JPH02178291A - 新規オルガノオリゴシルセスキオキサン及びその製法 - Google Patents
新規オルガノオリゴシルセスキオキサン及びその製法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
びその製法に胸する。
・ボロンコツ(Voronkov )七の他者の報文(
Zhur、 0bshchei Khimii 49
(7)、1522ji(1979年) ; Dokla
dy AkademiiNauk 5a8R281(6
)、1674頁(1985年);P1誉270(4)、
888頁(1983年)〕によって公知である。
サンを提供することであった。本発明のその他の課題は
、オルガノオリフシルセス中オキサンの新しい製法上開
発することでめった。
ン【化合反応によって変性することであった。最後に本
発明の課題は、シリコーン及び有機重合体用の新規架橋
剤を提供することであった。
1では式−〇−81イ3の基であってもよいという条件
で、−CHlCHs−X (II)、−CH(CH,)
−X (鳳)又は−〇−81(Fl’II)−Y (I
V) +7)同−又は異なる益vi−表しその際Xは各
々、式:%式%() の1価又は”lta価の基を表し; プは同−又は異なるC1−〜C6−アルキルーC1−〜
C6−フルコキシ又はフェニル基をiし;では、式(V
)又は(VDの基により置換されていてもよい同−又は
異なるC1〜C18−アルキル基を表し; R#は同−又は異なる二価のC工〜CIg−炭化水素基
、有利にはアルキレン−及び/又ハフエニレン基及び/
又は式ニー(イ’、5topn−の基を表し;2はハロ
ダン原子又tiN−結合アミ7基、即ち、−NHI 、
N −ヒヘリジニルー N−ピペラVニル−N−モル
ホリニル基、C1−−ca −N−モノアルキルアミノ
−又FiCニー〜C3−ガルキルアミノ基七表し; Yは水素原子、へロrン化されていてもよいC,−〜C
l0−炭化水木基又は式(II)又は(組の基金表し、 nは少なくとも1の値の整数全表す) のオルガノオリがシルセスキオキサンを合成することに
よって解決される。
−エチル−n−プロピル−1−プロピル−n−ブチル−
8−ブチル−を−ブチル基、ペンチル基、例えばn−ペ
ンチル−8−ペンチルー ネオ−ベンチルー及びt−ペ
ンチル基、ヘキシル基、例えはn−ヘキシル基;C1−
〜C6−フルコキシ基、例えはメトキシ−エト中シー
n−及び1−10ボキシー n−8−及びt−ブトキシ
基、n−a−を−及びネオ−ペントキシ基、ヘキンキシ
基、例えはn−へ中ソキシ基;並ひにフェニル基である
。
利である。
ヘゲチル基、例えはn−へブチル基、オクチル基、例え
はn−及び1−オクチル基、ノニル−デシル−ドデシル
−並ひにオクタデシル基である。これらの基は特に、基
Wがメチル−メトキシ−及びエトキシ基である式(V)
及び(Vllの基によって置換されていてよい。
−又はエトキシ基を表し;fは同−又は異なるC1−〜
C14−アルキル基〔これは場合により各々式(V)又
は(VJ)の基によって直換されていてよい〕を表し;
2は塩素−又は臭X原子又aN−ピペリジニル基七表し
:Yは水系原子、ヒニA/−79ルー 5−/ロループ
ロビルー 3−プロムグロビル基又は式+II)又は(
組の基金表す。
−CH,−81(CH3)、−0−81(CH5)、、
−CH,2−CHm−8’i (CH3)aOc1H5
、−CHm−CHm−(81(aH,、)aO)n−8
1(CH5)H−CHH−CH2−−CHI−CI(1
−8−nC11H25、−CH2−CH2−8−CHg
−CI’l tz −CH,−81(CH,)(OCH
5)Q、 −CI(、−C’)T、−CH,−C2゜
−0−81(CH!S)、CH−CH,、−0−81(
CHs)tgHs−O−81(CHi)g−5−0−8
1(CHi)、 −0−8i(CH3)s+−(n−
CmHa )−8i(CH3)*−0−8i(CH3)
3、−0−81(CHs)m−(n−C1H4)−8−
n−C12HgB 、 −0−8i(CHs)s−
(n−CaH2ン−8−(n−(4H7)−81(CH
*)(OCH3)a 、 −0−81(CHs)s
−−C2H4−(S L (CH3) s+−0−)n
−81(CH3) g−Cs+H4−81(cHs)*
−〇− 〔式中、nはカギかつこのすぐ後に指数として記載され
ている限りは前記のものを表す〕。
て製造することができる。
V) C式中Xtm各々式(V)、(Vl)%(VII
I又U (XV)の基であり、Yは式(11又は(釦の
基でめる〕の基である式(11の化合物は、式: (E−(R’al:Jlo)y310s/Jx(R8i
03/s:](s−c) Cr1.)〔式中、Xは
1〜8の値の整数であり、yは少なくともo1有利には
最高1の値の整数である〕の化合物を、式: %式%() の化合物と反応させることによって製造するこ忠 とができるが、その際、式(財)中の基Eは式■)のの
基Gとは異なるものであり、基E及びGはビニル基であ
るか又は直接珪素原子又は硫黄原子に結合した水xi子
を表す。
を表す場合(変化方法A、以下では[方法(IA)Jと
略記する)には、反応は有利には白金金属及び/又はそ
の化合物の存在で実施する。
1− &す場合(変化方法B1下記に[方法(IB刀と
略記する〕には、反応は有利には遊離基の存在で、特に
有機過酸化物、アゾ化合物の存在で及び/又は高エネル
ギーを磁線、例えばUV光の照射下に実施する。
値を有する式へ)の化合物が有利である。
るが、これはM、G、ボロンコツその他の方法(zhu
r、 0bshchi Khimii 49 (7)、
1522頁(1979年)〕で入手することができる。
ラジウム、ロジウム及びイリジウム、その合金及び化合
物並びにその混合物が有利である。特に単独でか又は担
体付きの、白金、その化合物及び合金が特に有利である
。この場合に、直接81原子に結合した水素原子を脂肪
族不飽和化合物に付加す;b*めに、これまで使用され
次全ての胆媒會使用することができる。この極の触媒の
例は、担体、例えは二酸化珪素、酸化アルミニウム又は
活性炭上に存在していてよい金属性の微細な白金、白金
の化合物又は錯体、例えは白金ハロゲン化物、例えばP
tC2,、Na、PtCt、 秦4H,O、白金−オレ
フィン−錯体、白金−アルコール−錯体、白金−アルコ
−ルー錯体、白金−エーテル−錯体、白金−アルデヒド
−錯体、白金−ケトン−錯体、最後にHIPtCl、秦
6H!10及びシクロヘキサノンから成る反応生成物、
白金−ビニルシロキサン錯体、特に検出可能な無機結合
戸口rンを含有するか又はそれt有さない白金−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン錯体、ビス−(γ−ピコリ
ン)−白金ジクロリド、トリメチレンジピリジン白金ジ
クロリド、ジシクロペンタジェン−白金ジクロリド、ジ
メチルスルホキシドエチレン白金(It)ジクロリド並
びにオレフィンと第一アミン又は第二アミン又は第−及
び第二アミンの反応生成物、例えば1−オクテン中に溶
かし九四塩化白金と8−ブチルアミンからの反応生成物
又は欧州%rf(gp−B)鶴110570号明細簀に
!るアンモニウム−白金錯体である。
(財)の化合物の重量に対して0.5〜500X1pp
m (1万重重部に対す、6m重部)の菫で使用する。
特に30℃〜100℃で実施する。この方法は周囲の大
気圧、すなわち約Q、i MPa (絶対〕で行うこと
ができるし、これより高い圧力又は低い圧力で実施する
こともできる。有利には圧力0.02〜0.2 MPa
(絶対)、特に0.08〜0.15MPa (絶対)
である。
が得られるという事実は意外といえる。
Nauk(58SR)第270巻、第4査、888〜
890!(1983年);プレナム・パブリツシイング
・コーポレーシヨン(Plenum Publishi
ngCorporation )による英語版、185
〜186頁(19E1年))a、オクタビニルオクタシ
ルセス中オキサンのビニル基をヒドロシリル化すること
はできないと報告した。
としては、過酸化物、特に有機過酸化物が有利である。
えは1.1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−3,3,
5−1リメチルシクロヘキサン、2.2−ビス(t−ブ
チルペルオキシ)ブタン等、ジアシルペルオキシド、例
えば過酸化アセチル、過酸化インブチル、過酸化ベンゾ
イル等、過酸化ジアルキル、例えばジ−t−ブチルフル
オキシド、t−ブチル−クミルペルオキシド、過酸化ジ
クミル、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)へΦサン等及び過酸エステル、例えばt−ブ
チルペルオキシイソプロビル−カーボネート及びt−ブ
チルペルベンゾエート、並びにアゾ化合物、例えはα、
α′−アゾビスイソブチロニトリルである。
使用される化合物のX量に対して、0.2its〜2]
1[f%、特に0.51蓋チ〜1.31童チの童で本発
明による方法に使用される。
に20°C〜150℃で実施される。この方法は周囲の
大気圧、すなわち約Q、1MPa (絶対)で実施する
ことができるが、これより高い圧力又は低い圧力で実施
してもよい。有利には圧力0.02〜0.2 MPa
(絶対)、特に0.08〜0.15 MPa (絶対〕
テオル。
下にか又はそれなしで実施することかできる。溶剤を使
用する場合には、Q、I MPaで120℃までの沸点
又は沸点範囲を有する溶剤又は溶剤混合物が有利である
。この株の溶剤のNHd、水;アルコール、例えばメタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、イソ−プロパ
ツール;エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエー
テル;塩素化炭化水素、例えはジクロルメタン、トリク
ロルメタン、テトラクロルメタン、1.2−Pクロルエ
タン、トリクロルエチレン;炭化水素、例えはペンタン
、n−ヘキサン、ヘキサン−異性体混合物、ヘプタン、
オクタン、洗浄ベンジン、石油エーテル、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン;ケトン、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチル−イソブチルケトン;二硫化炭素及
びニトロベンゼン又はこれら溶剤混合物である。
らないというととt意味するわけではない。反応を反応
成分の1種又は数株の懸濁液又は乳濁液中で行9ことも
できる。反応を混合間Nを有する溶剤混合物中で実施す
ることもできるが、その際各混合相に各々少なくとも1
極類の技応成分が可溶性である。
有利である。
〕の基である式中の化合物を製造すべきである場合には
、これは有利には、式: %式%() 〔式中、Qは同−又は異なる基、即ちC1−〜C6−ア
ルコキシ基又はへロr:/原子、有利には塩素−又は臭
素原子を表す〕の化合物を極性のプロトン性溶剤及び触
媒としての酸又は塩基の存在で反応させることによって
行われる。
びに塩素原子である。
TiC1,,5nCj4、BO2、pct5、pocz
、s% F+11C4及びその水和物及びZnCtll
、塩化燐ニトリル;ブレーンステズ酸(Br15nst
edt−8Aure )、例えば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、クロルスルホン酸、燐酸、例えばオルト−メタ−及
びポリ燐酸、硼酸亜セレン飲、硝酸、酢酸、プロピオン
酸、ハロゲン酢酸、例えばトリクロル−及びトリフルオ
ル酢酸、蓚酸、p−トルエンスルホン酸、酸性イオン交
換体、酸性沸石、酸活性化捺布土、酸活性化カーボンブ
ラック、弗化水素、塩化水素等である。
剤、特に前記したアルコール及び水が有利である。
00C〜25℃で実施する。この方法は周囲の大気圧、
すなわちQ、I MPa (絶対〕で実施することかで
遣るが、これより高い圧力又は低いMPa (絶対)で
ある。
、 テロ ツテもよいという条件で、Bが式(IV)の
基を表子式(11の化合物を製造すべきである場合には
、これは有利には、式(Xll) : (W4NO8103/2)z (Xll)〔
式中、Wは同−又は異なるC1−〜C4−アルキル基七
表し、2は6.8又は10、有利には8の数を表す〕の
珪酸塩を式(XI) :C81(R’、)−Y
(XI)及び/又は式
(XIV) : NC81(R′2ン−y )、
(XIV )の化合物と、場合により式(XV
υ: LSi(R’s) (XVI)及び/
又は(X鴇): M(si(R’!1l))2(XVII)の化合物と混
合して、反応させることによって行われるが、その際、
前記式(XI)、(XIV)、(XVI)及び(x■〕
中、LflI価の基、即ち、ヒドロキシル基又は場合に
より各々C原子12個までt有するアルキル基2個まで
によってに供されているアミノ基七表し;Mu211t
Oの基、即ち場合によジC原子12個までを有するアル
キル基により1に換さnたイミノ基、式−〇−又は−N
H−Co−NH−の基を表し、イ及びYは請求項1にb
じ軌したものを表す。
式−〇−の基を示す。
ebbel )及びW、ビーカー(Wieker )
Cツアイトシュリフト・7ユア・アンオルガニッシュ・
クント・アルダマイネ・ヒエミー(Zeits−chr
ift ft1r anorganische and
allgemeineChemie ) 第554巻
、46〜52頁(1971年)〕及びIn”セガワ(H
asegawa )及びS。
キュラー リキツズ(Journal of Mo1e
cularLiquids ) 第34巻、307〜3
17頁(1987年)〕により詳説されている。例えば
珪酸テトラエチルを水性メタノール中でテトラアルキル
アンモニウムヒドロキシドの存在で加水分層することに
よって製造することができるか、その際、テトラアルキ
ルアンモニウムヒドロキシドを適切に選ひ、反応成分の
1童比を変えることによって、2が6.8又は10を表
す式(Xll)の分子tV選択的に製造することができ
る。
で実施される。
載し次物質、特に塩酸である。
剤中で実施される。この種の溶剤の例は、方法(2)用
に有利な例として挙げた浴剤である。
性溶剤、特にそこに挙げたアルコール及び水である。
合により式(X■)の化合物と混合して、反応させるこ
とが特に有利である。
3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3,3−テトラメチルシフ0キサン並ひ
に1.6−ジ(r−クロルプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサンである。
サメチルジシロキサンである。
の大気圧、即ち約Q、1MPa (絶対)で行うことが
できるが、これより筒い圧力又は低い圧力で実施しても
よい。0.08〜0.2 MPa (絶対ハ特に0.0
9〜0.15 MPa (15対)の圧力が有利でおる
。
であってもよいという条件で、Rが式(V)の基を表し
、及び2が8又は10の数を表す式(11の化合物を製
造する場合には、これは、有利に線、式%式%): 〔式中Wは式(V)及び(9)に記載したものヲ表し、
Wは8又は10の数を表す〕の珪酸基音「方法(3)」
の節に記載しに式(Xlll)及び/又は(XIV)の
1a又は数種の化合物と反応させることによって行われ
る。
IX) :((CH3)s8108103/2〕v
(X■)〔式中、Wは式(XVI)に記載した
もの1&し、有利には8の値會有する〕のようなものが
有利である。
用し一7tD、ヘープペル及びW、ビーカーの轍叉に記
載されている。これは、式(Xll)の化合物全酸性の
、インプロパノールを官有する溶液中でヘキサメチルジ
シロキサンを用いてシリル化することによって行われる
。
ものt式(XIV)の化合物と反応させることが有利で
ある。
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1.
1.5,5−テトラメチルジシロキサン並びに1.6−
ゾ(r−クロルプロピル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサンか特に有利である。
たプレーンステズ酸及びルイス酸、特に酸活性化漂涌土
、HCL及び酸性巨大綱状樹脂(5aure makr
oretikulare Harze ) 、例えはア
ンバーリスト< Amberlyat )R15(D
−4054ネツタール在ヤンセン・ヒミカ(Janss
enChimica )の製品〕が有利である。
体(Reaktenden ) t−用いて(これは有
利であ;b)行ってもよい。(付加的に)溶剤を使用す
る場合には「方法(IB)Jの節に記載した溶剤(混合
物)が有利である。
9C特に20℃〜100℃で実施する。この方法は対゛ 周囲の大気圧、即ち約0.1 MPa (絶γ)で行う
ことができるが、これより高い圧力又は低い圧力で実施
することもできる。0.08〜0.2MPa対 (絶対)、特に0.09〜0.15 MPa (杷体)
の圧力が有利である。
これを除去する。触媒が固体であり、反応混合物中に不
溶性である場合には、有利にはM斜、濾過又は遠心分離
に工ってこれを除去すゐO 引続いてか又は同時に有利には、使用した場合は溶剤及
び/又は反応しなかった出発物質を反応混合物から、特
に蒸留によって、除去する。
きる及びその他のオルガノヘキサシルセスキオキサン、
オルガノオクタシルセスキオキサン及び/又はオルガノ
デカシルセスキオキサン(これらのオルガノ基はオレフ
ィン性不飽和であるか又は直接珪:Ig原子又は硫黄原
子と結合した水素原子及び/又は直接珪素原子と結合し
たアルコキシ基を含有する〕は、夏合体、特にシリコー
ンの架橋剤として使用することができる。
することができる。例えは式(IX)の化合物、式圓の
化合物、式(至)の化合物、式(Xll)の化合物、式
(XI)の化合物、式(XfV)の化合物の混合物上使
用することができ、触媒、浴剤、有機過酸化物又はア・
l化合物の混合物上使用することができる。
載のない[り、 a)量は全てi−tであり; b)圧力は全て0.10 MPa (絶対) テh !
+ pc)温度は全て20℃である。
ジシロキサンとの反応 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを有する、内容10
0紅の三實フラスコ中にkXW囲気下テ、トルエン50
勘中に静かしたオクタビニルオクタシルセスキオキサン
(最初に記載したボロンコツの引用文にLり製造するこ
とができる)2.00 & (6,16,10−3モル
)食前もって装入し、触媒(1勤轟す白金40〜を含有
する白貧−オレフインー錯体の溶液)0.031m1加
えた。
チルジシロキサン(D−8(JOOずエンヘン22在ペ
ツカーヒエミー社(Wacker −Chemie G
mbH)の製品) 7.50 、? (50,56X1
0づモル)’lf−徐々に滴加した。次いで触媒層液0
.0317を更に添加した後、80℃で6時間攪拌した
。トルエン及び過剰のペンタメチルジシロキサンの除去
後、粗製付加生成物5.71 #が得られ、これはエタ
ノールから再結晶させることにより更に精製することが
できた。
°Cを有する。
加が行われる。このゲル透過クロマトグラムは、同一な
りlJ質に特異市な狭い半減値幅を示す。
もはや検出されない。
骨格(811oxankifiggeruste )の
不斉に31−0−81−伸張振動。
エトキシシランの反応 例1に記載し友ようにして、トルエン32a6中に溶か
L7tオクタビニルオクタシルセスキオキサン2.50
.9 (3,95X 10″″3モル)を前もって装入
し、触媒溶液(1継当ジ白金10■金言有する、例1の
ような触媒)0.02d?加え、90°Cに加熱し、ジ
メチルモノエトキシシラン6.6 g(63,46X
10−3モル)先途々に滴加した。東に触媒溶液CJ、
Q21!11の添加後、6時間80〜90℃で撹拌した
。トルエン及び反応しなかったシランを除去し几後、高
粘性油状物5.411(理論値の96チ)が得られた。
付加が行われた。ゲル透過クロマトグラム、lH−29
81−NMR−及びIR−データにより、付加生社物の
生成が確認され次。
クタシルセスキオキサン食用いる架橋オクタビニルオク
タシルセスキオキサンtα。
シ本位の平均数五−200)とモル比1:4で、この2
つの成分に相応する重量のクロロホルムの箔加下に混合
して均一な溶液にし、使用し九オクタビニルオクタシル
セスキオキサンに対して36]iLt%の触媒溶液(例
1と同じであるが11Lt当り白金含量は1岬である触
媒)を加え九。この溶液を、常圧で40℃に2時間加熱
しfc後に、約2nの厚さのフィルムが生じるようなノ
輪厚でガラス支持体上に塗布した。こうして得られ7’
C透明なフィルムは架橋しており、エラストマー特性を
示す。前記条件ではあるがオクタビニルオクタシルセス
キオキサンは齢加してない比較実験によっては架橋は起
らなかった。
間及び真空中(100Pa)で100℃で12時間後処
理して、残りの溶剤を除去した。
る、DIN53521にエフ反復平衡膨潤値(Glei
chgewichtsqullwerk ) 1 /
Q ’k”用いた; 1/Q−− −a a:完全に乾燥された後の膨潤した試料の重電b:膨潤
した試料のXt 架橋したフィルムの試料上トルエン中で25′Cで12
日間膨潤させた。完全に乾燥させ友後の膨潤しなかった
試料l童と膨潤された試料重重から、架橋されなかった
宮仕11−測定することができた。
ンチオールのラジカル性付加 オクタビニルオクタシルセスキオキサン2g(5,2X
10−’モル〕をトルエン50μに溶かし、1−ドデ
カンチオールCD−4054ネツテタール流ヤンツエン
・しミカのlLf品) 5−311(26,2×1O−
3−E−ル)及びa、a’−アゾヒス−イソブチロニト
リル25tlQt−加え、窒素雰囲気下で6時間80℃
に加熱した。減圧下にトルエンを除去した後固体残!
7.26.9が残留した。
シロキサン檻骨格の保持下のビニル基へのSH基の付加
が確認された。
プトプロピルメチルジメトキシシランの付加 オクタビニルオクタシルセスキオキサン・2.F(3,
2X 10”−3モル〕ケトルエン60μ中に解かし、
r−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランCD−
8000#ユンヘン在ヘツカー・ヒエミー社でペラカー
シラン(wac)cer811an ) G F 7
5として入手できる) 4.64.9(25,7X 1
0″″3モル)?:加え、輩巣雰囲気下で25℃で6時
間水銀浸漬ラングで照射し九。
ることによって除去した。
シロキサン檻骨格の保持下でのビニル基への8H基への
付加が確認され几。
ンの合成 滴下ロート會有する内容21のフラスコ中にメタノール
IJt−前もって装入し、r−クロルプロピルトリクロ
ルシランCCD−800Cユンヘン在ベツカー ヒエミ
ー社のベラカー シラン GF15として入手できる)
45.9’に徐々に加えた。製塩m28μの癌加後、反
応混合物を室温で攪拌した。
吸引濾過し、メタノールで洗浄した。
27.4%、実測値: 27.6%。ガスクロマトダ
ラムは単分数化合物を示した。IR−IH−及び”SL
−NMFI−データ及び蒸気圧浸透圧計によるダラム分
子量測定(実測値:9.5091モル、理論値: 10
36!I1モル)により、オクタ(r−クロルプロピル
〕オクタシルセスキオキサンの生成が確認された。
ルトリメトキシシランから出発して打うこともできる;
この場合に3 ′b!fi月間反応δせた後に、理嗣値
の40%の収率が得られた。
ンとピペリジンの反応 R流冷却益及び内部總度訂を有する自答1001idの
フラスコ中で、オクタ(γ−クロルプロピル〕オクタシ
ルセスキオキサン79 (6,76X10づモル〕にピ
ペリジン70 & (0,822毎ル)を加え、窒素雰
囲気下で16時間絶えず攪拌しながら105℃に加熱し
友。引続き、生じた固体(ピペラジン塩酸塩及び所望の
生成物の一部)を吸引濾過し、濾液全滅圧下で蒸発濃縮
し7′c(残渣4.12 g)。濾過残渣をピペリジン
塩飲塩を除去するために水で数回洗浄し次。粗[1!l
l!生成物合計9.02.9 (理論値の94チ〕が生
じた。これ金へブタンから再結晶させ友。
ル基の完全な求核的直換が確認された0例 8 オクタ(ビニルジメチルシロキックオクタシルセスキオ
キサン((HsC−CH)(CHa)s810sios
/2 )aの合成 (at 沈降珪酸82.2.9に10俤の水性テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド済11250μを加え
友。混合物音25℃で16時間及び50℃で8時間攪拌
した後、透明浴液が得られた。この溶液上濃縮して出発
容製のTにし、得られた珪酸テトラメチルアンモニウム
を4°Cで結晶化させた。なお水を含刹する珪酸テトラ
メチルアンモニウム559.5 gが得られ友。
h%HtaO450μ、イソプロパツール1000tu
、1.5−ジビニル−1,1,5,5−テトラメチルジ
シロキサンCD−8000ミユンヘン在ベツカー・ヒエ
ミー社のベラカー・シロキサンvS1−2として入手で
きる)1700517(1387g)及び製塩[550
517から成る、良く攪拌し次混合物に少量ずつ重加し
、引続き反応混合物上室温で7日間攪拌し友。次いで相
七分虐し、有機相を水で洗浄して中性にし、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥させ、完全に蒸発乾固した。残/fkエタ
ノールから再結晶させる。島状物質(使用した珪酸に関
して塩1liiI値の691)649が得られ、これは
蒸気圧浸透圧計による測定によυグラム分子1t112
091モルを有する。
(ビニルジメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン
の構造と一致した。
(H(CH!5)a8108103/Q〕sの合成例8
(alにより製造し次珪酸テトラメチルアンモニウム
160IIを、H,0400μ、イソプロパツール1o
ooILt、11152e2−テトラメチルジシロキサ
ンCD−8000#ユンヘン在ヘツカー−ヒエミー社の
ベラカー・シロキサンL11.として入手される〕15
001J及び10係の塩酸20OJI&から成る、良く
攪拌した混合物に少量ずつ加え、引続き反応現付物七室
温で4時間攪拌し喪。
友。得られたシリル化生成物をアセトンから再結晶させ
る。
の67%)が得られたが、これは蒸気圧浸透圧計による
測定によυグラム分子量1150g1モルを有し友。(
)PC−ダイアグラムは均一な化合物を示した。lH−
29SL−NMR−及びIFI−データはオクタ(ジメ
チルシロキシ)オクタシルセスキオキサンの偽造と一致
した。
75Xj口。
素原子の脱離は行らなかつ次。
シルセスキオキサン (CACHgCH2CH2(CHs )s810810
q/a 〕sの合成例8(a)によV製造しfc珪飲テ
トラメチルアンモニウム7.8 g41”、 HpO2
01u、インクロバノール60紅、1.6−ノ(r−り
aルプロビルフ−1,1,2,2−テトラメチルジシロ
キサン100μ<999)及び濃塩酸60酩から成る、
良く攪拌し7’C混合物に少蓋ずつ加え、引続き反応混
合物を室温で48時間攪拌した。
硫酸ナトリウム上で乾燥させ、引続き過剰のジシロキサ
ンを減圧で蒸発除去した。
はGPC’−lH−及び2gS i−NMR−データに
よれは所望の化合物を高含量で言句し友。
キサン(例8により得られた)とペンタメチルジシロキ
サンの反応 窒素雰臼気下でトルエン15!u中のオクタ(ビニルジ
メチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン1.5 &
(1,2X 10−3モル)にペンタメチルジシロキ
サン2.8.9 (18,9X 10−3モル)會加え
た。触媒#g(#液1#!6当g白金0.2〜のpt言
tを有する、CH、CL 、中のノルボルナジェン−p
t−錯体) 2−25ffiJkl15m加した後、反
応混合物を4.5時間65゛Cに加熱した。
七真空中で蒸発除去し友。粘性粗生成物の収ii :
2.949 GPC−及びlH−NMR−データによりヒドロキシル
化反応の経過が確認され几。”H−NMR−スペクトル
の評価から10モモルのα−付加生成物の含分が判明し
た。
キサンへの1−ドデカンチオール(D−4054ネツテ
タール2在ヤンツエン・ヒミカで入手)のラジカル性付
加 宣系雰囲気下に、トルエン50紅中のオクタ(ビニルジ
メチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン(例8によ
り製造した) 4 g (3,3x101モルノに1−
ドデカンチオール5.4g(26,7X10−’モル)
及び(X、(!’−7デービスイソブチロニトリル25
IvJを加え、8.5時間80”Cに加熱した。
状生成物が残誼した。GPC−IH−NMR−及び”1
31−NMR−データによって、1−ドデカンチオール
が檻骨格の保持下にビニル基に付加きれたことが確認さ
れ次。
クタ(ビニルジメチルシロΦシ〕オクタシルセスキオキ
サンへのラジカル性付加窒素雰囲気下にトルエン25励
中のオクタ(ビニルジメチルシロキシ〕オクタシルセス
キオキサン(例8により製造し7t)2.li’(1,
6x10弓モル)にr−メルカプトプロピルジメチルメ
トキシシラン2.35 II(14,3X 10−+3
モル)t−加え、25℃で5.5時間水銀浸漬ラングで
照射した。
。
(lH−NMR,2981−NMR)から二1結会への
メルカプト基の付加が確認された。
ジメチル7aキシノオクタンルセスキオキサンを用いる
架橋 オクタ(ビニルジメチルシロキン〕オクタシルセスキオ
Φサンを各々、異なる平均鎖長勿有するα、ω−H−ポ
リジメチルシロキサン(ジメチルシロキシ単位の平均数
五:8.34.95.200)とモル比1:4で、オク
タ(ビニルジメチルシロモル〕オクタシルセスキオキサ
ンを溶かすために十分な量のトルエンの6加下に混合し
て均一な溶液にし、オクタ(ビニルジメチルシロキシ)
オクタシルセスキオキサン1モルに対して触媒浴液(1
−オクテン1財当り Pt 10啼のpt含倉を有する
、pt、−オレフィン−錯体の溶W)4911L’を加
え友。溶液t1常圧で1時間100℃に加熱した後に約
5鴎の厚さのフィルムを生じるような層厚でガラス支何
体に塗布し皮。残りの溶剤を除去するために、架橋し九
フィルム會引続き15時間100℃で真空下<100P
&)で後処理した。
て、架橋したフィルムは脆性からエラストマー筐での特
性を有し友。架橋度t%性付ける九めに架橋し几フィル
ムを25℃で12日間トルエン中で膨潤させた。
)3SiO)g−1(8103/、)Hの合成 例8 a)により製造し7を珪酸テトラメチルアンそニ
ウム30.9を、HQO72μ、イソ10パノール18
0Iu、濃塩酸90a、ヘキサメチルジシロキサン13
4.2jlシ(102,1& −0,63モル〕及び1
,6−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン143.6 a6 (117,1、? −0,6
3モル)から成る、良く攪拌しfc混合物に少菫ずつ加
え、引続き反応混合物上24時間室はで攪拌した。久い
て相を分離し、有機相を水で数回洗浄して中性にし、硫
酸す) IJウム上で乾燥させ、謹過し、先金に蒸発*
縮し、80℃/100Paで乾燥δせた。
マトグラムによれは、J!4なるfIL換分會有1°ル
珪敞オルガノシリルエステルの混合物である。
s)a810〕@ −X(8tor<72 )aの合成 オクタ(トリメチルシaキシ〕オクタシルセスキオキサ
ン〔D、ヘープペル、W、ビーカーツアイトシュリフト
・フェア・アンオルが一二ッシエ・ラント・アールダマ
イネ・ヒエミー684巻、46頁(1971年)により
得られる) 1 g(8,85X 10−4モル)11
e6−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン50μ(40,5,9−0,217モル)に溶、
かじ、酸活性化徐布土(D−8000tエント ヒエン在、ジュー2・ヒエミー社(Fa、 8iid
−Chemie ) トンシルーオツチムム(Tons
ilOptimum ) FF ) 0.111 k加
え、混合物全60℃で2時間撹拌する。引続き触媒を濾
別し、浴剤t−蒸留により除去し友。残漬として結晶物
質1.01gが残笛したが、これはガスクロマトグラム
によれは、異なるfil換分?!−胸する前記組成の珪
酸オルガノシリルエステルの混合物でめる。
81(CHi)a08103/a)ioの合成(a)
珪酸テトラ−n−ブチルアンモニウムの合成 40%の水酸化テトラ−n−ブチルアンモニウム水浴液
CD−7910ノイーウルム(Neu−Ulm ) 7
ルカ社(Fa、 Fluka ) ) 490 &
(5001u)’を水700111Bで希釈し、テトラ
エトキシシラン223.2 & (238,7紅−1,
07モル)を徐々に加えた。引@含混合物に24時間室
県で攪拌し友。その後蒸留により最初の全菫の64.9
9に濃縮し、このm液t4℃で結晶させた。
ニウム501’t、1.1.5.5−テトラメチルジシ
ロキサン(D−8000ミユンヒエン在、ペラカーヒエ
ミー社のベラカー シロキサン)IS i、とじて得ら
れる〕250勘(189,6g)、ジメチルクロル7ラ
ン160ν(112,2I)及びインプロパノール50
継から成る混合物に、5℃で徐々に加え次。引続き室温
で6.5時間攪拌した。次いで氷水500mB’(加え
、有機相倉洗沙して中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥
させ、は別し、浴剤t−60℃/ 1500Paで除去
した。粘性の結晶物* 8.5 &が残愉した。
晶出させることによって、標組化合物1.86.!9(
m論値の25チ)が侍られた。
オキサンの構造と−afる。
ン((H2O2)(CH3)g8108103/JxO
の合成例17に一、工程(b)で1.1.3.3−テト
ラメチルジシロキサン及びジメチルクロルシランの代わ
りに等電の1,6−ジピニルー1,16.6−テトラメ
チルジシロキサン及びビニルジメチルクロルシラン七使
用して、繰返した。
(HBi(CH)10Si03/*]sの合成la)
珪酸テトラエチルアンモニウムの合成40チの水酸化
テトラエチルアンモニウム水fli(D−7910ノイ
一ウルム在フルカ社〕412&(40[JInt)k水
200紅で希釈し、テトラエトキシシラン225 g(
240,6μ−8i1.08モル)全体々に加えた。引
続き室温で24時間撹拌した。次いで蒸留により元の混
合物の45.2優に濃縮し、溶液を4℃で結晶させた。
ヒエミー社)80%シ(60,6,9)、ジメチルク
ロルシラン(ペラカー ヒエクー社のベラカー シラン
M2)80紅(69,1& )及びジメチルシロキシず
ド160勘の、5℃に冷却し次混曾物に、前記珪酸テト
ラエチルアンモニウム229t−5℃で20分間以内に
添加し友。その際、諷&祉5℃から15゛Cに上昇した
。
f加え、1機相r水で洗浄して中性にし、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を60℃/1500Pa
で蒸発除去した。透明な粘性液体が残留し、これから冷
却すると結晶が生じ、これt次いでa取した。
キサ(ジメチルシロキシ)へ中サシルセスキオキサンの
構造と一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: 〔RSiO_3_/_2〕_z( I ) {式中、zは6、8又は10の数を表し; Rは、z−1では式−O−SiR′_3の基であつても
よいという条件で、式:−CH_2CH_2−X(II)
、−CH(CH_3)−X(III)又は−O−Si(R
′_2)−Y(IV)の同一又は異なる基を表し、その際
、Xは各々、式:−(R′_2SiO)_nR′(V)
、〔−(R′_2SiO)_n−〕_1_/_2(VI)
、−S−R″(VII)、〔−S−R′″−S−〕_1_
/_2(XV)又は−CH_2Z(VIII) の1価又は1/2価の基を表し; R′は同一又は異なるC_1〜C_6−アルキル−、C
_1〜C_6−アルコキシ−又はフエニル基を表し; R″は、式(V)又は(VI)の基により置換されていて
もよい同一又は異なるC_1〜C_1_8−アルキル基
を表し; R′″は同一又は異なる二価のC_1〜C_1_8−炭
化水素基、及び/又は式:−(R′_2SiO)_n−
の基を表し; Zはハロゲン原子又はN−結合アミノ基、即ち、−NH
_2、N−ピペリジニル、N−ピペラジニル−、N−モ
ルホリニル基、C_1〜C_6−N−モノアルキルアミ
ノ−又はC_1−〜C_6−ジアルキルアミノ基を表し
; Yは水素原子、ハロゲン化されていてもよいC_2−〜
C_1_0−炭化水素基又は式(II)又は(III)の基
を表し、 nは少なくとも1の値の整数を表す}の化合物。 2、式( I )中、Rが少なくとも部分的には式(II)
、(III)又は(IV)〔式中Xは各々式(V)、(VI)
、(VII)又は(XV)の基であり、Yは式(II)又は
(III)の基である〕の基である、請求項1に記載の化
合物を製造するに当り、式: 〔E−(R′_2SiO)_ySiO_3_/_2〕_
x〔RSiO_3_/_2〕_(_8_−_x)(IX)
〔式中、Xは1〜8の値の整数であり、Y は少なくとも0の値の整数である〕の化合物を、式: GX(X) の化合物と反応させる〔その際式(IX)の基Eは式(X
)の基Gと異なるものであり、基E及びGはビニル基を
表わすか又は直接珪素原子又は硫黄原子と結合した水素
原子を表す〕ことによつて製造することを特徴とする、
請求項1に記載の化合物の製法。 3、Rが式(II)の基であり、式中Xが各々式(VIII)
の基を表す、式( I )の化合物を製造するに当り、式
: Z−CH_2CH_2CH_2SiQ_3(X I )〔
式中、Qは同一又は異なる基、即ちC_1−〜C_6−
アルコキシ基又はハロゲン原子を表す〕の化合物を極性
プロトン性溶剤及び触媒として酸又は塩基の存在で反応
させることによつつて製造することを特徴とする式(
I )の化合物の製法。 4、z−1までは式( I )中の基Rが式−O−SiR
′_3の基であつてもよいという条件で、Rが式(IV)
の基を表す式( I )の化合物を製造するに当り、式(
XII): (W_4NOSiO_3_/_2)_z(XII)〔式中
、Wは同一又は異なるC_1−〜C_4−アルキル基を
表し、zは6、8又は10の数を表す〕の珪酸塩と、式
(XIII): LSi(R′_2)−Y(XIII) 〔式中、Lは1価の基、即ちヒドロキシル 基、ハロゲン原子又は各々C原子12個までを有するア
ルキル基2個までによつて置換されていてもよいアミノ
基を表し、R′及びYは前記のものを表す〕及び/又は
式(XIV):M〔Si(R′_2)−Y〕_2(XIV) 〔式中、Mは2価の基、即ち炭素原子12 個までを有するアルキル基により置換されていてもよい
イミノ基、式:−O−又は −NH−CO−NH−の基を表し、R′及びYは前記の
ものを表す〕の化合物とを、場合により式 (XVI): LSi(R′_3)(XVI) 〔式中L及びR′は前記のものを表す〕及び/又は式(
XVII): M〔Si(R′_3)〕_2(XVII) 〔式中、M及びR′は前記のものを表す〕の化合物と混
合して反応させることを特徴とする、式( I )の化合
物の製法。 5、z−1までは式( I )中の基Rが式−O−SiR
′_3の基であつてもよいという条件で、Rが式(IV)
の基を表し、zが8又は10の数を表す式( I )の化
合物を製造するに当り、式(XVIII): 〔(R′_3)SiOSiO_3_/_2〕_w(XV
III)〔式中、R′は前記のものを表し、wは8又は1
0の数を表す〕の珪酸塩を請求項4に記事の式(XIII
)及び/又は(XIV)の1種又は数種の化合物と反応さ
せることを特徴とする、式( I )の化合物の製法。 6、オルガノ基がオレフィン性不飽和であるか又は直接
珪素−又は硫黄原子と結合した水素原子及び/又は直接
珪素と結合したアルコキシ基を含有する、オルガノヘキ
サシルセスキオキサン、オルガノオクタシルセスキオキ
サン及び/又はオルガノデカシルセスキオキサンよりな
ることを特徴とする重合体用の架橋剤。
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