DE1058476B - Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden - Google Patents
Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten HydridenInfo
- Publication number
- DE1058476B DE1058476B DEE14492A DEE0014492A DE1058476B DE 1058476 B DE1058476 B DE 1058476B DE E14492 A DEE14492 A DE E14492A DE E0014492 A DEE0014492 A DE E0014492A DE 1058476 B DE1058476 B DE 1058476B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- halide
- melt
- component
- process according
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 title claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 title claims description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 title description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 title description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 title description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 23
- -1 aluminum halide Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 claims description 3
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 12
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical class B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 5
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- PQLAYKMGZDUDLQ-UHFFFAOYSA-K aluminium bromide Chemical compound Br[Al](Br)Br PQLAYKMGZDUDLQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015845 BBr3 Inorganic materials 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 2
- 229910003818 SiH2Cl2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 239000000374 eutectic mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical class Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100351256 Caenorhabditis elegans ccm-3 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003828 SiH3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003826 SiH3Cl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003822 SiHCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- ZTHNOZQGTXKVNZ-UHFFFAOYSA-L dichloroaluminum Chemical compound Cl[Al]Cl ZTHNOZQGTXKVNZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N silyl Chemical compound [SiH3] OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B6/00—Hydrides of metals including fully or partially hydrided metals, alloys or intermetallic compounds ; Compounds containing at least one metal-hydrogen bond, e.g. (GeH3)2S, SiH GeH; Monoborane or diborane; Addition complexes thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B35/00—Boron; Compounds thereof
- C01B35/02—Boron; Borides
- C01B35/026—Higher boron hydrides, i.e. containing at least three boron atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/12—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the ring of aromatic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/86—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation between a hydrocarbon and a non-hydrocarbon
- C07C2/861—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation between a hydrocarbon and a non-hydrocarbon the non-hydrocarbon contains only halogen as hetero-atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/123—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-halogen linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Description
- Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen und ähnlichen kovalenten Hydriden Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen und ähnlichen kovalenten Hydriden.
- Es ist bereits bekannt, Chlorsilane, insbesondere Monochlorsilan und Dichlorsilan, durch Umsetzung von Monosilan mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Aluminiumchlorid als Katalysator (Halogenüberträger) zu erzeugen.
- Da Aluminiumchlorid aber sehr flüchtig ist, insbesondere bei erhöhter Temperatur, wie sie für die Durchführung des Verfahrens zweckmäßig ist, war man gezwungen, alle Versuche im Bombenrohr auszuführen. Aus diesem Grunde ist dieses Verfahren zur Darstellung größerer Mengen des gewünschten Produktes, insbesondere zur Durchführung eines kontinuierlichen Arbeitsverfahrens, nicht geeignet.
- Des weiteren ist bekannt, Aluminiumchlorid in einem organischen Lösungsmittel zu verwenden, um aromatische organische Verbindungen mit einem organischen Halogenid unter Austritt von H Cl umzusetzen (Friedel-Crafts-Synthese) .
- Es wurde nun gefunden, daß eine vollständige oder teilweise Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome bei Silanen und ähnlichen kovalenten Hydriden in wesentlich vorteilhafterer Weise dadurch erzielt werden kann, daß als Halogenüberträger eine Schmelze verwendet wird, die als erste Komponente ein Halogenid eines Alkali- oder Erdalkalimetalls und als zweite Komponente ein Halogenid eines anderen Metalls, das mit dem Halogenid der ersten Komponente Komplexe bildet, enthält.
- Durch diese Komplexbildung wird die Flüchtigkeit der bisher benutzten Halogenüberträger beseitigt, ohne daß die katalytischen Eigenschaften beeinträchtigt werden.
- Man kann annehmen, daß die Halogenüberträger infolge der komplexen Bindung an dem Halogenid der ersten Komponente festgehalten werden.
- Mit der Erfindung ist es möglich, die gewünschte Halogenierung bei normalem Druck und erhöhter Temperatur in einem kontinuierlichen Arbeitsverfahren und mit verhältnismäßig großer Durchsatzmenge durchzuführen. Das Verfahren gemäß der Erfindung eignet sich insbesondere zur Halogenierung von Silanen, Boranen, Germanen und Phosphinen und weiterhin zur Durchführung der Friedel-Crafts-Synthesen und der Halogenide rung organischer Verbindungen bei erhöhter Temperatur.
- Sehr vorteilhaft ist es, als zweite Komponente Aluminiumhalogenid, vorzugsweise Aluminiumchlorid, zu verwenden. Als zweite Komponente kommen aber auch die Halogenide von anderen Metallen in Frage, vor allem von solchen, welche verschiedenweftige Halogenide zu bilden vermögen, z. B. alle Nebengruppenelemente, wie Kupfer, Gold, Silber, und eine Reihe von Hauptgruppenelementen, wie Arsen, Antimon, Wismuth, Blei, Zinn, Selen, Tellur.
- Für die erste Komponente können die Halogenide sämtlicher Alkali- und Erdalkalimetalle verwendet werden. Als erste Komponente wird vorzugsweise Lithiumhalogenid, insbesondere Lithiumchlorid, verwendet. Die Lithiumhalogenide führen in Verbindung mit den meisten Metallhalogeniden zu den niedrigsten Schmelzpunkten, was deshalb zu berücksichtigen ist, weil manche der zu halogenierenden Substanzen bei höheren Temperaturen zersetzt werden.
- Es empfiehlt sich, das Halogenid der ersten Komponente mit Bezug auf das Halogenid der zweiten Komponente in dem zu vollständiger Komplexbildung notwendigen Molverhältnis vorzusehen, vorzugsweise im Überschuß über dieses Molverhältnis. Auf diese Weise wird z. B. sichergestellt, daß die Schmelze im wesentlichen keine flüchtigen Bestandteile abgibt.
- Zur Erniedrigung der Schmelztemperatur kann es vorteilhaft sein, die erste und die zweite Komponente nach Art und Menge so auszuwählen, daß sich ein eutektisches Gemisch ergibt. Ebenso kann als erste Komponente ein Gemisch aus mehreren Alkali- und Erdalkalihalogeniden und als zweite ein solches aus mehreren Metallhalogeniden dienen.
- Das Verfahren gemäß der Erfindung wird vorzugsweise derart ausgeführt, daß die zu halogenierende Substanz in Gas- oder Dampfform gemeinsam mit Halogenwasserstoff bzw. eine aromatische Verbindung mit einem organischen Halogenid oder eine organische Verbindung-mit Halogen durch die Schmelze hindurchgeleitet wird. Insbesondere können das Hydrid und ein Halogenid desselben Elements in die Schmelze geleitet werden, unter deren katalytischem Einfluß ein Austausch der Wasserstoff- und Halogenatome erfolgt. So kann man beispielsweise durch Einleiten von Sie1, und SiH, in äquimolaren Mengen SiH2Cl2 erhalten. Verwendet man beispielsweise SiHCI3 und SiH4, so führt dies zur Bildung von SiH2Cl2 und SiH3Cl.
- Zur Halogenierung von Silan, German, Boran und Phosphin und ähnlichen kovalenten Hydriden wurde die in der Figur schematisch dargestellte Vorrichtung benutzt. Sie bestand aus einem Kolben 1 für das umzusetzende Gasgemisch, der mit dem eigentlichen Reaktionsrohr 4 über eine Pumpe 2 in Verbindung steht. In dem Reaktionsrohr befindet sich die Schmelze 5, die z. B. aus Aluminiumchlorid und Lithiumchlorid im Molverhältnis 1:1 besteht. Zur Einleitung das umzusetzenden Gemisches in das Reaktionsgefäß 4 bzw. die Schmelze 5 dient das Einleitungsrohr 3, zum Auffangen der Reaktionsprodukte sind die Kühlfallen 6 vorgesehen. Durch die mit einem Hahn verschließbare Abzweigung 7 kann Spülgas, z. B. Wasserstoff, Stickstoff oder Argon, eingeführt werden. Für die Einleitung der Ausgangsstoffe in den Kolben 1 ist der verschließbare Rohranschluß 8 angebracht. Das Reaktionsgefäß 4 befindet sich im Ofen 9.
- Als Beispiel einer Umsetzung einer anorganischen Verbindung mit einem anorganischen Halogenid wurde folgender Versuch durchgeführt: Beispiel 1 Nach Spülung der Apparatur mit Wasserstoff zur Entfernung von Sauerstoff oder sauerstoffhaltigen Gasen wurde die aus AlCl3 und LiCl im Molverhältnis 1:1 bestehende Salzschmelze im Reaktionsrohr 4, das beispielsweise einen Durchmesser von 25 mm hatte, etwa 5 bis 6 cm hoch eingestellt; die Temperatur der Schmelze betrug 250 bis 3000 C. Ein Gemisch von Silan und Chlorwasserstoff wurde mittels der Pumpe 2 derart durch die Salzschmelze gedrückt, daß etwa 1 bis 2 Blasen pro Sekunde in die Schmelze eintraten. Die Verweilzeit in der Schmelze betrug dabei etwa 114 bis 112 Sekunde. Da das Einleitungsrohr 3 einen Innendurchmesser von 5 mm aufwies, entstanden Blasen von einer Größe von etwa 4 bis 6 mm. Das Reaktionsgemisch wurde in den Kühlfallen 6 gesammelt und durch Hochvakuumdestillation getrennt. Es ergab sich, daß bei einem Einsatz von 3,32 ccm Monosilan 3001o zu Monochlorsilan umgesetzt waren, während sich aus weiteren 10 O/, Dichlorsilan und aus weiteren 30 °,(0 höhere Siliziumchloride gebildet hatten.
- Insgesamt waren also 70 °/0 des Silans chloriert.
- Sofern man das Reaktionsgas im Kreislauf führt und mehrmals durch die Schmelze leitet, ergibt sich eine bessere Gleicbgewichtseinstellung zugunsten der durch die Wahl des Verhältnisses im Ausgangsgemisch gewünschten Verbindung, also des Monochlorsilans, da sich die höheren Chlorsilane mit dem noch unverbrauchten Silan weiterhin zu Monochlorsilan umsetzen.
- Der Chlorwasserstoff lag also in einem geringeren Molverhältnis als 1:1 vor. Trotzdem fand die gewünschte Chlorierung des Monosilans statt, wobei außer Monochlorsilan auch eine gewisse Menge Di- und Trichlorsilan sowie etwas Siliziumtetrachlorid entstand. Die Hochvakuumdestillation brachte folgendes Ergebnis: 1. Unverbrauchtes Monosilan 1,3 ccm = 0,88 g SiH4 2. Unverbrauchter Chlorwasserstoff ...... 0,3 ccm 3. Unsauberes Monochlorsilan (verworfen) ............. 0,015 ccm = 0,011 g Si H4 4. Monochlorsilan .......... 1,44 ccm = 0,8 g Si H4 5. Unsauberes Monochlorsilan (verworfen) ............. 0,1 ccm = 0,06 g Si H4 6. Dichlorsilan ...... 0,6 ccm = 0,27 g Si H4 Bisheriger Gesamt-SiH4-Verbrauch 1,14 g SiH4 Das restliche Silan war in 1,35 ccm Bestandteile umgewandelt, die höher als Dichlorsilan sieden. Sie bestanden nach groben Dampfdruckbestimmungen aus Tri- und Tetrachlorsilan.
- Damit ergibt sich bei der Umsetzung eines fast äquimoloren Gemisches von Monosilan und Chlorwasserstoff in geschmolzenem Aluminium-Lithium-Chlorid im kontinuierlichen Durchsatz das folgende Resultat, das bei besserer Gleichgewichtseinstellung noch mehr auf Seiten der gewünschten Verbindung, hier des Si H3 Cl, liegt: ungefähr 30% des Si H4 setzt sich nicht um, ungefähr 30% des Si H4 setzt sich zu Monochlorsilan um, ungefähr 1001o des Si H4 setzt sich zu Dichlorsilan um, ungefähr 30% des Si H4 setzt sich zu höheren Si-Chloriden um.
- Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens lassen sich nicht nur reine Wasserstoffverbindungen des Siliziums und ähnlicher Elemente halogenieren, sondern es können damit alle direkt an die genannten Stoffe angelagerten Wasserstoffatome substituiert werden, gleichgültig, welche sonstigen Atome oder Atomgruppen angelagert sind.
- Beispielsweise eignet sich das Verfahren zur Halogenierung von (CH3)2SiH2, (CH3)2SiHCl und (CH3) SiH3.
- Boran und Phosphin reagieren bei der Durchführung des oben beschriebenen Verfahrens analog den Silanen unter stufenweiser Halogenierung. Es ist jedoch bei der Reaktion zu beachten, daß das Endprodukt auf niedriger Temperatur gehalten werden muß (z. B. -30"C), um einem Zerfall vorzubeugen.
- Beispiel 2 Ein äquimolares Gemisch von B2H6 und HBr wurde durch eine Schmelze eines eutektischen Gemisches von AlBr3 und LiBr bei 100°C geleitet. In Höhe der Schmelze oberfläche wurde zusätzlich Stickstoff eingeführt, der die oberhalb Zimmertemperatur instabilen Produkte, hier B2H5Br, schnell in die angeschlossenen Fallen befördert.
- Die Substanz wurde durch fraktionierte Destillation weitgehend gereinigt; sie konnte bei Temperaturen zwischen -80 und -40°C durch Dampfdruckmessungen als B2H5Br identifiziert werden. Bei höheren Temperaturen erfolgte jedoch die Zersetzung nach der Reaktion 6 B2H5Br +5B2H6 + 2 BBr3 In Umkehrung der genannten Gleichung reagiert ein Gemisch von BBr3 und B2H6 unter den obenerwähnten Bedingungen in der Schmelze ebenfalls zu B2 H5 Br.
- Beispiel 3 Als Beispiel einer Umsetzung einer aromatischen organischen Verbindung mit einem organischen Halogenid wurde die Reaktion C6H6 + C2HsCl + CfiH5C2Hs + HC1 durchgeführt.
- In dem heizbaren und mit Stickstoff spülbaren Kolben 1 befand sich eine äquimolare Menge Benzol (40g) und Äthylchlorid (24g), die langsam dampfförmig durch die auf 150 bis 1600C gehaltene SchmelzeS aus LiCl und AlCl2 (LiCl mit 1001o Überschuß) geleitet wurde.
- Das erhaltene Produkt sammelte sich in den Kühlfallen 6 und wurde fraktioniert.
- Verbrauch ..... 20 g Benzol, 12 g Äthylenchlorid; Zurückerhalten. 20 g Benzol, 12 g Äthylenchlorid.
- Erhalten wurden insgesamt 24g Äthylbenzol, das entspricht einem 50%igem Umsatz (bezogen auf die eingesetzten Mengen) und eine Ausbeute von 10001, (bezogen auf das verbrauchte Benzol bzw. Äthylchlorid).
- Der Umsatz kann durch langsameres Hindurchleiten des Dampfes, Wahl einer Fritte und eines höheren Schmelzstandes, kurz, durch homogeneres Mischen der flüssigen und gasförmigen Phase gesteigert werden.
- Beispiel 4 Als Beispiel einer Umsetzung einer aromatischen organischen Verbindung mit einem Halogen wurde die Reaktion C6H6 + Br2 + C6HsBr + HBr nach dem beschriebenen Verfahren unter katalytischer Wirkung einer KBr- und AlBr3-Schmelze durchgeführt.
- Das Molverhältnis der Salze wurde genau zu 5001o gewählt, da AlBr3 nicht so flüchtig ist wie All3, bei dessen Verwendung ein Überschuß der ersten Komponente angebracht ist.
- In den heizbaren und mit Stickstoff spülbaren Kolben 1 wurden mittels zweier Tropfbüretten äquimolare Mengen Benzol und Brom eingetropft. Die beiden Substanzen verdampften und wurden durch die Schmelze 5 geleitet.
- Die Schmelze wurde auf einer Temperatur zwischen 180 und 200"C gehalten, damit die Reaktionsprodukte leicht in die wassergekühlten Vorlagen 6 übergingen.
- Zwei weitere Fallen (-80 und - 1800 C) schlossen sich zum Auffangen von übergetriebenem Benzol bzw.
- Bromwasserstoff an.
- Es wurden ungefähr 14 ml Benzol und 7 ml Brom umgesetzt. Das brombenzolhaltige Reaktionsprodukt wurde auf dem üblichen Wege aufgearbeitet. Neben ungefähr 5 ml unverbrauchtem Benzol wurde 1,5 ml Brombenzol erhalten, was einer 11°lOigen Ausbeute entspricht. Durch eine genaue Eintropfgeschwindigkeit (im Molverhältnis 1 :1) sowie durch eine Erniedrigung der Blasengeschwindigkeit (unter5 pro Sekunde) durchdie Vergrößerung der Schmelzhöhe kann die Ausbeute wesentlich vergrößert werden.
- PATENTNSPOCE: 1. Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen und ähnlichen kovalenten Hydriden, dadurch gekennzeichnet, daß als Halogenüberträger eine Schmelze verwendet wird, die als erste Komponente ein Halogenid eines Alkali- oder Erdalkalimetalls und als zweite Komponente ein Halogenid eines anderen Metalls, das mit dem Halogenid der ersten Komponente Komplexe bildet, enthält.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als zweite Komponente Aluminiumhalogenid verwendet wird.3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als zweite Komponente das Halogenid eines Metalls verwendet wird, das verschiedenwertige Halogenide zu bilden vermag.4. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als erste Komponente Lithiumhalogenid verwendet wird.5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Halogenid der ersten Komponente in dem zu vollständiger Komplexbildung notwenigen Molverhältnis mit Bezug auf das Halogenid der zweiten Komponente angewendet wird, vorzugsweise im Überschuß über dieses Molverhältnis.6. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die zu halogenierende Substanz gas- oder dampfförmig gemeinsam mit Halogenwasserstoff durch die Schmelze geleitet wird.7. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Hydrid und ein Halogenid desselben Elements in die Schmelze geleitet werden, unter deren katalytischem Einfluß ein Austausch der Wasserstoff- und Halogenatome erfolgt.8. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine aromatische organische Verbindung und ein organisches Halogenid, die sich unter Halogenwasserstoffabspaltung verbinden, durch die Schmelze geleitet werden.9. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine organische Verbindung mit Halogen durch die Schmelze geleitet wird.10. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponenten in der Schmelze unter Bildung eines Eutektikums gemischt werden
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEE14492A DE1058476B (de) | 1957-08-03 | 1957-08-03 | Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEE14492A DE1058476B (de) | 1957-08-03 | 1957-08-03 | Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1058476B true DE1058476B (de) | 1959-06-04 |
Family
ID=7068810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEE14492A Pending DE1058476B (de) | 1957-08-03 | 1957-08-03 | Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1058476B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0205932A1 (de) * | 1985-05-23 | 1986-12-30 | Wacker-Chemie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Acetoxysiloxanen oder Organo(poly)-siloxanen mit an Silicium direkt gebundenem Halogen |
-
1957
- 1957-08-03 DE DEE14492A patent/DE1058476B/de active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0205932A1 (de) * | 1985-05-23 | 1986-12-30 | Wacker-Chemie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Acetoxysiloxanen oder Organo(poly)-siloxanen mit an Silicium direkt gebundenem Halogen |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE855558C (de) | Verfahren zur Erhoehung des Alkylgehalts von Alkylhalogensilanen | |
DE829892C (de) | Verfahren zur Herstellung von alkenylsubstituierten, endstaendig ungesaettigten Chlorsilanen | |
EP0519181B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von 3-Chlorpropylsilanen | |
DE1259883B (de) | Verfahren zur Herstellung von Trikohlenwasserstoffphosphinen | |
DE936445C (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorsilanen | |
DE1289842B (de) | Verfahren zur Spaltung von Disilanen | |
DE2116439B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trialkylphosphinen | |
DE1058476B (de) | Verfahren zur Substituierung von Wasserstoffatomen gegen Halogenatome in Silanen undaehnlichen kovalenten Hydriden | |
DE2829804C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siloxanen neben Methylchlorid | |
DE69310363T2 (de) | Verfahren zur herstellung von trialkylverbindungen von metallen der gruppe 3a | |
DE68921134T2 (de) | Herstellung von Organosilanen. | |
DE1061302B (de) | Verfahren zur Herstellung von Wasserstoffverbindungen der Elemente der IV. und V. Gruppe des Periodischen Systems | |
DE949943C (de) | Verfahren, um die Halogenatome fluechtiger Halogenide der Elemente der 3., 4. und 5.Gruppe des Periodischen Systems saemtlich oder zum Teil durch Wasserstoff und/oder organische Reste zu ersetzen | |
DE1041498B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylaluminiumdihalogeniden | |
DE3017832C2 (de) | ||
DE855709C (de) | Verfahren zur Herstellung von Monochlormethylsiliciumchloriden | |
DE1172263B (de) | Verfahren zur Herstellung von Titan(ó�)-Aluminiumhalogenid-Aromatenkomplexen | |
DE1767078C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrahalogeniden | |
US4895991A (en) | Method of preparation of trifluoromethyl copper and trifluoromethyl aromatics | |
DE1805457A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Perfluoralkyljodiden | |
DE1767078B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciu mtetrahalogeniden | |
DE68918213T2 (de) | Alkylierung von Halogendisilanen. | |
US4749802A (en) | Method of preparation of trifluoromethyl copper and trifluoromethyl aromatics | |
Drake et al. | Mixed halogeno-derivatives of methylgermane | |
EP0009788B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Monochlorazetonitril |