JPH01313356A - セラミック物質の製法 - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/07—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
- H10N30/074—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing
- H10N30/077—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing by liquid phase deposition
- H10N30/078—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing by liquid phase deposition by sol-gel deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/30—Three-dimensional structures
- C01P2002/32—Three-dimensional structures spinel-type (AB2O4)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
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-
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
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-
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
−のI :
本発明は、エレクトロセラミックの分野に応用されるセ
ラミック物質(例えばペロプスカイト構造を有するチタ
ニア系製品及びスピネル構造を有するフェライトセラミ
ック)を製造するのに使用されるゾル−ゲル加工処理技
術に関する。殊に興味のあるものは、ジルコン酸チタン
酸鉛(PZT)セラミック物質である。
ラミック物質(例えばペロプスカイト構造を有するチタ
ニア系製品及びスピネル構造を有するフェライトセラミ
ック)を製造するのに使用されるゾル−ゲル加工処理技
術に関する。殊に興味のあるものは、ジルコン酸チタン
酸鉛(PZT)セラミック物質である。
k来夙技歪土
そのようなセラミック物質の溶液製造法に関する従来の
報告は、ゾル−ゲルまたはゾル沈澱法を経るアルコキシ
ド前駆体ルートにほとんど完全に集中されてきている。
報告は、ゾル−ゲルまたはゾル沈澱法を経るアルコキシ
ド前駆体ルートにほとんど完全に集中されてきている。
かかる技法には、下記の如き多くの欠点があるニ
ーアルコキシド前駆体から形成されるゲルは、一般に再
分散性でない。
分散性でない。
一アルキシド類の混合されたものを用いると個々のアル
キシドの種々の加水分解反応速度により、重大な不均質
性がもたらされる。
キシドの種々の加水分解反応速度により、重大な不均質
性がもたらされる。
−アルコキシド誘導ゾルの密度または気孔率を制御する
のは容易ではない。
のは容易ではない。
rJ、Phys、Chem、5olidsJVo+ 1
0.1069〜1090頁の[シェル・チクノロシイ・
イン・セラミックス」において、BJJ ・ゼリンスキ
(Zelinski)及びDR−ウールマン(Llhl
mann)は、種々のゾル及び溶液を混合し、次いでこ
れらをゲル化させ、焼成することを記載している。
0.1069〜1090頁の[シェル・チクノロシイ・
イン・セラミックス」において、BJJ ・ゼリンスキ
(Zelinski)及びDR−ウールマン(Llhl
mann)は、種々のゾル及び溶液を混合し、次いでこ
れらをゲル化させ、焼成することを記載している。
米国特許第3725298号明細書には、混合ゾルをア
ニオン除去によりゲル化させることからなる、ジルコン
酸チタン酸鉛の製造法が記載されている。
ニオン除去によりゲル化させることからなる、ジルコン
酸チタン酸鉛の製造法が記載されている。
EP^第184900号明細書には、放射性廃棄物をカ
プセル化するための人口岩石材を製造するゾル−ゲル法
が記載されている。
プセル化するための人口岩石材を製造するゾル−ゲル法
が記載されている。
flPA第141696号明細書には、特定の条件下に
おける700〜1300℃での焼成工程を含む、バリウ
ム及びその他のアルカリ土類金属のチタネート(チタン
酸塩)を製造するためのゾル−ゲル法が記載されている
。
おける700〜1300℃での焼成工程を含む、バリウ
ム及びその他のアルカリ土類金属のチタネート(チタン
酸塩)を製造するためのゾル−ゲル法が記載されている
。
■による :
本発明はその一態様において、
ペロブスカイト型構造を有するチタネートセラミック及
びスピネル型構造を有するフェライトセラミックから選
択されるセラミック物質を製造する方法であって: 第1の水和酸化物ゾルと少なくとも1種の第2のゾル及
び/または少なくとも1種の金属塩?8液とを、所望の
セラミック物質の組成に対応する組成を有する混合ゾル
を得るようなそれぞれの比率で混合し;この混合ゾルを
脱水して均質ゲルを形成し;そしてこのゲルを加熱して
所望のセラミック物質とする:ことからなる上記方法を
堤供する。
びスピネル型構造を有するフェライトセラミックから選
択されるセラミック物質を製造する方法であって: 第1の水和酸化物ゾルと少なくとも1種の第2のゾル及
び/または少なくとも1種の金属塩?8液とを、所望の
セラミック物質の組成に対応する組成を有する混合ゾル
を得るようなそれぞれの比率で混合し;この混合ゾルを
脱水して均質ゲルを形成し;そしてこのゲルを加熱して
所望のセラミック物質とする:ことからなる上記方法を
堤供する。
ペロブスカイト型構造を有するチタン酸塩(チタネート
)セラミックには、チタン酸金属塩及びジルコニウム酸
金属塩、殊にチタン酸ジルコニウム(PZT型)セラミ
ックがあり、この後者は典型的には下記の一般式を有す
る。
)セラミックには、チタン酸金属塩及びジルコニウム酸
金属塩、殊にチタン酸ジルコニウム(PZT型)セラミ
ックがあり、この後者は典型的には下記の一般式を有す
る。
MZr、 Ti+−xoz
(ここにMはPbであり、これはCa、 Sr、 Ba
、 La+ MLNa+ K、Pb、Li、Cu、Ag
、AuまたはCdの一種またはそれ以上によって部分的
にまたは完全に置換されてよく: Xはゼロないし12好ましくは0,4〜0.6であり;
かつその系は、また少柾のNa、Mg、Li、 K、S
c、 V。
、 La+ MLNa+ K、Pb、Li、Cu、Ag
、AuまたはCdの一種またはそれ以上によって部分的
にまたは完全に置換されてよく: Xはゼロないし12好ましくは0,4〜0.6であり;
かつその系は、また少柾のNa、Mg、Li、 K、S
c、 V。
Cr、Mn、 Pe、Co、 Y + Nb、 In+
Hf 、 Lu、 U 、 Ni、Cu、 Zn、
As+Ga。
Hf 、 Lu、 U 、 Ni、Cu、 Zn、
As+Ga。
Ga、 Rh、 RuまたはSnでドーピングされてい
てもよい。)PZT型セラミックは、水和されたナタネ
ートのゾルを、水和されたジルコニアのゾル及びPbの
塩、例えば硝酸塩またはハロゲン化物の溶液を、所望の
セラミックの組成に対応する組成を有する混合ゾルを形
成するようなそれぞれの割合で混合することにより製造
できる。そのPbの塩は前記列挙の元素の一種またはそ
れ以上によって部分的に、または完全に置換されていて
もよい。
てもよい。)PZT型セラミックは、水和されたナタネ
ートのゾルを、水和されたジルコニアのゾル及びPbの
塩、例えば硝酸塩またはハロゲン化物の溶液を、所望の
セラミックの組成に対応する組成を有する混合ゾルを形
成するようなそれぞれの割合で混合することにより製造
できる。そのPbの塩は前記列挙の元素の一種またはそ
れ以上によって部分的に、または完全に置換されていて
もよい。
スピネル型構造のフェライトセラミックは、典型的には
下記の一般式を有する。
下記の一般式を有する。
ZyFe3−、Os
(ここに、ZはLiであり、これはMg+Mn+Zn+
Cu、旧。
Cu、旧。
Co+Cr+8a、SrまたはPbによって部分的また
は完全に置換されていてよく、 yは、0.4〜2.0であり、 かつこの系は、A#、S+、Na+ K、Sc、?+、
V+Ga+G8+As、 Rh+ Y +Zr、 N
b、 Mo+ Tc1Ru、Rh+ pti、 Az、
Cd、 In+ Sn、 Sb+Te1Cs、La1H
flTal W、pt、At+、ug+il、Btまた
は希土類をも含んでいてよい。
は完全に置換されていてよく、 yは、0.4〜2.0であり、 かつこの系は、A#、S+、Na+ K、Sc、?+、
V+Ga+G8+As、 Rh+ Y +Zr、 N
b、 Mo+ Tc1Ru、Rh+ pti、 Az、
Cd、 In+ Sn、 Sb+Te1Cs、La1H
flTal W、pt、At+、ug+il、Btまた
は希土類をも含んでいてよい。
フェライトセラミックは、水和酸化第二鉄ゾルを、Li
塩(このものは前記列挙元素の一つまたはそれ以上で部
分的または完全に置換されていてもよい)の溶液、及び
随意に水和チタニアゾルと、所望のセラミックの組成に
対応する組成を有する混合ゾルを形成するようなそれぞ
れの割合で混合することにより製造できる。
塩(このものは前記列挙元素の一つまたはそれ以上で部
分的または完全に置換されていてもよい)の溶液、及び
随意に水和チタニアゾルと、所望のセラミックの組成に
対応する組成を有する混合ゾルを形成するようなそれぞ
れの割合で混合することにより製造できる。
混合ゾルの組成は、若干の成分、殊にPb及びLiが、
焼結工程中にある程度まで揮発されるということを考慮
して選定される必要がある。この問題は、混合ゾル中に
過剰の揮発性成分を含ませることによる公知方法で容易
に対処しうる。
焼結工程中にある程度まで揮発されるということを考慮
して選定される必要がある。この問題は、混合ゾル中に
過剰の揮発性成分を含ませることによる公知方法で容易
に対処しうる。
ゾルとは、個々に分離した多数のコロイド状(ミクロン
以下)粒子の懸濁または分散物を意味する0本発明の方
法では、第1のゾルと、少なくとも1つの第2のゾル及
び/または少なくとも1つの金属塩溶液とを混合するこ
とにより、混合ゾルを形成する工程を含む、ツルを不安
定化させず、あるいは沈澱を形成させずに、この111
合を行なう技法は、当業界で周知である。第1のゾルは
、水和された酸化物のゾル、例えば、ジルコニウム(■
)、インジウム(■)、ガリウム(■)、鉄(■)、ア
ルミニウム(■)、クロム(■)、セリウム(■)、け
い素(rV)または好ましくはチタン(rV)の酸化物
ゾルである。第2のゾルは、アルコキシドのゾルであっ
てよいが、好ましくは、第1のゾルと回し金属群から選
択され、最も好ましくはジルコニウム(rV)ゾルまた
は鉄(III)ゾルである。
以下)粒子の懸濁または分散物を意味する0本発明の方
法では、第1のゾルと、少なくとも1つの第2のゾル及
び/または少なくとも1つの金属塩溶液とを混合するこ
とにより、混合ゾルを形成する工程を含む、ツルを不安
定化させず、あるいは沈澱を形成させずに、この111
合を行なう技法は、当業界で周知である。第1のゾルは
、水和された酸化物のゾル、例えば、ジルコニウム(■
)、インジウム(■)、ガリウム(■)、鉄(■)、ア
ルミニウム(■)、クロム(■)、セリウム(■)、け
い素(rV)または好ましくはチタン(rV)の酸化物
ゾルである。第2のゾルは、アルコキシドのゾルであっ
てよいが、好ましくは、第1のゾルと回し金属群から選
択され、最も好ましくはジルコニウム(rV)ゾルまた
は鉄(III)ゾルである。
好ましいゾルは、透明ないし半透明であり、このことは
、約0.1ミクロンより大きな粒子が存在しないことを
含蓄するものである。そのようなゾルは、沈澱された酸
化物、水酸化物または炭酸塩を酸で解こう(コロイド状
化)とすることにより製造できる。
、約0.1ミクロンより大きな粒子が存在しないことを
含蓄するものである。そのようなゾルは、沈澱された酸
化物、水酸化物または炭酸塩を酸で解こう(コロイド状
化)とすることにより製造できる。
焼成酸化物粉末は、水性媒体中で凝集する傾向があるの
で、好ましくは使用しない。
で、好ましくは使用しない。
ゾルは、−次粒子の形状及び寸法に関し、また−次粒子
の凝集度合に関して広範な種々の性質を有したものが調
製できる。公知法でゾルを処理し、あるいはゾルを熟成
させることにより、高密度のゲル及び酸化物を得ること
ができる。このようにして低及び高密度ゾルは、ある範
囲の化学組成を満足させるように、また予め定められた
密度及び/または気孔率の範囲内の組成物を与えるよう
に混合できる。
の凝集度合に関して広範な種々の性質を有したものが調
製できる。公知法でゾルを処理し、あるいはゾルを熟成
させることにより、高密度のゲル及び酸化物を得ること
ができる。このようにして低及び高密度ゾルは、ある範
囲の化学組成を満足させるように、また予め定められた
密度及び/または気孔率の範囲内の組成物を与えるよう
に混合できる。
個々のゾルまたは混合ゾルは、好ましい性質(例えばピ
エゾ電気性)を有することが既知の組成物を与えるよう
に、ある種の塩溶液でドーピングすることができる。
エゾ電気性)を有することが既知の組成物を与えるよう
に、ある種の塩溶液でドーピングすることができる。
以下に混合ゾルの例(1〜21)を列挙する。
1、 ゾルを混合し、次いでゲル化及び熱処理すること
により得られる高密度ZrO□−TiO□組成物。
により得られる高密度ZrO□−TiO□組成物。
2、 ゾルを混合し、次いでゲル化及び熱処理すること
により得られる低密度Zr0z −tio、組成物。
により得られる低密度Zr0z −tio、組成物。
3、 ある特定(設定)範囲の密度を有する上記l及び
2の混合物。
2の混合物。
−4,ZrO□−TiO□組成範囲の低密度球状体の製
造加工。
造加工。
5、 ZrO□−Tie、組成範囲の高密度球状体の
製造加工。
製造加工。
6、 ZrJ−−Ti02組成範囲の繊維(高密度)
の製造加工。
の製造加工。
7、 7r(h Ti0zゾル混合物にPb(NO3
)z溶液を添加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク
状セラミックの形に製造加工するのに好ましいPZT組
成物の製造。
)z溶液を添加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク
状セラミックの形に製造加工するのに好ましいPZT組
成物の製造。
8、 上記7に対してLa(NOx)z溶液を添加して
、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に
製造加工するのに好ましいPLZT組成物の製造。
、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に
製造加工するのに好ましいPLZT組成物の製造。
9、 上記8に対して[la (NO3) z溶液を添
加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セラミック
の形に製造加工するのに好ましいBPLZT組成物の製
造。
加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セラミック
の形に製造加工するのに好ましいBPLZT組成物の製
造。
10、 ZrO*−TiO□ゾル混合物に酢酸鉛(n)
溶液を添加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましいPZT組成物
の製造。
溶液を添加して、粉末、フィルム、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましいPZT組成物
の製造。
11、上記lOに対して酢酸ランタンを添加して、粉末
、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に製造加
工するのに好ましいPLZT組成物の製造。
、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に製造加
工するのに好ましいPLZT組成物の製造。
12、上記11に対して酢酸バリウムを添加して、粉末
、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に製造加
工するのに好ましいBPLZT組成物の製造。
、フィルム、繊維及びバルク状セラミックの形に製造加
工するのに好ましいBPLZT組成物の製造。
+3.チタニアゾルに対してBa(NOx)z溶液を添
加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラ
ミックの形に製造加工するのに好ましいBa0−TiO
□組成物の製造。
加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラ
ミックの形に製造加工するのに好ましいBa0−TiO
□組成物の製造。
14、チタニアゾルに対してCa(NOs)Tie液を
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましいCa0−Ti
O□組成物の製造。
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましいCa0−Ti
O□組成物の製造。
15、チタニアゾルに対して5r(NOs)z?V液を
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましい5rO−Ti
O□組成物の製造。
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造加工するのに好ましい5rO−Ti
O□組成物の製造。
16、チタニアゾルに対してCd(NOi)z?I液を
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造畑りするのに好ましいCd0−Ti
O□組成物の製造。
添加して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セ
ラミックの形に製造畑りするのに好ましいCd0−Ti
O□組成物の製造。
17、上記8または11に対して上記13.14.15
及び16の混合物を添加して、粉末、フィルム(膜)、
繊維及びバルク状セラミックの荊に製造加工するのに好
ましいBaOPbo−LazO= ZrO2Ti1t
−CaO−SrO−CdO組成物の製造。
及び16の混合物を添加して、粉末、フィルム(膜)、
繊維及びバルク状セラミックの荊に製造加工するのに好
ましいBaOPbo−LazO= ZrO2Ti1t
−CaO−SrO−CdO組成物の製造。
18、チタニアゾルに対して酢酸バリウム?8液を添加
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいBa0−TiO□
組成物の製造。
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいBa0−TiO□
組成物の製造。
19、チタニアゾルに対して酢酸カルシウム溶液を添加
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいCa0−TiO□
組成物の製造。
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいCa0−TiO□
組成物の製造。
20、チタニアゾルに対して酢酸カドミウム溶液を添加
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいCd0−TiO□
組成物の製造。
して、粉末、フィルム(膜)、繊維及びバルク状セラミ
ックの形に製造加工するのに好ましいCd0−TiO□
組成物の製造。
21、上記8または11に対して上記18.19.20
及び15の混合物を添加して、粉末、フィルム(膜)、
繊維及びバルク状セラミックの形に製造加工するのに好
ましいBa0−PbO−La2O2−Zr(h−Til
t−CaO−SrO−CdO組成物の製造。
及び15の混合物を添加して、粉末、フィルム(膜)、
繊維及びバルク状セラミックの形に製造加工するのに好
ましいBa0−PbO−La2O2−Zr(h−Til
t−CaO−SrO−CdO組成物の製造。
混合されたゾルは、次いで脱水されて均質ゲルとされる
。脱水は、ゲルが均質であるような条件で、非水性溶剤
の使用により、または、より好ましくは水の蒸発により
行なうことができる。アニオン除去によりゲル化を行な
う操作を含む技法は、均質ゲルを生じないであろう、従
って本発明ではこれを採用することを意図していない。
。脱水は、ゲルが均質であるような条件で、非水性溶剤
の使用により、または、より好ましくは水の蒸発により
行なうことができる。アニオン除去によりゲル化を行な
う操作を含む技法は、均質ゲルを生じないであろう、従
って本発明ではこれを採用することを意図していない。
好ましい脱水法は噴霧乾燥法である。ゾルの粘度に応し
て、噴霧乾燥によりゲルの球状粒子または繊維が形成さ
れうる。所望ならば、ゾルの粘度は、ポリエチレンオキ
サイドのような有機添加剤を添加することにより、それ
から繊維を形成しうる程度にまで増加してもよい。この
ような技法で作られるゲルは、−Sに再水和性である(
すなわち水を添加すると容易にゾルを形成する)。対照
的に、その他の方法、例えばアニオン除去法で形成され
たゲルは、一般に再分散性でない。
て、噴霧乾燥によりゲルの球状粒子または繊維が形成さ
れうる。所望ならば、ゾルの粘度は、ポリエチレンオキ
サイドのような有機添加剤を添加することにより、それ
から繊維を形成しうる程度にまで増加してもよい。この
ような技法で作られるゲルは、−Sに再水和性である(
すなわち水を添加すると容易にゾルを形成する)。対照
的に、その他の方法、例えばアニオン除去法で形成され
たゲルは、一般に再分散性でない。
得られるゲルを加熱して遊離(自由)水及び結合水を除
去する。加熱前または加熱後に、ゲルを公知方法で加工
処理することができ、例えば粉砕して粉末とすることが
でき、あるいはプレス成形して成型体(次に焼結される
)とすることができる、一般に、混合成分の解離、化合
物形成または多形転移のような化学反応が行われるよう
な温度にまでゲルを加熱する。そのような化学反応が予
想外に低温度、典型的には250〜650℃の範囲内で
しばしば起ることは本発明の特徴点である。含水ゲル基
体上での金属塩の分解は、予想外の低温度及び予想外に
クリーンな方式での反応をもたらす。
去する。加熱前または加熱後に、ゲルを公知方法で加工
処理することができ、例えば粉砕して粉末とすることが
でき、あるいはプレス成形して成型体(次に焼結される
)とすることができる、一般に、混合成分の解離、化合
物形成または多形転移のような化学反応が行われるよう
な温度にまでゲルを加熱する。そのような化学反応が予
想外に低温度、典型的には250〜650℃の範囲内で
しばしば起ることは本発明の特徴点である。含水ゲル基
体上での金属塩の分解は、予想外の低温度及び予想外に
クリーンな方式での反応をもたらす。
金属塩の分解または含水ゲル単独の分解は、通常、対応
する酸化物相への多段階分解をもたらす。本発明の方法
は、含ゲル基体上での金属塩の単段階分解をもたらす。
する酸化物相への多段階分解をもたらす。本発明の方法
は、含ゲル基体上での金属塩の単段階分解をもたらす。
このような低温度反応は、含水ゲル化合物(゛例えばT
i01もしくはZrO,もしくはFezes)の一つま
たはそれ以上が、金属塩成分、例えばBa(NOi)*
もしくはPb(NOx)*もしくはLiN0zの分解を
促進することによるものと考えられる。含水ゲル中の結
合水が金属塩をイオン化させて、アニオンを揮発性酸の
形で除去するのを促進するものと考えられる。
i01もしくはZrO,もしくはFezes)の一つま
たはそれ以上が、金属塩成分、例えばBa(NOi)*
もしくはPb(NOx)*もしくはLiN0zの分解を
促進することによるものと考えられる。含水ゲル中の結
合水が金属塩をイオン化させて、アニオンを揮発性酸の
形で除去するのを促進するものと考えられる。
本発明における水和酸化物ゾルは、典型的にはその寸法
がほとんどすべて20nm以下、例えば1〜2Onm
(ナノメートル)である0本発明における酸化物ゾルは
、典型的には0.8以下、例えば−0,5〜+0.8の
piを有するけれども、約1,2までのpHであっても
よい0本発明では、均質ゲルを比較的低温度、7(10
’c以下、例えば250〜650’Cに加熱して、活性
をできるだけ高く保持するのが好ましい、得られる焼成
粉末は、典型的には、50nm、例えば5〜2On−以
下の結晶寸法を有する。プレス加工及び焼結によって、
それに相応する小さい粒度を示すセラミックが得られる
。
がほとんどすべて20nm以下、例えば1〜2Onm
(ナノメートル)である0本発明における酸化物ゾルは
、典型的には0.8以下、例えば−0,5〜+0.8の
piを有するけれども、約1,2までのpHであっても
よい0本発明では、均質ゲルを比較的低温度、7(10
’c以下、例えば250〜650’Cに加熱して、活性
をできるだけ高く保持するのが好ましい、得られる焼成
粉末は、典型的には、50nm、例えば5〜2On−以
下の結晶寸法を有する。プレス加工及び焼結によって、
それに相応する小さい粒度を示すセラミックが得られる
。
700℃以下の温度でゲルを加熱することにより得られ
る生成物は、組成に応じて、ペロブス力・fト型または
スピネル型の構造を有する。ごの生成物は、磨砕法によ
りまた巾にプレスすることにより、粉砕されうる。成形
されたコンパクト体は、次いでより高い700℃=15
00℃の範囲内の温度で加熱することにより焼結されて
、所要の電気的性質を発現させるe’ PZT型セラミ
ックについて、好ましい焼結条件は、1050〜130
0″C(例えば1200’C)の温度及び1−12時間
(例えば2時間)の加熱時間である。フェライトセラミ
ックについて、好ましい焼結条件は、800〜1200
℃(例えば900〜l050’C)であり、最適温度は
Ti含tに応して左右される。
る生成物は、組成に応じて、ペロブス力・fト型または
スピネル型の構造を有する。ごの生成物は、磨砕法によ
りまた巾にプレスすることにより、粉砕されうる。成形
されたコンパクト体は、次いでより高い700℃=15
00℃の範囲内の温度で加熱することにより焼結されて
、所要の電気的性質を発現させるe’ PZT型セラミ
ックについて、好ましい焼結条件は、1050〜130
0″C(例えば1200’C)の温度及び1−12時間
(例えば2時間)の加熱時間である。フェライトセラミ
ックについて、好ましい焼結条件は、800〜1200
℃(例えば900〜l050’C)であり、最適温度は
Ti含tに応して左右される。
これらの温度は、アルコキシドゾルまたは粉末混合物を
採用した調製法で必要とされる温度よりも低い。これら
の低い温度(本発明における)は、製造コストを低減し
、粒子生長を減少し、そして揮発を低減する。
採用した調製法で必要とされる温度よりも低い。これら
の低い温度(本発明における)は、製造コストを低減し
、粒子生長を減少し、そして揮発を低減する。
得られるセラミック物質は、すぐれた均質性を有し、少
なくとも95%、好ましくは少なくとも97%、そして
理想的には100%が所望のペロプスカイトまたはスピ
ネル構造である0粒度(ダレインサイズ)は小さく、均
一であり、一般には50ミクロン以下、そしてしばしば
5〜10ミクロンであり、これはしばしば60ミクロン
程度の粒度を有する先行技術リチウムフェライトと対照
的である。リチウムフェライトセラミックの扮末取汲能
力は粒度に反比例するので、上記事項は重要である。密
度は一般に理論値の少なくきも97%であり、高い密度
は、先行技術におけるよりも低い焼結温度で達成される
。リチウムフェライト物質に7いての誘電撰率値は、対
応する一般式を有する先行技術物質よりも一般にはるか
に低く、従ってはるかに低い挿入損率をもたらす。
なくとも95%、好ましくは少なくとも97%、そして
理想的には100%が所望のペロプスカイトまたはスピ
ネル構造である0粒度(ダレインサイズ)は小さく、均
一であり、一般には50ミクロン以下、そしてしばしば
5〜10ミクロンであり、これはしばしば60ミクロン
程度の粒度を有する先行技術リチウムフェライトと対照
的である。リチウムフェライトセラミックの扮末取汲能
力は粒度に反比例するので、上記事項は重要である。密
度は一般に理論値の少なくきも97%であり、高い密度
は、先行技術におけるよりも低い焼結温度で達成される
。リチウムフェライト物質に7いての誘電撰率値は、対
応する一般式を有する先行技術物質よりも一般にはるか
に低く、従ってはるかに低い挿入損率をもたらす。
本発明の別の態様は、本発明の方法で作られる三つの特
定種類のセラミック物質に関する。これらの種類のセラ
ミックは下記の(a)、(b)及び(C)である。
定種類のセラミック物質に関する。これらの種類のセラ
ミックは下記の(a)、(b)及び(C)である。
(a)゛下記の性質を有するPZT4セラミック:密度
少なくとも95%誘電率
1050〜1250誘電1貝率 0.00
2未満結合係数 0.53〜0.60゜(b
) 下記の性質を有するPZT5セラミック:密度
少なくとも95%ピエヅ電気係数
50〜160 結合係数 0.55〜0.65誘電率
800〜1600誘電1員率 0.
001〜0.025良度指数 50〜100
0゜(C) 下記の性質を有するリチウムフェライト
セラミック: 密度 少なくとも95%粒度
0.2〜50ミクロンスピン波線rl
2〜12エルステッド誘電損率 1×10−4な
いし3XIO−’。
少なくとも95%誘電率
1050〜1250誘電1貝率 0.00
2未満結合係数 0.53〜0.60゜(b
) 下記の性質を有するPZT5セラミック:密度
少なくとも95%ピエヅ電気係数
50〜160 結合係数 0.55〜0.65誘電率
800〜1600誘電1員率 0.
001〜0.025良度指数 50〜100
0゜(C) 下記の性質を有するリチウムフェライト
セラミック: 密度 少なくとも95%粒度
0.2〜50ミクロンスピン波線rl
2〜12エルステッド誘電損率 1×10−4な
いし3XIO−’。
光吸悲肱果工
本発明の方法は、先行技術方法と比較して下記の利点を
有する。
有する。
(a) 本発明の方法で混合ゾルから作られる種々の
組成のゲルは、一般に水に再分散できる。これと対照的
にアルコキシド前駆体から作られるゲルは一般に再分散
性でない。
組成のゲルは、一般に水に再分散できる。これと対照的
にアルコキシド前駆体から作られるゲルは一般に再分散
性でない。
(b) 本発明方法では均質ゲルが得られ、このこと
はセラミック加工処理における固体状態反応を実施する
ために非常に重要である。
はセラミック加工処理における固体状態反応を実施する
ために非常に重要である。
(C) 低密度及び高密度のゾルを併用することによ
り、密度及び気孔率の両方を容易に制御することができ
る。これと対照的に、アルコキシドから得られるゾルは
低密度であり、従って本発明における如き大巾な範囲及
び容易さで密度及び気孔率を制御することができない。
り、密度及び気孔率の両方を容易に制御することができ
る。これと対照的に、アルコキシドから得られるゾルは
低密度であり、従って本発明における如き大巾な範囲及
び容易さで密度及び気孔率を制御することができない。
(dl 本発明方法によれば、他の従来のセラミック
処理技法において見られるよりも低温において、含水ゲ
ルの存在下での金属塩の化学反応、殊に分解反応がもた
らされる。
処理技法において見られるよりも低温において、含水ゲ
ルの存在下での金属塩の化学反応、殊に分解反応がもた
らされる。
(e) 所望の電気的性質を発現させるのに必要とさ
れる焼結温度は、先行技術のセラミック処理技法を用い
る場合よりも低い。
れる焼結温度は、先行技術のセラミック処理技法を用い
る場合よりも低い。
(f) 本発明方法は、先行技術のセラミ’7り処理
技法よりも再現性がはるかに高い。
技法よりも再現性がはるかに高い。
劃I±
以下の実施例により本発明を例示説明する。
]k例」−
ジルコニウム酸チタン酸鉛(PZT)の製造のための典
型的な方法は下記の通りであった。
型的な方法は下記の通りであった。
467g/F!のZiO□当量を含むジルコニアゾル(
0,0831)を、308g/ nのTiO□当号を含
む・チタニアゾル(0,0351)と混合した。攪拌下
に、254g/iのPbo当蟹を含む硝酸鉛溶液(0,
3951)を添加した。混合物の調製時及び22℃で数
日間にわたる混合物の熟成時に、望ましくない効果、例
えば凝固、制御不能な粘度増加等は生しなかった。この
ようにして得られた原料は下記の性質を有した。
0,0831)を、308g/ nのTiO□当号を含
む・チタニアゾル(0,0351)と混合した。攪拌下
に、254g/iのPbo当蟹を含む硝酸鉛溶液(0,
3951)を添加した。混合物の調製時及び22℃で数
日間にわたる混合物の熟成時に、望ましくない効果、例
えば凝固、制御不能な粘度増加等は生しなかった。この
ようにして得られた原料は下記の性質を有した。
濃度: 275 g / Ilの混合酸化物密度:1.
35g/CC 粘度:5cp pH: 0.4に の評価後、この原料を2.51! /時の流量で噴霧乾
燥して、110gの自由流動性ゲル粒子を得た。
35g/CC 粘度:5cp pH: 0.4に の評価後、この原料を2.51! /時の流量で噴霧乾
燥して、110gの自由流動性ゲル粒子を得た。
このゲルは水に完全再分散性であった。熱分析により、
このゲルが66%の酸化物を含むことが判明し、また熱
分析曲線からこの複合物質は個々の成分とは異なった様
式で分解することが判明した。
このゲルが66%の酸化物を含むことが判明し、また熱
分析曲線からこの複合物質は個々の成分とは異なった様
式で分解することが判明した。
分解温度は、個々の成分についてのものよりも著しく低
く、かつ著しく明確であった。
く、かつ著しく明確であった。
X線分析により、ペロブスカイト相はsoo”cまでの
温度により良好に形成されることが判明し、他方慣用粉
末混合法によっては、約900℃の温度がペロブスカイ
ト相を生成させるために必要とされた。
温度により良好に形成されることが判明し、他方慣用粉
末混合法によっては、約900℃の温度がペロブスカイ
ト相を生成させるために必要とされた。
実益口I
Zr’(IV)及びTi([V)の両者のほぼ当止率の
ゾルの混合物を空気中で脱水させた。ゲル化に近(なっ
た時点では、そのゾル混合物から1mにも及ぶまたはそ
れ以上の長さの繊維を引き延ばすことが可能であった。
ゾルの混合物を空気中で脱水させた。ゲル化に近(なっ
た時点では、そのゾル混合物から1mにも及ぶまたはそ
れ以上の長さの繊維を引き延ばすことが可能であった。
これらの繊維は数分以内に空気中でゲル化した。空気中
で400℃で1時間焼成後にX線分析したところ、最終
製品は主として相安定化されたジルコニア(正方晶系相
)からなり、これに未確認相が伴なっていた。
で400℃で1時間焼成後にX線分析したところ、最終
製品は主として相安定化されたジルコニア(正方晶系相
)からなり、これに未確認相が伴なっていた。
皇族■1
353g/lのTi1t当量を含むチタニアゾル(0,
042りを、253g/ ffiのPbo当量の硝酸鉛
Pb(NOz)z溶液の0.162 ffiに対して徐
々に添加した。この混合物を20分間撹拌した。このよ
うにして得た原料は下記の性質を有した。
042りを、253g/ ffiのPbo当量の硝酸鉛
Pb(NOz)z溶液の0.162 ffiに対して徐
々に添加した。この混合物を20分間撹拌した。このよ
うにして得た原料は下記の性質を有した。
濃度: 274 g / lの混合酸化物密度: 1.
312 g / cc 粘度:5cp ρII :0.3 上記原料を2.5ffi/時の流量で噴霧乾燥した。
312 g / cc 粘度:5cp ρII :0.3 上記原料を2.5ffi/時の流量で噴霧乾燥した。
製品を熱分析したところ、72%の酸化物を含むことが
判明した。X線分析したところ、350℃までの温度に
よりペロブスカイト相が良好に形成することが示された
。
判明した。X線分析したところ、350℃までの温度に
よりペロブスカイト相が良好に形成することが示された
。
実施例」工
353g/ fのTiO□当量を含乙゛チタニアソ゛ル
(0,1241)を、濃度64 g / lのBa(N
Os)z?9M (37,5g/ lBaO当量)の2
.32に対して添加した。このゾル添加中に望ましくな
い効果は認められなかった。このようにして得た原料は
下記の性質を有した。
(0,1241)を、濃度64 g / lのBa(N
Os)z?9M (37,5g/ lBaO当量)の2
.32に対して添加した。このゾル添加中に望ましくな
い効果は認められなかった。このようにして得た原料は
下記の性質を有した。
4度: 53.7 g / 1
密度:1.06g/cc
粘度:4cp
pH:0.78
このようにして得られた原料を2.517時の流量で噴
霧乾燥した。熱分析したところ、この生成ゲルが59%
の酸化物を含むことが判明した。X線分析したところ、
600℃までの温度でペロブスカイト相が良好に形成す
ることが判明した。
霧乾燥した。熱分析したところ、この生成ゲルが59%
の酸化物を含むことが判明した。X線分析したところ、
600℃までの温度でペロブスカイト相が良好に形成す
ることが判明した。
尖施拠l
実施例1記載のPZT原料に対して約4 Wlo(PZ
T原料の酸化物含量基準)のポリエチレンオキサイドを
添加して、粘度を530cpまで増加させた。これを噴
霧乾燥して、1〜5−の範囲の直径及びlO〜10.0
00,1711の長さのPZT繊維を得た(収率100
%)。
T原料の酸化物含量基準)のポリエチレンオキサイドを
添加して、粘度を530cpまで増加させた。これを噴
霧乾燥して、1〜5−の範囲の直径及びlO〜10.0
00,1711の長さのPZT繊維を得た(収率100
%)。
このようにして得られた繊維の焼成により、約350℃
においてペロブスカイト相が形成した。
においてペロブスカイト相が形成した。
この実施例(研究)のために選択された組成物は、ガス
イグナイター、超音波駆動器及び圧力感知のために用い
られるPZT4A(いわゆる[硬J PZTの組成(下
記)であった。
イグナイター、超音波駆動器及び圧力感知のために用い
られるPZT4A(いわゆる[硬J PZTの組成(下
記)であった。
(Pbo、qasro、06)(Zro、5ztTio
、ay3)Osピエゾ電気セラミック市場の主流をなす
ものは、この材料とPZTSタイプのものである。
、ay3)Osピエゾ電気セラミック市場の主流をなす
ものは、この材料とPZTSタイプのものである。
上記組成はPbZr0z PbTi0z系についての
頚質類形相境界に近似のものであり、最適の誘電率及び
結合係数を与えることが知られている。
頚質類形相境界に近似のものであり、最適の誘電率及び
結合係数を与えることが知られている。
3kgのPZTt51末を製造するためのフローシート
が第1図に示されている。成分の溶液及びゾルの性質は
表1に示されている。チタニアゾルは、英国特許第14
12937号明細書記載の方法を用いてTi(IV)塩
化物から作り、ジルコニアゾルは英国特許第11817
94号明細書の方法により塩基性炭酸ジルコニウムから
作り、そして塩溶液はGPR級の硝酸ストロンチウム及
び硝酸鉛から作った。
が第1図に示されている。成分の溶液及びゾルの性質は
表1に示されている。チタニアゾルは、英国特許第14
12937号明細書記載の方法を用いてTi(IV)塩
化物から作り、ジルコニアゾルは英国特許第11817
94号明細書の方法により塩基性炭酸ジルコニウムから
作り、そして塩溶液はGPR級の硝酸ストロンチウム及
び硝酸鉛から作った。
446g/lのZr01当量を含む゛ジルコニアゾル(
0,911)を、298g/f!↑10□当量を含む゛
チタニアゾル(0,7951)と混合した。攪拌下に、
307g/ I!。
0,911)を、298g/f!↑10□当量を含む゛
チタニアゾル(0,7951)と混合した。攪拌下に、
307g/ I!。
のPbo当量を含む硝酸鉛溶液(4,2891)及び2
25g/lのSrO当量を含む硝酸ストロンチウム溶液
(0,1741)を上記混合物に添加した。混合物の調
製中及び22℃での数日間にわたる熟成中に望ましくな
い効果、例えば凝固、制御できない粘度増加等は生じな
かった。このようにして得た原料は下記の性質を有した
。
25g/lのSrO当量を含む硝酸ストロンチウム溶液
(0,1741)を上記混合物に添加した。混合物の調
製中及び22℃での数日間にわたる熟成中に望ましくな
い効果、例えば凝固、制御できない粘度増加等は生じな
かった。このようにして得た原料は下記の性質を有した
。
4度: 305g/ ffiの混合酸化物当量密度(r
) :1.366g/ cc pH: 0.6 粘度:5cρ 導電率(k)ニア7.7ミリモー 上記評価の後、この原料を2.51 /時の流量、23
0℃の入口温度及び105℃の出口温度でディスクアト
マイズ法により噴霧乾燥して、約3kgの自由流動性ゲ
ル粒子を得た。これらの粒子の球状形態は、このゲル製
品に対してすぐれた流動特性を賦与した0粒子の平均寸
法(約20AM)は、異なるゲル化撮作を用いることに
より大きな範囲にわたって変動されうるちのであり(例
えば化学的ゲル化では、2〜100I!m、そしてゲル
沈澱法では80〜100浦)、あるいはディスクアトマ
イズ法(10〜40/7m1)またはノズル射出法(4
0〜801M)を用いて噴霧乾燥についての供給特性を
変えることにより変動されうる。
) :1.366g/ cc pH: 0.6 粘度:5cρ 導電率(k)ニア7.7ミリモー 上記評価の後、この原料を2.51 /時の流量、23
0℃の入口温度及び105℃の出口温度でディスクアト
マイズ法により噴霧乾燥して、約3kgの自由流動性ゲ
ル粒子を得た。これらの粒子の球状形態は、このゲル製
品に対してすぐれた流動特性を賦与した0粒子の平均寸
法(約20AM)は、異なるゲル化撮作を用いることに
より大きな範囲にわたって変動されうるちのであり(例
えば化学的ゲル化では、2〜100I!m、そしてゲル
沈澱法では80〜100浦)、あるいはディスクアトマ
イズ法(10〜40/7m1)またはノズル射出法(4
0〜801M)を用いて噴霧乾燥についての供給特性を
変えることにより変動されうる。
本発明によるこのゲルは、アルコキシドルートで得られ
るゲルと異なり、水に完全に再分散することができた。
るゲルと異なり、水に完全に再分散することができた。
この性質は極めて有用である。なんとなれば、もし何ら
かの理由により、製品がその意図された用途に不適当で
あるときには、それを水に再分散させて混合ゾルを形成
することができ、この混合ゾルを次いで適宜に調整(a
JI]節)することができるからであり、あるいは、別
の形態が望まれるときにはゲル化操作を改変し、てその
目的を達成できるからである。
かの理由により、製品がその意図された用途に不適当で
あるときには、それを水に再分散させて混合ゾルを形成
することができ、この混合ゾルを次いで適宜に調整(a
JI]節)することができるからであり、あるいは、別
の形態が望まれるときにはゲル化操作を改変し、てその
目的を達成できるからである。
熱重量分析は、ゲルが66%の酸化物を含んでいること
を明らかにし、また熱分析曲線(第2図)からこの複合
物質が個々の成分について認められたものとは異なって
様式で化学的に分解したことが明らかであった0分解温
度は、個々の成分のものよりも著しく低く、そしてその
分解反応は個々の成分のものよりも著しく明確であった
。金属塩または含水ゲル単独の分解は、対応する酸化物
相に至るまでに多段階分解で行なわれる。本発明方法の
処理操作では、含水ゲル基体上での金属塩のほぼ単一段
階の分解がもたらされる。これらの低温反応は、金属塩
化合物の分解を促進する1種またはそれ以上の含水ゲル
化合物により達成されるものと考えられる。
を明らかにし、また熱分析曲線(第2図)からこの複合
物質が個々の成分について認められたものとは異なって
様式で化学的に分解したことが明らかであった0分解温
度は、個々の成分のものよりも著しく低く、そしてその
分解反応は個々の成分のものよりも著しく明確であった
。金属塩または含水ゲル単独の分解は、対応する酸化物
相に至るまでに多段階分解で行なわれる。本発明方法の
処理操作では、含水ゲル基体上での金属塩のほぼ単一段
階の分解がもたらされる。これらの低温反応は、金属塩
化合物の分解を促進する1種またはそれ以上の含水ゲル
化合物により達成されるものと考えられる。
焼成処理ゲル粒子をX線分析したところ、ペロブスカイ
トPZT相が500℃までの温度で良好に形成され、未
反応成分酸化物が存在しないことが判明した。この低温
反応、及び比較的低温でのX線回折ピークの予想外の鋭
さは、この系で達成されたすぐれた均質性の証左である
。従来の粉末混合法ルートは、ペロブスカイト相を形成
させるために少なくとも800℃で焼成することを必要
とする。
トPZT相が500℃までの温度で良好に形成され、未
反応成分酸化物が存在しないことが判明した。この低温
反応、及び比較的低温でのX線回折ピークの予想外の鋭
さは、この系で達成されたすぐれた均質性の証左である
。従来の粉末混合法ルートは、ペロブスカイト相を形成
させるために少なくとも800℃で焼成することを必要
とする。
コンパクト体(圧縮成形体;直径21rmX厚さ5II
I11)ヲ、2トン/平方インチの圧力でグイプレス成
形し、次いで30000psiにアイソタクチックプレ
スすることにより得た。有機バインダーを用いる必要は
なかった。グリーン(生)密度は典型的には理論値の5
2%であった。標準的な二重るつぼ法を採用して、焼結
中にPbo積重雰囲気を維持するためにパンファーPZ
T粉末(米国ニュージャシイ州ウルトラソニック・パラ
ダース・Inc製rUPI401J :商標)を用い
た。このようにして得られた粉末の焼結性能を従来法で
作った混合酸化物粉末の性能と比較した。
I11)ヲ、2トン/平方インチの圧力でグイプレス成
形し、次いで30000psiにアイソタクチックプレ
スすることにより得た。有機バインダーを用いる必要は
なかった。グリーン(生)密度は典型的には理論値の5
2%であった。標準的な二重るつぼ法を採用して、焼結
中にPbo積重雰囲気を維持するためにパンファーPZ
T粉末(米国ニュージャシイ州ウルトラソニック・パラ
ダース・Inc製rUPI401J :商標)を用い
た。このようにして得られた粉末の焼結性能を従来法で
作った混合酸化物粉末の性能と比較した。
密度は、典型的には理論値の97〜99%であり、この
値は、標準的な粉末混合ルートにより作られたもの(9
5〜97%)及びアルコキシド共沈澱ルートにより作ら
れたものと比較して劣ることはなかった。従来通常のも
のよりも高い密度は、従来−般的に用いられている焼結
密度(1260〜1380℃)よりも数百℃程度低い温
度で達成されることは注目に(直することである。
値は、標準的な粉末混合ルートにより作られたもの(9
5〜97%)及びアルコキシド共沈澱ルートにより作ら
れたものと比較して劣ることはなかった。従来通常のも
のよりも高い密度は、従来−般的に用いられている焼結
密度(1260〜1380℃)よりも数百℃程度低い温
度で達成されることは注目に(直することである。
その他の性質も市販品と比較して劣ることがない(表2
参照)。
参照)。
表−上
PZT原料の成分及び性質
表 2
464g/ ffiのZrO□当量を含む・ジルコニア
ゾル(0,6701)を、196g/F!のTiO2当
■を含むチタニアゾル(0,8751)と混合した。硝
酸鉛C4,2401,。
ゾル(0,6701)を、196g/F!のTiO2当
■を含むチタニアゾル(0,8751)と混合した。硝
酸鉛C4,2401,。
210g/lI’bO+ (Pb揮発損失補償のため)
0.04241または0.0848ffi ) 、硝
酸ストロンチウム溶液(0,420j2 、97g/
l 5in)及び五塩化ニオブ溶液(水120−中12
.60gのNb1Js)を上記混合ゾルに攪拌しつつ添
加した。得られたこの混合物(「原料」と称す)は下記
の性質を有した。
0.04241または0.0848ffi ) 、硝
酸ストロンチウム溶液(0,420j2 、97g/
l 5in)及び五塩化ニオブ溶液(水120−中12
.60gのNb1Js)を上記混合ゾルに攪拌しつつ添
加した。得られたこの混合物(「原料」と称す)は下記
の性質を有した。
濃度; 237g/ ffi酸化物当量密度:1.28
g/cc 粘度:5cρ pH:0.01 全容積76.281 この原料を噴霧乾燥し、600℃で焼成して1.486
kgの自由流動性酸化物粉末を得た。
g/cc 粘度:5cρ pH:0.01 全容積76.281 この原料を噴霧乾燥し、600℃で焼成して1.486
kgの自由流動性酸化物粉末を得た。
B、セーミ・ ペレ・・ の’b
上記酸化物粉末をアセトン中で少なくとも4時間ボール
ミル処理し、次いで室温で乾燥した。この粉末を5gづ
つの量として15Mグイ中で一軸プレスし、次いで25
000ps iでアイソタクチックプレスした。これら
のグリーンペレットを二重るつぼ法によって、1050
〜1300℃(好ましくは1200℃)の温度で2〜1
2時間(好ましくは2時間)焼結した。
ミル処理し、次いで室温で乾燥した。この粉末を5gづ
つの量として15Mグイ中で一軸プレスし、次いで25
000ps iでアイソタクチックプレスした。これら
のグリーンペレットを二重るつぼ法によって、1050
〜1300℃(好ましくは1200℃)の温度で2〜1
2時間(好ましくは2時間)焼結した。
C1性1似止較(表3)
D、niΩj目41
所与の温度で所与の時間にわたり焼結された10個のセ
ラミックについて、IRE標準611RIE14.51
に90%以上合致した。すなわち誘電性は20%以下だ
け変動し、またピエゾ電気性は10%以下だけ変動した
。
ラミックについて、IRE標準611RIE14.51
に90%以上合致した。すなわち誘電性は20%以下だ
け変動し、またピエゾ電気性は10%以下だけ変動した
。
商業的不良率は80%の高さでありうる。
実差貫」−
WのIチウムフェライトU
Lie、wsTL、bsFe+、i*sMno、oJi
o、oosoa混合ゾルの調製は第3図に示されている
。混合ゾルを180℃の入口温度及び85℃の出口温度
で噴霧乾燥し、209gのゲルを得た。これを600℃
に加熱した。転移温度を測定したところ、強磁性キュリ
ー点は360℃付近であった。得られた粉末を粉砕し、
次いでグイで圧縮して900〜+050℃の温度に加熱
し焼結した。得られた生成物は良好な均質性を有し、理
論値の99%の密度を有した。下記の表4には、このル
ートで作られたリチウムフェライト組成物を列挙しであ
る。表5はこれらの組成物と市販の同等品との比較を示
す。
o、oosoa混合ゾルの調製は第3図に示されている
。混合ゾルを180℃の入口温度及び85℃の出口温度
で噴霧乾燥し、209gのゲルを得た。これを600℃
に加熱した。転移温度を測定したところ、強磁性キュリ
ー点は360℃付近であった。得られた粉末を粉砕し、
次いでグイで圧縮して900〜+050℃の温度に加熱
し焼結した。得られた生成物は良好な均質性を有し、理
論値の99%の密度を有した。下記の表4には、このル
ートで作られたリチウムフェライト組成物を列挙しであ
る。表5はこれらの組成物と市販の同等品との比較を示
す。
表−」−
第1図はPZT4セラミックのための混合ゲル製造フロ
ーシートである。 第2図は、示差熱重量分析曲線であり、PZT5ゲルを
加熱したときの明確単純な分解反応を示している。 第3図はリチウムフェライトセラミックのための混合ゾ
ル製造フローシートである。 ニー+ 1 代理人 弁理士 湯 浅 恭 三° −C:2二 (外4名) く
ーシートである。 第2図は、示差熱重量分析曲線であり、PZT5ゲルを
加熱したときの明確単純な分解反応を示している。 第3図はリチウムフェライトセラミックのための混合ゾ
ル製造フローシートである。 ニー+ 1 代理人 弁理士 湯 浅 恭 三° −C:2二 (外4名) く
Claims (12)
- 1.ペロブスカイト型構造を有するチタネートセラミッ
ク及びスピネル型構造を有するフエライトセラミックか
ら選択されるセラミック物質を製造する方法であって: 第1の水和酸化物ゾルと少なくとも1種の第2のゾル及
び/または少なくとも1種の金属塩溶液とを、所望のセ
ラミック物質の組成に対応する組成を有する混合ゾルを
得るようなそれぞれの比率で混合し;この混合ゾルを脱
水して均質ゲルを形成し;そしてこのゲルを加熱して所
望のセラミック物質とする;ことからなる上記方法。 - 2.混合成分の解離、化合物形成または多形転移によっ
てセラミック物質を形成するようにゲルを加熱する請求
項1記載の方法。 - 3.水和チタニアゾルを、水和ジルコニアゾル及び鉛塩
の溶液と、PZT型セラミックの組成に対応する組成を
有する混合ゾルを形成するようなそれぞれの割合で混合
する請求項1または2に記載の方法。 - 4.Ca,Sr,Ba,La,Mg,Na,K,Pb,
Li,Cu,Ag,Au及びCdから選択される少なく
とも1種の金属の塩の溶液をさらに混合物に含ませる請
求項3に記載の方法。 - 5.Mg,Mn,Zn,Cu,Ni,Co,Cr,Ba
,Sr及びPbから選択される少なくとも1種の金属の
塩の溶液と、水和酸化第二鉄ゾルとを、フェライトセラ
ミックの組成に対応する組成を有する混合ゾルを形成す
るようなそれぞれの割合で混合する請求項1または2記
載の方法。 - 6.水和チタニアゾルを混合物中に含ませる請求項5記
載の方法。 - 7.混合ゾルを噴霧乾燥で脱水する請求項1〜6のいず
れかに記載の方法。 - 8.ゲルを250℃ないし650℃の温度に加熱してセ
ラミック物質を形成させる請求項1〜7のいずれかに記
載の方法。 - 9.セラミック物質をプレスし、そして焼結させる請求
項1〜8のいずれかに記載の方法。 - 10.請求項1〜9のいずれかに記載の方法で製造され
、下記の性質を有するPZT4セラミック:密度少なく
とも95% 誘電率1050〜1250 誘電損率0.002未満 結合係数0.53〜0.60。 - 11.請求項1〜9のいずれかに記載の方法で製造され
、下記の性質を有するPZT4セラミック:密度少なく
とも95% ピエゾ電気係数50〜160 結合係数0.55〜0.65 誘電率800〜1600 誘電損率0.001〜0.025 良度指数50〜1000。 - 12.請求項1〜9のいずれかに記載の方法で製造され
、下記の性質を有するリチウムフェライトセラミック: 密度少なくとも95% 粒度0.2〜50ミクロン スピン波線巾2〜12エルステッド 誘電損率1×10^−^4ないし3×10^−^4
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