(2)が支持体(1)の上面(3
)および下面(4)に直角になるように設けられている
0第2図に示すペース(6)は金属からなり、その上面
(6)に上記支持体11)の下面部がちょうどはめ込ま
れる凹部(丁lが形成されており、ペース(6)から絶
縁された2本の導体(8)および(9)、並びにベース
(5)に接続された導体(10)が設けられている。第
3図に示すように支持体+1+の平面(2)Kは例えば
シリコンからなる熱応力緩和部材(11)を介してレー
ザダイオードQ2)が支持体(1)の上面(3)の近く
に固着され、レーザダイオードQfiの共振器端面の一
方(131は支持体+11の上面(3)の方向と同一方
向を向いている。このようにレーザダイオード(+21
が固着された支持体111は、第4図に示すように、ペ
ース(6)に設けられた凹部(7)Kその下面をはめ込
んで固定され、レーザダイオード咥の一方の電極は導体
(8)K導線(141で接続される0他方の電極は導電
性の熱応力緩和部材(川、支持体111およびベースF
ilを通って導体(1ωに接続される。そして更に、後
述のレーザダイオード(121制御用のフォトダイオー
ド(図示せず)を必gIK応じて装着後、肉薄な窓ガラ
ス輛がろう付けされたキャップ−をベース(6)の外周
縁に溶接することによってこの実施例の装置は完成する
次に、この実施例装置の組立ての上での要点について説
明する。ベース(6)に設けられる凹部(1)社支持体
(1)の下面部がはめ込まれるのであるが、このはめ込
まれた支持体(1)K設けられた面(2)が、ペース(
6)の軸線に平行であるのは勿論、2つの導体(8)お
よび(9)の中心を結ぶ線に平行になるように形成され
る。
支持体(1)の平面(2)K取りつけられる熱応力緩和
部材(!1)には第3図に示すようにレーザダイオード
(121を取りつけるべき部分に突起部が形成されてお
り・平面(2)の幅L1を熱応力緩和部材(n)の長辺
の長さL2と等しいかまたは少し大きくし、上記突起部
の長辺の長さl、をレーザダイオードの長辺の長さ12
と等しいかまたは少し大きくしておくことによって当骸
方向でのそれぞれ相互位置合ゎせを精度よく行なうこと
ができる。支持体(1)の軸と平行な方向の位置合わせ
は、レーザダイオード+121の共振器端面の一方0:
4と熱応力緩和部材(11)の一つの面とを支持体11
1の上面(3)に一致させることによって精度よく行な
うことができる。
レーザダイオード(121I熱応力緩和部材(川及び支
持体(凰)は蒸着やメッキ等により金属の被蟲を行なつ
ておき、温度を上げて荷重を加えることによって固着し
、しかも、レーザダイオード+121や熱応力緩和部材
(11)は浮き上がりがないようにする。
熱応力緩和部材(11)として例えばシリコン片を用い
れば、シリコン片の厚さはラッピングまたはエツチング
により加工されるので、厚さ精度は高くできる。また、
レーザダイオードQ21もラッピング、またはエツチン
グにより加工されるので、厚さ精度は高くできる。前述
したように支持体f1+の熱応力緩和部材(+1)が固
着される面(21Ifiベース(5)の軸線と平行で、
さらに導体+81 +91の中心を結ぶ直線と平行とな
っており、厚さ精度の高いレーザダイオードOz及び熱
応力緩和部材01)を前記の面+21に固着すれば、レ
ーザダイオード(12)の発光点はベース(6)の中心
を通る軸線と一致させることができる。それにレーザダ
イオード(+210長辺は上記導体(g) 、 +91
の中心を結ぶ直線に平行になるようKできる。以上のよ
うにレーザダイオード02)は位置精度が高く、また、
角度精度も高く固着できる。
なお、先にちょっと述べたレーザダイオード02)はベ
ース(5)K#Iけて取付けておき、そのフォトダイオ
ードの電極の一方を導体(9)と電気的に接続する。前
述したように導体(81t T9+ Fi支持体(1)
及びベース16+とは電気的に絶縁されている。フォト
ダイオードはレーザダイオード(121の光出力を受光
するが、その光がフォトダイオードで反射され、レーザ
ダイオードθ21K$び入射して、レーザダイオード0
2)の制御に悪影響を及はさないよう、フォトダイオー
ドはベース(5)の上面(61に対して傾けて取付ける
。その角度は8〜16’程度が好ましい。
以上詳述したように、この発明になる半導体レーザ装置
では、レーザダイオード素子を熱応力緩和部材を介して
熱伝導性のよい支持体へ取りつけであるので、熱応力を
受けることが少なく、熱放散の良好であるのは勿論、支
持体へのレーザダイオード素子の取りつけ構造および容
器ベースへの支持体の取・9付は構造を精密にしたので
、レーザダイオードの容器内での位置および光軸の方向
を容易に正確KW&足できる。
4 図面の簡卑fr、iy、明 □ 第1図はこの発明の一実施例に用いる支持体を示す
斜視図、第2図Aはこの′貞節qAIに用いるベースの
構造を示す平面図、第2図Bは第2図Aの■B−1B線
での断面図、第3図Aijレーザダイオード。
の支持体への取りつけ状態を示す平面1図、第3図Bは
その正面図、第4図Aはこの実施?Iの組立て充放状態
を示す平面図、第4図Bはその正断面図である。
図において、(1)は支持体、(2)はその側面に形成
された平面、(3)は支持体の上面、(4)は支持体の
下面、([1)はベース、(61はベースの上面、(〕
)は凹部、(81、(9! 、 (lot性導体、(1
1)は熱応力緩和部材、021は半導体レーザ素子、0
3)は共振器端面、D5i4d窓ガラス、(+6;はキ
ャップである。
なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す0 代理人   葛 野 信 −(外1名)第1図 第2図 第3図 A 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)熱伝導性の良好な金属からなる柱状体で構成され
    その上面および下面が軸方向と直交するように整形され
    、更に側面に上記軸方向に平行な平面が形成された支持
    体、この支持体の側面に形成された上記平面に熱応力緩
    和部材を介して取りつけられ共振器端面の一方が上記支
    持体の上面と平行になるように配設された半導体レーザ
    ダイオード素子、上記支持体の下面の部分の断面形状に
    等しい開口形状を有する凹部が上面に形成されこの凹部
    に上記下面の部分が圧入された上記支持体を上記支持体
    の軸が上記上面に垂直になるように固ダイオードに所要
    の接続をするための導体群、及び光透過窓を有し上記ベ
    ースの外縁部に周縁部が溶接され上記ベース上への被装
    着物を封止するキャップを備えたことを特徴とする半導
    体レーザ装置。  −
  2. (2)  支持体の側面に形成される平面の上記支持体
    の上面と接する辺の長さを熱応力緩和部材の上記平面の
    上記辺に沿う長辺の長さと等しいかまたはやや長くシ、
    上記熱応力緩和部材の半導体レーザダ〜イオード素子装
    着部位の長辺の長さを上記半導体レーザダイオード素子
    の上記長辺に沿う辺の長さと等しいかまたはやや長くし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体
    レーザ装置0
  3. (3)  フォトダイオードがベースの上面に対して8
    〜1d)の角度をなすように固着されたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体レー
    ザ装置。
JP14062181A 1981-09-07 1981-09-07 半導体レ−ザ装置 Pending JPS5842286A (ja)

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JPS5842286A true JPS5842286A (ja) 1983-03-11

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61194213A (ja) * 1985-02-25 1986-08-28 Toray Ind Inc フアインデニ−ルポリエステル繊維
EP0390313A2 (en) * 1989-03-28 1990-10-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha A semiconductor laser device
US5519720A (en) * 1993-03-04 1996-05-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor light emitting device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS61194213A (ja) * 1985-02-25 1986-08-28 Toray Ind Inc フアインデニ−ルポリエステル繊維
EP0390313A2 (en) * 1989-03-28 1990-10-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha A semiconductor laser device
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