JPH02178291A - 新規オルガノオリゴシルセスキオキサン及びその製法 - Google Patents

新規オルガノオリゴシルセスキオキサン及びその製法

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JPH02178291A
JPH02178291A JP1285071A JP28507189A JPH02178291A JP H02178291 A JPH02178291 A JP H02178291A JP 1285071 A JP1285071 A JP 1285071A JP 28507189 A JP28507189 A JP 28507189A JP H02178291 A JPH02178291 A JP H02178291A
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formula
group
compound
iii
alkyl
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JP1285071A
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English (en)
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Richard Weidner
リヒヤルト・ヴアイトナー
Norbert Zeller
ノルベルト・ツエラー
Bernward Dipl Chem Dr Deubzer
ベルンヴアルト・ドイプツアー
Volker Frey
フオルカー・フライ
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Wacker Chemie AG
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Wacker Chemie AG
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Publication date
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/22Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08G77/48Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 、本発明は、新規オルガノオリゴシルセスキオキサン及
びその製法に胸する。
〔従来の技術〕
オルガノオリゴシルセスキオキサンは、例えばM、C)
・ボロンコツ(Voronkov )七の他者の報文(
Zhur、 0bshchei Khimii 49 
(7)、1522ji(1979年) ; Dokla
dy AkademiiNauk 5a8R281(6
)、1674頁(1985年);P1誉270(4)、
888頁(1983年)〕によって公知である。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の課題は、新規オルガノオリコ9シルセスキオキ
サンを提供することであった。本発明のその他の課題は
、オルガノオリフシルセス中オキサンの新しい製法上開
発することでめった。
丈に本発明の課題は、オルガノオリビシルセスキオキサ
ン【化合反応によって変性することであった。最後に本
発明の課題は、シリコーン及び有機重合体用の新規架橋
剤を提供することであった。
〔課題を触法する次めの手段〕
前記課題は、本発明によシ、式: %式%(1) (式中、2は6.8又は10の数を表し;Rは、z−1
1では式−〇−81イ3の基であってもよいという条件
で、−CHlCHs−X (II)、−CH(CH,)
−X (鳳)又は−〇−81(Fl’II)−Y (I
V) +7)同−又は異なる益vi−表しその際Xは各
々、式:%式%() の1価又は”lta価の基を表し; プは同−又は異なるC1−〜C6−アルキルーC1−〜
C6−フルコキシ又はフェニル基をiし;では、式(V
)又は(VDの基により置換されていてもよい同−又は
異なるC1〜C18−アルキル基を表し; R#は同−又は異なる二価のC工〜CIg−炭化水素基
、有利にはアルキレン−及び/又ハフエニレン基及び/
又は式ニー(イ’、5topn−の基を表し;2はハロ
ダン原子又tiN−結合アミ7基、即ち、−NHI 、
 N −ヒヘリジニルー N−ピペラVニル−N−モル
ホリニル基、C1−−ca −N−モノアルキルアミノ
−又FiCニー〜C3−ガルキルアミノ基七表し; Yは水素原子、へロrン化されていてもよいC,−〜C
l0−炭化水木基又は式(II)又は(組の基金表し、 nは少なくとも1の値の整数全表す) のオルガノオリがシルセスキオキサンを合成することに
よって解決される。
基Vの例は、CニーへC6−アルキル基、例えばメチル
−エチル−n−プロピル−1−プロピル−n−ブチル−
8−ブチル−を−ブチル基、ペンチル基、例えばn−ペ
ンチル−8−ペンチルー ネオ−ベンチルー及びt−ペ
ンチル基、ヘキシル基、例えはn−ヘキシル基;C1−
〜C6−フルコキシ基、例えはメトキシ−エト中シー 
n−及び1−10ボキシー n−8−及びt−ブトキシ
基、n−a−を−及びネオ−ペントキシ基、ヘキンキシ
基、例えはn−へ中ソキシ基;並ひにフェニル基である
基Wとしては、メチル−メトキシ−及びエトキシ基か有
利である。
基Wの例は、アルキル基Vの例として挙けた基、並ひに
ヘゲチル基、例えはn−へブチル基、オクチル基、例え
はn−及び1−オクチル基、ノニル−デシル−ドデシル
−並ひにオクタデシル基である。これらの基は特に、基
Wがメチル−メトキシ−及びエトキシ基である式(V)
及び(Vllの基によって置換されていてよい。
有利には、Wは、同−又は異なるメチル−又はメトキシ
−又はエトキシ基を表し;fは同−又は異なるC1−〜
C14−アルキル基〔これは場合により各々式(V)又
は(VJ)の基によって直換されていてよい〕を表し;
2は塩素−又は臭X原子又aN−ピペリジニル基七表し
:Yは水系原子、ヒニA/−79ルー 5−/ロループ
ロビルー 3−プロムグロビル基又は式+II)又は(
組の基金表す。
特に有利な基Bの例は、下記の式の基であるニーCH,
−CH,−81(CH3)、−0−81(CH5)、、
−CH,2−CHm−8’i (CH3)aOc1H5
、−CHm−CHm−(81(aH,、)aO)n−8
1(CH5)H−CHH−CH2−−CHI−CI(1
−8−nC11H25、−CH2−CH2−8−CHg
−CI’l tz −CH,−81(CH,)(OCH
5)Q、  −CI(、−C’)T、−CH,−C2゜
−0−81(CH!S)、CH−CH,、−0−81(
CHs)tgHs−O−81(CHi)g−5−0−8
1(CHi)、  −0−8i(CH3)s+−(n−
CmHa )−8i(CH3)*−0−8i(CH3)
3、−0−81(CHs)m−(n−C1H4)−8−
n−C12HgB  、  −0−8i(CHs)s−
(n−CaH2ン−8−(n−(4H7)−81(CH
*)(OCH3)a  、  −0−81(CHs)s
−−C2H4−(S L (CH3) s+−0−)n
−81(CH3) g−Cs+H4−81(cHs)*
−〇− 〔式中、nはカギかつこのすぐ後に指数として記載され
ている限りは前記のものを表す〕。
本発明による式(1)の化合物は、幾つかの方法によっ
て製造することができる。
方法(1)二 即ち、式中Bが少なくとも部分的に成田、(1)又はQ
V) C式中Xtm各々式(V)、(Vl)%(VII
I又U (XV)の基であり、Yは式(11又は(釦の
基でめる〕の基である式(11の化合物は、式: (E−(R’al:Jlo)y310s/Jx(R8i
03/s:](s−c)   Cr1.)〔式中、Xは
1〜8の値の整数であり、yは少なくともo1有利には
最高1の値の整数である〕の化合物を、式: %式%() の化合物と反応させることによって製造するこ忠 とができるが、その際、式(財)中の基Eは式■)のの
基Gとは異なるものであり、基E及びGはビニル基であ
るか又は直接珪素原子又は硫黄原子に結合した水xi子
を表す。
前記方法(1)で、Xが各々式(Vl又は(vl)の基
を表す場合(変化方法A、以下では[方法(IA)Jと
略記する)には、反応は有利には白金金属及び/又はそ
の化合物の存在で実施する。
前記方法(1)で、Xが各々、式■又は(XV)の基、
1− &す場合(変化方法B1下記に[方法(IB刀と
略記する〕には、反応は有利には遊離基の存在で、特に
有機過酸化物、アゾ化合物の存在で及び/又は高エネル
ギーを磁線、例えばUV光の照射下に実施する。
本発明による方法(1)の出発物質としては、yが0の
値を有する式へ)の化合物が有利である。
%にオクタビニルオクタシリセスキオキサンが有利であ
るが、これはM、G、ボロンコツその他の方法(zhu
r、 0bshchi Khimii 49 (7)、
1522頁(1979年)〕で入手することができる。
方法(IA) : 白金金属及び/又はその化合物としては、金属白金、パ
ラジウム、ロジウム及びイリジウム、その合金及び化合
物並びにその混合物が有利である。特に単独でか又は担
体付きの、白金、その化合物及び合金が特に有利である
。この場合に、直接81原子に結合した水素原子を脂肪
族不飽和化合物に付加す;b*めに、これまで使用され
次全ての胆媒會使用することができる。この極の触媒の
例は、担体、例えは二酸化珪素、酸化アルミニウム又は
活性炭上に存在していてよい金属性の微細な白金、白金
の化合物又は錯体、例えは白金ハロゲン化物、例えばP
tC2,、Na、PtCt、 秦4H,O、白金−オレ
フィン−錯体、白金−アルコール−錯体、白金−アルコ
−ルー錯体、白金−エーテル−錯体、白金−アルデヒド
−錯体、白金−ケトン−錯体、最後にHIPtCl、秦
6H!10及びシクロヘキサノンから成る反応生成物、
白金−ビニルシロキサン錯体、特に検出可能な無機結合
戸口rンを含有するか又はそれt有さない白金−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン錯体、ビス−(γ−ピコリ
ン)−白金ジクロリド、トリメチレンジピリジン白金ジ
クロリド、ジシクロペンタジェン−白金ジクロリド、ジ
メチルスルホキシドエチレン白金(It)ジクロリド並
びにオレフィンと第一アミン又は第二アミン又は第−及
び第二アミンの反応生成物、例えば1−オクテン中に溶
かし九四塩化白金と8−ブチルアミンからの反応生成物
又は欧州%rf(gp−B)鶴110570号明細簀に
!るアンモニウム−白金錯体である。
白金触媒は有利には、各々元素の白金に換算して及び式
(財)の化合物の重量に対して0.5〜500X1pp
m (1万重重部に対す、6m重部)の菫で使用する。
方法(1A)は、有利には、−度20OS120°C1
特に30℃〜100℃で実施する。この方法は周囲の大
気圧、すなわち約Q、i MPa (絶対〕で行うこと
ができるし、これより高い圧力又は低い圧力で実施する
こともできる。有利には圧力0.02〜0.2 MPa
 (絶対)、特に0.08〜0.15MPa (絶対)
である。
前記方法(1A)により、主として本発明による化合物
が得られるという事実は意外といえる。
ボロンコツその他(Doklady Akademii
 Nauk(58SR)第270巻、第4査、888〜
890!(1983年);プレナム・パブリツシイング
・コーポレーシヨン(Plenum Publishi
ngCorporation )による英語版、185
〜186頁(19E1年))a、オクタビニルオクタシ
ルセス中オキサンのビニル基をヒドロシリル化すること
はできないと報告した。
方法(IB) : 本発明による方法の変法Bで有利に使用される遊離基源
としては、過酸化物、特に有機過酸化物が有利である。
この粕の有機過酸化物の例は、ペルオキシケタール、例
えは1.1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−3,3,
5−1リメチルシクロヘキサン、2.2−ビス(t−ブ
チルペルオキシ)ブタン等、ジアシルペルオキシド、例
えば過酸化アセチル、過酸化インブチル、過酸化ベンゾ
イル等、過酸化ジアルキル、例えばジ−t−ブチルフル
オキシド、t−ブチル−クミルペルオキシド、過酸化ジ
クミル、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)へΦサン等及び過酸エステル、例えばt−ブ
チルペルオキシイソプロビル−カーボネート及びt−ブ
チルペルベンゾエート、並びにアゾ化合物、例えはα、
α′−アゾビスイソブチロニトリルである。
有利には過酸化物又はアゾ化合物は、各々、式(社)の
使用される化合物のX量に対して、0.2its〜2]
1[f%、特に0.51蓋チ〜1.31童チの童で本発
明による方法に使用される。
方法(1B)は、有利には温度0°C〜200℃で、特
に20°C〜150℃で実施される。この方法は周囲の
大気圧、すなわち約Q、1MPa (絶対)で実施する
ことができるが、これより高い圧力又は低い圧力で実施
してもよい。有利には圧力0.02〜0.2 MPa 
(絶対)、特に0.08〜0.15 MPa (絶対〕
テオル。
方法(1)は、その変法A及びBも含めて、溶剤の存在
下にか又はそれなしで実施することかできる。溶剤を使
用する場合には、Q、I MPaで120℃までの沸点
又は沸点範囲を有する溶剤又は溶剤混合物が有利である
。この株の溶剤のNHd、水;アルコール、例えばメタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、イソ−プロパ
ツール;エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエー
テル;塩素化炭化水素、例えはジクロルメタン、トリク
ロルメタン、テトラクロルメタン、1.2−Pクロルエ
タン、トリクロルエチレン;炭化水素、例えはペンタン
、n−ヘキサン、ヘキサン−異性体混合物、ヘプタン、
オクタン、洗浄ベンジン、石油エーテル、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン;ケトン、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチル−イソブチルケトン;二硫化炭素及
びニトロベンゼン又はこれら溶剤混合物である。
「溶剤」は、全ての反応取分がこの中に浴けなければな
らないというととt意味するわけではない。反応を反応
成分の1種又は数株の懸濁液又は乳濁液中で行9ことも
できる。反応を混合間Nを有する溶剤混合物中で実施す
ることもできるが、その際各混合相に各々少なくとも1
極類の技応成分が可溶性である。
方法(1)の変法Aには中性溶剤又は溶剤混合物が特に
有利である。
方法(2): 式中、Bが式(■)〔式中Xは各々式(鴇)の基を表子
〕の基である式中の化合物を製造すべきである場合には
、これは有利には、式: %式%() 〔式中、Qは同−又は異なる基、即ちC1−〜C6−ア
ルコキシ基又はへロr:/原子、有利には塩素−又は臭
素原子を表す〕の化合物を極性のプロトン性溶剤及び触
媒としての酸又は塩基の存在で反応させることによって
行われる。
式頭巾の基Qの有利な例はメトキシ−及びエトキシ基並
びに塩素原子である。
触媒としては特に酸が有利である。
識の例は、ルイス酸、例えばBFr5、AtCts 5
TiC1,,5nCj4、BO2、pct5、pocz
、s% F+11C4及びその水和物及びZnCtll
、塩化燐ニトリル;ブレーンステズ酸(Br15nst
edt−8Aure )、例えば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、クロルスルホン酸、燐酸、例えばオルト−メタ−及
びポリ燐酸、硼酸亜セレン飲、硝酸、酢酸、プロピオン
酸、ハロゲン酢酸、例えばトリクロル−及びトリフルオ
ル酢酸、蓚酸、p−トルエンスルホン酸、酸性イオン交
換体、酸性沸石、酸活性化捺布土、酸活性化カーボンブ
ラック、弗化水素、塩化水素等である。
溶剤としては、方法(1)用に挙げ九極性のプロトン溶
剤、特に前記したアルコール及び水が有利である。
方法(2)は有利には温度−10°C〜+40℃、特に
00C〜25℃で実施する。この方法は周囲の大気圧、
すなわちQ、I MPa (絶対〕で実施することかで
遣るが、これより高い圧力又は低いMPa (絶対)で
ある。
方法(31: z−1まで式(1)のii[、Rが式−o−stR′、
、 テロ ツテもよいという条件で、Bが式(IV)の
基を表子式(11の化合物を製造すべきである場合には
、これは有利には、式(Xll) : (W4NO8103/2)z      (Xll)〔
式中、Wは同−又は異なるC1−〜C4−アルキル基七
表し、2は6.8又は10、有利には8の数を表す〕の
珪酸塩を式(XI) :C81(R’、)−Y    
               (XI)及び/又は式
(XIV) : NC81(R′2ン−y )、           
    (XIV )の化合物と、場合により式(XV
υ: LSi(R’s)         (XVI)及び/
又は(X鴇): M(si(R’!1l))2(XVII)の化合物と混
合して、反応させることによって行われるが、その際、
前記式(XI)、(XIV)、(XVI)及び(x■〕
中、LflI価の基、即ち、ヒドロキシル基又は場合に
より各々C原子12個までt有するアルキル基2個まで
によってに供されているアミノ基七表し;Mu211t
Oの基、即ち場合によジC原子12個までを有するアル
キル基により1に換さnたイミノ基、式−〇−又は−N
H−Co−NH−の基を表し、イ及びYは請求項1にb
じ軌したものを表す。
4q 利にはLはヒドロキシル基七表し;有利にiMは
式−〇−の基を示す。
式(X11)の珪酸塩の製造は、D、ヘープペル(Ho
ebbel )及びW、ビーカー(Wieker ) 
Cツアイトシュリフト・7ユア・アンオルガニッシュ・
クント・アルダマイネ・ヒエミー(Zeits−chr
ift ft1r anorganische and
 allgemeineChemie ) 第554巻
、46〜52頁(1971年)〕及びIn”セガワ(H
asegawa )及びS。
サッカ< Bakka ) (ジャーナル・オプ・モレ
キュラー リキツズ(Journal of Mo1e
cularLiquids ) 第34巻、307〜3
17頁(1987年)〕により詳説されている。例えば
珪酸テトラエチルを水性メタノール中でテトラアルキル
アンモニウムヒドロキシドの存在で加水分層することに
よって製造することができるか、その際、テトラアルキ
ルアンモニウムヒドロキシドを適切に選ひ、反応成分の
1童比を変えることによって、2が6.8又は10を表
す式(Xll)の分子tV選択的に製造することができ
る。
本発明による方法(31は、儒利には、酸性触媒の存在
で実施される。
この種の酸性触媒の例は、方法(2)で酸の例として記
載し次物質、特に塩酸である。
方法(3)は有利には溶剤、特に極性の、プロトン注解
剤中で実施される。この種の溶剤の例は、方法(2)用
に有利な例として挙げた浴剤である。
浴剤としては、方法(1)用に前記し7を極性プロトン
性溶剤、特にそこに挙げたアルコール及び水である。
式(Xll)の珪酸塩を式(XIV、)の化合物と、場
合により式(X■)の化合物と混合して、反応させるこ
とが特に有利である。
式(XIV )の化合物として特に有利なものは、1.
3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3,3−テトラメチルシフ0キサン並ひ
に1.6−ジ(r−クロルプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサンである。
式(XVII、lの化合物として特に有利なものはへキ
サメチルジシロキサンである。
方法(3)は有利には視度−10℃〜+70’C。
時に0 ’C〜40°Cで実施する。この方法は、周囲
の大気圧、即ち約Q、1MPa (絶対)で行うことが
できるが、これより筒い圧力又は低い圧力で実施しても
よい。0.08〜0.2 MPa (絶対ハ特に0.0
9〜0.15 MPa (15対)の圧力が有利でおる
方法(41:。
z−1までは式(りの基Rが式−〇−81R’q O基
であってもよいという条件で、Rが式(V)の基を表し
、及び2が8又は10の数を表す式(11の化合物を製
造する場合には、これは、有利に線、式%式%): 〔式中Wは式(V)及び(9)に記載したものヲ表し、
Wは8又は10の数を表す〕の珪酸基音「方法(3)」
の節に記載しに式(Xlll)及び/又は(XIV)の
1a又は数種の化合物と反応させることによって行われ
る。
式(XVIm)+7)化合物としテfl、特に、式(X
IX) :((CH3)s8108103/2〕v  
    (X■)〔式中、Wは式(XVI)に記載した
もの1&し、有利には8の値會有する〕のようなものが
有利である。
式(X■)の化合物の製造は、「方法(3)」の節で引
用し一7tD、ヘープペル及びW、ビーカーの轍叉に記
載されている。これは、式(Xll)の化合物全酸性の
、インプロパノールを官有する溶液中でヘキサメチルジ
シロキサンを用いてシリル化することによって行われる
式(XVIII)の化合物、特に式(XIX)のような
ものt式(XIV)の化合物と反応させることが有利で
ある。
式(XIL)の化合物としては、特に、1,6−ジビニ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1.
1.5,5−テトラメチルジシロキサン並びに1.6−
ゾ(r−クロルプロピル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサンか特に有利である。
有利には方法(4)は酸性触媒の存在で実施する。
酸性触媒としては、「方法(2)」の節で例として挙け
たプレーンステズ酸及びルイス酸、特に酸活性化漂涌土
、HCL及び酸性巨大綱状樹脂(5aure makr
oretikulare Harze ) 、例えはア
ンバーリスト< Amberlyat )R15(D 
−4054ネツタール在ヤンセン・ヒミカ(Janss
enChimica )の製品〕が有利である。
反応は、溶剤なしに行ってもよいし又は溶剤として反応
体(Reaktenden ) t−用いて(これは有
利であ;b)行ってもよい。(付加的に)溶剤を使用す
る場合には「方法(IB)Jの節に記載した溶剤(混合
物)が有利である。
方法(4)ハ、有利Kflfa[−20°C〜+200
9C特に20℃〜100℃で実施する。この方法は対゛ 周囲の大気圧、即ち約0.1 MPa (絶γ)で行う
ことができるが、これより高い圧力又は低い圧力で実施
することもできる。0.08〜0.2MPa対 (絶対)、特に0.09〜0.15 MPa (杷体)
の圧力が有利である。
反応終了後に、7!!媒を使用した場合に鉱、有利には
これを除去する。触媒が固体であり、反応混合物中に不
溶性である場合には、有利にはM斜、濾過又は遠心分離
に工ってこれを除去すゐO 引続いてか又は同時に有利には、使用した場合は溶剤及
び/又は反応しなかった出発物質を反応混合物から、特
に蒸留によって、除去する。
使用: 本発明による又は本発明の方法により製造することかで
きる及びその他のオルガノヘキサシルセスキオキサン、
オルガノオクタシルセスキオキサン及び/又はオルガノ
デカシルセスキオキサン(これらのオルガノ基はオレフ
ィン性不飽和であるか又は直接珪:Ig原子又は硫黄原
子と結合した水素原子及び/又は直接珪素原子と結合し
たアルコキシ基を含有する〕は、夏合体、特にシリコー
ンの架橋剤として使用することができる。
前記反応取分及び助剤は本独でか又は混合物として使用
することができる。例えは式(IX)の化合物、式圓の
化合物、式(至)の化合物、式(Xll)の化合物、式
(XI)の化合物、式(XfV)の化合物の混合物上使
用することができ、触媒、浴剤、有機過酸化物又はア・
l化合物の混合物上使用することができる。
次に実施例につき本発明を詳説するが、実施例9他に記
載のない[り、 a)量は全てi−tであり; b)圧力は全て0.10 MPa (絶対) テh !
+ pc)温度は全て20℃である。
例  1 オクタビニルオクタシルセスキオキサンとペンタメチル
ジシロキサンとの反応 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを有する、内容10
0紅の三實フラスコ中にkXW囲気下テ、トルエン50
勘中に静かしたオクタビニルオクタシルセスキオキサン
(最初に記載したボロンコツの引用文にLり製造するこ
とができる)2.00 & (6,16,10−3モル
)食前もって装入し、触媒(1勤轟す白金40〜を含有
する白貧−オレフインー錯体の溶液)0.031m1加
えた。
フラスコ同容物’に80°Cに加熱し、引続きペンタメ
チルジシロキサン(D−8(JOOずエンヘン22在ペ
ツカーヒエミー社(Wacker −Chemie G
mbH)の製品) 7.50 、? (50,56X1
0づモル)’lf−徐々に滴加した。次いで触媒層液0
.0317を更に添加した後、80℃で6時間攪拌した
。トルエン及び過剰のペンタメチルジシロキサンの除去
後、粗製付加生成物5.71 #が得られ、これはエタ
ノールから再結晶させることにより更に精製することが
できた。
収ffi : 2.399(理論値の42%)。
その際得られた生成物は結晶性であり、融点86〜84
°Cを有する。
lH−NMR−データによれば約9.2モル係のα−付
加が行われる。このゲル透過クロマトグラムは、同一な
りlJ質に特異市な狭い半減値幅を示す。
”li−NMR−スペクトルでビニルM奮の81原子は
もはや検出されない。
IRスペクトル: 113 Dcm−1でシロキサン檻
骨格(811oxankifiggeruste )の
不斉に31−0−81−伸張振動。
例  2 オクタビニルオクタシルセスキオキサンとジメチルモノ
エトキシシランの反応 例1に記載し友ようにして、トルエン32a6中に溶か
L7tオクタビニルオクタシルセスキオキサン2.50
.9 (3,95X 10″″3モル)を前もって装入
し、触媒溶液(1継当ジ白金10■金言有する、例1の
ような触媒)0.02d?加え、90°Cに加熱し、ジ
メチルモノエトキシシラン6.6 g(63,46X 
10−3モル)先途々に滴加した。東に触媒溶液CJ、
Q21!11の添加後、6時間80〜90℃で撹拌した
。トルエン及び反応しなかったシランを除去し几後、高
粘性油状物5.411(理論値の96チ)が得られた。
”H−NMFI−データによれば約9.5モル係のα−
付加が行われた。ゲル透過クロマトグラム、lH−29
81−NMR−及びIR−データにより、付加生社物の
生成が確認され次。
例  6 α、ω−H−ポリゾメチルシロキサンのオクタビニルオ
クタシルセスキオキサン食用いる架橋オクタビニルオク
タシルセスキオキサンtα。
ω−H−ポリジメチルポリシロキサン(ジメチルシロキ
シ本位の平均数五−200)とモル比1:4で、この2
つの成分に相応する重量のクロロホルムの箔加下に混合
して均一な溶液にし、使用し九オクタビニルオクタシル
セスキオキサンに対して36]iLt%の触媒溶液(例
1と同じであるが11Lt当り白金含量は1岬である触
媒)を加え九。この溶液を、常圧で40℃に2時間加熱
しfc後に、約2nの厚さのフィルムが生じるようなノ
輪厚でガラス支持体上に塗布した。こうして得られ7’
C透明なフィルムは架橋しており、エラストマー特性を
示す。前記条件ではあるがオクタビニルオクタシルセス
キオキサンは齢加してない比較実験によっては架橋は起
らなかった。
引続き、架橋したフィルムを、常圧で100”Cで2時
間及び真空中(100Pa)で100℃で12時間後処
理して、残りの溶剤を除去した。
架橋度t−特性付けするために、下記のように定義され
る、DIN53521にエフ反復平衡膨潤値(Glei
chgewichtsqullwerk ) 1 / 
Q ’k”用いた; 1/Q−− −a a:完全に乾燥された後の膨潤した試料の重電b:膨潤
した試料のXt 架橋したフィルムの試料上トルエン中で25′Cで12
日間膨潤させた。完全に乾燥させ友後の膨潤しなかった
試料l童と膨潤された試料重重から、架橋されなかった
宮仕11−測定することができた。
6回の測定の平均値: 1/Q −0,355;可醗性含分:3.7%。
例  4 オクタビニルオクタシルセスキオキサンへの1−ドデカ
ンチオールのラジカル性付加 オクタビニルオクタシルセスキオキサン2g(5,2X
 10−’モル〕をトルエン50μに溶かし、1−ドデ
カンチオールCD−4054ネツテタール流ヤンツエン
・しミカのlLf品) 5−311(26,2×1O−
3−E−ル)及びa、a’−アゾヒス−イソブチロニト
リル25tlQt−加え、窒素雰囲気下で6時間80℃
に加熱した。減圧下にトルエンを除去した後固体残! 
7.26.9が残留した。
lH−NMR−及び29Si−NMR−データにより、
シロキサン檻骨格の保持下のビニル基へのSH基の付加
が確認された。
例  5 オクタビニルオクタシルセスキオキサンへのr−メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシランの付加 オクタビニルオクタシルセスキオキサン・2.F(3,
2X 10”−3モル〕ケトルエン60μ中に解かし、
r−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランCD−
8000#ユンヘン在ヘツカー・ヒエミー社でペラカー
 シラン(wac)cer811an ) G F 7
5として入手できる) 4.64.9(25,7X 1
0″″3モル)?:加え、輩巣雰囲気下で25℃で6時
間水銀浸漬ラングで照射し九。
引続き過剰のシラン及びトルエン11−減圧下に蒸曽す
ることによって除去した。
残虐として粘性油状@ 6.681が残留し九。
IH−NMR−及び”981−NMIR−データから、
シロキサン檻骨格の保持下でのビニル基への8H基への
付加が確認され几。
例  6 オクタ(r−クロルプロビルノオクタシルセスキオキサ
ンの合成 滴下ロート會有する内容21のフラスコ中にメタノール
IJt−前もって装入し、r−クロルプロピルトリクロ
ルシランCCD−800Cユンヘン在ベツカー ヒエミ
ー社のベラカー シラン GF15として入手できる)
45.9’に徐々に加えた。製塩m28μの癌加後、反
応混合物を室温で攪拌した。
数時間後に結晶沈澱物が生成したが、これを12日後に
吸引濾過し、メタノールで洗浄した。
収友は7.15 &(1Mtd値の26%)であツタ。
生成物社融点206℃金有する。jk索官童 理論値:
 27.4%、実測値: 27.6%。ガスクロマトダ
ラムは単分数化合物を示した。IR−IH−及び”SL
−NMFI−データ及び蒸気圧浸透圧計によるダラム分
子量測定(実測値:9.5091モル、理論値: 10
36!I1モル)により、オクタ(r−クロルプロピル
〕オクタシルセスキオキサンの生成が確認された。
オリがシルセスキオキサンの製造は、r−クロルプロピ
ルトリメトキシシランから出発して打うこともできる;
この場合に3 ′b!fi月間反応δせた後に、理嗣値
の40%の収率が得られた。
例  7 オクタ(r−クロルプロピル〕オクタシルセスキオキサ
ンとピペリジンの反応 R流冷却益及び内部總度訂を有する自答1001idの
フラスコ中で、オクタ(γ−クロルプロピル〕オクタシ
ルセスキオキサン79 (6,76X10づモル〕にピ
ペリジン70 & (0,822毎ル)を加え、窒素雰
囲気下で16時間絶えず攪拌しながら105℃に加熱し
友。引続き、生じた固体(ピペラジン塩酸塩及び所望の
生成物の一部)を吸引濾過し、濾液全滅圧下で蒸発濃縮
し7′c(残渣4.12 g)。濾過残渣をピペリジン
塩飲塩を除去するために水で数回洗浄し次。粗[1!l
l!生成物合計9.02.9 (理論値の94チ〕が生
じた。これ金へブタンから再結晶させ友。
lH−NMR−スペクトルによって、r−クロルピロピ
ル基の完全な求核的直換が確認された0例  8 オクタ(ビニルジメチルシロキックオクタシルセスキオ
キサン((HsC−CH)(CHa)s810sios
/2 )aの合成 (at  沈降珪酸82.2.9に10俤の水性テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド済11250μを加え
友。混合物音25℃で16時間及び50℃で8時間攪拌
した後、透明浴液が得られた。この溶液上濃縮して出発
容製のTにし、得られた珪酸テトラメチルアンモニウム
を4°Cで結晶化させた。なお水を含刹する珪酸テトラ
メチルアンモニウム559.5 gが得られ友。
(b)  この珪酸テトラメチルアンモニウム160g
h%HtaO450μ、イソプロパツール1000tu
、1.5−ジビニル−1,1,5,5−テトラメチルジ
シロキサンCD−8000ミユンヘン在ベツカー・ヒエ
ミー社のベラカー・シロキサンvS1−2として入手で
きる)1700517(1387g)及び製塩[550
517から成る、良く攪拌し次混合物に少量ずつ重加し
、引続き反応混合物上室温で7日間攪拌し友。次いで相
七分虐し、有機相を水で洗浄して中性にし、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥させ、完全に蒸発乾固した。残/fkエタ
ノールから再結晶させる。島状物質(使用した珪酸に関
して塩1liiI値の691)649が得られ、これは
蒸気圧浸透圧計による測定によυグラム分子1t112
091モルを有する。
GPC−ダイアグラムは均一な化合物を示した。
’H−”81−NMR−及びIFI−データは、オクタ
(ビニルジメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン
の構造と一致した。
例  9 オクタ(ジメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン
(H(CH!5)a8108103/Q〕sの合成例8
 (alにより製造し次珪酸テトラメチルアンモニウム
160IIを、H,0400μ、イソプロパツール1o
ooILt、11152e2−テトラメチルジシロキサ
ンCD−8000#ユンヘン在ヘツカー−ヒエミー社の
ベラカー・シロキサンL11.として入手される〕15
001J及び10係の塩酸20OJI&から成る、良く
攪拌した混合物に少量ずつ加え、引続き反応現付物七室
温で4時間攪拌し喪。
引続いての後処理は、例8bに記載したようにして行つ
友。得られたシリル化生成物をアセトンから再結晶させ
る。
結晶物質52.09 (使用した珪酸に対して、理論値
の67%)が得られたが、これは蒸気圧浸透圧計による
測定によυグラム分子量1150g1モルを有し友。(
)PC−ダイアグラムは均一な化合物を示した。lH−
29SL−NMR−及びIFI−データはオクタ(ジメ
チルシロキシ)オクタシルセスキオキサンの偽造と一致
した。
活性水素含分:理論値: 0.79重tチ、実測値0.
75Xj口。
意外にも、前記反応条件では直接Sin子と結合した水
素原子の脱離は行らなかつ次。
例10 オクタ(r−クロルプロピルジメチルシロキシ〕オクタ
シルセスキオキサン (CACHgCH2CH2(CHs )s810810
q/a 〕sの合成例8(a)によV製造しfc珪飲テ
トラメチルアンモニウム7.8 g41”、 HpO2
01u、インクロバノール60紅、1.6−ノ(r−り
aルプロビルフ−1,1,2,2−テトラメチルジシロ
キサン100μ<999)及び濃塩酸60酩から成る、
良く攪拌し7’C混合物に少蓋ずつ加え、引続き反応混
合物を室温で48時間攪拌した。
次いで相七分離し、有機相上水で数回洗浄し中性にし、
硫酸ナトリウム上で乾燥させ、引続き過剰のジシロキサ
ンを減圧で蒸発除去した。
残渣として粘性の無色液体4.5Iが残留したが、と9
はGPC’−lH−及び2gS i−NMR−データに
よれは所望の化合物を高含量で言句し友。
例11 オクタ(ビニルジメチルシロキンノオクタシルセスキオ
キサン(例8により得られた)とペンタメチルジシロキ
サンの反応 窒素雰臼気下でトルエン15!u中のオクタ(ビニルジ
メチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン1.5 &
 (1,2X 10−3モル)にペンタメチルジシロキ
サン2.8.9 (18,9X 10−3モル)會加え
た。触媒#g(#液1#!6当g白金0.2〜のpt言
tを有する、CH、CL 、中のノルボルナジェン−p
t−錯体) 2−25ffiJkl15m加した後、反
応混合物を4.5時間65゛Cに加熱した。
引続き、トルエン及び過剰のペンタメチルジシロキサン
七真空中で蒸発除去し友。粘性粗生成物の収ii : 
2.949 GPC−及びlH−NMR−データによりヒドロキシル
化反応の経過が確認され几。”H−NMR−スペクトル
の評価から10モモルのα−付加生成物の含分が判明し
た。
例12 オクタ(ビニルジメチルシロキシ)オクタシリセスキオ
キサンへの1−ドデカンチオール(D−4054ネツテ
タール2在ヤンツエン・ヒミカで入手)のラジカル性付
加 宣系雰囲気下に、トルエン50紅中のオクタ(ビニルジ
メチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン(例8によ
り製造した) 4 g (3,3x101モルノに1−
ドデカンチオール5.4g(26,7X10−’モル)
及び(X、(!’−7デービスイソブチロニトリル25
IvJを加え、8.5時間80”Cに加熱した。
引続きトルエンを減圧下に蒸発除去した。残渣として油
状生成物が残誼した。GPC−IH−NMR−及び”1
31−NMR−データによって、1−ドデカンチオール
が檻骨格の保持下にビニル基に付加きれたことが確認さ
れ次。
例13 r′″メルカプトグロプロジメテルメトキシシランのオ
クタ(ビニルジメチルシロΦシ〕オクタシルセスキオキ
サンへのラジカル性付加窒素雰囲気下にトルエン25励
中のオクタ(ビニルジメチルシロキシ〕オクタシルセス
キオキサン(例8により製造し7t)2.li’(1,
6x10弓モル)にr−メルカプトプロピルジメチルメ
トキシシラン2.35 II(14,3X 10−+3
モル)t−加え、25℃で5.5時間水銀浸漬ラングで
照射した。
引続きトルエン及び過剰のシラン會減圧で蒸発除去した
残渣として粘性油状物4.2yが残留した。分析データ
(lH−NMR,2981−NMR)から二1結会への
メルカプト基の付加が確認された。
例14 α、ω−■−ポリジメチルシロキサンのオクタ(ビニル
ジメチル7aキシノオクタンルセスキオキサンを用いる
架橋 オクタ(ビニルジメチルシロキン〕オクタシルセスキオ
Φサンを各々、異なる平均鎖長勿有するα、ω−H−ポ
リジメチルシロキサン(ジメチルシロキシ単位の平均数
五:8.34.95.200)とモル比1:4で、オク
タ(ビニルジメチルシロモル〕オクタシルセスキオキサ
ンを溶かすために十分な量のトルエンの6加下に混合し
て均一な溶液にし、オクタ(ビニルジメチルシロキシ)
オクタシルセスキオキサン1モルに対して触媒浴液(1
−オクテン1財当り Pt 10啼のpt含倉を有する
、pt、−オレフィン−錯体の溶W)4911L’を加
え友。溶液t1常圧で1時間100℃に加熱した後に約
5鴎の厚さのフィルムを生じるような層厚でガラス支何
体に塗布し皮。残りの溶剤を除去するために、架橋し九
フィルム會引続き15時間100℃で真空下<100P
&)で後処理した。
使用されたα、ω−H−ポリジメチルシロキサンに応じ
て、架橋したフィルムは脆性からエラストマー筐での特
性を有し友。架橋度t%性付ける九めに架橋し几フィル
ムを25℃で12日間トルエン中で膨潤させた。
下記表に評細なデータt1とめた。
例15 ((C1(〆H)81(CH!S)20)x((CHs
)3SiO)g−1(8103/、)Hの合成 例8 a)により製造し7を珪酸テトラメチルアンそニ
ウム30.9を、HQO72μ、イソ10パノール18
0Iu、濃塩酸90a、ヘキサメチルジシロキサン13
4.2jlシ(102,1& −0,63モル〕及び1
,6−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン143.6 a6 (117,1、? −0,6
3モル)から成る、良く攪拌しfc混合物に少菫ずつ加
え、引続き反応混合物上24時間室はで攪拌した。久い
て相を分離し、有機相を水で数回洗浄して中性にし、硫
酸す) IJウム上で乾燥させ、謹過し、先金に蒸発*
縮し、80℃/100Paで乾燥δせた。
結晶物質13.62.9が得られたが、これはガスクロ
マトグラムによれは、J!4なるfIL換分會有1°ル
珪敞オルガノシリルエステルの混合物である。
例16 ((CHa−CH)SL(CH!1)QOExc(CH
s)a810〕@ −X(8tor<72 )aの合成 オクタ(トリメチルシaキシ〕オクタシルセスキオキサ
ン〔D、ヘープペル、W、ビーカーツアイトシュリフト
・フェア・アンオルが一二ッシエ・ラント・アールダマ
イネ・ヒエミー684巻、46頁(1971年)により
得られる) 1 g(8,85X 10−4モル)11
e6−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン50μ(40,5,9−0,217モル)に溶、
かじ、酸活性化徐布土(D−8000tエント ヒエン在、ジュー2・ヒエミー社(Fa、 8iid 
−Chemie ) トンシルーオツチムム(Tons
ilOptimum ) FF ) 0.111 k加
え、混合物全60℃で2時間撹拌する。引続き触媒を濾
別し、浴剤t−蒸留により除去し友。残漬として結晶物
質1.01gが残笛したが、これはガスクロマトグラム
によれは、異なるfil換分?!−胸する前記組成の珪
酸オルガノシリルエステルの混合物でめる。
例17 デカ(ジメチル70キシ〕デカシルセスキオキサン(H
81(CHi)a08103/a)ioの合成(a) 
 珪酸テトラ−n−ブチルアンモニウムの合成 40%の水酸化テトラ−n−ブチルアンモニウム水浴液
CD−7910ノイーウルム(Neu−Ulm ) 7
 ルカ社(Fa、 Fluka ) ) 490 & 
(5001u)’を水700111Bで希釈し、テトラ
エトキシシラン223.2 & (238,7紅−1,
07モル)を徐々に加えた。引@含混合物に24時間室
県で攪拌し友。その後蒸留により最初の全菫の64.9
9に濃縮し、このm液t4℃で結晶させた。
(b)  シリル化 (a)により製造しfc珪酸テトラ−n−ブチルアンモ
ニウム501’t、1.1.5.5−テトラメチルジシ
ロキサン(D−8000ミユンヒエン在、ペラカーヒエ
ミー社のベラカー シロキサン)IS i、とじて得ら
れる〕250勘(189,6g)、ジメチルクロル7ラ
ン160ν(112,2I)及びインプロパノール50
継から成る混合物に、5℃で徐々に加え次。引続き室温
で6.5時間攪拌した。次いで氷水500mB’(加え
、有機相倉洗沙して中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥
させ、は別し、浴剤t−60℃/ 1500Paで除去
した。粘性の結晶物* 8.5 &が残愉した。
少量の1.1.5.5−テトラメチルジシロキサンから
晶出させることによって、標組化合物1.86.!9(
m論値の25チ)が侍られた。
分析データはデカ(ジメチルシロキシ)デカシルセスキ
オキサンの構造と−afる。
例18 デカ(ビニルジメチルシロキシ)デカシルセスキオキサ
ン((H2O2)(CH3)g8108103/JxO
の合成例17に一、工程(b)で1.1.3.3−テト
ラメチルジシロキサン及びジメチルクロルシランの代わ
りに等電の1,6−ジピニルー1,16.6−テトラメ
チルジシロキサン及びビニルジメチルクロルシラン七使
用して、繰返した。
標總生成物が得られた。
例19 へΦす(ジメチルシロキシ〕ヘキサシルセスキオキサン
(HBi(CH)10Si03/*]sの合成la) 
 珪酸テトラエチルアンモニウムの合成40チの水酸化
テトラエチルアンモニウム水fli(D−7910ノイ
一ウルム在フルカ社〕412&(40[JInt)k水
200紅で希釈し、テトラエトキシシラン225 g(
240,6μ−8i1.08モル)全体々に加えた。引
続き室温で24時間撹拌した。次いで蒸留により元の混
合物の45.2優に濃縮し、溶液を4℃で結晶させた。
(bl  シリル化 1.1.5.5−テトラメチルジシロキサン(ベラカー
 ヒエミー社)80%シ(60,6,9)、ジメチルク
ロルシラン(ペラカー ヒエクー社のベラカー シラン
M2)80紅(69,1& )及びジメチルシロキシず
ド160勘の、5℃に冷却し次混曾物に、前記珪酸テト
ラエチルアンモニウム229t−5℃で20分間以内に
添加し友。その際、諷&祉5℃から15゛Cに上昇した
引続き5°Cで1時間攪拌した。次いで氷水200tu
f加え、1機相r水で洗浄して中性にし、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を60℃/1500Pa
で蒸発除去した。透明な粘性液体が残留し、これから冷
却すると結晶が生じ、これt次いでa取した。
収t:1.63.9(理論値の20チ)分析データはへ
キサ(ジメチルシロキシ)へ中サシルセスキオキサンの
構造と一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式: 〔RSiO_3_/_2〕_z( I ) {式中、zは6、8又は10の数を表し; Rは、z−1では式−O−SiR′_3の基であつても
    よいという条件で、式:−CH_2CH_2−X(II)
    、−CH(CH_3)−X(III)又は−O−Si(R
    ′_2)−Y(IV)の同一又は異なる基を表し、その際
    、Xは各々、式:−(R′_2SiO)_nR′(V)
    、〔−(R′_2SiO)_n−〕_1_/_2(VI)
    、−S−R″(VII)、〔−S−R′″−S−〕_1_
    /_2(XV)又は−CH_2Z(VIII) の1価又は1/2価の基を表し; R′は同一又は異なるC_1〜C_6−アルキル−、C
    _1〜C_6−アルコキシ−又はフエニル基を表し; R″は、式(V)又は(VI)の基により置換されていて
    もよい同一又は異なるC_1〜C_1_8−アルキル基
    を表し; R′″は同一又は異なる二価のC_1〜C_1_8−炭
    化水素基、及び/又は式:−(R′_2SiO)_n−
    の基を表し; Zはハロゲン原子又はN−結合アミノ基、即ち、−NH
    _2、N−ピペリジニル、N−ピペラジニル−、N−モ
    ルホリニル基、C_1〜C_6−N−モノアルキルアミ
    ノ−又はC_1−〜C_6−ジアルキルアミノ基を表し
    ; Yは水素原子、ハロゲン化されていてもよいC_2−〜
    C_1_0−炭化水素基又は式(II)又は(III)の基
    を表し、 nは少なくとも1の値の整数を表す}の化合物。 2、式( I )中、Rが少なくとも部分的には式(II)
    、(III)又は(IV)〔式中Xは各々式(V)、(VI)
    、(VII)又は(XV)の基であり、Yは式(II)又は
    (III)の基である〕の基である、請求項1に記載の化
    合物を製造するに当り、式: 〔E−(R′_2SiO)_ySiO_3_/_2〕_
    x〔RSiO_3_/_2〕_(_8_−_x)(IX)
    〔式中、Xは1〜8の値の整数であり、Y は少なくとも0の値の整数である〕の化合物を、式: GX(X) の化合物と反応させる〔その際式(IX)の基Eは式(X
    )の基Gと異なるものであり、基E及びGはビニル基を
    表わすか又は直接珪素原子又は硫黄原子と結合した水素
    原子を表す〕ことによつて製造することを特徴とする、
    請求項1に記載の化合物の製法。 3、Rが式(II)の基であり、式中Xが各々式(VIII)
    の基を表す、式( I )の化合物を製造するに当り、式
    : Z−CH_2CH_2CH_2SiQ_3(X I )〔
    式中、Qは同一又は異なる基、即ちC_1−〜C_6−
    アルコキシ基又はハロゲン原子を表す〕の化合物を極性
    プロトン性溶剤及び触媒として酸又は塩基の存在で反応
    させることによつつて製造することを特徴とする式(
    I )の化合物の製法。 4、z−1までは式( I )中の基Rが式−O−SiR
    ′_3の基であつてもよいという条件で、Rが式(IV)
    の基を表す式( I )の化合物を製造するに当り、式(
    XII): (W_4NOSiO_3_/_2)_z(XII)〔式中
    、Wは同一又は異なるC_1−〜C_4−アルキル基を
    表し、zは6、8又は10の数を表す〕の珪酸塩と、式
    (XIII): LSi(R′_2)−Y(XIII) 〔式中、Lは1価の基、即ちヒドロキシル 基、ハロゲン原子又は各々C原子12個までを有するア
    ルキル基2個までによつて置換されていてもよいアミノ
    基を表し、R′及びYは前記のものを表す〕及び/又は
    式(XIV):M〔Si(R′_2)−Y〕_2(XIV) 〔式中、Mは2価の基、即ち炭素原子12 個までを有するアルキル基により置換されていてもよい
    イミノ基、式:−O−又は −NH−CO−NH−の基を表し、R′及びYは前記の
    ものを表す〕の化合物とを、場合により式 (XVI): LSi(R′_3)(XVI) 〔式中L及びR′は前記のものを表す〕及び/又は式(
    XVII): M〔Si(R′_3)〕_2(XVII) 〔式中、M及びR′は前記のものを表す〕の化合物と混
    合して反応させることを特徴とする、式( I )の化合
    物の製法。 5、z−1までは式( I )中の基Rが式−O−SiR
    ′_3の基であつてもよいという条件で、Rが式(IV)
    の基を表し、zが8又は10の数を表す式( I )の化
    合物を製造するに当り、式(XVIII): 〔(R′_3)SiOSiO_3_/_2〕_w(XV
    III)〔式中、R′は前記のものを表し、wは8又は1
    0の数を表す〕の珪酸塩を請求項4に記事の式(XIII
    )及び/又は(XIV)の1種又は数種の化合物と反応さ
    せることを特徴とする、式( I )の化合物の製法。 6、オルガノ基がオレフィン性不飽和であるか又は直接
    珪素−又は硫黄原子と結合した水素原子及び/又は直接
    珪素と結合したアルコキシ基を含有する、オルガノヘキ
    サシルセスキオキサン、オルガノオクタシルセスキオキ
    サン及び/又はオルガノデカシルセスキオキサンよりな
    ることを特徴とする重合体用の架橋剤。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1645560A1 (en) 2004-10-05 2006-04-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Monofunctional monomer having cage oligosiloxane structure and method of making
JP2007112977A (ja) * 2005-09-26 2007-05-10 Fujifilm Corp 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法
JP2010095617A (ja) * 2008-10-16 2010-04-30 Kaneka Corp シリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られるシリル化カゴ型ケイ酸および多面体構造ポリシロキサン変性体
JP2010280816A (ja) * 2009-06-04 2010-12-16 Kaneka Corp シリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られるシリル化カゴ型ケイ酸および多面体構造ポリシロキサン変性体
JP2012007042A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Kaneka Corp 多面体骨格を有するアンモニウムオリゴシリケート、およびポリシロキサン化合物の製造方法
JP2012233065A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Kaneka Corp 多面体構造ポリシロキサン変性体およびこれから得られる組成物
JP2013507413A (ja) * 2009-10-14 2013-03-04 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト オルガノオリゴシルセスキオキサンの製造方法
KR20230141779A (ko) 2022-03-29 2023-10-10 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 바구니형 규산염 및 그 제조 방법

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4008076A1 (de) * 1990-03-14 1991-09-19 Consortium Elektrochem Ind Organosilsesquioxane mit mindestens einer mesogenen seitengruppe
GB9115818D0 (en) * 1991-07-23 1991-09-04 Impact International Inc Oligoorganosilasesquioxanes
DE4306041A1 (de) * 1993-02-26 1994-09-01 Wacker Chemie Gmbh Glycosidreste aufweisende Organosiliciumverbindungen und Verfahren zu deren Herstellung
US5330734A (en) * 1993-03-09 1994-07-19 Exxon Research And Engineering Company Silica pillared micas
DE4316101A1 (de) * 1993-05-13 1994-11-17 Wacker Chemie Gmbh Organosiliciumverbindungen mit käfigartiger Struktur
US5484867A (en) * 1993-08-12 1996-01-16 The University Of Dayton Process for preparation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes and systhesis of polymers containing polyhedral oligomeric silsesqioxane group segments
JP3622253B2 (ja) * 1994-03-28 2005-02-23 大日本インキ化学工業株式会社 高分子量ポリオルガノシリルシリケートの製造方法
US5473038A (en) * 1994-12-15 1995-12-05 Siltech Inc. Alkyl fluorinated silicone polymers
US6770726B1 (en) 1995-09-12 2004-08-03 Gelest, Inc. β-substituted organosilsesquioxane polymers
WO1997010282A1 (en) * 1995-09-12 1997-03-20 Gelest, Inc. Beta-substituted organosilsesquioxanes and use thereof
DE19545363A1 (de) 1995-12-05 1997-06-12 Wacker Chemie Gmbh Niedermolekulare Organosiliciumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung in vernetzbaren Organopolysiloxanmassen
DE19637158A1 (de) * 1996-09-12 1998-03-19 Wacker Chemie Gmbh Si-gebundene Wasserstoffatome aufweisende Organosiliciumverbindungen in vernetzbaren Zusammensetzungen
JP4063384B2 (ja) * 1998-03-02 2008-03-19 ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション ハイドロカーボンオキシシリル官能性ポリマーの製造方法
US6252030B1 (en) * 1999-03-17 2001-06-26 Dow Corning Asia, Ltd. Hydrogenated octasilsesquioxane-vinyl group-containing copolymer and method for manufacture
US20060194919A1 (en) * 1999-08-04 2006-08-31 Lichtenhan Joseph D Porosity control with polyhedral oligomeric silsesquioxanes
US7638195B2 (en) * 1999-08-04 2009-12-29 Hybrid Plastics, Inc. Surface modification with polyhedral oligomeric silsesquioxanes silanols
US7820761B2 (en) 1999-08-04 2010-10-26 Hybrid Plastics, Inc. Metallized nanostructured chemicals as cure promoters
US7723415B2 (en) 1999-08-04 2010-05-25 Hybrid Plastics, Inc. POSS nanostructured chemicals as dispersion aids and friction reducing agents
US7888435B2 (en) * 1999-08-04 2011-02-15 Hybrid Plastics, Inc. Process for continuous production of olefin polyhedral oligomeric silsesquioxane cages
US7612143B2 (en) * 1999-08-04 2009-11-03 Hybrid Plastics, Inc. Metallized nanostructured chemicals alloyed into polymers
US8076443B2 (en) * 1999-08-04 2011-12-13 Hybrid Plastics, Inc. Preparation of polyhedral oligomeric silsesquioxane silanols and siloxides functionalized with olefinic groups
US7553904B2 (en) * 1999-08-04 2009-06-30 Hybrid Plastics, Inc. High use temperature nanocomposite resins
US7485692B2 (en) 1999-08-04 2009-02-03 Hybrid Plastics, Inc. Process for assembly of POSS monomers
US6440550B1 (en) 1999-10-18 2002-08-27 Honeywell International Inc. Deposition of fluorosilsesquioxane films
US6472076B1 (en) 1999-10-18 2002-10-29 Honeywell International Inc. Deposition of organosilsesquioxane films
US7193015B1 (en) * 2000-03-24 2007-03-20 Mabry Joseph M Nanostructured chemicals as alloying agents in fluorinated polymers
US7897667B2 (en) 2000-03-24 2011-03-01 Hybrid Plastics, Inc. Fluorinated POSS as alloying agents in nonfluorinated polymers
US6991782B2 (en) * 2000-06-19 2006-01-31 L'oréal Cosmetic compositions comprising at least one polymethylsilsesquioxane film former
US6569932B2 (en) * 2001-07-06 2003-05-27 Benjamin S. Hsiao Blends of organic silicon compounds with ethylene-based polymers
US7217683B1 (en) 2001-09-05 2007-05-15 Blanski Rusty L Lubrication via nanoscopic polyhedral oligomeric silsesquioxanes
US7108771B2 (en) * 2001-12-13 2006-09-19 Advanced Technology Materials, Inc. Method for removal of impurities in cyclic siloxanes useful as precursors for low dielectric constant thin films
US7456488B2 (en) * 2002-11-21 2008-11-25 Advanced Technology Materials, Inc. Porogen material
US7423166B2 (en) * 2001-12-13 2008-09-09 Advanced Technology Materials, Inc. Stabilized cyclosiloxanes for use as CVD precursors for low-dielectric constant thin films
AU2003232244A1 (en) * 2002-05-15 2003-12-02 Creavis Gesellschaft Fur Technologie Und Innovation Mbh Nanofiller, production, and use
US7198639B2 (en) * 2002-09-13 2007-04-03 Bausch & Lomb Incorporated Polysilsesquioxane containing polymeric compositions
US20040120915A1 (en) * 2002-12-19 2004-06-24 Kaiyuan Yang Multifunctional compositions for surface applications
EP1603518A4 (en) * 2003-03-14 2006-11-22 Oreal COSMETIC AND PERSONAL CARE PRODUCTS INCLUDING POSS AND EPOSS
US6936663B1 (en) 2003-07-07 2005-08-30 Conano Corporation Powder coating compositions containing POSS compounds
US7576169B2 (en) * 2003-10-23 2009-08-18 The Regents Of The University Of Michigan Facile synthesis of polyhedral silsesquioxane anions and use thereof
US7232864B2 (en) * 2003-10-30 2007-06-19 Bening Robert C Coupled radial anionic polymers
US7141692B2 (en) * 2003-11-24 2006-11-28 International Business Machines Corporation Molecular photoresists containing nonpolymeric silsesquioxanes
US20090085011A1 (en) * 2003-12-18 2009-04-02 Lichtenhan Joseph D Neutron shielding composition
US9096041B2 (en) 2004-02-10 2015-08-04 Evonik Degussa Gmbh Method for coating substrates and carrier substrates
DE102004006612A1 (de) 2004-02-10 2005-08-25 Degussa Ag Keramischer Wandverkleidungsverbund
JP2008512559A (ja) 2004-09-10 2008-04-24 ハイブリッド・プラスティックス・インコーポレイテッド 高使用温度ナノ複合材樹脂
WO2006031781A1 (en) * 2004-09-13 2006-03-23 L'oreal Poss containing cosmetic compositions having improved wear and/or pliability and methods of making improved cosmetic compositions
US7915369B2 (en) 2004-12-07 2011-03-29 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Ultraviolet transmissive polyhedral silsesquioxane polymers
KR101290846B1 (ko) * 2005-07-28 2013-07-29 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 경화성수지조성물, 그 경화물 및 이것들로부터 유도된 각종 물품
KR20090024796A (ko) * 2006-06-19 2009-03-09 시바 홀딩 인크 착색된 실세스퀴옥산
JP2010501039A (ja) * 2006-08-17 2010-01-14 ユニバーシティ・オブ・ユタ・リサーチ・ファウンデーション デンドリマー並びにその製造及び使用方法
US8053375B1 (en) 2006-11-03 2011-11-08 Advanced Technology Materials, Inc. Super-dry reagent compositions for formation of ultra low k films
DE102007010544A1 (de) 2007-03-05 2008-09-11 Wacker Chemie Ag Schichten aus heterosubstituerten Silsesquioxanen
EP3042909B1 (en) 2007-04-17 2018-08-01 Kaneka Corporation Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product
US7868198B2 (en) * 2007-06-15 2011-01-11 Laine Richard M Multi-functional silsesquioxanes for novel coating applications
JP5244916B2 (ja) * 2007-11-13 2013-07-24 サッチェム,インコーポレイテッド 損傷のない半導体の湿式洗浄のための高い負のゼータ電位の多面体シルセスキオキサン組成物および方法
KR101524058B1 (ko) * 2008-02-14 2015-05-29 린텍 가부시키가이샤 폴리오르가노실록산 화합물로 이루어진 성형재료, 봉합재료 및 봉합 광학 장치
JP2011099075A (ja) * 2009-11-09 2011-05-19 Nitto Denko Corp 熱可塑性シリコーン樹脂用組成物
CN104744944B (zh) 2010-05-28 2017-12-19 株式会社钟化 聚硅氧烷类组合物、固化物及光学器件
US9698320B2 (en) 2010-09-22 2017-07-04 Kaneka Corporation Modified product of polyhedral structure polysiloxane, polyhedral structure polysiloxane composition, cured product, and optical semiconductor device
US9463584B2 (en) 2011-07-21 2016-10-11 Bank Of America, N.A., As Administrative Agent Silsesquioxane mold release coating for unsaturated polyester thermoset molding compounds
SI24110A (sl) 2012-06-08 2013-12-31 Kemijski inštitut Z N-heterocikličnim karbenom posredovana priprava poliedričnih silseskvioksanov
US10532020B2 (en) 2012-08-22 2020-01-14 Revlon Consumer Products Corporation Nail coatings having enhanced adhesion
JP2016507613A (ja) 2012-12-21 2016-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法
US20140178698A1 (en) 2012-12-21 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
CA2909825C (en) 2013-04-22 2022-09-27 Creative Nail Design, Inc. Nail coatings having enhanced adhesion
EP3325518B1 (en) 2015-07-22 2021-05-12 Bridgestone Corporation Silane-functionalized polymer and process for making and using same
CA3221567A1 (en) 2021-06-01 2022-12-08 Illinois Tool Works Inc. Durable graphene exterior plastic coating composition

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4289867A (en) * 1978-12-11 1981-09-15 Sws Silicones Corporation Organofunctional polysiloxane polymers and a method for preparing the same
JPS56156290A (en) * 1980-05-07 1981-12-02 Tokuyama Soda Co Ltd Organosilicon compound
EP0204963B1 (en) * 1985-05-10 1993-01-13 Hitachi, Ltd. Use of Alkali-Soluble Polyorganosilsesquioxane Polymers in a resist for preparing electronics parts.
US4723978A (en) * 1985-10-31 1988-02-09 International Business Machines Corporation Method for a plasma-treated polysiloxane coating
EP0255303B1 (en) * 1986-07-25 1989-10-11 Oki Electric Industry Company, Limited Negative resist material, method for its manufacture and method for using it
EP0348705A3 (de) * 1988-06-29 1991-02-27 Akademie der Wissenschaften der DDR Organophile Doppelringkieselsäurederivate mit käfigartigen Strukturen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1645560A1 (en) 2004-10-05 2006-04-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Monofunctional monomer having cage oligosiloxane structure and method of making
US7834120B2 (en) 2004-10-05 2010-11-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Monofunctional monomer having cage oligosiloxane structure and method of making
JP2007112977A (ja) * 2005-09-26 2007-05-10 Fujifilm Corp 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法
JP2010095617A (ja) * 2008-10-16 2010-04-30 Kaneka Corp シリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られるシリル化カゴ型ケイ酸および多面体構造ポリシロキサン変性体
JP2010280816A (ja) * 2009-06-04 2010-12-16 Kaneka Corp シリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られるシリル化カゴ型ケイ酸および多面体構造ポリシロキサン変性体
JP2013507413A (ja) * 2009-10-14 2013-03-04 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト オルガノオリゴシルセスキオキサンの製造方法
JP2012007042A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Kaneka Corp 多面体骨格を有するアンモニウムオリゴシリケート、およびポリシロキサン化合物の製造方法
JP2012233065A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Kaneka Corp 多面体構造ポリシロキサン変性体およびこれから得られる組成物
KR20230141779A (ko) 2022-03-29 2023-10-10 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 바구니형 규산염 및 그 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US5047492A (en) 1991-09-10
DE3837397A1 (de) 1990-05-10
EP0367222B1 (de) 1995-05-03
EP0367222A2 (de) 1990-05-09
DE58909216D1 (de) 1995-06-08
EP0367222A3 (de) 1991-11-13

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