JPH0225456A - 新規なヨー素化非イオン性トリヨードベンゼン化合物 - Google Patents
新規なヨー素化非イオン性トリヨードベンゼン化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(本発明の技術的要旨の要約)
本発明は次式で示される新規な非イオン性化合物に関す
る: r5 .0H20H H \0H20H これらの化合物は造影剤として使用することができる。
る: r5 .0H20H H \0H20H これらの化合物は造影剤として使用することができる。
本発明はランオグラフィ用の造影剤として使用すること
ができる化合物に関する。
ができる化合物に関する。
ベンゼン核中に数個のヨー素原子、通常ベンゼン核1個
当り6個のヨー素原子および種々のその他の置換基を有
するヨードベンゼン化合物は造影剤として長年使用され
ている。これらの他の置換基は当該化合物葡人問および
動物に投与することを可能にする医薬的に許容される基
である。−船釣に言えば、これらの置換基は、一方で当
該化合物に適度の水溶性全付与してこれらを水溶液の形
で投与できるようにするために、そして他方で、当該化
合物に、これらを人間の臓器に対して1容性にするに充
分の副容性會付与するために、選択される。
当り6個のヨー素原子および種々のその他の置換基を有
するヨードベンゼン化合物は造影剤として長年使用され
ている。これらの他の置換基は当該化合物葡人問および
動物に投与することを可能にする医薬的に許容される基
である。−船釣に言えば、これらの置換基は、一方で当
該化合物に適度の水溶性全付与してこれらを水溶液の形
で投与できるようにするために、そして他方で、当該化
合物に、これらを人間の臓器に対して1容性にするに充
分の副容性會付与するために、選択される。
この目的には、非イオン性構造、すなわち非イオン性置
換基を有するヨードベンゼン防導体が示唆されている。
換基を有するヨードベンゼン防導体が示唆されている。
すなわち、I’R−A−2053037には、全体で、
少なくとも1個のN−ヒドロキシアルキル基および少な
くとも2個のヒドロキシ基奮有するカルバモイルヨード
ベンゼン化合物が示唆されている。
少なくとも1個のN−ヒドロキシアルキル基および少な
くとも2個のヒドロキシ基奮有するカルバモイルヨード
ベンゼン化合物が示唆されている。
この種の代表的化合物は2″トライズアミドであるが、
この化合物は制限さtた安定性?倚するものであること
が証明されている。
この化合物は制限さtた安定性?倚するものであること
が証明されている。
本発明の目的は人間の臓器に対し良好な耐答性ケ有し、
水溶液中で非常に安定であり、水に対して高い溶解性を
有し、そして溶液中で低い粘度を示す、新規な非イオン
性化合物ケ提供することにある。
水溶液中で非常に安定であり、水に対して高い溶解性を
有し、そして溶液中で低い粘度を示す、新規な非イオン
性化合物ケ提供することにある。
この目的に対し、本発明の主題は次式Iで示される化合
物にある: U 、0H20H H \0H20H 〔式中、R1は式 ムーCo−:R5 (式中、R5はC工〜C,アルキル、C□〜04ヒドロ
キシアルキルまたはC工・〜C4ポリヒドロキシアルキ
ルから選ばれ、セしてR6は水素、01〜C4アルキル
、C□〜C4ヒドロキシアルキルまたはC,−〜C4ポ
゛リヒドロキシアルキルから選ばれる)で示される基お
よび式 %式% (式中、R7はCエルC4ヒドロキシアルキルまたUO
□〜C4ポリヒドロキシアルキルから選ばれ、そしてR
8は水素またはC1〜C4アルキルから選ばれる) で示される基から選ばれ、 R2は水素、Cユ〜C4ヒドロキシアルキルまたはCエ
ルC4ポリヒドロキシアルキルから選ハ牡、R3は水素
またir、01〜c4アルキルから選ばれ、そして R4は水素、CエルC4アルキル、C工〜C,ヒドロキ
シアルキルまたはcl−c、辿りヒドロキシアルキルか
ら選ばれる〕。
物にある: U 、0H20H H \0H20H 〔式中、R1は式 ムーCo−:R5 (式中、R5はC工〜C,アルキル、C□〜04ヒドロ
キシアルキルまたはC工・〜C4ポリヒドロキシアルキ
ルから選ばれ、セしてR6は水素、01〜C4アルキル
、C□〜C4ヒドロキシアルキルまたはC,−〜C4ポ
゛リヒドロキシアルキルから選ばれる)で示される基お
よび式 %式% (式中、R7はCエルC4ヒドロキシアルキルまたUO
□〜C4ポリヒドロキシアルキルから選ばれ、そしてR
8は水素またはC1〜C4アルキルから選ばれる) で示される基から選ばれ、 R2は水素、Cユ〜C4ヒドロキシアルキルまたはCエ
ルC4ポリヒドロキシアルキルから選ハ牡、R3は水素
またir、01〜c4アルキルから選ばれ、そして R4は水素、CエルC4アルキル、C工〜C,ヒドロキ
シアルキルまたはcl−c、辿りヒドロキシアルキルか
ら選ばれる〕。
本発明において、ポリヒドロキシアルキル基の用語は直
鎖状または分枝鎖状ポリヒドロキシアルキル基金意味す
る。
鎖状または分枝鎖状ポリヒドロキシアルキル基金意味す
る。
式■で示される好ましい化合物は式!におい、てR1−
−Co−NH−OH2−OH20,H、R2= −0H
2−OH20H。
−Co−NH−OH2−OH20,H、R2= −0H
2−OH20H。
R,−H、R4−−0H2−(1!HOH−OH20H
T #る相当する化合物である。
T #る相当する化合物である。
さらにまた、好ましい一群の式(1)で示される化合物
は対称状ジアミノ形の化合物、すなわち次式1で示され
る化合物からなる: (式中、鴎はR2基金表わし、この基中に存在するヒド
ロキシ基は保護されている) で示されるクアミノ化合物を式■: Ra0cA Jv 式■で示される化合物は標準的方法で、特に既知の化合
物全原料として、アシル化反応および(または)アルキ
ル化反応によって設造することができる。
は対称状ジアミノ形の化合物、すなわち次式1で示され
る化合物からなる: (式中、鴎はR2基金表わし、この基中に存在するヒド
ロキシ基は保護されている) で示されるクアミノ化合物を式■: Ra0cA Jv 式■で示される化合物は標準的方法で、特に既知の化合
物全原料として、アシル化反応および(または)アルキ
ル化反応によって設造することができる。
すなわち、対称状ジアミノ形の化合物(式■で示される
化合物)は次の方法により人造することができる: a)式■: 存在するヒドロキシ基は保護されている)で示される酸
クロライドでアシル化し、b)必要に応じて、得られた
化合物をナトリウムメチレート、ナトリウムメチレート
、水素化ナトリウムまたは水酸化ナトリウムのような塙
基の存在の下で、式■ I(′4z■ (式中、4は前記と同じ意味を有するが、水素は表わさ
ず、そして2は塩素、臭素まfcはヨー素の原子のよう
な脱離性基を表わす〕 でボされるアルキル化剤でアルキル化シ、C)保a基を
分離する1、 式1で示される化合物はフランス国特許出J1+II′
R−A−2614299に記載されている。
化合物)は次の方法により人造することができる: a)式■: 存在するヒドロキシ基は保護されている)で示される酸
クロライドでアシル化し、b)必要に応じて、得られた
化合物をナトリウムメチレート、ナトリウムメチレート
、水素化ナトリウムまたは水酸化ナトリウムのような塙
基の存在の下で、式■ I(′4z■ (式中、4は前記と同じ意味を有するが、水素は表わさ
ず、そして2は塩素、臭素まfcはヨー素の原子のよう
な脱離性基を表わす〕 でボされるアルキル化剤でアルキル化シ、C)保a基を
分離する1、 式1で示される化合物はフランス国特許出J1+II′
R−A−2614299に記載されている。
式■で示されるその他の化合物は類似の方法によって、
特は二式■; で斥される化合物を生成し、 bL(i化アンモニウムを用いて還元して、式■:(式
中、R′はメチルのような01〜C4アルキル基である
) で示されるアルキル6.5−7ニトロペンゾエートから
製造することができる。
特は二式■; で斥される化合物を生成し、 bL(i化アンモニウムを用いて還元して、式■:(式
中、R′はメチルのような01〜C4アルキル基である
) で示されるアルキル6.5−7ニトロペンゾエートから
製造することができる。
非対称状シ゛アミノ化合物は−〔た、原料として式■で
示される化合物を使用し、 a)式■: で示される化合物を生成し、 C)弐■で示される化合物を式Rcoall (JV)
で示される酸クロライドによりアシル化し、て、式(X
):で示されるアミンと反応させて、式■ で示される化合物を生成し、 υ式Xで示される化合物の還元およびヨー素化によp1
式M= Co−N−R2 OA’−Co−Fl’5 X
I(式中的は基R5ヲ表わし、この基中に存在するヒド
ロキシ基は保護されている) で示される酸クロライドでアシル化し、次いで保護基を
分離した後に、式xff: で示とれる化合物全生成し、 e)必要に応じて、式Xで示される化合物を式■で示さ
れるアルキル化剤でアルキル化して、式Xll:で示さ
れる化合物全生成し、 f)式■で示される化合物から保農基を除去し、g)得
られた、保薩基が分離されている化合物を式%式% で示される化合物を生成しく上記工程fおよびgは逆の
順序で行なうことができる)、必要に応じて、次いで、 h)アルキル化して、式Iにおいて、R6が水素を除く
前記の意味金有する相当する化合物を生成する、 ことによって製造することができる。
示される化合物を使用し、 a)式■: で示される化合物を生成し、 C)弐■で示される化合物を式Rcoall (JV)
で示される酸クロライドによりアシル化し、て、式(X
):で示されるアミンと反応させて、式■ で示される化合物を生成し、 υ式Xで示される化合物の還元およびヨー素化によp1
式M= Co−N−R2 OA’−Co−Fl’5 X
I(式中的は基R5ヲ表わし、この基中に存在するヒド
ロキシ基は保護されている) で示される酸クロライドでアシル化し、次いで保護基を
分離した後に、式xff: で示とれる化合物全生成し、 e)必要に応じて、式Xで示される化合物を式■で示さ
れるアルキル化剤でアルキル化して、式Xll:で示さ
れる化合物全生成し、 f)式■で示される化合物から保農基を除去し、g)得
られた、保薩基が分離されている化合物を式%式% で示される化合物を生成しく上記工程fおよびgは逆の
順序で行なうことができる)、必要に応じて、次いで、 h)アルキル化して、式Iにおいて、R6が水素を除く
前記の意味金有する相当する化合物を生成する、 ことによって製造することができる。
インフタル系の対称状化合物(Rニー−00−N−R2
である式■で示される化合物)は、 a)式Xv: Co−N−−R2 ■ で示されるアミン化合物金式ROocz (N)で示さ
れる酸クロライドでアシル化して、式X■:工 で示される化合物を生成し、 b)式XVIで示される化合物を式H−N−R2される
アミンと反応させて、式X■: (■)で示 で示される化合物を生成し、次いで所望により、C)式
X■で示される化合物を前記にあげたような式電zで示
されるアルキル化剤で処理し、次いでa)基−0H(O
H20H)2から保護基を分離するか、あるいは θ)−OH(OH20H)、基から保藤基を分離し、次
いで所望により、 f)保護基を分離した化合物をアルキル化剤R’、Zで
アルキル化する、 ことにより製造することができる。
である式■で示される化合物)は、 a)式Xv: Co−N−−R2 ■ で示されるアミン化合物金式ROocz (N)で示さ
れる酸クロライドでアシル化して、式X■:工 で示される化合物を生成し、 b)式XVIで示される化合物を式H−N−R2される
アミンと反応させて、式X■: (■)で示 で示される化合物を生成し、次いで所望により、C)式
X■で示される化合物を前記にあげたような式電zで示
されるアルキル化剤で処理し、次いでa)基−0H(O
H20H)2から保護基を分離するか、あるいは θ)−OH(OH20H)、基から保藤基を分離し、次
いで所望により、 f)保護基を分離した化合物をアルキル化剤R’、Zで
アルキル化する、 ことにより製造することができる。
イソフタル系の非対称状化合物(R□−00−N−R7
であり、R7”F R2および(または) R8矢R3
である式■で示される化合物)は、 a)式XL co−N−R2 (式中R′、はR,基を表わし、この基中に存在するヒ
ドロキシ基は保護されている) で示されるアミン化合物を式Rcocll (ff)で
示される酸クロライドでアシル化して、式xx:工 で示されるアミン化合物を式RcOcJで示される酸ク
ロライドでアシル化シ、 b)所望により、式R′4zで示されるアルキル化剤で
アルキル化し、次いで C) −0H−(OH20H)2基から保護基を分離す
る、ことにより製造することができる。
であり、R7”F R2および(または) R8矢R3
である式■で示される化合物)は、 a)式XL co−N−R2 (式中R′、はR,基を表わし、この基中に存在するヒ
ドロキシ基は保護されている) で示されるアミン化合物を式Rcocll (ff)で
示される酸クロライドでアシル化して、式xx:工 で示されるアミン化合物を式RcOcJで示される酸ク
ロライドでアシル化シ、 b)所望により、式R′4zで示されるアルキル化剤で
アルキル化し、次いで C) −0H−(OH20H)2基から保護基を分離す
る、ことにより製造することができる。
式X■で示される化合物は凡P−0015867に記載
されているようにして得ることができる。
されているようにして得ることができる。
別法として、イン7タル系の非対称状化合物は、で示さ
れる化合物を生成し、 b)式xxで示される化合物を式 で示されるアミンと反応させて、式XXI:工 Co上 で示される化合物を生成し、次いで所望によシ、C)式
XXIで示芒れる化合物を前記にありたよりな式R′4
zで示されるアルキル化剤でアルキル化し、次いで a) −an−(aH2oH)2基から保護基全分離す
るか、あるいは θ)−aH〜(0H20H) 2基から保護基を分離し
、次いで所望により、 f)保護基を分離した化合物をアルキル化剤R’、Zで
アルキル化する、 ことにより製造することができる。
れる化合物を生成し、 b)式xxで示される化合物を式 で示されるアミンと反応させて、式XXI:工 Co上 で示される化合物を生成し、次いで所望によシ、C)式
XXIで示芒れる化合物を前記にありたよりな式R′4
zで示されるアルキル化剤でアルキル化し、次いで a) −an−(aH2oH)2基から保護基全分離す
るか、あるいは θ)−aH〜(0H20H) 2基から保護基を分離し
、次いで所望により、 f)保護基を分離した化合物をアルキル化剤R’、Zで
アルキル化する、 ことにより製造することができる。
本発明のもう一つの主題は式Iで示される化合物の少な
くとも一種會含有する造影剤におる。
くとも一種會含有する造影剤におる。
これらの造影剤は人間および動物において放射学的目的
に使用される。
に使用される。
本発明による造影物質の好適な袈剤形態は当該化合物の
水溶液よりなる。
水溶液よりなる。
この水浴液は通當、10〇−当、!、la量で5〜1o
oyの式Iで示てれる化合物音含有し、このような浴液
の注入量は1〜1000mで変えることができる。
oyの式Iで示てれる化合物音含有し、このような浴液
の注入量は1〜1000mで変えることができる。
式!で示される化合物の水溶液はまた、たとえば
01〜10 mM/ l;の濃度で含まれる塩化ナトリ
ウム、 0.1〜2 mM / lの濃度で含まれるシナトリウ
ムEDTA 0.1〜10 mM / lの濃度で含まれるクエン酸
ナトリウム 溶液100m/当910〜100単位の用量で含まれる
ヘパリン、 のような成る種の添加剤をまた貧有することができる。
ウム、 0.1〜2 mM / lの濃度で含まれるシナトリウ
ムEDTA 0.1〜10 mM / lの濃度で含まれるクエン酸
ナトリウム 溶液100m/当910〜100単位の用量で含まれる
ヘパリン、 のような成る種の添加剤をまた貧有することができる。
これらの化合物はヨー素化非イオン性造影剤に慣用の全
ての経路により投与することができる。
ての経路により投与することができる。
従って、これらの化合物は経i経路で、または非経口経
路で(静脈内経路、動脈内経路、身体腔部の不透明化)
、および特にクモ膜下空隙に投与することができる。
路で(静脈内経路、動脈内経路、身体腔部の不透明化)
、および特にクモ膜下空隙に投与することができる。
本発明による組成物の例を以下に示−j。
組成物
例1の化合物 65F
注射表剤用水 全量e100m/にする適量次例は
式Iで示さス′シる化合物の製造を例示するものである
。
式Iで示さス′シる化合物の製造を例示するものである
。
例1
5−[3−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)−N
−(2,3−ンヒドロキシプロビル)ゾロピオンアミド
) −1,’ 、 N“−ビス−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,4,6−)リョードーインフタルアミドの製
造 a) 5− [2−イソプロピル−1,3−ジオキサン
−5−カルボキシアミド]−2,4,6−)リョードー
インフタo−fルゾクロライドの製造5−アミノ−2、
4、’ 6−ドリヨードイソフタロイルクロライド13
7.!i’ (0,25モル)kDmc460肩e中に
溶解し、ここに2−イソゾロビル−1,6−シオキサン
ー5−カルボン酸クロライド110、!i’(0,57
モル)を加える。反応混合物をアルイン雰囲気の下で室
温において4日間攪拌する。DMACを減圧で除去する
。得られた油状物を酢酸エチル61で1回および氷冷水
1Eで2回、洗浄する。有機相を乾燥させ、次いで濃縮
乾燥埒せる。生成物i;c cH2c#2200 yd
から結晶化させる。
−(2,3−ンヒドロキシプロビル)ゾロピオンアミド
) −1,’ 、 N“−ビス−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,4,6−)リョードーインフタルアミドの製
造 a) 5− [2−イソプロピル−1,3−ジオキサン
−5−カルボキシアミド]−2,4,6−)リョードー
インフタo−fルゾクロライドの製造5−アミノ−2、
4、’ 6−ドリヨードイソフタロイルクロライド13
7.!i’ (0,25モル)kDmc460肩e中に
溶解し、ここに2−イソゾロビル−1,6−シオキサン
ー5−カルボン酸クロライド110、!i’(0,57
モル)を加える。反応混合物をアルイン雰囲気の下で室
温において4日間攪拌する。DMACを減圧で除去する
。得られた油状物を酢酸エチル61で1回および氷冷水
1Eで2回、洗浄する。有機相を乾燥させ、次いで濃縮
乾燥埒せる。生成物i;c cH2c#2200 yd
から結晶化させる。
濾過後に、固形物110.9が得られる:収車:64%
TLC: 5i02 aH2+:V2 Rf:
0.13(60F254)B102エーテル/石油工〜
チル50150 rtf: 0.52 b) 5− C2−イソプロピル−1,6−シオキサン
ー5−カルボキシアミド) −N/ 、 f−ビス−(
2−ヒドロキシエチル)−2,4,6−ドリヨードーイ
ソフタルアミドの製造 a)で得られた生成物13C1,9(0,173モル)
2 DMA、O750脱!およびトリエチルアミン75
−(0,534モル)の溶液中に溶解する。反応混合物
にエタノールアミン33.7 g(0,552モル)を
滴下して加える。反応混合物金欠いで室温で6時間攪拌
する。トリエチルアミン塩酸塩ケ濾別し、DMA0を減
圧で分離する。得られた油状物は水1lから結晶化させ
る。生成物を濾取し、次いで減圧で乾燥させる。
0.13(60F254)B102エーテル/石油工〜
チル50150 rtf: 0.52 b) 5− C2−イソプロピル−1,6−シオキサン
ー5−カルボキシアミド) −N/ 、 f−ビス−(
2−ヒドロキシエチル)−2,4,6−ドリヨードーイ
ソフタルアミドの製造 a)で得られた生成物13C1,9(0,173モル)
2 DMA、O750脱!およびトリエチルアミン75
−(0,534モル)の溶液中に溶解する。反応混合物
にエタノールアミン33.7 g(0,552モル)を
滴下して加える。反応混合物金欠いで室温で6時間攪拌
する。トリエチルアミン塩酸塩ケ濾別し、DMA0を減
圧で分離する。得られた油状物は水1lから結晶化させ
る。生成物を濾取し、次いで減圧で乾燥させる。
収率:95%
TLO: 5i02 Rf : 0.25 0H2C
A!2 /メタノール9/1 (6OF254 ) +3102 Rf : 0.6
7 CH2CA!2 /メタノール8/2 %I : 45.6 (実測値) −47,6(理論値
)メタノール−50 c) 5− C3−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル
−N−(2+3−ジヒドロキシプロピル)プロピオンア
ミド] −N’ 、 N“−ビス−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4,6−ドリヨードーイン7タルアミドの
製造 すで得られた生成物100.9(0,125モル)のエ
チレングリコール350M1中の懸濁液に60℃で4N
メチレ一ト125m(0,5モル)t−x次いで1−ク
ロロ−2,6−ブロパンシオール65g(0,625モ
ル)全滴下して加える。60℃で1時間後に、反応混合
物の容積は増大する。4Nメテレー) 100y(0,
4モル)および1−クロロ−2,6−ゾロバンシオール
55.2.9 (0,5モル)を加える。混合物を60
℃で一夜にわたシ保持する。さらに31 d (0,1
25モル)の4Nメチレートおよび20.7.9の1−
クロロ−2,6−ブロパンシオールを加える。攪拌を6
0℃で4時間保持する。無機塩?濾別する。エチレング
リコールを減圧で蒸発させる。
A!2 /メタノール9/1 (6OF254 ) +3102 Rf : 0.6
7 CH2CA!2 /メタノール8/2 %I : 45.6 (実測値) −47,6(理論値
)メタノール−50 c) 5− C3−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル
−N−(2+3−ジヒドロキシプロピル)プロピオンア
ミド] −N’ 、 N“−ビス−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4,6−ドリヨードーイン7タルアミドの
製造 すで得られた生成物100.9(0,125モル)のエ
チレングリコール350M1中の懸濁液に60℃で4N
メチレ一ト125m(0,5モル)t−x次いで1−ク
ロロ−2,6−ブロパンシオール65g(0,625モ
ル)全滴下して加える。60℃で1時間後に、反応混合
物の容積は増大する。4Nメテレー) 100y(0,
4モル)および1−クロロ−2,6−ゾロバンシオール
55.2.9 (0,5モル)を加える。混合物を60
℃で一夜にわたシ保持する。さらに31 d (0,1
25モル)の4Nメチレートおよび20.7.9の1−
クロロ−2,6−ブロパンシオールを加える。攪拌を6
0℃で4時間保持する。無機塩?濾別する。エチレング
リコールを減圧で蒸発させる。
蒸留残倫物を1ONHC!A300d中にB51り、溶
液を室温で一夜にわたυ攪拌する。反応混合物を濃縮乾
燥させ、残留物をエタノール600d中に取る。無機塩
を濾別する。エタノールを減圧で蒸発させ、残留物をイ
ンゾロぎルア及コール1ノから結晶化させる。沈殿を濾
別し、HPLO(RP18)により′!′fI製する(
水で溶出)。
液を室温で一夜にわたυ攪拌する。反応混合物を濃縮乾
燥させ、残留物をエタノール600d中に取る。無機塩
を濾別する。エタノールを減圧で蒸発させ、残留物をイ
ンゾロぎルア及コール1ノから結晶化させる。沈殿を濾
別し、HPLO(RP18)により′!′fI製する(
水で溶出)。
総合収率(アルキル化−保護基の分離−fllJIM)
:52% 1)TLa(シ!J力601’254) : cH2c
/2/メタノール7/ 3 Rf : 0.4 メタノール ・・ 6 純度:97% 6)%工: 45.8 (実測値) −46,4(理論
値)4)NMR(DMSO) 3.5 ppmに中心のある分割が貧弱なマルチゾレッ
ト(18H) ; 4.5ppmに中心のあるff/l
zチプレット(OH) (D20で交換可能(6H))
i8.4 ppmに広いピーク(NH) CI)20で
交換可能(2H))。
:52% 1)TLa(シ!J力601’254) : cH2c
/2/メタノール7/ 3 Rf : 0.4 メタノール ・・ 6 純度:97% 6)%工: 45.8 (実測値) −46,4(理論
値)4)NMR(DMSO) 3.5 ppmに中心のある分割が貧弱なマルチゾレッ
ト(18H) ; 4.5ppmに中心のあるff/l
zチプレット(OH) (D20で交換可能(6H))
i8.4 ppmに広いピーク(NH) CI)20で
交換可能(2H))。
例2
5−グ’)コールアミド−3−[3−ヒドロキシ−2−
ヒドロキシメチル−N−(2,3−ジヒドロキシプロピ
ル)プロピオンアミド〕−2゜4.6−)リョードーN
−ヒドロキシエチルベンズアミドの製造 a) 3 、5−ジニトロ−N=(2−ヒドロキシエチ
ル)ベンズアミドの製造 メチル3.51’ニトロヘア f :r−−) 750
g(3,32モル)をエタノールアミン222.7.
9(3,65モル)の存在の下でメタノール21中に懸
濁する。反応混合物をエステル化合物が消失するまで4
8時間還流させる。室温で4時間後に、結晶生成物を濾
別し、メチレンクロライド500偏3で洗浄し、次いで
オープン中で60℃において減圧の下で4時間乾燥させ
る。この処理によシ生成物718gが85%の収率で得
られる。
ヒドロキシメチル−N−(2,3−ジヒドロキシプロピ
ル)プロピオンアミド〕−2゜4.6−)リョードーN
−ヒドロキシエチルベンズアミドの製造 a) 3 、5−ジニトロ−N=(2−ヒドロキシエチ
ル)ベンズアミドの製造 メチル3.51’ニトロヘア f :r−−) 750
g(3,32モル)をエタノールアミン222.7.
9(3,65モル)の存在の下でメタノール21中に懸
濁する。反応混合物をエステル化合物が消失するまで4
8時間還流させる。室温で4時間後に、結晶生成物を濾
別し、メチレンクロライド500偏3で洗浄し、次いで
オープン中で60℃において減圧の下で4時間乾燥させ
る。この処理によシ生成物718gが85%の収率で得
られる。
融点:140℃。
TIJO()ルエン/メチルエチルケトン/’fJ16
0/25/25)Rf: 0.5 b) 3−ニトロ−5−アミノ−N−(2−ヒドロキシ
エチル)ベンズアミドの製造 水135偏3中の6,5−ジニトロ−N−(2−ヒドロ
キシエチル)ベンズアミド25.5.9(0,5モル)
の懸濁液に70℃で硫化アンモニウム12.25 F
C0,18モル)を加える。添加の終了時点で、混合物
は均一になるが、70℃で0.5時間後に再沈殿が生じ
る。反応混合換金室温まで冷却させ、攪拌を2時間続け
る。沈殿(、濾別し、メタノール(70=−1’)で洗
浄し、次いでオープン中(60°C)で乾燥させる。
0/25/25)Rf: 0.5 b) 3−ニトロ−5−アミノ−N−(2−ヒドロキシ
エチル)ベンズアミドの製造 水135偏3中の6,5−ジニトロ−N−(2−ヒドロ
キシエチル)ベンズアミド25.5.9(0,5モル)
の懸濁液に70℃で硫化アンモニウム12.25 F
C0,18モル)を加える。添加の終了時点で、混合物
は均一になるが、70℃で0.5時間後に再沈殿が生じ
る。反応混合換金室温まで冷却させ、攪拌を2時間続け
る。沈殿(、濾別し、メタノール(70=−1’)で洗
浄し、次いでオープン中(60°C)で乾燥させる。
得られた生成物: 15.19−収率:67%TLO(
)ルエン/メチルエチルケトン/M酸60/25/25
) Rf:0.3 IHNMR(DM80) : 3.4 ppm (マル
チプレット;4H1OH2脂肪族) : 4.65pp
m (−rルチプレット、D20と交換可能のH、NH
2) ; 5.9 ppm (シングレット、D20と
又換可能のH% OH) ; 7.4〜7.7ppm
(2マルチプレット;6H1芳香族プロトン); 8.
6 ppm (マルチプレット、1HXNH)。
)ルエン/メチルエチルケトン/M酸60/25/25
) Rf:0.3 IHNMR(DM80) : 3.4 ppm (マル
チプレット;4H1OH2脂肪族) : 4.65pp
m (−rルチプレット、D20と交換可能のH、NH
2) ; 5.9 ppm (シングレット、D20と
又換可能のH% OH) ; 7.4〜7.7ppm
(2マルチプレット;6H1芳香族プロトン); 8.
6 ppm (マルチプレット、1HXNH)。
c)3−ニトロ−5−〔2−インプロピル−1,3−ジ
オキサン−5−カルボキンアミド〕−N−ヒドロキシエ
チル−ベンズアミドの製造 6−ニトロ−5−アミノ−N−(2−ヒドロキシエチル
)ベンズアミド40 F (0,177モル)k DM
A0400 tM、3中に溶解する。トリエチルアミン
(54,6−3)の存在の下で2−イソプロピル−1,
6−ジオキサン−5−カルボン酸りロライド74.9.
9 (0,389モル)全添加すると、発熱反応が生じ
る。
オキサン−5−カルボキンアミド〕−N−ヒドロキシエ
チル−ベンズアミドの製造 6−ニトロ−5−アミノ−N−(2−ヒドロキシエチル
)ベンズアミド40 F (0,177モル)k DM
A0400 tM、3中に溶解する。トリエチルアミン
(54,6−3)の存在の下で2−イソプロピル−1,
6−ジオキサン−5−カルボン酸りロライド74.9.
9 (0,389モル)全添加すると、発熱反応が生じ
る。
反応混合物をアルゴン雰囲気の下で室温に18時間保持
する。混合物を濾過し、濾液を水で稀釈し、次いで酢酸
エチルで抽出する。溶媒の蒸発後に得られた残留物をメ
タノール60001I&3中の炭酸カリウム(12,9
)で処理する。室温で48時間攪拌した後に、混合物を
濃縮し、次いで酢酸エチルで抽出する。処理後に得られ
た粗生成物?エーテル/酢酸エチル80/20の混合物
から再結晶させる。生成物37.8gが56%の収率で
単離される。
する。混合物を濾過し、濾液を水で稀釈し、次いで酢酸
エチルで抽出する。溶媒の蒸発後に得られた残留物をメ
タノール60001I&3中の炭酸カリウム(12,9
)で処理する。室温で48時間攪拌した後に、混合物を
濃縮し、次いで酢酸エチルで抽出する。処理後に得られ
た粗生成物?エーテル/酢酸エチル80/20の混合物
から再結晶させる。生成物37.8gが56%の収率で
単離される。
TLO(酢酸エチル、Rf: 0.48 )Mθ0H5
0% 純度:94% d) 5−アミノ−6−〔2−イソプロピル−1゜6−
シオキサンー5−カルホキシアばド〕−2゜4.6−)
リョードーN−ヒドロキシエチルーペンズアミドの製造 6−ニトロ−5−〔2−イソゾロビル−1,6−ジオキ
サン−5−カルボキシアミド]−N−ヒドロキシエチル
−ベンズアミド409のメタノール溶液(1,4A )
を水素雰囲気の下で(5,105Pa)、50℃におい
てパラジウム付加木炭43の存在で5時間攪拌する。触
媒を次いで濾別し、濾液全減圧の下で蒸発させる。生成
する混合物を水950の3中に懸濁する。混合物は2N
塩酸20−3の添加により均一になる。次いで、ヨー化
ナトリウム63 ryab3(ヨー素70%)を激しく
攪拌しながら滴下して加える。室温で24時間後に、沈
殿?濾別し、水で洗浄し、エーテル中に増る。
0% 純度:94% d) 5−アミノ−6−〔2−イソプロピル−1゜6−
シオキサンー5−カルホキシアばド〕−2゜4.6−)
リョードーN−ヒドロキシエチルーペンズアミドの製造 6−ニトロ−5−〔2−イソゾロビル−1,6−ジオキ
サン−5−カルボキシアミド]−N−ヒドロキシエチル
−ベンズアミド409のメタノール溶液(1,4A )
を水素雰囲気の下で(5,105Pa)、50℃におい
てパラジウム付加木炭43の存在で5時間攪拌する。触
媒を次いで濾別し、濾液全減圧の下で蒸発させる。生成
する混合物を水950の3中に懸濁する。混合物は2N
塩酸20−3の添加により均一になる。次いで、ヨー化
ナトリウム63 ryab3(ヨー素70%)を激しく
攪拌しながら滴下して加える。室温で24時間後に、沈
殿?濾別し、水で洗浄し、エーテル中に増る。
乾燥後に、生成物32Pが42%の収率で得られる。
TLO(ジクロロメタン/メタノール90/10)Rf
: Q、8 e) 5−アミノ−?S−1mN−(2,3−ジヒドロ
キシゾロビル)−2−インプロピル−1,3−ジオキサ
ン−5−カルボキシアミド)−2,4,6一トリヨード
ーN−ヒドロキンエチル−ベンスフミドの製造 エチレングリコール−ジメチルホルムアミド容量/容量
の混合物(160j)中のd)でイUられた化合物(2
0g、0.027モル)の溶液に4Nナトリウムメチレ
ート840fa、3(0,337モル)全滴下して加え
る。混合物を60℃で0.5時間加熱し、次いでこの温
度で1−クロロ−2,′6−プロパンジオール36.1
yn、”(0,432モル)を加える。反応混合物を窒
素雰囲気の下で60℃において60時間保持する。無機
塩t−濾濾別る。エチレングリコールおよびDMF i
減圧で蒸発させる。得られた相住成物をシラン処理シリ
カ上で精製する(水で、次いで水/メタノール5015
0で溶出)。
: Q、8 e) 5−アミノ−?S−1mN−(2,3−ジヒドロ
キシゾロビル)−2−インプロピル−1,3−ジオキサ
ン−5−カルボキシアミド)−2,4,6一トリヨード
ーN−ヒドロキンエチル−ベンスフミドの製造 エチレングリコール−ジメチルホルムアミド容量/容量
の混合物(160j)中のd)でイUられた化合物(2
0g、0.027モル)の溶液に4Nナトリウムメチレ
ート840fa、3(0,337モル)全滴下して加え
る。混合物を60℃で0.5時間加熱し、次いでこの温
度で1−クロロ−2,′6−プロパンジオール36.1
yn、”(0,432モル)を加える。反応混合物を窒
素雰囲気の下で60℃において60時間保持する。無機
塩t−濾濾別る。エチレングリコールおよびDMF i
減圧で蒸発させる。得られた相住成物をシラン処理シリ
カ上で精製する(水で、次いで水/メタノール5015
0で溶出)。
生成物16.5.li’が単離される。収率ニア6%0
TLO(ジクロロメタン/メタノール80/20)Rf
: Q、8 f) 5−アミノ−3−〔6−ヒドhキシ−2−(ヒド
ロキシメチル)、−N−(2,3−ジヒドロキシプロぎ
ル)プロピオンアミド]−2,4,6−トリヨード−N
−ヒドロキシエチル−ベンズアミrの製造 e)で得られた生成物16F(0,02モル)71ON
塩酸80嬬3の存在の下で室温において48時間処理し
、保護基金分離する。中和し、次いで減圧の下で蒸発さ
せた後に、残留物tメμノール−エーテル(9/1)の
混合物で沈殿させ、濾別し、次いでHPLO(R:P
18 ) (水で、医いで水/メタノール90/10で
溶出)により精製する。
TLO(ジクロロメタン/メタノール80/20)Rf
: Q、8 f) 5−アミノ−3−〔6−ヒドhキシ−2−(ヒド
ロキシメチル)、−N−(2,3−ジヒドロキシプロぎ
ル)プロピオンアミド]−2,4,6−トリヨード−N
−ヒドロキシエチル−ベンズアミrの製造 e)で得られた生成物16F(0,02モル)71ON
塩酸80嬬3の存在の下で室温において48時間処理し
、保護基金分離する。中和し、次いで減圧の下で蒸発さ
せた後に、残留物tメμノール−エーテル(9/1)の
混合物で沈殿させ、濾別し、次いでHPLO(R:P
18 ) (水で、医いで水/メタノール90/10で
溶出)により精製する。
生成物4Iが総合収率(保護基の分離−精製)60%で
単離される。
単離される。
TLO(ジクロロメタン、/メタノール80/20)R
f: 0.25 MeOH10% 純度:97% g) 5− N−グリコールアミド−6−〔6−ヒドロ
キシ−2−(ヒドロキシメチル)−N −(2、3−ジ
ヒドロキシプロビル)プロピオンアミドクー2.4.6
−)リヨーP−N−ヒドロキシエチル−ベンズアミドの
製造 0−アセチル化グリコール酸クロライド5.5y(0,
04モル)盆室温で、無水DMA030眞3中の工程f
で得られた化合物3 、!7 (0,004モル)の溶
液に滴下して加える。反応混合物’に40℃で12時間
加熱し、次いで氷冷水2500m3中に注ぎ入れる。得
られた沈殿を濾別し、次いで酢酸エチルで抽出する。次
いで蒸発により処理した後に、得られた生成物をメタノ
ール50偽3に溶解し、1N水酸化す) IJウム1o
−3の存在の下で保護基全分離する。溶液を室温で14
時間攪拌し、次いでH+樹脂(工RN 77 )および
OH−樹脂(1耐78)に順次通して脱塩する。蒸発乾
燥させた後に、残留物をエチルエーテル中に取り、濾過
し、次いで乾燥させる。得られた生成物:1.5.90
総合収率:47%。
f: 0.25 MeOH10% 純度:97% g) 5− N−グリコールアミド−6−〔6−ヒドロ
キシ−2−(ヒドロキシメチル)−N −(2、3−ジ
ヒドロキシプロビル)プロピオンアミドクー2.4.6
−)リヨーP−N−ヒドロキシエチル−ベンズアミドの
製造 0−アセチル化グリコール酸クロライド5.5y(0,
04モル)盆室温で、無水DMA030眞3中の工程f
で得られた化合物3 、!7 (0,004モル)の溶
液に滴下して加える。反応混合物’に40℃で12時間
加熱し、次いで氷冷水2500m3中に注ぎ入れる。得
られた沈殿を濾別し、次いで酢酸エチルで抽出する。次
いで蒸発により処理した後に、得られた生成物をメタノ
ール50偽3に溶解し、1N水酸化す) IJウム1o
−3の存在の下で保護基全分離する。溶液を室温で14
時間攪拌し、次いでH+樹脂(工RN 77 )および
OH−樹脂(1耐78)に順次通して脱塩する。蒸発乾
燥させた後に、残留物をエチルエーテル中に取り、濾過
し、次いで乾燥させる。得られた生成物:1.5.90
総合収率:47%。
ヨー素の純度:99%
TLC(酢酸エチル/メタノール/アンモニア6゜/4
0/1) Rf:0.25 HPLOハイパーシルa8 5μ 15m緩衝剤: 0
.o I M NaH2PO490%MeoH10% 純度=89% 例6 6.5−ビス−(6−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチ
ル−プロピオンアミド)−2,4,6=トリヨード−N
〜(2,6−ジヒドロキシプロビル)ベンズアミドの製
造 a) 3 、5−シアミノ−2,4,6−トリヨードー
N−(2,3−ジアセトキシプロピル)ベンズアミドの
製造 6.5−ジアミノ〜2.,3.6−)リョードーN−(
2,3−ゾヒドロキシプロビルラペンズアミド301.
5g(0,5モル)會15℃に冷却させた無水ピリジン
1ノ中に懸濁する。無水酢酸2450−の添加後に、溶
液を室温で18時間攪拌し、次いで酸性の水中に注ぎ入
れる。酢酸エチルで抽出し、有機相を乾燥させ、次いで
蒸発させた後に、生成物270yが78.5・%の収率
で得られる。
0/1) Rf:0.25 HPLOハイパーシルa8 5μ 15m緩衝剤: 0
.o I M NaH2PO490%MeoH10% 純度=89% 例6 6.5−ビス−(6−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチ
ル−プロピオンアミド)−2,4,6=トリヨード−N
〜(2,6−ジヒドロキシプロビル)ベンズアミドの製
造 a) 3 、5−シアミノ−2,4,6−トリヨードー
N−(2,3−ジアセトキシプロピル)ベンズアミドの
製造 6.5−ジアミノ〜2.,3.6−)リョードーN−(
2,3−ゾヒドロキシプロビルラペンズアミド301.
5g(0,5モル)會15℃に冷却させた無水ピリジン
1ノ中に懸濁する。無水酢酸2450−の添加後に、溶
液を室温で18時間攪拌し、次いで酸性の水中に注ぎ入
れる。酢酸エチルで抽出し、有機相を乾燥させ、次いで
蒸発させた後に、生成物270yが78.5・%の収率
で得られる。
ヨー素の純度: 98.3%
TLO)ルエン/メチルエチルケトン/ HOOOH6
0/25/35 Rf:0.70 b) 3 、5−ビス(2−イソプロピル−1,6−ジ
オキサン−5−カルボキシアミド)−2,4,6−トリ
ヨードーN−(2,3−ジアセトキシゾロビル)ベンズ
アミドの製造 a)で得られた化合物114.5.9 (0,166−
Eル)全無水DMA0350ゴに溶解する。2−インゾ
ロビル−1,6−シオキサンー5−カルボン酸クロライ
ド1289 (0,66モル)’t O’Oで添加する
。−夜にわた〕攪拌した後に、反応混合物ケ氷−水混合
物中に注ぎ入れる。沈殿上濾別し、水で洗浄し、次いで
50℃で減圧の下に乾燥させる。
0/25/35 Rf:0.70 b) 3 、5−ビス(2−イソプロピル−1,6−ジ
オキサン−5−カルボキシアミド)−2,4,6−トリ
ヨードーN−(2,3−ジアセトキシゾロビル)ベンズ
アミドの製造 a)で得られた化合物114.5.9 (0,166−
Eル)全無水DMA0350ゴに溶解する。2−インゾ
ロビル−1,6−シオキサンー5−カルボン酸クロライ
ド1289 (0,66モル)’t O’Oで添加する
。−夜にわた〕攪拌した後に、反応混合物ケ氷−水混合
物中に注ぎ入れる。沈殿上濾別し、水で洗浄し、次いで
50℃で減圧の下に乾燥させる。
c)3’、5−ビス(2−インゾロビル−1,6−シオ
キサンー5−カルボキシアミド)−2,4゜6−トリヨ
ードーN−(2,3−ジヒドロキシプロビル)ベンズア
ミドの製造 メタノール2.5ノ中に懸濁した、b)で得られた化合
物175F’fr室温で炭酸カリウム45!!の存在の
下で一夜にわたり攪拌する。反応混合物を蒸発させた後
に、85%の収率で得られた結晶は次の工程で直接に使
用する。
キサンー5−カルボキシアミド)−2,4゜6−トリヨ
ードーN−(2,3−ジヒドロキシプロビル)ベンズア
ミドの製造 メタノール2.5ノ中に懸濁した、b)で得られた化合
物175F’fr室温で炭酸カリウム45!!の存在の
下で一夜にわたり攪拌する。反応混合物を蒸発させた後
に、85%の収率で得られた結晶は次の工程で直接に使
用する。
a) 3 、5−ビス(6−ヒドロキシ−2−ヒドロキ
シメチル−プロピオンアミド)−2,4,6−トリヨー
ドーN−(2,3−ジヒドロキシプロピル)ベンズアミ
ドの製造 C)で得られた化合物を50℃で5 N Hall ’
;2 A!に溶解する。18時間攪拌した後に、得られ
た懸濁液全濾過する。濾液を減圧で濃縮し、残留物?イ
ンゾロパノール中に取る。結晶生成物108gが2回の
採増で94%の収率で得られる。
シメチル−プロピオンアミド)−2,4,6−トリヨー
ドーN−(2,3−ジヒドロキシプロピル)ベンズアミ
ドの製造 C)で得られた化合物を50℃で5 N Hall ’
;2 A!に溶解する。18時間攪拌した後に、得られ
た懸濁液全濾過する。濾液を減圧で濃縮し、残留物?イ
ンゾロパノール中に取る。結晶生成物108gが2回の
採増で94%の収率で得られる。
TLO5102ブタノール60、水25.0H3000
HIA : Rf : 0.2 生成物1sio2RP 18 15.25tt上で溶出
液として水を用いる分取HPLCによって、47%の収
率で1Ii表する。
HIA : Rf : 0.2 生成物1sio2RP 18 15.25tt上で溶出
液として水を用いる分取HPLCによって、47%の収
率で1Ii表する。
ヨー累の純度:99.6%
HPLO純度:99゜1%(ハイパーシルc8 5μl
H−NMR200MHz (DMLKI)8.5 p
pm (m 、 D20で又換可能の1H,0−0ON
H)9.9 ppm (t 、 D20で交換可能の2
H、、o−NH−co)4.6 ppm (m 、
5Z換可能の6f(,0Ii)3〜4ppm(m、
1 3H、an )2.7 ppm (m 、 2
H、1iH−OH2)例4 5−113−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)−
N−(2−ヒドロキシエチル)、7’ロビオンアミド]
−N−(2−ヒドロキシエチル)−N’−(2,3−ジ
ヒドロキシプロピル)−2゜4.6−トリヨードー・イ
ソフタルアミドの製造a) 5− (2−イソ7caピ
ル−1,6−シオキサンー5−刀ルポキシアミド) −
2、4、6−トリヨード−3−N’−(2−アセトキシ
エチル)カルバモイル−ベンゾイルクロライドの製造2
−イソプロピル−1,6−シオキサンー5−刀ルポンI
I 5.36 F (Ll、0308モル) 211M
AO18−に溶解する。反応混合!vllJk 5°C
に冷却させ、80Q722.55 aノ(0,0350
モル)を温度が15℃以下に維持されるように、滴下し
て加える。添加が完了した時点で、反応混合物茫室温で
6時間数置する。
H−NMR200MHz (DMLKI)8.5 p
pm (m 、 D20で又換可能の1H,0−0ON
H)9.9 ppm (t 、 D20で交換可能の2
H、、o−NH−co)4.6 ppm (m 、
5Z換可能の6f(,0Ii)3〜4ppm(m、
1 3H、an )2.7 ppm (m 、 2
H、1iH−OH2)例4 5−113−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)−
N−(2−ヒドロキシエチル)、7’ロビオンアミド]
−N−(2−ヒドロキシエチル)−N’−(2,3−ジ
ヒドロキシプロピル)−2゜4.6−トリヨードー・イ
ソフタルアミドの製造a) 5− (2−イソ7caピ
ル−1,6−シオキサンー5−刀ルポキシアミド) −
2、4、6−トリヨード−3−N’−(2−アセトキシ
エチル)カルバモイル−ベンゾイルクロライドの製造2
−イソプロピル−1,6−シオキサンー5−刀ルポンI
I 5.36 F (Ll、0308モル) 211M
AO18−に溶解する。反応混合!vllJk 5°C
に冷却させ、80Q722.55 aノ(0,0350
モル)を温度が15℃以下に維持されるように、滴下し
て加える。添加が完了した時点で、反応混合物茫室温で
6時間数置する。
次いで、5−アミノ−2,4,6−ドリヨードー3−(
N−2−アセトキシエテル)カルバモイル−ベンゾイル
クロライド6.0 & (0,00906モル)?加え
る。反応混合物をアルプン雰囲気の下で、室温で4時間
保持する。
N−2−アセトキシエテル)カルバモイル−ベンゾイル
クロライド6.0 & (0,00906モル)?加え
る。反応混合物をアルプン雰囲気の下で、室温で4時間
保持する。
DMA0 ’i減圧で分離する。得らnた油状物を酢酸
エチル中にホク、有機相全水で洗浄し、乾燥させ、仄い
で濃縮乾燥させる。生成物?エーテル100Illから
結晶化させる。、濾別し、乾燥させた後に、生成物1,
8Iが24%の収率で得られる。
エチル中にホク、有機相全水で洗浄し、乾燥させ、仄い
で濃縮乾燥させる。生成物?エーテル100Illから
結晶化させる。、濾別し、乾燥させた後に、生成物1,
8Iが24%の収率で得られる。
Tl1C(シリカ60′IP254):酢酸エナル/石
油エーテル80/20 Rf−0,86 b) 5− (2−イソプロピル−1,6−ジオキサン
−5−刀ルポキシアミド)−2,4,6−)リョードー
N−(2−アセトキシエチル) −N/ −(2,3−
ジヒドロキシゾロぎル)イソ7タルアばドの製造 aノで得られ友生成物I F (0,00122モル)
r(DMA0100 wtに溶解し、次いでトリエチル
アミン0.26耐(0,00189モル)葡加える。反
応混合物に6−アミノ−1,2−7’″ロパンゾオール
0.18.9 (0,00196モル)を滴下して加え
る。
油エーテル80/20 Rf−0,86 b) 5− (2−イソプロピル−1,6−ジオキサン
−5−刀ルポキシアミド)−2,4,6−)リョードー
N−(2−アセトキシエチル) −N/ −(2,3−
ジヒドロキシゾロぎル)イソ7タルアばドの製造 aノで得られ友生成物I F (0,00122モル)
r(DMA0100 wtに溶解し、次いでトリエチル
アミン0.26耐(0,00189モル)葡加える。反
応混合物に6−アミノ−1,2−7’″ロパンゾオール
0.18.9 (0,00196モル)を滴下して加え
る。
添加が完了しfc後に、反応混合物?アルゴン雰囲気の
下で、室温で24時間攪拌する。
下で、室温で24時間攪拌する。
トリエチルアミン塩酸塩を濾別し、久いてDMA0を蒸
発させる。このようにして得られた油状物をエーテル2
0m/から結晶化させる。濾別し、次いで乾燥させた後
に、生成物0.8gが75.5%の収率て得られる。
発させる。このようにして得られた油状物をエーテル2
0m/から結晶化させる。濾別し、次いで乾燥させた後
に、生成物0.8gが75.5%の収率て得られる。
TIJO(シリカ60 :l” 2 b 4 ) :
cHc13/ MoOH/NH,OH53/30/10
Rf−0,77c) 5− C3−ヒドロキシ−2
−(ヒドロキシメチル)−N−(2−ヒドロキシエチル
)プロピオンアミド]−N−(2−ヒドロキシエチル)
−N’−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−2,4゜
6−トリヨードーインフタルアミドの製造b)で得らね
た生成物0.4 & (、0,000458モル)全エ
チレングリコール0.74およびナトリウムメチレート
の4N溶液0.69 d (0,00275モル)に溶
解する。この溶液にクロロエタノール0.18Tll(
0,00275モル)を加える。反応混合物’に40℃
に5時間加熱する。4Nナトリウムメチレート0.34
dおよびクロロエタノール0.14を加える。混合物
?40°Cで一夜にわたシ保持する。反応混合物の一?
稀塩酸の添加により7.00にする。エチレングリコー
ルを減圧で蒸発させる。
cHc13/ MoOH/NH,OH53/30/10
Rf−0,77c) 5− C3−ヒドロキシ−2
−(ヒドロキシメチル)−N−(2−ヒドロキシエチル
)プロピオンアミド]−N−(2−ヒドロキシエチル)
−N’−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−2,4゜
6−トリヨードーインフタルアミドの製造b)で得らね
た生成物0.4 & (、0,000458モル)全エ
チレングリコール0.74およびナトリウムメチレート
の4N溶液0.69 d (0,00275モル)に溶
解する。この溶液にクロロエタノール0.18Tll(
0,00275モル)を加える。反応混合物’に40℃
に5時間加熱する。4Nナトリウムメチレート0.34
dおよびクロロエタノール0.14を加える。混合物
?40°Cで一夜にわたシ保持する。反応混合物の一?
稀塩酸の添加により7.00にする。エチレングリコー
ルを減圧で蒸発させる。
蒸留後の残留物?水6dおよび濃塩酸5d中に取り、次
いで室温で一夜にわたり攪拌する。反応混合物を濃縮し
、次いで分lit HPLO(RP i F3、水で溶
出)により′ff4製する。蒸発させ、次いで乾燥させ
た後に、生成物0.19が総合収率(アルキル化−精製
)27%で得られる。
いで室温で一夜にわたり攪拌する。反応混合物を濃縮し
、次いで分lit HPLO(RP i F3、水で溶
出)により′ff4製する。蒸発させ、次いで乾燥させ
た後に、生成物0.19が総合収率(アルキル化−精製
)27%で得られる。
TTJO(シリカ60F254): cH2cz27’
メタノール7/ 3 、/lRf −0,33゜HPL
C: ハイパーシルのカラム085μ 2SaI&緩衝
剤: 0.0 M NaH2PO4/ MeOH 純度:95% IHNMR(B/uker Q MHz )、 想構造と一致。
メタノール7/ 3 、/lRf −0,33゜HPL
C: ハイパーシルのカラム085μ 2SaI&緩衝
剤: 0.0 M NaH2PO4/ MeOH 純度:95% IHNMR(B/uker Q MHz )、 想構造と一致。
Claims (8)
- (1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中、R_1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_5はC_1〜C_4アルキル、C_1〜C_
4ヒドロキシアルキルおよびC_1〜C_4ポリヒドロ
キシアルキルから選ばれ、そしてR_6は水素、C_1
〜C_4アルキル、C_1〜C_4ヒドロキシアルキル
およびC_1〜C_4ポリヒドロキシアルキルから選ば
れる)で示される基および式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_7はC_1〜C_4ヒドロキシアルキルお
よびC_1〜C_4ポリヒドロキシアルキルから選ばれ
、そしてR_8は水素およびC_1〜C_4アルキルか
ら選ばれる) で示される基から選ばれ、 R_2は水素、C_1〜C_4ヒドロキシアルキルおよ
びC_1〜C_4ポリヒドロキシアルキルから選ばれ、
R_3は水素およびC_1〜C_4アルキルから選ばれ
、そして R_4は水素、C_1〜C_4アルキル、C_1〜C_
4ヒドロキシアルキルおよびC_1〜C_4ポリヒドロ
キシアルキルから選ばれる〕 で示される化合物。 - (2)式II: ▲数式、化学式、表等があります▼II (式中、R_2、R_3およびR_4は請求項1に記載
の意味を有する) で示される化合物である、請求項1に記載の化合物。 - (3)5−〔3−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル
)−N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)プロピオン
アミド〕−N′,N″−ビス−(2−ヒドロキシエチル
)−2,4,6−トリヨードイソフタルアミドである、
請求項1に記載の化合物。 - (4)5−グリコールアミド−3−〔3−ヒドロキシ−
2−(ヒドロキシメチル)−N−(2,3−ジヒドロキ
シプロピル)プロピオンアミド〕−−ベンズアミドであ
る、請求項1に記載の化合物。 - (5)3,5−ビス−(3−ヒドロキシ−2−ヒドロキ
シメチル−プロピオンアミド−2,4,6−トリヨード
−N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)ベンズアミド
である、請求項1に記載の化合物。 - (6)5−〔3−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル
)−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオンアミド
〕−N−(2−ヒドロキシエチル)−N′−(2,3−
ジヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリヨード−イ
ソフタルアミドである、請求項1に記載の化合物。 - (7)請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物の少
なくとも一種の有効量を含有する造影剤。 - (8)上記化合物の水溶液を含有する、請求項7に記載
の造影剤。
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---|---|---|---|
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FR8807369 | 1988-06-02 | ||
FR8900762 | 1989-01-23 | ||
FR8900762A FR2643077B1 (fr) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | Nouveaux composes non ioniques iodes et produits de contraste les contenant |
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---|---|
JPH0225456A true JPH0225456A (ja) | 1990-01-26 |
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---|---|---|---|
JP1140222A Expired - Fee Related JPH07100684B2 (ja) | 1988-06-02 | 1989-06-01 | 新規なヨー素化非イオン性トリヨードベンゼン化合物 |
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CN (1) | CN1021440C (ja) |
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CZ (1) | CZ277984B6 (ja) |
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GE (1) | GEP19960460B (ja) |
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HU (1) | HU201732B (ja) |
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LV (1) | LV10234B (ja) |
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PT (1) | PT90696B (ja) |
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FR2673180B1 (fr) * | 1991-02-25 | 1994-03-04 | Guerbet Sa | Nouveaux composes non ioniques poly-iodes, procede de preparation, produit de contraste les contenant. |
DE4109169A1 (de) * | 1991-03-20 | 1992-09-24 | Koehler Chemie Dr Franz | Wasserloesliche nicht ionische roentgenkontrastmittel sowie mittel und verfahren zu ihrer herstellung |
FR2695125B1 (fr) * | 1992-08-25 | 1994-12-23 | Guerbet Sa | Nouveaux composés poly-iodés, procédé de préparation, produit de contraste les contenant. |
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PT101720A (pt) * | 1995-06-08 | 1997-01-31 | Hovione Sociedade Quimica S A | Processo para a purificacao e cristalizacao de iopamidol |
US5705692A (en) * | 1996-09-27 | 1998-01-06 | Abbott Laboratories | Process for the preparation of iohexol |
CN110903275A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-24 | 苏州科伦药物研究有限公司 | 制备碘比醇的方法、其中间体及其制备方法 |
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US4396598A (en) * | 1982-01-11 | 1983-08-02 | Mallinckrodt, Inc. | Triiodoisophthalamide X-ray contrast agent |
DE3429949A1 (de) * | 1984-08-10 | 1986-02-20 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Neue nicht -ionische 2,4,6-trijod-isophthalsaeure-bis-amide, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als roentgenkontrastmittel |
ATE79368T1 (de) * | 1987-05-22 | 1992-08-15 | Bracco Spa | Herstellung von 5-acylamino-2,4,6-trijodo- oder tribromo-benzoesaeure-derivate. |
FR2632304B1 (fr) * | 1988-06-02 | 1991-05-17 | Guerbert Sa | Composes triodobenzeniques non ioniques, leur procede de preparation et produits de contraste les contenant |
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