JP4222662B2 - Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は無機固体表面の修飾を行うのに有効な、あるいは、シロキサンポリマー、有機ポリマー、等のポリマーに官能性シリル基又は官能性シロキサノキシ基を導入するのに有効な、あるいは湿気による硬化性シロキサンの官能性基として重要なアシロキシ基を有するシラン化合物又はシロキサン化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アルコキシシリル基、クロロシリル基等の加水分解性の官能基が直接結合したシリル基を有する化合物及びポリマーは、変性シリコーンの原料として、加水分解性の官能基の加水分解とこれに続く脱水縮合によるシロキサン結合の形成による表面の修飾用途に、あるいはポリマー鎖間の架橋形成による硬化など、工業的に重要な用途を持つケイ素含有化合物である。
【０００３】
アルコキシシリル基、クロロシリル基等の加水分解性の官能基が直接結合したシリル基は、一般に、不飽和有機化合物又は不飽和基を有するポリマーと、ヒドロアルコキシシランあるいはヒドロクロロシランと、によるヒドロシリル化反応によって製造する。しかしながら、これらのヒドロシラン化合物のヒドロシリル化反応はしばしば反応速度がおそく、多量の触媒と長い反応時間を必要としたり、あるいは、反応の選択性に乏しく生成物は異性体の混合物として使用されてきた。
【０００４】
また、ヒドロアルコキシシランあるいは、ヒドロクロロシランの関与するヒドロシリル化反応ではしばしば、触媒活性の発現及び持続のために、反応雰囲気中に酸素を添加することが必要であり、これによる引火、爆発の危険をともなっていた。
【０００５】
特開平９−３１４１４号公報には、側基としてビニル基を有するジアミノポリシロキサンと、テトラカルボン酸二無水物を反応させてポリイミドを形成し、このポリイミド中に存在することとなった上記ビニル基に、一般式Ｘ_3-t ＳｉＨ（Ｒ⁹)_t （ここに、Ｒ⁹ は炭素数１から６のアルキル基を表し、Ｘはアルコキシ基以外の加水分解性基を表し、ｔは０〜２の整数を表す。）で示されるヒドロシランを用いて、ヒドロシリル化することを記載している。そしてこのヒドロシランの具体例としてメチルジアセトキシシラン及びトリアセトキシシランを記載している（第５〜６頁）。この公報の実施例にはメチルジアセトキシシランを用いた例が示されている。しかしながら、本発明者等は意外にも前記メチルジアセトキシシラン及びトリアセトキシシランは、オレフィン性不飽和側基を有するポリイミドとは異なるある種のオレフィン性不飽和化合物及びアセチレン性不飽和化合物に対しては、非常にヒドロシリル化反応性に乏しいことを発見した。（そして意外にも後者のオレフィン性不飽和化合物及びアセチレン性不飽和化合物に対しては、ヒドロ（モノアシロキシ）シランは非常に反応性が高いことを見いだした。）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のヒドロアルコキシシラン、ヒドロクロロシラン、あるいはヒドロジアシロキシシランやヒドロトリアシロキシシランを用いるヒドロシリル化に於ける問題点、すなわちヒドロシリル化反応に於ける反応性が低いという問題及び反応の位置選択性が低いという問題を解決または改善することを目的とする。すなわち、具体的には、位置選択性に優れた、また、触媒及び反応時間に関して経済的かつ効率的なヒドロシリル化反応を行う方法を提供することを目的とする。また、触媒の高活性化及び活性持続性の改善により、ヒドロシリル化反応を低酸素分圧下あるいは不活性雰囲気下で行うことを可能とし、よって、ヒドロシリル化反応時の引火、爆発等の危険性を低減できるようにすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、白金触媒を用いるヒドロシリル化反応によって、Ｓｉ−Ｈ官能性シラン化合物と、ある種のオレフィン官能性又はアセチレン官能性不飽和化合物（これらはオレフィン性不飽和の側基を有するジアミノポリシロキサンから誘導されるポリイミドとは異なるものである）と、の反応により官能性シラン化合物を製造するにあたって、Ｓｉ−Ｈ官能性ケイ素化合物で前記ケイ素原子に直接結合したアシロキシ基を１つ有するものを用いることにより、反応が迅速にかつ付加が位置選択的に進行し、シリル化物の収率が高いことを見い出した。また、低酸素分圧下あるいは酸素非存在下でこのヒドロシリル化反応を速やかに達成できることを見いだし、本発明に到達した。
【０００８】
本発明は、白金触媒の存在下で次の(a)から(h)の群から選ばれる不飽和化合物（イ）を下記一般式（１）で示されるヒドロアシロキシ基含有ケイ素化合物（ロ）でヒドロシリル化することを特徴とする、Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法である。
不飽和化合物（イ）：
(a)スチレンまたはスチレンの誘導体
(b)ビニルシラン化合物
(c)ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
(d)エポキシ官能性オレフィン
(e)ジエン化合物
(f)ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｘで示されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表す。）
(g)末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
(h)アセチレン系化合物
ヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）：
ＨＳｉＲ₂（Ｏ₂ＣＲ′） （１）
（式中、Ｒは独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれる基であり、Ｒ′は水素原子、アルキル基（炭素数１〜１８）、アリール基（炭素数６〜１０）、ハロゲン化アルキル基（炭素数１〜１８）またはハロゲン化アリール基（炭素数６〜１０）から選ばれる基である。）
【０００９】
前記不飽和化合物（イ）は次の▲１▼から▲８▼のうちから選ばれるものである。尚、これらは、（ロ）ヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物との反応性を著しく低下させるもので無い限り、その構造中に炭素原子及び水素原子の他にＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＳｉまたはＳから選ばれる原子を含んでいても構わない。但し、▲６▼については以下の記載に従う。
▲１▼スチレンまたはスチレン誘導体
▲２▼ビニルシラン化合物
▲３▼ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
▲４▼エポキシ官能性オレフィン
▲５▼ジエン化合物
▲６▼ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ Ｘで示されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表わす。）
▲７▼末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
▲８▼アセチレン系化合物。
【００１０】
前記スチレンまたはスチレン誘導体の例としては、スチレン系炭化水素化合物、例えばスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ジビニルベンゼン等；ハロゲン含有スチレン、例えばｐ−フルオロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−ヨードスチレン、ｐ−およびｍ−（クロロメチル）スチレン等；含酸素又は含ケイ素スチレン誘導体、例えばｐ−メトキシスチレン、ｐ−トリメチルシリルスチレン等；含窒素スチレン誘導体、例えばｐ−（ジフェニルアミノ）スチレン、ｐ−（ジトリルアミノ）スチレン、ｐ−（ジキシリルアミノ）スチレン、ビス（４−ビニルフェニル）（４−メチルフェニル）アミン等を例示できる。
【００１１】
前記ビニルシラン化合物、およびケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物としては、ビニルトリアルキルシラン、例えばビニルトリメチルシラン、ビニルトリエチルシラン、ビニルトリプロピルシラン、ビニルジメチルエチルシラン等；ビニルアルコキシシラン、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン等；ビニル官能性シロキサン、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン等；及びビニル官能性シラザン（これは一種のビニルシランと見ることができる）、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラジシラザン等を例示できる。
【００１２】
前記エポキシ官能性オレフィンの例としては、アリルグリシジルエーテル及びビニルシクロヘキセンオキシドを挙げることできる。前記ジエン化合物としては１，３−ブタジエン、イソプレン、１，５−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、及び１，３−シクロヘキサジエンを挙げることができる。前記ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ Ｘで示されるアリル化合物としては、塩化アリル、アリルアセテート、アリルメタクリレートを挙げることができる。
【００１３】
前記末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物は、直鎖状または分岐状のいずれでも構わない。また、これらは置換基に芳香族炭化水素基を有していても構わない。直鎖の末端不飽和オレフィン化合物の例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１及びオクタデセン−１を挙げることができる。末端不飽和基を有する分岐オレフィン化合物の例としては、イソブチレン、３−メチルブテン−１、３，５−ジメチルヘキセン−１及び４−エチルオクテン−１を挙げることができる。
上記オレフィン化合物がＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｓｉ，Ｓから選ばれる原子を含んでいる場合の例として、含酸素アリル化合物、例えばアリルメタクリレート；ビニル基を有するアミン化合物、例えばＮ−ビニルカルバゾール；オレフィンのハロゲン化物、例えば４−クロロブテン−１及び６−ブロモヘキセン−１；ケイ素官能性オレフィン化合物、例えばアリロキシトリメチルシラン；イオウ含有オレフィン化合物、例えばアリルメルカプタン及びアリルスルフィドが挙げられる。上記オレフィン化合物が芳香族炭化水素基を有する場合の例としては、アリルベンゼン及び４−フェニルブテン−１を挙げることができる。
【００１４】
前記アセチレン系化合物は、末端にエチニル基（ＣＨ≡Ｃ−）を有するものか、または分子内にエチニレン基（−Ｃ≡Ｃ−）を有するものであり、これらは置換基に芳香族炭化水素基を有していても構わない。
末端にエチニル基（ＣＨ≡Ｃ−）を有するアセチレン系化合物の例としては、アセチレン、プロピン、ブチン−１、ヘキシン−１及びオクテン−１を挙げることができる。分子内にエチニレン基（−Ｃ≡Ｃ−）を有するアセチレン系化合物の例としては、ブチン−２、ヘキシン−２、ヘキシン−３及びオクチン−４を挙げることができる。芳香族炭化水素基を有するアセチレン系化合物の例としては、フェニルアセチレン、３−フェニルプロピン及び４−フェニルブチン−１を挙げることができる。上記アセチレン系化合物がＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｓｉ，Ｓから選ばれる原子を含んでいる場合の例としては、含酸素アセチレン系化合物、例えば３−メチル−１−ブチン−３−オール及び３−フェニル−１−ブチン−３−オール；含ケイ素アセチレン系化合物、例えば３−メチル−１−ブチン−３−オールのＯ−トリメチルシリル化物（ＨＣ≡Ｃ−ＣＨ（ＣＨ₃ ）−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃ ）及び３−フェニル１−ブチン−３−オールのＯ−トリメチルシリル化物（ＨＣ≡Ｃ−ＣＨ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃ ）；並びに含ハロゲンアセチレン系化合物、例えば塩化プロパルギル及び臭化プロパルギルを挙げることができる。
【００１５】
本発明で用いるヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）は下記の一般式（１）
ＨＳｉＲ₂ （Ｏ₂ ＣＲ′） （１）
（式中Ｒは独立に有機基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれ、Ｒ′は独立に水素原子または有機基から選ばれる。）で示されるものである。
【００１６】
Ｒが有機基の場合、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルコキシ基及びアリーロキシ基を挙げることができる。例えば、（１）炭素数１〜１８のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ウンデシル基及びヘプタデシル基；
（２）炭素数２〜１８のアルケニル基、例えばプロペニル基及びブテニル基；（３）炭素数６〜１８のアリール基、例えばフェニル基；
（４）炭素数１〜１８のハロゲン化アルキル基（ハロゲン原子としては、Ｆ，ＣｌまたはＢｒであるのがよい）、例えばクロロメチル基、フルオロメチル基及び３，３，３−トリフルオロプロピル基；
（５）炭素数６〜１０のハロゲン化アリール基（ハロゲン原子としては、Ｆ，ＣｌまたはＢｒであるのがよい）、例えばｐ−クロロフェニル基；
（６）炭素数１〜６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、２−メトキシエトキシ基及び２−エトキシエトキシ基；並びに
（７）炭素数６〜１０のアリーロキシ基、例えばフェノキシ基を挙げることができる。
炭素数の範囲がここに規定した範囲を超えると、反応性の面で実用性が低くなってくる。
【００１７】
Ｒがシロキシ基の場合の例としては、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、フェニルジメチルシロキシ基、ジフェニルメチルシロキシ基及び（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメチルシロキシ基を挙げることができる。
【００１８】
Ｒがシロキサノキシ基の場合の例としては、主鎖がポリジメチルシロキサンの構造をとり末端が、シロキシ基構造（例えばトリメチルシロキシ基）をとるものや、末端が−ＳｉＨ（ＣＨ₃ ）（ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃ ）で封鎖されたものが挙げられる。尚、実用的な反応速度を考慮すると、シロキサノキシ基のシロキサン単位の重合度（数平均重合度）は１，０００以下、より好ましくは５００以下が望ましい。
【００１９】
Ｒ′は水素原子または有機基である。
Ｒ′が有機基であるときは、好ましくは、アルキル基（炭素数１〜１８）、アリール基（炭素数６〜１０）、ハロゲン化アルキル基（炭素数１〜１８）またはハロゲン化アリール基（炭素数６〜１０）から選ばれる。尚、これらの置換基はＯ及びＳｉから選ばれる原子を含んでいても構わない。具体的には、以下の様な例が挙げられる：アルキル基（炭素数１〜１８であるのが好ましい）、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ウンデシル基及びヘプタデシル基；アリール基（炭素数６〜１０であるのが好ましい）、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基及びナフチル基；ハロゲン化アルキル基（炭素数１〜１８であるのが好ましい）、例えばクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基；ハロゲン化アリール基（炭素数６〜１０であるのが好ましい）、例えばｐ−クロロフェニル基。
【００２０】
また、Ｒ′が酸素及びケイ素から選ばれる原子を含む有機基であるときの例としては次のものを挙げることができる：
−ＣＨ₂ −Ｃ（＝Ｏ）−ＯＳｉＲ₂ Ｈ
（ここで、Ｒは一般式（１）で規定される有機基と同じ意味を表す。）
−Ｃ₆ Ｈ₃ （Ｃ（＝Ｏ）ＯＳｉＲ₂ Ｈ）₂
（ここで、Ｒは一般式（１）で規定される有機基と同じ意味を表す。）
【００２１】
式（１）で示される化合物の具体例として、ヒドロ（ホルミルオキシ）シランとしてはジメチルホルミルオキシシラン、ジエチルホルミルオキシシラン、ジプロピルホルミルオキシシラン、ジイソプロピルホルミルオキシシラン、メチルエチルホルミルオキシシラン、メチルフェニルホルミルオキシシラン、メチルプロピルホルミルオキシシラン、ジフェニルホルミルオキシシラン、メチルメトキシホルミルオキシシラン、メチルエトキシホルミルオキシシラン及びメチル（トリメチルシロキシ）ホルミルオキシシランを例示でき；ヒドロ（アセトキシ）シランとしてはジメチルアセトキシシラン、ジエチルアセトキシシラン、ジプロピルアセトキシシラン、ジイソプロピルアセトキシシラン、メチルエチルアセトキシシラン、メチルフェニルアセトキシシラン、メチルプロピルアセトキシシラン、ジフェニルアセトキシシラン、メチルメトキシアセトキシシラン、メチルエトキシアセトキシシラン、ジエトキシアセトキシシラン及びメチル（トリメチルシロキシ）アセトキシシランを例示でき；ヒドロ（プロピオニルオキシ）シランとしてはジメチルプロピオニルオキシシラン、ジエチルプロピオニルオキシシラン、ジプロピルプロピオニルオキシシラン、ジイソプロピルプロピオニルオキシシラン、メチルエチルプロピオニルオキシシラン、メチルフェニルプロピオニルオキシシラン、メチルプロピルプロピオニルオキシシラン、ビフェニルプロピオニルオキシシラン、ジフェニルプロピオニルオキシシラン、メチルメトキシプロピオニルオキシシラン、メチルエトキシプロピオニルオキシシラン及びメチル（トリメチルシロキシ）プロピオニルオキシシランを例示でき；ヒドロ（ブチリルオキシ）シランとしてはジメチルブチリルオキシシラン、ジエチルブチリルオキシシラン、ジプロピルブチリルオキシシラン、ジイソプロピルブチリルオキシシラン、メチルエチルブチリルオキシシラン、メチルフェニルブチリルオキシシラン、メチルプロピルブチリルオキシシラン、ジフェニルブチリルオキシシラン、メチルメトキシブチリルオキシシラン、メチルエトキシブチリルオキシシラン及びメチル（トリメチルシロキシ）ブチリルオキシシランを、例示することができる。
【００２２】
式（１）で示される化合物の具体例として、更にヒドロ（ラウロイロキシ）シラン、ヒドロ（ステアロイロキシ）シラン、ヒドロ（ベンゾイルオキシ）シラン、ヒドロ（クロロアセトキシ）シラン、ヒドロ（ジクロロアセトキシ）シラン、ヒドロ（トリクロロアセトキシ）シラン、ヒドロ（トリフルオロアセトキシ）シラン、ヒドロ（ベンゾイルオキシ）シラン及びイソブチリル酸等のジメチルシリルエステルを挙げることができる。
前記ヒドロ（ラウロイロキシ）シランとしては、ジメチルラウロイロキシシラン、メチルフェニルラウロイロキシシラン、ジフェニルラウロイロキシシラン、メチルメトキシラウロイロキシシラン、メチルエトキシラウロイロキシシラン、メチル（トリメチルシロキシ）ラウロイロキシシランを例示でき；前記ヒドロ（ステアロイロキシ）シランとしては、ジメチルステアロイロキシシラン、メチルフェニルステアロイロキシシラン、ジフェニルステアロイロキシシラン、メチルメトキシステアロイロキシシラン、メチルエトキシステアロイロキシシラン、メチル（トリメチルシロキシ）ステアロイロキシシランを例示でき；前記ヒドロ（ベンゾイルオキシ）シランとしては、ジメチルベンゾイルオキシシラン、メチルフェニルベンゾイルオキシシラン、ジフェニルベンゾイルオキシシラン、メチルメトキシベンゾイルオキシシラン、メチルエトキシベンゾイルオキシシラン、メチル（トリメチルシロキシ）ベンゾイルオキシシランを例示でき；前記ヒドロ（クロロアセトキシ）シランとしては、ジメチル（クロロアセトキシ）シラン、メチルフェニル（クロロアセトキシ）シラン、ジフェニル（クロロアセトキシ）シラン、メチルメトキシ（クロロアセトキシ）シラン、メチルエトキシ（クロロアセトキシ）シラン、メチル（トリメチルシロキシ）（クロロアセトキシ）シランを例示でき；前記ヒドロ（ジクロロアセトキシ）シランとしては、ジメチル（ジクロロアセトキシ）シラン、メチルフェニル（ジクロロアセトキシ）シラン、ジフェニル（ジクロロアセトキシ）シラン、メチルメトキシ（ジクロロアセトキシ）シラン、メチルエトキシ（ジクロロアセトキシ）シラン、メチル（トリメチルシロキシ）（ジクロロアセトキシ）シランを例示でき；前記ヒドロ（トリクロロアセトキシ）シランとしては、ジメチル（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルフェニル（トリクロロアセトキシ）シラン、ジフェニル（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルメトキシ（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルエトキシ（トリクロロアセトキシ）シラン、メチル（トリメチルシロキシ）（トリクロロアセトキシ）シランを例示でき；前記ヒドロ（トリフルオロアセトキシ）シランとしては、ジメチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルフェニル（トリフルオロアセトキシ）シラン、ジフェニル（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルメトキシ（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルエトキシ（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチル（トリメチルシロキシ）（トリフルオロアセトキシ）シランを例示でき；前記ヒドロ（ベンゾイルオキシ）シランとしては、ジメチルベンゾイルオキシシラン、メチルフェニルベンゾイルオキシシラン、ジフェニルベンゾイルオキシシラン、メチルメトキシベンゾイルオキシシラン、メチルエトキシベンゾイルオキシシラン、メチル（トリメチルシロキシ）ベンゾイルオキシシランを例示できる。これら以外にもイソブチリル酸、バレリン酸、ピバロイル酸、ヘキサン酸、シクロヘキサンカルボン酸、ノナン酸、トルイル酸、ナフトエ酸、パラ−クロロ安息香酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、テレフタル酸、トリメシン酸等のモノ、ジ、トリカルボン酸のジメチルシリルエステルを例示することができる。
【００２３】
前記ヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）は、収率や入手し易さを考慮すると、前記一般式（１）において、Ｒは、独立に、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シロキシ基またはシロキサノキシ基が好ましく、Ｒ′としては水素原子、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。
【００２４】
本発明製造方法により得られる「Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物」は、原料であるヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）の構造により、シラン構造またはポリシロキサン構造をとることができる。即ち、一般式（１）ＨＳｉＲ₂ （Ｏ₂ ＣＲ′）において、Ｒが有機基の場合は、得られる前記アシロキシシラン化合物は、シランの構造をとる。他方、Ｒがシロキシ基またはシロキサノキシ基の場合は、ポリシロキサンの構造をとる。
この明細書では便宜上、前記「Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物」を該官能基を有するアシロキシシランと該官能基を有するアシロキシポリシロキサンの両方を包含する意味で使用する。
【００２５】
本発明におけるヒドロシリル化反応の温度は１０℃以上２５０℃以下でよいが、適当な反応速度を達成出来ること、および反応に関与する基質および生成物が安定に存在しうるという点からは２０℃から２００℃が最適である。
【００２６】
本発明においては本質的には溶媒を用いる必要はないが、基質を溶解させる目的で、また反応系の温度の制御及び触媒成分の添加を容易にするために炭化水素系化合物を反応溶媒あるいは触媒成分の溶媒として用いることができる。この目的のために最適な溶媒としては、飽和あるいは不飽和の炭化水素化合物、例えばヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ドデシルベンゼン；及びハロゲン化炭化水素化合物、例えばクロロホルム、塩化メチレン、クロロベンゼン、オルト−ジクロロベンゼンを挙げることが出来る。
【００２７】
本発明において、ヒドロシリル化の触媒としては、具体的には、０価白金のオレフィン錯体、０価白金のビニルシロキサン錯体、２価白金のオレフィン錯体ハロゲン化物、塩化白金酸、炭素担持白金、シリカ担持白金等を例示することができるが、これら以外の通常工業的に用いられるものならば特に限定されない。
【００２８】
本発明におけるヒドロシリル化の反応は１０℃以上２５０℃以下で行なうのが好ましい。
【００２９】
以下に本発明の好適な実施態様を示す。
（実施態様１）
白金触媒の存在下、１０℃以上２５０℃以下の温度範囲にて、次の▲１▼から▲８▼の群から選ばれる不飽和化合物（イ）を下記一般式（１）で示されるヒドロアシロキシ基含有ケイ素化合物（ロ）でヒドロシリル化することを特徴とする、アシロキシシラン化合物の製造方法。
不飽和化合物（イ）：
▲１▼スチレンまたはスチレンの誘導体
▲２▼ビニルシラン化合物
▲３▼ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
▲４▼エポキシ官能性オレフィン
▲５▼ジエン化合物
▲６▼ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ Ｘで表されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表す。）
▲７▼末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
▲８▼アセチレン系化合物
ヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物：
ＨＳｉＲ₂ （Ｏ₂ ＣＲ′） （１）
（式中、Ｒは独立に有機基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれ、Ｒ′は独立に水素原子又は有機基である。）
【００３０】
（実施態様２）
白金触媒の存在下、１０℃以上２５０℃以下の温度範囲にて、次の▲１▼から▲８▼の群から選ばれる不飽和化合物（イ）を下記一般式（１）で表されるヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）でヒドロシリル化することを特徴とする、前記（請求項１記載の）アシロキシシラン化合物の製造方法。
不飽和化合物（イ）：
▲１▼スチレンまたはスチレンの誘導体
▲２▼ビニルシラン化合物
▲３▼ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
▲４▼エポキシ官能性オレフィン
▲５▼ジエン化合物
▲６▼ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ Ｘで表されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表す。）
▲７▼末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
▲８▼アセチレン系化合物
ヒドロアシロキシ基含有ケイ素化合物（ロ）：
ＨＳｉＲ₂ （Ｏ₂ ＣＲ′） （１）
（式中、Ｒは独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれたものであり、Ｒ′は水素原子又は炭素数１〜１８のアルキル基である。）
【００３１】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下に示す例中の生成物の特性化の記述においてＧＣはガスクロマトグラフを、ＧＣ−ＭＳはガスクロマトグラフ−質量分析を表す。また、Ｍｅはメチル基を、ＯＡｃはアセトキシ基を、Ｐｈはフェニル基を表わす。
本実施例で用いたアシロキシシラン化合物、アルキルシラン化合物及びシロキサン化合物は市販のものあるいは公知の方法によって合成したものである。不飽和化合物は市販のものをそのまま用いた。つぎに実施例及び比較例を挙げ、本発明について説明する。
【００３２】
（参考例１）
（ジメチルアセトキシシランの合成）
５０ミリリットルの丸底フラスコに６．５ｇの酢酸リチウムとマグネチックスターバーを入れ、これに９．２ｇのジメチルクロロシランをゆっくりと添加し、室温で一晩撹拌した。さらに１ｇの酢酸リチウムを添加し１時間撹拌した後、真空下、揮発成分をドライアイストラップで捕収した。この粗生成物を常圧下蒸留し、沸点９１〜９２℃の成分を得た。ＧＣ−ＭＳ分析で確認した。
ＨＭｅ₂ ＳｉＯＡｃ：ｍ／ｚ（相対強度）：１１７（６．２），１０３（５１．９），７５（５６．２），６１（１００），５９（２３．１），４７（８．６），４５（３０．３）。
【００３３】
（実施例１）
（スチレンとジメチルアセトキシシランの反応）
アルゴン置換したガラス反応管に１．０４ｇのスチレン、１．２０ｇの参考例１で合成したジメチルアセトキシシラン及び内部標準として０．２６ｇのトルエンを加えた。これに６．５マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、５０℃で２．５時間加熱した。ＧＣ分析によるとスチレンのヒドロシリル化物は収率８８％で生成しており、β−付加物の選択性は９９．４％であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：ＰｈＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｍｅ₂ ＳｉＯＡｃ：ｍ／ｚ（相対強度）：２０７（１．６），１４７（１７．４），１１７（１００），７５（５９．２），６１（９．９），４７（６．３），４５（１１．５）。
【００３４】
（実施例２）
（ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．５ｇのｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレン、０．３０３ｇのジメチルアセトキシシラン及び１．７５ｇのトルエンを加えた。これに２０マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、５０℃で１．５時間加熱した。ＧＣ分析によるとｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレンの転化率は９９％であり、ヒドロシリル化物は収率９５％で生成しており、β−付加物の選択性は９９．２％であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：β−付加物：ｍ／ｚ（相対強度）：７５（２３．７），１１７（９．７），３１４（６３．８），３１５（１７．０），４４５（１００），４４６（３６．９），４４７（９．４）。
【００３５】
（実施例３）
（パラクロロスチレンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．２８ｇのパラクロロスチレン、０．２４ｇのジメチルアセトキシシラン及び標準として０．０７ｇのトルエンを加えた。これに６．５マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、５０℃で３時間加熱した。ＧＣ分析によるとパラクロロスチレンの転化率は７２％であり、ヒドロシリル化物は６８％で生成しており、β−付加物の選択性は９９．２％であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：パラクロロフェネチルジメチルアセトキシシラン：ｍ／ｚ（相対強度）４５（２１），４７（１１），６１（１５），１１７（１００），１８１（１２），１８３（５．５），２４１（２．６），２４３（１．２），２５６（０．４），２５８（０．２）。
【００３６】
（実施例４）
（ジビニルベンゼンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．１３ｇのジビニルベンゼン（８０％、パラ−、メタ−の混合物；残りはメタ−およびパラ−のエチルスチレン）、０．２４ｇのジメチルアセトキシシラン及び０．０３３ｇのトルエンを加えた。これに２マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、５０℃で３時間加熱した。ＧＣ分析によるとジビニルベンゼン（およびエチルスチレン）の転化率は９９％であり、ジビニルベンゼンのヒドロシリル化物は収率９５％で生成しており、α，β−付加物とβ，β−付加物の生成比は１：１７であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：β，β−付加物、メタ−異性体：ｍ／ｚ（相対強度）４５（９．８），４７（７．２），５９（１７），６１（１０），７５（７４），１１７（１００），３０６（６１），３５１（１．３），３６６（０．９）。
【００３７】
（実施例５）
（オクテン−１とジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．２２４ｇのオクテン−１と０．２４ｇのジメチルアセトキシシランを加えた。これに１０マイクロリットルの０．０４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、室温で１．３時間放置した。ＧＣ分析によるとオクテン−１の転化率は９７％であり、オクテン−１のヒドロシリル化物は収率９５％で生成していた。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：Ｃ₈ Ｈ₁₇Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃ ：ｍ／ｚ（相対強度）：２１５（４．９），１１７（１００），７５（５５），６１（１５），５９（７．２），４７（６．２），４５（９．５）。
【００３８】
（実施例６）
（１，３−ジビニル−テトラメチル−１，３−ジシロキサンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．１８６ｇの１，３−ジビニル−テトラメチル−１，３−ジシロキサン、０．２４ｇのジメチルアセトキシシランおよび０．０４７ｇのトルエンを加えた。これに２マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加えたところ、自然発熱し５分間で反応は完結した。ＧＣ分析によると、１，３−ジビニル−テトラメチル−１，３−ジシロキサンの転化率は９９％であり、ジビニルベンゼンのヒドロシリル化物は収率９５％で生成しており、α，β−付加物とβ，β−付加物の生成比は１：２１であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：１，３−ビス（ジメチルアセトキシシリルエチル）−テトラメチルジシロキサン、β，β−付加物：ｍ／ｚ（相対強度）：７３（１８），７５（３９），１１７（５９），１４５（８．５），１６１（１３），１９１（８．８），２０３（８．２），２０７（９．０），２１９（１４），２３１（１２），２３５（１００），２３６（２６），２３７（１４），２７７（３８），２７８（９．７），３０５（１１），３０６（３．９），３６３（１．３），３６４（０．５）。
【００３９】
（実施例７）
（ビニルシクロヘキセンオキシドとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．５０ｇのビニルシクロヘキセンオキシドと０．４７ｇのジメチルアセトキシシラン及び０．１２ｇのトルエンを加えた。これに４マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え６７℃で３０分間加熱した。ＧＣ分析によるとビニルシクロヘキセンオキシドの転化率は９９．５％であり、ビニルシクロヘキセンオキシドのヒドロシリル化物は収率９７％で生成していた。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ（相対強度）：２２７（０．２），１９９（０．２），１６７（１．２），１１７（１００），７７（１４），７５（８０），６１（１２）。
【００４０】
（実施例８）
（アリルメタクリレートとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．２５２ｇのアリルメタクリレートと０．２３６ｇのジメチルアセトキシシランを加えた。これに１０マイクロリットルの０．０４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え５０℃で４時間加熱した。ＧＣ分析によるとアリルメタクリレートの転化率は６４％であり、アリルメタクリレートのヒドロシリル化物は収率６１％で生成していた。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ（相対強度）：２２９（０．５），１８７（１．６），１８４（５．４），１６９（２．９），１４５（１５．２），１４３（１７．８），１１７（１００），７５（８６），６９（５６），４７（８．１），４５（１４．３）。
【００４１】
（実施例９）
（塩化アリルとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．１５ｇの塩化アリルと０．２４ｇのジメチルアセトキシシランを加えた。これに２マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え５０℃で４時間加熱した。ＧＣ分析によると塩化アリルの転化率は５６％であり、塩化アリルのヒドロシリル化物は収率４０％で生成していた。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ（相対強度）：１７９（０．１），１５３（０．１），１３７（１３．８），１１７（６４），９７（９．４），９５（２９），９３（８．７），７５（１００），４７（１５．７），４５（３０．６）。
【００４２】
（実施例１０）
（白金触媒によるα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に７０４mgのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度：９）と２５０mgのジメチルアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂(ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃)) をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００２ml加えた。混合物は反応により自然発熱し、約１０分後に自然冷却した。内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンのビニル基はほとんど残っておらず、ヒドロシリル化物のジメチルアセトキシシリル基の付加位置はβ−位のみであった。
分析結果：１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−クロロホルム）：δ（官能基、相対強度）２．００（ＣＨ₃ ，２．９３７），０．５９−０．６５（ＣＨ₂ ，１．９０９），０．３９−０．４３５（ＣＨ₂ ，２．０２），０．２１（ＣＨ₃ ，５．８６），−０．０２−０．２（ＣＨ₃ ，２５．１４）。
【００４３】
（実施例１１）
（白金触媒によるスチレンと末端メチルアセトキシシリル（ＨＳｉ（ＣＨ₃) (ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃)) 官能性ジメチルポリシロキサンの反応）
ガラス製反応管に２２０mgのスチレンと５９０mgの両末端ＨＳｉ（ＣＨ₃) (ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃)官能性ジメチルポリシロキサン（重合度約６．５）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００４ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを６０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。冷却後、内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとスチレンは全て消費されており、スチレンへのヒドロシリル化反応はシリル基のβ−付加でのみ起こっていた。
分析結果：１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−クロロホルム）：δ（官能基、相対強度）０．１１−０．２０（ＣＨ₃ ，１０１．５），０．３３（ＣＨ₃ ，１７．５），１．１８（ＣＨ₂ ，ｍ，１１．４），２．１（ＣＨ₃ ，ｓ，１７．６），２．７７（ＣＨ₂ ，ｍ，１３．９），７．２−７．４５（Ｃ₆ Ｈ₅ ，３４．０）。
【００４４】
（実施例１２）
（白金触媒によるスチレンとメチルエトキシアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２１３mgのスチレンと３１６mgのメチルエトキシアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃) (ＯＣ₂ Ｈ₅)（ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃)（約１０％ずつのメチルジエトキシシランとメチルジアセトキシシランを含む）および５２mgのトルエンをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣおよびＧＣ−ＭＳを用いて分析するとスチレンは全て消費されており、フェネチルメチルジエトキシシラン（ＰｈＣ₂ Ｈ₄ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ)₂）、フェネチルメチルアセトキシエトキシシラン（ＰｈＣ₂ Ｈ₄ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ）（ＯＡｃ））、フェネチルメチルジアセトキシシラン（ＰｈＣ₂ Ｈ₄ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＡｃ)₂）の３種類のフェネチル化合物が１：５：１の割合で生成していた。いずれもβ−付加体のみであった。確認のため、この混合物に過剰のエタノールを加え、８０℃で０．５時間加熱した後、ＧＣを用いて分析するとα−フェネチルメチルジエトキシシラン（ＰｈＣＨ（ＣＨ₃)Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ)₂）とβ−フェネチルメチルジエトキシシラン（ＰｈＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ)₂）が１：３９０の比で存在しているのが分かった。
ＧＣ−ＭＳ分析結果（ＥＩモード、ｚ／ｍ（相対強度））：ＰｈＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ)₂（ＭＷ＝２３８）：６１（１３），７７（３３），８９（２４），１０５（２０），１３３（１００），１４７（６．６），１７７（１０），２２３（１５），２３８（５．４）。
ＰｈＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＥｔ）（ＯＡｃ）（ＭＷ＝２５２）：７７（３０），１０５（５４），１４７（１００），１６３（２．５），１７７（３．８），１９１（７．４），２０７（２．５），２３７（０．２），２５２（０．２）。
ＰｈＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＣＨ₃)（ＯＡｃ)₂（ＭＷ＝２６６）：７７（６５），１０２（１８），１１９（１００），１６１（２２），１９１（４５），２０６（１２），２２３（４．６），２５１（０．３），２６６（１．３）。
【００４５】
（実施例１３）
（白金触媒によるヘキシン−１とジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に８２mgのヘキシン−１と１１８mgのジメチルアセトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を２μL 加えた。内容物は自然発熱し、１０分後冷却した。３０分後内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとジメチルアセトキシシランの転化率は９６％であり、ヘキシン−１のヒドロシリル化物がＧＣトレースのピーク面積（ＦＩＤ検出器）の９１％を占め、ヘキシン−１のヒドロシリル化物のうち、末端シリル化物と内部シリル化物（２−シリルヘキセン−１）の比は１９：１であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：１−ヘキセニル（ジメチル）アセトキシシラン：ｍ／ｚ（相対強度）１８５（５５），１４３（４５），１１７（１００），７５（８１），６１（５０），５９（１５），４７（１０），４５（２４）。
【００４６】
（実施例１４）
（白金触媒によるビニルトリエトキシシランとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に３８０mgのビニルトリエトキシシランと２３６mgのジメチルアセトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を２μL 加えた。反応管をテフロンテープとラバーセプタムでシールし、これを６０℃のオイルバスにいれ２．５時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとジメチルアセトキシシランおよびビニルトリエトキシシランの転化率は約９３％であり、ビニルトリエトキシシランのヒドロシリル化物がＧＣトレースのピーク面積（ＦＩＤ検出器）の約８９％を占め、ビニルトリエトキシシランのヒドロシリル化物のうち、末端シリル化物（ベータ付加物）と内部シリル化物（アルファ付加物）の比は１８：１であった。
ＧＣ−ＭＳ分析結果（ＥＩモード、ｚ／ｍ（相対強度））：（ＥｔＯ)₃ＳｉＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ （ＯＡｃ）（ＭＷ＝３０８）：４５（２１），４７（７．８），７５（４９），７９（１６），１１７（１００），１３５（９．７），１６３（８．４），１７７（１７），２１９（５．３），２２１（６．６），２３５（５．０），２６２（２．０），２６３（２．２），３０８（１．０）。
【００４７】
（実施例１５）
（白金触媒によるアリルアセテートとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に４５８mgのアリルアセテートと５４０mgのジメチルアセトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を５μL 加えた。反応管をテフロンテープとラバーセプタムでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとジメチルアセトキシシランの転化率は９９％であり、アリルアセテートのヒドロシリル化物がＧＣトレースのピーク面積（ＦＩＤ検出器）の約８２％を占め、アリルアセテートのヒドロシリル化物のうち、末端シリル化物（ガンマ付加物）と内部シリル化物（ベータ付加物）の比は３６０：１であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：γ−アセトキシプロピルジメチルアセトキシシラン：ｍ／ｚ（相対強度）２０３（０．２），１７７（０．２），１６１（６．１），１５８（２．４），１１９（２８），１１７（１００），７７（２４），７５（９３），４７（９），４５（１６）。
【００４８】
（実施例１６）
（白金触媒によるイソプレンとジメチルアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に３００mgのイソプレンと７０mgのジメチルアセトキシシランおよび７０mgのトルエンをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を２．０μL 加えた。反応管をテフロンテープとラバーセプタムでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、セプタムをとり内容物をガスクロマトグラフおよび１Ｈ−ＮＭＲを用いて分析するとジメチルアセトキシシランはすべて消費されており、未反応のイソプレンとトルエン以外には、イソプレンのモノヒドロシリル化物およびイソプレンのジヒドロシリル化物が生成していた。このうち、モノヒドロシリル化物はＧＣトレースのピーク面積（ＦＩＤ検出器）の約９１％を占め、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルによるとモノヒドロシリル化物のうち、３−メチル−３−ブテニル（ジメチル）アセトキシシランの割合は約７０％であった。
分析結果：ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ）：３−メチル−３−ブテニル（ジメチル）アセトキシシラン：ｍ／ｚ（相対強度）４５（２５），４７（１３），６１（１６），７５（１００），１１１（２０），１１７（８３），１５３（１．０），１７１（１．３）。
【００４９】
（比較例１）
（白金触媒によるスチレンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に３１２mgのスチレンと３１２mgのジメチルエトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを４１℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとスチレンの転化率は３６％であり、フェネチルジメチルエトキシシランが２７％の収率で生成していた。（α−メチルベンジル）ジメチルエトキシシランの収率は８．５％であった。
【００５０】
（比較例２）
（ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に０．５ｇのｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレンのトルエン溶液（０．１ｇのＤＸＡＳ（ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ（キシリル）アミノ）スチレン）を０．４ｇのトルエンに溶解したもの）と０．０４ｇのジメチルエトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．２wt％）を１０マイクロリットル加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＤＸＡＳの転化率は６７％であり、ＤＸＡＳへのジメチルエトキシシランのβ−付加物が４１％、α−付加物が２１％の収率で生成していた。
【００５１】
（比較例３）
（ジビニルベンゼンとジメチルメトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．１３ｇのジビニルベンゼン（８０％、パラ−、メタ−の混合物；残りはメタ−およびパラ−のエチルスチレン）、０．２１ｇのジメチルメトキシシラン及び０．０３３ｇのトルエンを加えた。これに２マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え、５０℃で３時間加熱した。ガスクロ分析によるとジビニルベンゼン（およびエチルスチレン）の転化率は９９％であり、ジビニルベンゼンのヒドロシリル化物は収率９５％で生成しており、α，β−付加物とβ，β−付加物の生成比は１：１．３６であった。
【００５２】
（比較例４）
（ジビニルジシロキサンとジメチルメトキシシランの反応）
ガラス反応管に０．１８６ｇの１，３−ジビニル−テトラメチル−１，３−ジシロキサン、０．１８ｇのジメチルメトキシシラン及び０．０４７ｇのトルエンを加えた。これに２マイクロリットルの０．４％の白金を含む０価白金の１，３−ジビニルテトラジシロキサン錯体のトルエン溶液を加え５０℃で３時間熱した。ＧＣ分析によると１，３−ジビニル−テトラメチル−１，３−ジシロキサンの転化率は６８％であり、ジビニルベンゼンのモノ−シリル化物とジ−シリル化物がそれぞれ、３７％と３０％で生成しておりモノ−シリル化物のα−付加物とβ−付加物の比率は６：１であり、ジ−シリル化物のα，α−付加物とα，β−付加物の生成比は４．４：１であった。
【００５３】
（比較例５）
（白金触媒によるスチレンとメチルジアセトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２１０mgのスチレンと３２８mgのメチルジアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)（ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₃)₂)をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析すると未反応の原料のみが検出された。３時間加熱後の分析結果も同様であった。
【００５４】
（比較例６）
（白金触媒によるスチレンとメチルジエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２０８mgのスチレンと２７０mgのメチルジエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)（ＯＣ₂ Ｈ₅)₂)および５２mgのトルエンをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとシランおよびスチレンの転化率は９０％であり、ヒドロシリル化物がほぼ定量的に生成していた。α−体とβ−体の比は４２：５８であった。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、オレフィン性又はアセチレン性不飽和化合物のヒドロシリル化反応の反応性を高め、反応性の位置選択性を高め、また、触媒の高活性化及び活性持続性の改善により、ヒドロシリル化反応を低酸素分圧下或いは不活性雰囲気下で行うことを可能にし、よってヒドロシリル化反応時の引火、爆発等の危険性を低減できる。

Claims (2)

1. 白金触媒の存在下で次の(a)から(h)の群から選ばれる不飽和化合物（イ）を下記一般式（１）で示されるヒドロアシロキシ基含有ケイ素化合物（ロ）でヒドロシリル化することを特徴とする、Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法。
   不飽和化合物（イ）：
   (a)スチレンまたはスチレンの誘導体
   (b)ビニルシラン化合物
   (c)ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
   (d)エポキシ官能性オレフィン
   (e)ジエン化合物
   (f)ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｘで示されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表す。）
   (g)末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
   (h)アセチレン系化合物
   ヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）：
   ＨＳｉＲ₂（Ｏ₂ＣＲ′） （１）
   （式中、Ｒは独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれる基であり、Ｒ′は水素原子、アルキル基（炭素数１〜１８）、アリール基（炭素数６〜１０）、ハロゲン化アルキル基（炭素数１〜１８）またはハロゲン化アリール基（炭素数６〜１０）から選ばれる基である。）
2. 前記一般式（１）で表されるヒドロ（アシロキシ）基含有ケイ素化合物（ロ）において、Ｒが炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれたものであり、Ｒ′が炭素数１〜６のアルキル基または水素原子である請求項１記載の製造方法。