JPS6058742B2 - 新規沃素化イソフタラム酸誘導体,その製法及び該誘導体を含有するx線造影剤 - Google Patents

新規沃素化イソフタラム酸誘導体,その製法及び該誘導体を含有するx線造影剤

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JPS6058742B2
JPS6058742B2 JP52075362A JP7536277A JPS6058742B2 JP S6058742 B2 JPS6058742 B2 JP S6058742B2 JP 52075362 A JP52075362 A JP 52075362A JP 7536277 A JP7536277 A JP 7536277A JP S6058742 B2 JPS6058742 B2 JP S6058742B2
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    • C07C237/00Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
    • C07C237/28Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C237/32Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having the nitrogen atom of the carboxamide group bound to an acyclic carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by oxygen atoms

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式: 〔式中R1は直鎖一又は分枝鎖低級ヒドロキシアルキル
基を表わしかつR2はヒドロキシメチル基又はC一原子
少なくとも2個を含む低級直鎖一又は分枝鎖アルキル基
を表わし、該アルキル基は酸素原子1個又は数個により
中断されていて良く、又はR1が−CH2−CH2−0
H以外のものを表わす場合にはR2はメチル基を表わし
ても良い〕の沃素化イソフタラム酸誘導体及びその生理
学的に認容性の無機又は有機塩基との塩に関する。
本発明は式1の化合物を製造及び式1による化合物をベ
ースとするX線造影剤に関する。基R1は分枝鎖一又は
直鎖低級ヒドロキシアルキル基としてC一原子2〜6、
有利に2〜5個を含有する。
R1が直鎖である時、該基は有利にC一原子2〜3個を
含み、R1が分枝鎖である場合、該基は有利にC一原子
3〜5個を含む。R1中のヒドロキシ基は第一又は第二
ヒドロキシル基をして存在して良い。R1としては例え
は2−ヒドロキシエチルー、2−ヒドロキシプロピルー
、3−ヒドロキシプロピルー、2−ヒドロキシー1,1
−ジメチルエチルー及び3−ヒドロキシー1,1−ジメ
チルプロピル基が挙げられる。場合により酸素で中断さ
れている低級直鎖又は分枝鎖アルキル基R2はC一原子
1〜6、有利に2〜5個を含有する。実際の使用にはア
ルキル基R2が酸素で中断されている化合物が特に好適
であり、その際基R2中に酸素原子1又は2個を有する
ものが優れている。例えばR2としてはエチルー、プロ
ピルー、イソプロピルー、ブチルー、イソー又はt−ブ
チルー、メトキシメチルー、メトキシエチルー又はCH
3−0−(CH2)2−CH2−基が挙げられる。式1
の化合物をその生理学的に認容性の塩の形状で使用すべ
き場合には、塩形成には当業者に公知の、無機並びに有
機塩基が該当する。
塩の製造、:3は相応する酸と塩基との反応により公知
方法て行なう。従つて塩基との生理学的に認容性の塩と
しては金属塩、例えばナl・リウムー、リチウムー、カ
ルシウムー及びマグネシウム塩、並びにアミン塩、例え
ばグルカミンー、N−メチルグルカミンー、N,N−ジ
メチルグルカミンー、エタノ−ルアミンー、ジエタノ−
ルアミンー、モルホリン塩等が該当する。
塩基性アミノ酸の塩、例えばリジンー、オルニチンー、
アルギニンー、ヒスチジン塩等が好適である。
本発明による式1の化合物は造影性物質としてX線造影
剤を製造するか又は該剤中で使用するの.に優れている
化合物はX線造影剤に必要な性質を示す。例えば良好に
水溶性であり、高濃度の水溶液も必要な安定性を示す。
極めて良好な尿路通過性の他に式1の新規化合物は特に
、公知のヨオキシタラム酸(IOxitalamsau
re)(1)と比較した化ノ合物2〜7の例で以下の表
が示す様に僅かな毒性において極立つており、その際試
験はラッチで相応する試験物質の水性メグルミン塩溶液
を用いて常法により実施した:表から本発明による化合
物が公知のヨオキシタラム酸よりも全身的認容性(LD
5O)に関して毒性が少なく、特に神経認容性(大脳認
容性=バルツエリ(Valzelll)一値)において
明白に優れていることが示される。
式1の化合物は卓越した造影作用を有する物質であり、
従つて医療の実地においてX線造影剤として使用可能て
あり、その際遊離酸、塩又は塩混合物の形状で使用して
良い。
極めて良好な水容性及び尿路通過性のために特に尿路造
影、血管造影及びを髄造影法で使用するのが好適である
。本発明による一般式1の化合物は以下の様にして製造
する:公知方法で一般式: 〔式中R1は前記のものを表わす〕の5−アミノー2,
4,6−トリヨードフタラム酸誘導体を式:R2−CO
OH〔式中R2は前記のものを表わ4す〕のモノカルボ
ン酸の反応性誘導体を用いてアシル化し、引続き所望に
より得られる遊離酸を無機又は有機塩基で塩に変換する
モノカルボン酸R2−COOHの反応性誘導体としては
特に相応する酸ノ和ゲン化物(塩化物、臭・化物又は沃
化物)又は相応する酸無水物か該当する。
アシル化反応は極性溶剤中で0〜150′C、特に20
〜100℃で、かつ有利には室温て実施する。
溶剤としては例えばアセトニトリル、クロルベンゼン、
トルエン、ジオキサン、テトラヒドロフラ7ン、ジメチ
ルホルムアミド及び有利にはジメチルアセトアミドが挙
げられる。しかし過剰で使用するアシル化剤を同時に溶
剤として使用することも可能である。アシル化を酸無水
物を用いて実施する場合には反応を触媒量の酸触媒、有
利に鉱酸、ノ例えば硫酸又は過塩素酸又はp−トルエン
スルホン酸で実施するのが有利である。本発明による式
1の酸の変換は当業者に常用の無機又は有機塩基を用い
て同様に公知方法で実施する。
式1の本発明による化合物をベースとする新規X線造影
剤の製造は、造影性物質を場合により生理学的に認容性
の塩基を用いて塩形成下にガレーヌス製薬学で常用の添
加物を用いて静脈内投与に好適な形状にすることを特徴
とする。
ガレーヌス製薬学で常用の添加物としては特に例えばニ
ナトリウムエデテート(Dimatriumede−T
at)及びカルシウムエデテート(Calsiumed
e−Tat)が挙げられる。静脈内投与には結合沃素約
5〜45%を含む溶液、即ち100mt当り式1の造影
作用物質約10〜100gを含む塩溶液を製造して良い
式■の出発物質は例えば公知の5−ニトローイソフタル
酸モノメチルエステルから得られ、これに相応して置換
されているアミンR1−NH2(R1は前記のものを表
わす)を用いて反応させてN一(R1)−5−ニトロー
イソフタル酸にする。
引続きニトロ基を公知方法で接触性ラーニーニツケルの
存在で水素で還元してアミノ基にし、最後に同様に公知
方法て沃素原子3個をKICl2又はCllを用いて導
入する。次に実施例に基づき本発明を詳設する: 例1 N−(2−ヒドロキシー1,1−ジメチルエチル)−2
,4,6−トリヨードー5−メトキシア5セトアミドー
イソフタラム酸a メタノール500m1中の5−ニト
ローイソフタル酸一モノメチルエステル112.改(イ
).5モル)の溶液に2−アミノー2−メチループロパ
ノール(1)191.7m1を添加し、該溶液を攪拌下
に121θ時間還流煮沸する。
この時点で反応は薄層クロマトグラフィー〔薄層系:ト
ルエン/氷酢酸、/酢酸エステル/メタノール(360
/240/240/180)及びジオキシサン/水/濃
アンモニア(700/175/35)〕によれば終結す
る。
次い1:,で真空中で濃縮し、残渣を水250mt中で
活性炭で処理し、活性炭を除去し、攪拌下に濃塩酸で酸
性とし、2,3時間後攪拌する。引続き沈澱物を吸引沖
過し、水で慎重に塩がなくなるまで洗いかつ生成物を真
空下で70℃で乾燥する。N2(−(2−ヒドロキシー
1,1−ジメチルエチル)−5−ニトローイソフタラム
酸135g(理論の96%)が得られる。融点:209
〜210゜C b水800m1中のN−(2−ヒドロキシー1,12−
ジメチル)−5−ニトローイイソフタラム酸98.7g
(350ミリモル)をパーアンモニア175m1の添加
下に溶かし、室温で触媒として10%−ラーニーニツケ
ルを用いて約120気圧(ゲージ圧)て水素化する。
触媒の除去後水素化溶液を3水て充填して39.2fに
し、攪拌下に濃塩酸700WL1を及び2N−KICl
。一溶液700m1を添加し、室温て3日攪拌する。引
続き沈澱物を吸引p過し、水で慎重に後洗浄い、真空中
で70℃で乾燥する。5−アミノーN−(2−ヒドロキ
シー51,1−ジメチルエチル)−2,4,6−トリヨ
ードーイソフタラム酸169.88g(理論値の77%
)が得られる。
融点:275〜276℃(分解下)。
c ジメチルアセトアミド90m1中のメトキシ酢酸2
7.3mL(360ミリモル)に最高10℃で30分以
内に塩化チオニル26.1mt(360ミリモル)を攪
拌下に滴下した。
更に1時間0℃で攪拌した後、該溶液中にジメチルアセ
トアミド90m1中の5−アミノーN−(2−ヒドロキ
シー1,1−ジメチルエチル)−2,4,6−1・リヨ
ードーイソフタラム酸〔融点:275〜276℃(分解
)〕56,7g(90ミリモル)を4紛の経過の間て最
高8℃で攪拌下に少量ずつ添加し、続いて更にO℃で1
時間、次いで一夜にわたつて室温で後攪拌する。次いで
水20mLを添加し、3紛の攪拌の後真空中で濃縮する
。引続き残渣を水540mt中で1時間約80゜Cに加
温し、室温で一夜にわたつて攪拌し、沈澱物を吸収沖過
し、水で洗う。次いで生成物を歩一苛性ソーダ溶液90
mL中で活性炭5gで1時間処理し、活性炭を除去し、
沖液を濃塩酸で酸性にし、室温で田時間攪拌し、吸収ろ
過し、水で塩がなくなるまで洗い、真空中で70℃で乾
燥する。N−(2−ヒドロキシー1,1−ジメチルエチ
ル)−2,4,6−トリヨードー5−メトキシアセトア
ミドーイソフタラム酸56.3g(理論値の89%)が
得られる。融点:285〜286℃例2 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリヨ
ードー5−メトキシアセドアミドーイソフタラム酸a
メタノール1000mL中の5−ニトローイソフタル酸
−モノメチルエステル225.2g(1.0モル)及び
1−アミノープロパノールー(2)310mLを14時
間還流で加温下に例1aと同様にして反応させ、後処理
する。
N−(2−ヒドロキシプロピル)−5−ニトローイソフ
タラム酸221.0g(82%)が得られる。融点:1
95〜196ソC b融点:195〜196℃の前記のN−(2−ヒドロキ
シプロピル)−5−ニトローイソフタラム酸214.5
g(800ミリモル)を△−アンモニア400m1の添
加下に水200m1中に溶かし、触媒として10%−ラ
ーニーニツケルで約100気圧(ゲージ圧)で水素化す
る。
次いで吸引p過して触媒を除去し、濃塩酸1.6e及び
2N−KlCl2一溶液1.6eの添加後室温で3日攪
拌する。沈澱物を吸引枦過し、慎重に塩がなくなるまで
洗い、20℃で真空中で乾燥する。5−アミノーN−(
2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリヨードイ
ソフタラム酸389.3g(59%)が得られる。
融点:247〜248℃(分解下)。c 例1Cと同様
にして5−アミノーN−(2−ヒドロキシプロピル)−
2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸61.59g
(100ミリモル)及びメトキシアセチルクロリド(ジ
メチルアセトアミド中のメトキシ酢酸30.3m1及び
塩化チオニル29m1から新たに製造したもの)とを反
応させる。
N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリヨ
ードー5−メトキシアセドアミドーイソフタラム酸53
.8g(78%)が得られる。融点:263〜265℃
(分解下)。
例3 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6ートリヨ
ードー5−(2−メトキシエトキシアセドアミド)−イ
ソフタラム酸ジメチルアセトアミド60m1中の5−ア
ミノー(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリ
ヨードーイソフタラム酸30.8g(50ミリモル)に
メトキシエトキシアセチルクロリド16.5m1を最高
10℃(氷冷)で攪拌下に3紛以内に滴下し、0℃ノで
1時間かつ次いで室温で■時間攪拌する。
次いで酸塩化物2m1を更に添加し、室温で4時間攪拌
し、水10m1を添加し、真空中で濃縮する。残渣を水
350m1中に溶かし、32?一苛性ソーダ溶液て中和
点に調節し、32%一苛性ソーダ溶液更に5m1を2加
え、活性炭5gの添加後2,3時間攪拌する。活性炭の
除去後濃塩酸て酸性にし、沈澱物を数時間の放置後吸引
沖過し、真空中で乾燥する:収量21.3g(58%)
融点275℃(分解下)。
5例45−ヒドロキシアセトア
ミドーN−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−
トリヨードーイソフタラム酸ジメチルアセトアミド60
m1中の5−アミノ(23−ヒドロキシプロピル)−2
,4,6−トリヨードーイソフタラム酸30.8g(5
0ミリモル)の溶液にアセトキシアセチルクロリド13
.3m1を10℃以下の温度で攪拌下に徐々に滴下する
室温で托時間の攪拌後水10m1の添加後室温で3紛攪
拌し、次い4,で真空中で濃縮する。残渣を新しい水で
数度処理の後水250m1中の歩一苛性ソーダ溶液70
m1で蒸気浴上で攪拌下に鹸化し、冷却後反応混合物を
濃塩酸12.5mLて酸性にし、室温で1時間攪拌し、
はぼ等容量の飽和食塩溶液を添加後4日放置する。次い
で沈澱する沈澱物を吸引ろ過し、出来る限り少量の水で
洗い、真空中で乾燥する:収量17.2g(51%)、
融点:278〜27rC(分解下)。例5N−(3−ヒ
ドロキシプロピル)−2,4,6ートリヨードー5−メ
トキシアセトアミドーイソフタラム酸Alaと同様にし
て、メタノール500m1中の5−ニトローイソフタラ
ム酸−モノメチルエステル112.6g(500ミリモ
ル)を3−アミノプロパノールー(1)147m1ど攪
拌下に■時間反応させ、後処理する。
N−(3−ヒドロキシープロピル)一5−ニトローイソ
フタラム酸119.3g(89%)が得られる。融点1
63〜164℃。
BN−(3−ヒドロキシプロピル)−5−ニトローイソ
フタラム酸93.7g(350ミリモル)を水720m
1+2N−アンモニア180m1中に溶かし、約10直
圧(ゲージ圧)で10%−ラーニーニツケルの添加下に
水素化し、触媒を除き、水で1750m1にし、該溶液
を2時間以内に75〜80℃に加温した。
水4550m11濃塩酸630m1及び94%−ClI
lO5mlの溶液に攪拌下に滴下する。この温度で更に
4時間、次いて室温で田時間後攪拌し、沈澱する沈澱物
を吸引枦過し、これを水で塩がなくなるまで洗い、かつ
真空中で70℃で乾燥する。更に精製するために場合に
よりアンモニウム塩を介して活性炭の使用下に再沈澱さ
せる。5−アミノーN−(3−ヒドロキシプロピル)一
2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸167.9g
(78%)が得られる。
融点211〜210℃(分解下)。
C5−アミノーN−(3−ヒドロキシプロピル)−2,
4,6−トリヨードーイソフタラム酸76.8g(12
5ミリモル)及びジメチルアセトアミド中のイトキシ酢
酸37.9m1/塩化チエニル36.3m1を例1Cと
同様にして反応させる。
N一(3−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリヨ
ードー5−メトキシアセトアミドーアソフタラム酸53
.3g(62%)が得られる。融点:210℃(半融)
〜265℃(分解)。列6 N−(2−ヒドロキシエチル)−2,4,6−トリヨー
ドー5−メトキシアセトアミドーイソフタラム酸例1C
と同様にして5−アミノーN−(2−ヒドロキシエチル
)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸90.3
g(150ミリモル)及びジメチルアセトアミド中のメ
トキシアセチルクロリド(メトキシ酢酸45.5m1/
塩化チオニル43.5mtから新1:ニに製造)と反応
させる:収量84.7g(84%)。
融点:285゜C(分解下)。例7 N−(3−ヒドロキシー1,1−ジメチルプロピル)−
2,4,6−トリヨードー5−メトキシアセトアミドー
イソフタラム酸Alaと同様にしてニトロイソフタル酸
−モノメチルエステル112.6g(500ミリモル)
及び3ーアミノー3−メチルーブタノール(1)224
.3mtからメタノール1000m1中で4時間還流加
熱することによりN−(3−ヒドロキシー1,1−ジメ
チルプロピル)−5−ニトローイソフタラム酸114g
(77%)が製造される。
融点:181〜182℃。BN−(3−ヒドロキシー1
,1−ジメチルプロピル)−5−ニトロイソフタラム酸
88.9g(300ミリモル)を水750mL及び2N
−アンモニア150m1中で約85気圧(ゲージ圧)で
10%−ラーニーニツケルの存在で水素化し、触媒を分
離し、水素化溶液を水で33.61にし、濃塩酸及びヘ
ーKICl2各600mLの添加により室温で3日攪拌
する。
形成される沈澱物を吸引沖過し、水で慎重に塩がなくな
るまで洗いかつ70しCで真空中で乾燥する。5−アミ
ノーN−(3−ヒドロキシー1,1−ジメチルプロピル
)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸150.
2g(78%)が得られる。
融点:253〜255℃(分解下)。
C5−アミノーN−(3−ヒドロキシー1,1一ジメチ
ルプロピル)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム
酸64.4g(100ミリモル)及びジメチルアセトア
ミド中のメトキシアセチルクロリド(メトキシ酢酸30
.3m1及び塩化チオニル29m1から製造)を例1C
と同様にして反応させた。
N−(3−ヒドロキシー1,1−ジメチルプロピル)−
2,4,6−トリヨードー5−メトキシアセトアミドー
イソフタラム酸61.0g(85%)融点287〜28
8゜C(分解下)が得られる。例8 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6ートリヨ
ードー5−プロピオニルアミドーイソフタラム酸例3と
同様にして5−アミノーN−(2−ヒドロキシプロピル
)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸及び塩化
プロピオニルをジメチルアセトアミド中で反応させた。
収率73%。融点:267〜269℃(分解下)。例9 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6ートリヨ
ードー5−バレリルアミドーイソフタラム酸5−アミノ
ーN−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−トリ
ヨードーイソフタラム酸及び塩化バレリルをジメチルア
セトアミド中で例3と同様にして反応させる:収率75
%。
融点:264〜266゜C(分解下)。例10(参考例
)5,5″−(3,6−ジオキサオクタンジオイルジ(
イミノ)−ビス〔N−(2−ヒドロキシー1,1−ジメ
チルエチル)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム
酸〕ジメチルアセトアミド36mt中に溶かした5−ア
ミノーN−(2−ヒドロキシー1,1−ジメチルエチル
)−2,4,6−トリヨードーイソフタラム酸18.9
g(30ミリモル)に0℃で攪拌下にジオaキサオクタ
ン酸ジクロリド2.91m1を少量ずつえ、0℃で1時
間、次に室温て一夜にわたつて攪拌する。
次いで更にジ酸クロリド1.25mtを添加し、室温で
3日後攪拌する。次いで反応混合物を水400m1中に
注ぎ、4時間攪拌後形成される沈澱物を吸・引ろ過する
。これを水225m1中のソーダ22.5gの溶液中に
溶かし、3日攪拌し、溶液を活性炭て処理し、活性炭を
除去後濃塩酸で酸性にする。■時間攪拌後沈澱する生成
物を吸引沖過し、水て塩がなくなるまで洗い、70′C
で真空中で乾燥する:収)量:15.0g(71%)。
融点:285〜286℃(分解下)。
例11(参考例)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中R_1は直鎖−又は分枝鎖低級ヒドロキシアルキ
    ル基を表わしかつR_2はヒドロキシメチル基又はC−
    原子少なくとも2個を含む低級直鎖−又は分枝鎖アルキ
    ル基を表わし、該アルキル基は酸素原子1個又は数個に
    より中断されていて良く、又はR_1が−CH_2−C
    H_2−OH以外のものを表わす場合にはR_2はメチ
    ル基を表わしても良い〕の沃素化イソフタラム酸誘導体
    及びその生理学的に認容性の無機又は有機塩基との塩。 2 N−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)
    −2,4,6−トリヨード−5−メトキシアセトアミド
    −イソフタラム酸である特許請求の範囲第1項記載の化
    合物。3 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,
    6−トリヨード−5−メトキシアセトアミド−イソフタ
    ラム酸である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−ト
    リヨード−5−(2−メトキシエトキシアセトアミド)
    −イソフタラム酸である特許請求の範囲第1項記載の化
    合物。 5 5−ヒドロキシアセトアミド−N−(2−ヒドロキ
    シプロピル)−2,4,6−トリヨード−イソフタラム
    酸である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 6 N−(3−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−ト
    リヨード−5−メトキシアセトアミド−イソフタラム酸
    である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7 N−(2−ヒドロキシエチル)−2,4,6−トリ
    ヨード−5−メトキシアセトアミド−イソフタラム酸で
    ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 8 N−(3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルプロピル
    )−2,4,6−トリヨード−5−メトキシアセトアミ
    ド−イソフタラム酸である特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 9 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−ト
    リヨード−5−プロピオニルアミド−イソフタラム酸で
    ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 10 N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6−
    トリヨード−5−バレリルアミド−イソフタラム酸であ
    る特許請求の範囲第1項記載の化合物。 11 5−アセトアミド−N−(2−ヒドロキシ−1,
    1−ジメチルエチル)−2,4,6−トリヨード−イソ
    フタラム酸である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 12 5−アセトアミド−N−(3−ヒドロキシプロピ
    ル)−2,4,6−トリヨード−イソフタラム酸である
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。13 5−アセト
    アミド−N−(2−ヒドロキシプロピル)−2,4,6
    −トリヨード−イソフタラム酸である特許請求の範囲第
    1項記載の化合物。 14 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中R_1は直鎖−又は分枝鎖低級ヒドロキシアルキ
    ル基を表わし、かつR_2はヒドロキシメチル基又はC
    −原子少なくとも2個を含む低級、直鎖−又は分枝鎖ア
    ルキル基を表わし、該アルキル基は酸素原子1個又は数
    個により中断されても良く、又はR_1が−CH_2−
    CH_2−OH以外のものを表わす場合にはR_2はメ
    チル基を表わしても良い〕の沃素化イソフタラム酸誘導
    体及びその生理学的に認容性の無機又は有機塩基との塩
    を製造するに当り、公知方法で一般式:▲数式、化学式
    、表等があります▼ II 〔式中R_1は前記のものを表わす〕の5−アミノ−2
    ,4,6−トリヨードフタラム酸誘導体を式:R_2−
    COOH〔式中R_2は前記のものを表わす〕のモノカ
    ルボン酸の反応性誘導体でアシル化し、所望により引続
    き得られる遊離酸を無機又は有機塩基で塩に変換するこ
    とを特徴とする、新規沃素化イソフタラム酸誘導体の製
    法。 15 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中R_1は直鎖−又は分枝鎖低級ヒドロキシアルキ
    ル基を表わしかつR_2はヒドロキシメチル基又はC−
    原子少なくとも2個を含む低級直鎖−又は分枝鎖アルキ
    ル基を表わし、該アルキル基は酸素原子1個又は数個に
    より中断されていて良く、又はR_1が−CH_2−C
    H_2−OH以外のものを表わす場合にはR_2はメチ
    ル基を表わしても良い〕の沃素化イソフタラム酸誘導体
    及びその生理学的に認容性の無機又は有機塩基との塩を
    造影成分として含有するX線造影剤。
JP52075362A 1976-06-25 1977-06-24 新規沃素化イソフタラム酸誘導体,その製法及び該誘導体を含有するx線造影剤 Expired JPS6058742B2 (ja)

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