JPS61271293A - アセトキシシロキサンまたはケイ素に直接結合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製造法 - Google Patents
アセトキシシロキサンまたはケイ素に直接結合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製造法Info
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- JPS61271293A JPS61271293A JP61116319A JP11631986A JPS61271293A JP S61271293 A JPS61271293 A JP S61271293A JP 61116319 A JP61116319 A JP 61116319A JP 11631986 A JP11631986 A JP 11631986A JP S61271293 A JPS61271293 A JP S61271293A
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- C08G77/04—Polysiloxanes
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- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はアセトキシシロキサン・またはケイ素に直接結
合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ〕シロキサンの
製造法に関する。
合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ〕シロキサンの
製造法に関する。
従来の技術
たとえば、トリス−(トリメチルシロキシクーアセトキ
シシランを製造することは既に公知である〔カナダ国特
許第11571376号明細舎、1986年11月29
日発行、発明者:ノビツキ−(tL N、 Novic
ky )、出願人:ソエタキ(G、 F−Tsueta
ki )、参照〕。
シシランを製造することは既に公知である〔カナダ国特
許第11571376号明細舎、1986年11月29
日発行、発明者:ノビツキ−(tL N、 Novic
ky )、出願人:ソエタキ(G、 F−Tsueta
ki )、参照〕。
さらに、ケイ素に直接に結合したハロゲンを有するオル
ガノ(ポリ)シロキサン、すなわち塩素全方するオルガ
ノ(ポリ)シロキサン全直接ケイ素に結合した水素を有
するオルガノ(ポリ)シロキサンとβ−メタリルクロリ
ドとを金属パラジウムまたは金属ルテニウムの存在で反
応させることにより製造することは公知である。
ガノ(ポリ)シロキサン、すなわち塩素全方するオルガ
ノ(ポリ)シロキサン全直接ケイ素に結合した水素を有
するオルガノ(ポリ)シロキサンとβ−メタリルクロリ
ドとを金属パラジウムまたは金属ルテニウムの存在で反
応させることにより製造することは公知である。
これについては、ベリー(Th、 A、Ba、rry
)他著の6ジヤーナル・オブ・オーガニック・ケミス
ト リ − (Journal of Qrgan
ic Chemistry )第68°巻、第86
8〜841頁全参照する。
)他著の6ジヤーナル・オブ・オーガニック・ケミス
ト リ − (Journal of Qrgan
ic Chemistry )第68°巻、第86
8〜841頁全参照する。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、ケイ素に直接結合したハロゲン’kW
するオルガノ(ポリ〕シロキサン全1直接ケイ素に結合
し友水素?有するオルガノ(ポリ)シロキサンとアリル
化合物とを、たとえば金属パラジウムまたは金属ルテニ
ウムの存在で反応させることによって製造し、その際特
に僅かな触媒音用いて、特に短かい時間で、特に高い収
量が得られるような方法、または腐食性副生成物が生成
しないアセトキシシロキサンの特に費用のかからない製
造法を提供することである。かかる課題は本発明によっ
て解決される。
するオルガノ(ポリ〕シロキサン全1直接ケイ素に結合
し友水素?有するオルガノ(ポリ)シロキサンとアリル
化合物とを、たとえば金属パラジウムまたは金属ルテニ
ウムの存在で反応させることによって製造し、その際特
に僅かな触媒音用いて、特に短かい時間で、特に高い収
量が得られるような方法、または腐食性副生成物が生成
しないアセトキシシロキサンの特に費用のかからない製
造法を提供することである。かかる課題は本発明によっ
て解決される。
問題点を解決するための手段
本発明の目的は、アセトキシシロキサンまたはケイ素に
直接結合したハロゲン全方するオルガノ(ポリ)シロキ
サンを、直接ケイ素に結合し次水素を有するオルガノ(
ポリ)シロキサンとアリル化合物とを金属パラジウム、
金属ルテニウムまたは金属ロジウムの存在か、または前
記の貴金属のうちの1つのアセチルアセトン錯体、ホス
フィン錯体ないしはアセチルアセトン化合物またはホス
フィン化合物の存在で反応させることによって製造する
方法において、アリル化合物として1分子あ九り6個の
炭素原子を有するアリルハロデニドないしはアリルアセ
テート金使用することを特徴とするアセトキシシロキサ
ンまたはケイ素に直接結合しtハロゲン金有するオルガ
ノ(ポリ)シロキサンの製造法である。
直接結合したハロゲン全方するオルガノ(ポリ)シロキ
サンを、直接ケイ素に結合し次水素を有するオルガノ(
ポリ)シロキサンとアリル化合物とを金属パラジウム、
金属ルテニウムまたは金属ロジウムの存在か、または前
記の貴金属のうちの1つのアセチルアセトン錯体、ホス
フィン錯体ないしはアセチルアセトン化合物またはホス
フィン化合物の存在で反応させることによって製造する
方法において、アリル化合物として1分子あ九り6個の
炭素原子を有するアリルハロデニドないしはアリルアセ
テート金使用することを特徴とするアセトキシシロキサ
ンまたはケイ素に直接結合しtハロゲン金有するオルガ
ノ(ポリ)シロキサンの製造法である。
面接ケイ素に結合した水素の反応を、シロキサン酸素原
子以外のケイ素の置換基によって調節することは、今ま
で知られてなかった。し友がって、本発明による方法の
場合、直接にケイ素に結合した水素を有する任意のオル
ガノ(ポリ)シロキサン全使用できる。しかし有利には
、直接にケイ素に結合した水素を有するオルガノ(ポリ
)シロキサンとして、式: %式% で示されるようなものが挙げられる。
子以外のケイ素の置換基によって調節することは、今ま
で知られてなかった。し友がって、本発明による方法の
場合、直接にケイ素に結合した水素を有する任意のオル
ガノ(ポリ)シロキサン全使用できる。しかし有利には
、直接にケイ素に結合した水素を有するオルガノ(ポリ
)シロキサンとして、式: %式% で示されるようなものが挙げられる。
上記の式において、Ruそれぞれ同一ま7cは異なるか
、場合によってはハロダン化された1価の炭化水素基を
表わすか、ま′fc、は炭素−1水累−、エーテル酸素
−およびフッ素原子から構成される1価の脂肪族基を表
わし、その際これら全ての基Rは脂肪族炭素−炭素−多
重結合を含まないかまたはトリアルキルシロキシ基、殊
にトリメチルシロキシ基であり、aは0まfcハ1であ
り、七の際aの値は同一の分子中で異なっていてもよく
、mは6〜8の値の整数であり、nは0〜7の値の整数
であり、その際m−1−nの値の総和は最高8であり、
Xは0または少なくとも1の値の整数であり(fcだし
指数aおよびXの少なくとも1つは0でないものとする
〕、yは0または少なくとも1の値の整数である。
、場合によってはハロダン化された1価の炭化水素基を
表わすか、ま′fc、は炭素−1水累−、エーテル酸素
−およびフッ素原子から構成される1価の脂肪族基を表
わし、その際これら全ての基Rは脂肪族炭素−炭素−多
重結合を含まないかまたはトリアルキルシロキシ基、殊
にトリメチルシロキシ基であり、aは0まfcハ1であ
り、七の際aの値は同一の分子中で異なっていてもよく
、mは6〜8の値の整数であり、nは0〜7の値の整数
であり、その際m−1−nの値の総和は最高8であり、
Xは0または少なくとも1の値の整数であり(fcだし
指数aおよびXの少なくとも1つは0でないものとする
〕、yは0または少なくとも1の値の整数である。
X+1の値の総和は高くとも、上記の式で示される線状
オルガノ(ポリ)シロキサンの粘度が25°Cで最高5
0000 mPa、sであるような高さであることが好
ましい。
オルガノ(ポリ)シロキサンの粘度が25°Cで最高5
0000 mPa、sであるような高さであることが好
ましい。
好ましくは、上記の式中の基Rは、基1個あたり最高1
〜18個の炭素原子を含有する。炭化水素基Rの例は、
メチル−、エチル−、プロピル−、インプロぎルー、ブ
チル−1および第2−ブチル基のようなアルキル基なら
びにオクタデシル基;シクロヘキシル基およびメチルシ
クロヘキシル基のようなシクロアルキル基;フェニル基
およびジフェニル基のようなアリール基;トリル基のよ
うなアルカリール基;およびベンジル基のようなアラル
キル基である。
〜18個の炭素原子を含有する。炭化水素基Rの例は、
メチル−、エチル−、プロピル−、インプロぎルー、ブ
チル−1および第2−ブチル基のようなアルキル基なら
びにオクタデシル基;シクロヘキシル基およびメチルシ
クロヘキシル基のようなシクロアルキル基;フェニル基
およびジフェニル基のようなアリール基;トリル基のよ
うなアルカリール基;およびベンジル基のようなアラル
キル基である。
ハロゲン化された炭化水素基Rの例は、6゜3.3−)
リフルオロプロピル基および・0−1p−1およびm−
クロルフェニル基ならびにβ−クロルエチル基である。
リフルオロプロピル基および・0−1p−1およびm−
クロルフェニル基ならびにβ−クロルエチル基である。
炭素−1水累−、エーテル酸素−1およびフッ素原子か
ら構成される1価の脂肪族基Rの例は、1.1.2.2
.3.3−ヘキサフルオロプロぎルオキシプロビル基お
よび1,1.2゜2−テトラフルオロエトキシプロビル
基である。
ら構成される1価の脂肪族基Rの例は、1.1.2.2
.3.3−ヘキサフルオロプロぎルオキシプロビル基お
よび1,1.2゜2−テトラフルオロエトキシプロビル
基である。
容易に入手できるという理由で既に、本発明による方法
で使用されるオルガノ(ポリ)シロキサン中の有機基、
ひいては上記式中の基Rの数の少なくとも80%はとく
にメチル基である。
で使用されるオルガノ(ポリ)シロキサン中の有機基、
ひいては上記式中の基Rの数の少なくとも80%はとく
にメチル基である。
本発明による方法で使用可能な、直接にケイ素に結合し
友水累を有するオルガノ(ポリシロキサンの詳細な例は
、トリス−(トリメチルシロキシン−シラン(これは、
シロキサン酸素原子の含量の几めに、“シラン”という
記載にもかかわらず、オルガノシロキサンである)、1
.1,1.5.3−ペンタメチルジシロキサン、1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサン、ジメチル水素シ
ロキシ基を末端単位として有するジメチルポリシロキサ
ン、3個のメチル水素シロキサン単位からなる環状オル
ガノビリシロキサン、および1個のメチル水素シロキサ
ン単位および6個のジメチルシロキサン単位からなる環
状オルガノポリシロキサン、ならびにトリメチルシロキ
シ基により末端封鎖されたメチル水素ポリシロキサン、
およびメチル水素シロキサン単位およびジメチルシロキ
サン単位からなる、トリメチルシロキシ基により末端封
鎖された共重合体である。
友水累を有するオルガノ(ポリシロキサンの詳細な例は
、トリス−(トリメチルシロキシン−シラン(これは、
シロキサン酸素原子の含量の几めに、“シラン”という
記載にもかかわらず、オルガノシロキサンである)、1
.1,1.5.3−ペンタメチルジシロキサン、1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサン、ジメチル水素シ
ロキシ基を末端単位として有するジメチルポリシロキサ
ン、3個のメチル水素シロキサン単位からなる環状オル
ガノビリシロキサン、および1個のメチル水素シロキサ
ン単位および6個のジメチルシロキサン単位からなる環
状オルガノポリシロキサン、ならびにトリメチルシロキ
シ基により末端封鎖されたメチル水素ポリシロキサン、
およびメチル水素シロキサン単位およびジメチルシロキ
サン単位からなる、トリメチルシロキシ基により末端封
鎖された共重合体である。
好ましくは、金属パラジウム、金属ルテニウムまたに金
属ロジウム、またはこれらの元素の混合物を触媒として
使用する場合、この種の触媒を使用する場合一般に常用
である様に、金属はできる限り微細に分配されている。
属ロジウム、またはこれらの元素の混合物を触媒として
使用する場合、この種の触媒を使用する場合一般に常用
である様に、金属はできる限り微細に分配されている。
金属パラジウム、金属ルテニウムま九は金属ロジウムは
、この種の金属および反応成分に対して不活性の担体、
文とえば活性炭、二醗化ケイ素または酸化アルミニウム
上に存在する。
、この種の金属および反応成分に対して不活性の担体、
文とえば活性炭、二醗化ケイ素または酸化アルミニウム
上に存在する。
パラジウム、ルテニウムまたはロジウムのアセチルアセ
トン−またはホスフィン−1殊にトリフェニルホスフィ
ン−錯体ないしは、パラジウム、ルテニウムまfc、ハ
ロジウムのアセチルアセトン−まtはホスフィン−化合
物の詳細な例は、 パラジウム−ジアセチルアセトネート、クロロトリス−
(トリフェニルホスフィン)−ロジウム([1、すなわ
ち 式” (CaI2)3P3RhC1で示される化合物も
しくは錯体、 式: Rh(aCaC)[:”(C6H5)i:lzで
示される錯体、ロジウムアセチルアセトネート、 ルテニウム−トリス−アセチルアセトネート、式: R
u(acac)2[P(C5H5〕3〕2で示される錯
体、式: RuCl2(P(CaI2)s]zで示され
る錯体、および式: RuCl2(”(C6ns)3)
2で示される錯体である、ただし上記式中acacはそ
れぞれアセチルアセトナトラ表わす。
トン−またはホスフィン−1殊にトリフェニルホスフィ
ン−錯体ないしは、パラジウム、ルテニウムまfc、ハ
ロジウムのアセチルアセトン−まtはホスフィン−化合
物の詳細な例は、 パラジウム−ジアセチルアセトネート、クロロトリス−
(トリフェニルホスフィン)−ロジウム([1、すなわ
ち 式” (CaI2)3P3RhC1で示される化合物も
しくは錯体、 式: Rh(aCaC)[:”(C6H5)i:lzで
示される錯体、ロジウムアセチルアセトネート、 ルテニウム−トリス−アセチルアセトネート、式: R
u(acac)2[P(C5H5〕3〕2で示される錯
体、式: RuCl2(P(CaI2)s]zで示され
る錯体、および式: RuCl2(”(C6ns)3)
2で示される錯体である、ただし上記式中acacはそ
れぞれアセチルアセトナトラ表わす。
アリルハロゲン化物を使用する場合、活性炭上の金属パ
ラジウム、パラジウムジアセチルアセトネート、ルテニ
ウムトリス−アセチルアセトネートおよび式: (C6
H5)3P3RhC1で示される錯体が有利である。
ラジウム、パラジウムジアセチルアセトネート、ルテニ
ウムトリス−アセチルアセトネートおよび式: (C6
H5)3P3RhC1で示される錯体が有利である。
アリルハロデニドを使用する場合、特に活性炭上のパラ
ジウムが有利である。
ジウムが有利である。
アリルアセテートtl−使用する場・合、活性炭上の金
属パラジウム、活性炭上の金属ルテニウム、前記の2つ
のアセチルアセネートおよび前記のルテニウム錯体が有
利である。アリルアセテートを使用する場合、特に活性
炭上の金属パラジウムおよび活性炭上の金属ルテニウム
が有利である。
属パラジウム、活性炭上の金属ルテニウム、前記の2つ
のアセチルアセネートおよび前記のルテニウム錯体が有
利である。アリルアセテートを使用する場合、特に活性
炭上の金属パラジウムおよび活性炭上の金属ルテニウム
が有利である。
もちろん、パラジウム、ルテニウムおよびロジウムの少
なくとも1つの元素と、アセチルアセトンの少なくとも
1つの錯体ないしは少なくとも1つの化合物とからなる
混合物、ま友はホスフィン、殊にトリフェニルホスフィ
ンと上記元素の1つからなる混合物全使用することもで
きる。
なくとも1つの元素と、アセチルアセトンの少なくとも
1つの錯体ないしは少なくとも1つの化合物とからなる
混合物、ま友はホスフィン、殊にトリフェニルホスフィ
ンと上記元素の1つからなる混合物全使用することもで
きる。
好ましくは、金属パラジウム、ルテニウムおよびロジウ
ム、ならびに前記の貴金属のアセチルアセトン−まtは
ホスフィン−錯体ないしはアセチルアセトン−まtはホ
スフィン−化合物を、元素状金属として計算しかつそれ
ぞれ使用される、直接にケイ素に結合した水素を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンおよびアリルハロデニドな
いしはアリルアセテートの全重責に対して、50〜10
00重1k −ppm (百万分藁)の量で使用する。
ム、ならびに前記の貴金属のアセチルアセトン−まtは
ホスフィン−錯体ないしはアセチルアセトン−まtはホ
スフィン−化合物を、元素状金属として計算しかつそれ
ぞれ使用される、直接にケイ素に結合した水素を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンおよびアリルハロデニドな
いしはアリルアセテートの全重責に対して、50〜10
00重1k −ppm (百万分藁)の量で使用する。
アリルハロデニドまfcは3−ハロゲンプロペン−(1
)中のハロゲンは、塩素、臭素またはヨウ素であってよ
い。容易に入手できるという理由で既に、塩素が有利で
ある。
)中のハロゲンは、塩素、臭素またはヨウ素であってよ
い。容易に入手できるという理由で既に、塩素が有利で
ある。
好ましくは、アリルハロデニドないしはアリルアセテー
トを、直接にケイ素に結合した水素1グラム原子あ友9
0.5〜5モルの量で使用する。
トを、直接にケイ素に結合した水素1グラム原子あ友9
0.5〜5モルの量で使用する。
本発明による方法は好ましくは、25〜20000で、
かつその際使用される装置に対してごく僅の費用しか必
要としないという理由から環境大気の圧力で、すなわち
102 OhPaま友は約1020 hPaで実施する
。本発明による方法の場合、同様に生成するプロピレン
は既に室温でガス状であるので、上記よりも低い圧力の
使用も有利である。
かつその際使用される装置に対してごく僅の費用しか必
要としないという理由から環境大気の圧力で、すなわち
102 OhPaま友は約1020 hPaで実施する
。本発明による方法の場合、同様に生成するプロピレン
は既に室温でガス状であるので、上記よりも低い圧力の
使用も有利である。
本発明による方法全実施する場合、反応成分と触媒と金
−緒に混合し、その後所望の温度にも友らすことができ
る。直接にケイ素に結合し九水素?有するオルガノポリ
シロキサンが、ペンタメチルジシロキサンのように特に
反応性である場合、これを触媒とアリルハロダニドない
しはアリルアセテートからなる混合物に滴下法で添加す
るか、またはかかる混合物全滴下法でシロキサンに添加
することができる。
−緒に混合し、その後所望の温度にも友らすことができ
る。直接にケイ素に結合し九水素?有するオルガノポリ
シロキサンが、ペンタメチルジシロキサンのように特に
反応性である場合、これを触媒とアリルハロダニドない
しはアリルアセテートからなる混合物に滴下法で添加す
るか、またはかかる混合物全滴下法でシロキサンに添加
することができる。
殊に比較的高粘度のオルガノポリシロキサンを使用する
場合、本発明による方法金トルエン、テトラヒドロフラ
ンまたはジオキサンのような反応成分および触媒に対し
て不活性の溶剤中か、またはかかる溶剤の少なくとも2
つからなる混合物中で実施することができる。
場合、本発明による方法金トルエン、テトラヒドロフラ
ンまたはジオキサンのような反応成分および触媒に対し
て不活性の溶剤中か、またはかかる溶剤の少なくとも2
つからなる混合物中で実施することができる。
溶剤および未反応のアリルハロデニドないしは未反応の
アリルアセテートは、本発明によって製造されるケイ素
に直接結合し几ハロゲン全方するオルガノ(ポリシロキ
サンないしはアシロキシシロキサンから、場合により減
圧下で蒸発することによって分離することができる。
アリルアセテートは、本発明によって製造されるケイ素
に直接結合し几ハロゲン全方するオルガノ(ポリシロキ
サンないしはアシロキシシロキサンから、場合により減
圧下で蒸発することによって分離することができる。
触媒は、本発明によって製造されるケイ素に直接結合し
tハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンないし
はアシロキシシロキサンから、必要に応じて、たとえば
濾過することによって分離することができる。
tハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンないし
はアシロキシシロキサンから、必要に応じて、たとえば
濾過することによって分離することができる。
本発明によって製造されるケイ素に直接結合し九ハロゲ
ン全方するオルガノ(ポリ)シロキサンないしはアシロ
キシシロキサンは、従来もケイ素に直接結合したハロゲ
ンffi!するオルガノ(ポリ)シロキサンないしはア
シロキシシロキサンを使用することができた全ての目的
に対して、たとえば有機官能基全方するオルガノ(ポリ
)シロキサン全製造するため、およびこのオルガノ(ポ
リ)シロキサンがペンタメチルクロルジシロキサンのよ
うに短鎖状である場合、有機化学において保護基金導入
するために使用することができる。さらに、本発明によ
って製造されるアシルオキシシロキサンは念とえば、ア
ルコール性ヒドロキシル基全方するf IJ エステル
のようなアルコール性ヒドロキシル基’に有する有機重
合体との反応によってグラフト重合体を製造する几めに
使用することができる。
ン全方するオルガノ(ポリ)シロキサンないしはアシロ
キシシロキサンは、従来もケイ素に直接結合したハロゲ
ンffi!するオルガノ(ポリ)シロキサンないしはア
シロキシシロキサンを使用することができた全ての目的
に対して、たとえば有機官能基全方するオルガノ(ポリ
)シロキサン全製造するため、およびこのオルガノ(ポ
リ)シロキサンがペンタメチルクロルジシロキサンのよ
うに短鎖状である場合、有機化学において保護基金導入
するために使用することができる。さらに、本発明によ
って製造されるアシルオキシシロキサンは念とえば、ア
ルコール性ヒドロキシル基全方するf IJ エステル
のようなアルコール性ヒドロキシル基’に有する有機重
合体との反応によってグラフト重合体を製造する几めに
使用することができる。
実施例
例 1
塩化アリル306.11.1.1.3.3−ペンタメチ
ルジシロキサン592gと活性炭上のパラジウム(パラ
ジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジウム
200重量ppm(ジシロキサンおよびハロゲン化アリ
ルの全重量に対し)からなる、50°Cに加熱された混
合物に、混合物を撹拌しながら滴下法で添加する。
ルジシロキサン592gと活性炭上のパラジウム(パラ
ジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジウム
200重量ppm(ジシロキサンおよびハロゲン化アリ
ルの全重量に対し)からなる、50°Cに加熱された混
合物に、混合物を撹拌しながら滴下法で添加する。
その際、温度は96°Cに上昇する。塩化子りルの添加
が終了した後、なお60分撹拌する。その後、反応混合
物は IH−核磁気共鳴ス・ベクトル分析によれば、約
95モル%(シロキサンの割合に対して)の1.1.1
,3.3−ペンタ)fルー3−クロル−シロキサン全含
有する。
が終了した後、なお60分撹拌する。その後、反応混合
物は IH−核磁気共鳴ス・ベクトル分析によれば、約
95モル%(シロキサンの割合に対して)の1.1.1
,3.3−ペンタ)fルー3−クロル−シロキサン全含
有する。
分別蒸留によって、該混合物から所望のクロルシロキサ
ンが99重量%の純度で得られる。
ンが99重量%の純度で得られる。
例 2
塩化アリル3 EL4 g、1.1.3.3−テトラメ
チル−ジシロキサン33.5 gおよびパラジウムジア
セチルアセトネートの形のパラジウム200重量p1)
m(ジシロキサンとハロゲン化アリルの全重量に対して
〕からなる混合物を、撹拌下で緩慢に加熱する。40°
Cで激しい反応が始まり、その際温度は100℃に上昇
する。反応がいくらか弱まった後、なお15分間撹拌す
る。その後、反応混合物はIH−核磁気共鳴スペクトル
分析によれば84モル%(シロキサンの割合に対して)
の1.1,3.3−テトラメチル−1,3−ジクロルジ
シロキサンを含有する。
チル−ジシロキサン33.5 gおよびパラジウムジア
セチルアセトネートの形のパラジウム200重量p1)
m(ジシロキサンとハロゲン化アリルの全重量に対して
〕からなる混合物を、撹拌下で緩慢に加熱する。40°
Cで激しい反応が始まり、その際温度は100℃に上昇
する。反応がいくらか弱まった後、なお15分間撹拌す
る。その後、反応混合物はIH−核磁気共鳴スペクトル
分析によれば84モル%(シロキサンの割合に対して)
の1.1,3.3−テトラメチル−1,3−ジクロルジ
シロキサンを含有する。
例 6
例2に記載し九作業法を繰り返すが、パラジウム200
重量ppmの代わりに式: ((C6H5)sP3Rhc1 〕で示される錯化合物
の形のロジウム200重量ppm (ジシロキサンとハ
ロゲン化アリルの全重量に対して)全使用する。
重量ppmの代わりに式: ((C6H5)sP3Rhc1 〕で示される錯化合物
の形のロジウム200重量ppm (ジシロキサンとハ
ロゲン化アリルの全重量に対して)全使用する。
反応がいくらか弱まり、なお151分間撹拌し友後、反
応混合物は、IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば
シロキサンの割合に対して60モルチの1.1,3.3
−テトラメチル−1゜6−ジクロルジシロキサンを含有
する。
応混合物は、IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば
シロキサンの割合に対して60モルチの1.1,3.3
−テトラメチル−1゜6−ジクロルジシロキサンを含有
する。
例 4
例2に記載し九作業法を繰り返すが、パラジウム200
重量ppmの代わりに、ルテニウム−トリスアセチルア
セトネートの形のルテニウム200重量I)I)m (
ジシロキサンとハロゲン化アリルの全重量に対して)を
使用する。反応がいくらか弱まり、なお15分間撹拌し
た後、IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば反応混
合物は、シロキサンの割合に対して40モルチの1.1
,3.3−テトラメチル−1,6−ジクロルジシロキサ
ン、80分間撹拌した後では70モル−〇1.1.3.
3−テトラメチルー1.6−ジクロルジシロキサン全含
有する。
重量ppmの代わりに、ルテニウム−トリスアセチルア
セトネートの形のルテニウム200重量I)I)m (
ジシロキサンとハロゲン化アリルの全重量に対して)を
使用する。反応がいくらか弱まり、なお15分間撹拌し
た後、IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば反応混
合物は、シロキサンの割合に対して40モルチの1.1
,3.3−テトラメチル−1,6−ジクロルジシロキサ
ン、80分間撹拌した後では70モル−〇1.1.3.
3−テトラメチルー1.6−ジクロルジシロキサン全含
有する。
例 5
臭化アリル12.1 g、1.1.1.3.3−ペンタ
メチルジシロキサン14.8.!i+および活性炭上の
パラジウム(パラジウム5重量%/活性炭95重量%)
の形のパラジウム200重量ppm cジシロキサンと
ハロゲン化アリルの全重量に対して)からなる混合物を
、撹拌下で緩慢に70°Cに加熱する。70’Cで2時
間撹拌した後、反応混合物は IH−核磁気共鳴スペク
トル分析によればシロキサンの割合に対して、77モル
チの1.1,1.3.3−ペンタメチル−6−ブロムジ
シロキサンを含有する。
メチルジシロキサン14.8.!i+および活性炭上の
パラジウム(パラジウム5重量%/活性炭95重量%)
の形のパラジウム200重量ppm cジシロキサンと
ハロゲン化アリルの全重量に対して)からなる混合物を
、撹拌下で緩慢に70°Cに加熱する。70’Cで2時
間撹拌した後、反応混合物は IH−核磁気共鳴スペク
トル分析によればシロキサンの割合に対して、77モル
チの1.1,1.3.3−ペンタメチル−6−ブロムジ
シロキサンを含有する。
例 6
ヨウ化アリル38.3 g、1,1,1.3.3−ペン
タメチルジシロキサン14−8.!7および活性炭上の
パラジウム(パラジウム5重量%/活性炭95重量%〕
の形のパラジウム200重量ppm (ジシロキサンと
ハロゲン化アリルの全重量に対して)からなる混合物を
、撹拌下で緩慢に80°Cに加熱する。80°Cで2時
間撹拌した後、反応混合物はIH−核磁気共鳴スペクト
ル分析によればシロキサンの割合に対して52モルチの
1.1,1,3.3−ペンタメチル−6−ヨードジシロ
キサン全含有する。
タメチルジシロキサン14−8.!7および活性炭上の
パラジウム(パラジウム5重量%/活性炭95重量%〕
の形のパラジウム200重量ppm (ジシロキサンと
ハロゲン化アリルの全重量に対して)からなる混合物を
、撹拌下で緩慢に80°Cに加熱する。80°Cで2時
間撹拌した後、反応混合物はIH−核磁気共鳴スペクト
ル分析によればシロキサンの割合に対して52モルチの
1.1,1,3.3−ペンタメチル−6−ヨードジシロ
キサン全含有する。
例 7
塩化アリル38.3 gおよび活性炭上のパラジウム(
パラジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジ
ウム200重量ppm (オルガノポリシロキサンとハ
ロゲン化アリルの全重量に対して〕からなる40°Cに
加熱された混合物に、撹拌下で滴下法により、メチル水
素シロキサン単位50モルチとジメチルシロキサン単位
50モルチからなる、トリメチルシロキシ基により末端
封鎖された、25°Cで粘度250 +nPa、、B
全有する共重合体13.4gt−添加する。40°Cで
6日間撹拌した後、直接にケイ素に結合した水素の90
モルチは直接にケイ素に結合し友塩素に置換された。
パラジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジ
ウム200重量ppm (オルガノポリシロキサンとハ
ロゲン化アリルの全重量に対して〕からなる40°Cに
加熱された混合物に、撹拌下で滴下法により、メチル水
素シロキサン単位50モルチとジメチルシロキサン単位
50モルチからなる、トリメチルシロキシ基により末端
封鎖された、25°Cで粘度250 +nPa、、B
全有する共重合体13.4gt−添加する。40°Cで
6日間撹拌した後、直接にケイ素に結合した水素の90
モルチは直接にケイ素に結合し友塩素に置換された。
例 8
トリス−(トリメチルシロキシ)−シラン13.4.g
、塩化アリル6.8gおよび活性炭上のパラジウム(パ
ラジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジウ
ム200重量ppm Ci機ケイ素化合物と塩化アリル
の全重量に対して)からなる混合物を還流下(約80°
C)で沸騰加熱する。還流下で5時間沸騰させた後、反
応混合物は IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば
、シロキサンの割合に対して30モルチのトリス−(ト
リメチルシロキシ)−クロルシラン全含有し、還流下で
9時間沸騰させ九後は、90モルチのトリス−(トリメ
チルシロキシ)−クロルシランを含有する。
、塩化アリル6.8gおよび活性炭上のパラジウム(パ
ラジウム5重量%/活性炭95重量%)の形のパラジウ
ム200重量ppm Ci機ケイ素化合物と塩化アリル
の全重量に対して)からなる混合物を還流下(約80°
C)で沸騰加熱する。還流下で5時間沸騰させた後、反
応混合物は IH−核磁気共鳴スペクトル分析によれば
、シロキサンの割合に対して30モルチのトリス−(ト
リメチルシロキシ)−クロルシラン全含有し、還流下で
9時間沸騰させ九後は、90モルチのトリス−(トリメ
チルシロキシ)−クロルシランを含有する。
例 9
1.1,1.3.3−ペンタメチルジシロキサン14.
8g、アリルアセテート(酢酸アリルエステル) 10
−Ogおよび活性炭上のパラジウム(パラジウム5重量
%/活性炭95重量%)0.01 F にの場合、0.
01 gは活性炭とパラジウムの全重量に関する)から
なる混合物音、還流下(約105°C)で4時間沸騰加
熱する。
8g、アリルアセテート(酢酸アリルエステル) 10
−Ogおよび活性炭上のパラジウム(パラジウム5重量
%/活性炭95重量%)0.01 F にの場合、0.
01 gは活性炭とパラジウムの全重量に関する)から
なる混合物音、還流下(約105°C)で4時間沸騰加
熱する。
その後、1,1,1,3.3−ペンタメチル−6−アセ
トキシジシロキサンの収量は定量的である。
トキシジシロキサンの収量は定量的である。
例10
トリス−(トリメチルシロキシ)−シラン296g、ア
リルアセテート110gおよび活性炭上のルテニウム(
ルテニウム5重量%/活性炭95重量%ン2.4g(こ
の場合、2.4gは活性炭とルテニウムの全重量に関す
る)からなる混合物を還流(約105°C)下で4時間
沸騰加熱する。その後、トリス−(トリメチルシロキシ
)−アセトキシシランの収量は定量的である。
リルアセテート110gおよび活性炭上のルテニウム(
ルテニウム5重量%/活性炭95重量%ン2.4g(こ
の場合、2.4gは活性炭とルテニウムの全重量に関す
る)からなる混合物を還流(約105°C)下で4時間
沸騰加熱する。その後、トリス−(トリメチルシロキシ
)−アセトキシシランの収量は定量的である。
例11
アリルアセテート5L2g、1.1,3.3−テトラメ
チルジシロキサン33.5 gおよびパラジウムジアセ
チルアセトネートの形のパラジウム200重量1)pm
(ジシロキサンとアリルアセテートの全重量に対して
)からなる混合物を、撹拌下で緩慢に加熱する。50℃
で激しい反応が始まり、その際、温度は約105°Cに
上昇する。反応がいくらか弱まった後、なお15分間撹
拌する。その後、反応混合物はIH−核磁気スペクトル
分析によれば、80モルチ(シoキサンの割合に対して
)の1.1.3.3−テトラメチル−1,6−ジアセト
キシジシロキサンを含有する。
チルジシロキサン33.5 gおよびパラジウムジアセ
チルアセトネートの形のパラジウム200重量1)pm
(ジシロキサンとアリルアセテートの全重量に対して
)からなる混合物を、撹拌下で緩慢に加熱する。50℃
で激しい反応が始まり、その際、温度は約105°Cに
上昇する。反応がいくらか弱まった後、なお15分間撹
拌する。その後、反応混合物はIH−核磁気スペクトル
分析によれば、80モルチ(シoキサンの割合に対して
)の1.1.3.3−テトラメチル−1,6−ジアセト
キシジシロキサンを含有する。
例12
例11に記載し次作業法を繰り返すが、パラジウム20
0重量ppmの代わりに、式:((C6H5)3P3F
lhC1)で示される錯体の形のロジウム200重量p
pm (ジシロキサンとアリルアセテートの全重量に対
して)を使用する。反応が多少弱まり、なお60分間撹
拌した後、反応混合物は LH−核磁気共鳴スペクトル
分析によれば、シロキサンの割合に対して7oモルー〇
1.1,3.3−テトラメチル−1,3−ジアセトキシ
ジシロキサン’に含有する。
0重量ppmの代わりに、式:((C6H5)3P3F
lhC1)で示される錯体の形のロジウム200重量p
pm (ジシロキサンとアリルアセテートの全重量に対
して)を使用する。反応が多少弱まり、なお60分間撹
拌した後、反応混合物は LH−核磁気共鳴スペクトル
分析によれば、シロキサンの割合に対して7oモルー〇
1.1,3.3−テトラメチル−1,3−ジアセトキシ
ジシロキサン’に含有する。
例16
例11に記載し次作業法金繰り返すが、パラジウム20
0重量ppmの代わりに、ルテニウムトリス−アセチル
アセトネートの形のルテニウム200重量ppm cジ
シロキサンとアリルアセテートの全重量に対して)を使
用する。反応が多少弱まってからなお6o分間撹拌した
後、反応混合物は IH−核磁気共鳴スペクトル分析に
よればシロキサンの割合に対して50モルチの1.1,
3,3−テトラメチル−1,3−ジアセトキシジシロキ
サン全含有し、100分間撹拌した後では85モル−〇
1.1,3.3−テトラメチルー1,6−ジアセトキシ
ジシロキサンを含有する。
0重量ppmの代わりに、ルテニウムトリス−アセチル
アセトネートの形のルテニウム200重量ppm cジ
シロキサンとアリルアセテートの全重量に対して)を使
用する。反応が多少弱まってからなお6o分間撹拌した
後、反応混合物は IH−核磁気共鳴スペクトル分析に
よればシロキサンの割合に対して50モルチの1.1,
3,3−テトラメチル−1,3−ジアセトキシジシロキ
サン全含有し、100分間撹拌した後では85モル−〇
1.1,3.3−テトラメチルー1,6−ジアセトキシ
ジシロキサンを含有する。
例14
アリルアセテート51.2!9および活性炭上のパラジ
ウム(パラジウム5重量L%/活性炭95重量%)の形
のパラジウム200重ii ppm (オルガンポリシ
ロキサンとアリルアセテートの全重量に対するンからな
る、40℃に加熱された混合物に、撹拌下で滴下法によ
り、メチル水素シロキサン単位50モルチとジメチルシ
ロキサン単位50モルチからなる、トリメチルシロキシ
基により末端封鎖され皮、25°Cで粘度250mPa
、si有する共重合体13.491!r添加する。
ウム(パラジウム5重量L%/活性炭95重量%)の形
のパラジウム200重ii ppm (オルガンポリシ
ロキサンとアリルアセテートの全重量に対するンからな
る、40℃に加熱された混合物に、撹拌下で滴下法によ
り、メチル水素シロキサン単位50モルチとジメチルシ
ロキサン単位50モルチからなる、トリメチルシロキシ
基により末端封鎖され皮、25°Cで粘度250mPa
、si有する共重合体13.491!r添加する。
60°Cで3日間撹拌した後、直接にケイ素に結合した
水素の90モル%はアセトキシ基によって置換され友。
水素の90モル%はアセトキシ基によって置換され友。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アセトキシシロキサンまたはケイ素に直接結合した
ハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンを、直接
ケイ素に結合した水素を有するオルガノ(ポリ)シロキ
サンとアリル化合物とを、金属パラジウム、金属ルテニ
ウムまたは金属ロジウム、または前記貴金属のうちの1
つのアセチルアセトン錯体またはホスフィン錯体ないし
はアセチルアセトン化合物またはホスフィン化合物の存
在で反応させることによつて製造する方法において、ア
リル化合物として1分子あたり3個の炭素原子を有する
ハロゲン化アリルないしはアリルアセテートを使用する
ことを特徴とするアセトキシシロキサンまたはケイ素に
直接結合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキ
サンの製造法。 2、ハロゲン化アリルとして、塩化アリル、臭化アリル
またはヨウ化アリルを使用する、特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853518605 DE3518605A1 (de) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | Verfahren zur herstellung von organo(poly)siloxanen mit an silicium direkt gebundenem halogen |
DE3518605.4 | 1985-05-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61271293A true JPS61271293A (ja) | 1986-12-01 |
JPH0577674B2 JPH0577674B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=6271479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61116319A Granted JPS61271293A (ja) | 1985-05-23 | 1986-05-22 | アセトキシシロキサンまたはケイ素に直接結合したハロゲンを有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4680365A (ja) |
EP (1) | EP0205932B1 (ja) |
JP (1) | JPS61271293A (ja) |
AT (1) | ATE48007T1 (ja) |
CA (1) | CA1275414C (ja) |
DE (2) | DE3518605A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63149636A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Fujitsu Ltd | ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4912242A (en) * | 1989-05-15 | 1990-03-27 | Dow Corning Corporation | Process for preparing silicon esters |
US4954401A (en) * | 1989-08-11 | 1990-09-04 | Dow Corning Corporation | Process of curing methylhydrosiloxanes |
US4954597A (en) * | 1989-08-11 | 1990-09-04 | Dow Corning Corporation | Methylhydrosiloxane paper coatings |
US5091445A (en) * | 1990-05-04 | 1992-02-25 | Dow Corning Corporation | Silicone sealants |
US5256754A (en) * | 1990-10-31 | 1993-10-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrogenpolysiloxanes and methods of making |
JP3186820B2 (ja) * | 1992-02-28 | 2001-07-11 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | 反応性ポリシロキサンおよびその製造方法 |
JP2766130B2 (ja) * | 1992-07-03 | 1998-06-18 | 信越化学工業株式会社 | トリオルガノモノハロゲノシランの製造方法 |
DE4240717A1 (de) * | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Entfernung von wasserstoffhaltigen Silanen aus Mehtylchlorsilanen |
DE69425473T3 (de) * | 1993-11-05 | 2005-11-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Organo-funktionelle Gruppen enthaltenden Organopolysiloxanen und daraus hergestellte Organopolysiloxane, Mercapto- und Alkoxygruppen enthaltende Organopolysiloxane und Verfahren zu deren Herstellung |
US5464801A (en) * | 1993-12-30 | 1995-11-07 | Dow Corning Corporation | Catalyst compositions comprising rhodium catalyst complexes |
DE4405245A1 (de) * | 1994-02-18 | 1995-08-24 | Wacker Chemie Gmbh | Hitzestabilen Siliconkautschuk ergebende additionsvernetzende Massen |
JP4222662B2 (ja) * | 1998-09-14 | 2009-02-12 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法 |
DE19962563C1 (de) | 1999-12-23 | 2000-12-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Dihalogen-1,1,3,3-tetra(organyl)disiloxanen |
CN102203984A (zh) * | 2008-11-04 | 2011-09-28 | 加州理工学院 | 具有可溶性阳极的混合型电化学发生器 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE499006A (ja) * | 1949-09-21 | |||
DE1058476B (de) * | 1957-08-03 | 1959-06-04 | Europ Res Associates S A | Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden |
GB1221675A (en) * | 1967-11-07 | 1971-02-03 | Inst Silikon & Fluorkarbonchem | Process for the preparation of organo-fluorosilanes |
US3664985A (en) * | 1970-07-27 | 1972-05-23 | Us Navy | Preparation of silicon-fluoride silicones |
US4160775A (en) * | 1978-03-28 | 1979-07-10 | Union Carbide Corporation | Process for the preparation of novel organosilicon compounds |
-
1985
- 1985-05-23 DE DE19853518605 patent/DE3518605A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-05-05 US US06/859,296 patent/US4680365A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-05-07 CA CA000508585A patent/CA1275414C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-22 DE DE8686106927T patent/DE3666955D1/de not_active Expired
- 1986-05-22 EP EP86106927A patent/EP0205932B1/de not_active Expired
- 1986-05-22 AT AT86106927T patent/ATE48007T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-05-22 JP JP61116319A patent/JPS61271293A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.ORG.CHEM=1973 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63149636A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Fujitsu Ltd | ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0577674B2 (ja) | 1993-10-27 |
CA1275414C (en) | 1990-10-23 |
EP0205932A1 (de) | 1986-12-30 |
DE3666955D1 (en) | 1989-12-21 |
US4680365A (en) | 1987-07-14 |
ATE48007T1 (de) | 1989-12-15 |
DE3518605A1 (de) | 1986-11-27 |
EP0205932B1 (de) | 1989-11-15 |
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