JPH01218635A - 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置 - Google Patents

脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置

Info

Publication number
JPH01218635A
JPH01218635A JP63047141A JP4714188A JPH01218635A JP H01218635 A JPH01218635 A JP H01218635A JP 63047141 A JP63047141 A JP 63047141A JP 4714188 A JP4714188 A JP 4714188A JP H01218635 A JPH01218635 A JP H01218635A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
deodorizing
photocatalyst
deodorizer
adsorbent
deodorizing agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63047141A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06102155B2 (ja
Inventor
Hiroshi Kawagoe
川越 博
Akira Kato
明 加藤
Hisao Yamashita
寿生 山下
Akio Honchi
章夫 本地
Noriko Watanabe
紀子 渡辺
Takahiro Tate
隆広 舘
Yuichi Kamo
友一 加茂
Reiji Naka
礼司 中
Teruo Tsunoda
角田 照夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63047141A priority Critical patent/JPH06102155B2/ja
Publication of JPH01218635A publication Critical patent/JPH01218635A/ja
Publication of JPH06102155B2 publication Critical patent/JPH06102155B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、冷蔵庫・空気調節器等の冷凍サイクル装置に
用いられる脱臭剤・脱臭方法・脱臭装置、または脱臭剤
の製造方法さらに、この脱臭装置を備えた冷凍サイクル
装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、冷蔵庫・空気調節器等の冷凍サイクル装置の脱臭
剤としては、活性炭が用いられていた(例えば実開昭4
7−22566号)。
また、TiO2等の光触媒を備え、この光触媒に紫外線
を照射して、空気中に含まれる悪臭成分を分解すること
をより脱臭をおこなう従来例も存在していた。
さらに、オゾン発生装置およびオゾン反応装置を備え、
発生するオゾンにより悪臭成分を分解して、脱臭をおこ
なう従来例も存在していた(例えば特開昭61−933
81号、実開昭61−205381号)。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記活性炭を用いた従来例では、濃度の
高い悪臭ガスが存在する場合には、活性炭の吸着能力が
飽和し、脱臭効果を短時間しか維持できないという課題
があった。
また、光触媒に紫外線が照射して脱臭をおこなう従来例
では、光触媒に紫外線を常時照射しなければならず、ま
た光触媒は紫外線照射手段の一方側にしか設けられてい
ないため、触媒反応効率が十分でなく、そのために脱臭
効率が低いという課題があった。
本発明は係る問題点を解決するために、脱臭効果を長時
間維持でき、かつ脱臭効率が高い脱臭剤・その製造方法
・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍
サイクル装置を提供することをその目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
」1記目的を達成するために、本発明に係る脱臭=3= 剤は、吸着剤と光触媒とを含んで成ることを特徴とする
ものである。また、これらにHa・IIIa・■8・■
8・■□・■・Ib・■5・■5・■5族の少なくとも
1種の元素を含有する第2成分が含まれてなることを特
徴とするものである。さらに、多孔状に形成されてなる
ことを特徴とするものである。
さらに、」1記目的を達成するために、本発明に係る脱
臭剤の製造方法は、上記脱臭剤の成分の混合物を焼結し
て多孔状に形成することを特徴とするものである。
また、上記目的を達成するために、本発明に係る脱臭方
法は、上記脱臭剤に紫外線を照射することを特徴とする
ものである。
また、上記目的を達成する本発明に係る脱臭装置は、空
気循環経路に設けられた紫外線照射手段の周囲に、上記
脱臭剤が配置されたことを特徴とするものである。さら
に、紫外線照射手段が空気循環道に設けられてなり、か
つこの経路の上流側には上記脱臭剤が配置され、下流側
には吸着剤が配置されてなることを特徴とするものであ
る。
さらに、上記目的を達成する本発明に係る冷凍サイクル
装置は、上記脱臭装置を備えたことを特徴とするもので
ある。
上記本発明に係る脱臭剤において、吸着剤としては、活
性炭・アルミナ・シリカの少なくとも1種を用いること
ができる。また上記光触媒としては、TlO2・5nO
7・ZnO等のn型半導体の少なくとも1種を用いるこ
とができる。また、上記第2成分としては、CuCu−
7n−La−・■・Sr−Ag−Ba−Ce−8n−F
e−W・Pt−Pd−Mg−A]の少なくとも1種を含
有するものであることが望ましい。第2成分として、は
単体またはこれらの硝酸塩・酸化物・塩化物・硫酸塩の
化合物であってもよい。
上記本発明に係る脱臭剤に用いられる光触媒は、5〜5
0重量%含有されることが望ましい。5重量%未満では
、悪臭成分の分解の効率が低下し、一方50重量%を超
えると総体的に吸着剤の量が減るために、吸着能力が低
下する。
」二記本発明に係る吸着剤に用いられる第2成分は、0
.5〜40重量%含有されることが望ましい。0.5重
量%未満では、悪臭成分を分解する効率が低下し、一方
40重量%を超えると、相対的に吸着剤および光触媒の
量が低下するために、分解活性および吸着能力が低下す
るためである。
本発明に係る脱臭剤の形状は、ハニカム状、板状、網状
、べIノッI〜状の冬イ1状“あることが望ましい。こ
れは、多孔状ね、−することをより脱臭剤内を悪臭成分
を含んだ空気を導入することができ、かつ多孔状とする
こと(5−より悪臭成分と脱臭剤との接触面積を大きく
ずろことができるからである。
上記本発明に係る脱臭剤0:: 製造方法としては、上
記本発明に係る脱臭剤の成分の混合物を焼結するもので
あり、焼結温度は500℃以下が望ましい。500℃以
下の焼結で、安定した光触媒活性が得られるからである
。また、その他の製法としては、光触媒または光触媒と
第2成分の混合物を吸着剤に担持させることによりおこ
なうこともできる。
上記吸着剤に用いられる光触媒の原料として、例えばT
iO2を例にとると、酸化チタン、含水酸化チタン、四
塩化チタン、硫酸チタン、有機チタン化合物等を用いる
ことができる。
上記のような脱臭剤の調整法としては、通常使用される
沈澱法、混錬法、含浸法、蒸発乾固法等を使用すること
ができる。このような脱臭剤によって分解かつ吸着され
る悪臭成分は、硫黄化合物、有機化合物および窒素化合
物等である。
〔作用〕
上記本発明に係る吸着剤と光触媒とを含んでなる脱臭剤
によれば、悪臭成分ガスが、吸着剤に吸着され、紫外光
が照射され、つまり、バンドギャップ以上のエネルギー
光が光触媒に照射されることにより励起され、伝導帯に
電子(又はラジカル)が生じ、価電子体に正孔(又はラ
ジカル)が生ずる。この電子および正孔(又はラジカル
)が光触媒粒子内を拡散し、表面に達すると悪臭成分と
の間で電子の授受があり、悪臭成分が分解される。
このような本発明に係る脱臭剤によれば、悪臭成分ガス
が、吸着剤に吸着され、悪臭成分製吸着剤に吸着した状
態で光触媒において、悪臭成分を分解しているために、
光触媒−中独で悪臭成分を分解する場合に比l\、分解
効率が高くなるとともに、吸着効率を長時間維持できる
結果、脱臭効率が向」二ず21.、すなわち、紫外光が
照射されると、その光エネルギーにより吸着剤中に吸着
された悪臭成分が蒸発して、光触媒内の細孔に至り、分
解されるものである。
このような脱臭剤にさらに前記第2成分を加えると、光
触媒の分解効率が向」ニし、この結果脱臭効率を長時間
維持することができる。
上記脱臭剤の形状を前記のごとく多孔状にすることをよ
り、悪臭成分と脱臭剤との接触面積が大きくなり、脱臭
効率が向上する。
また上記脱臭剤に紫外線を照射することをより、悪臭成
分を高い分解効率のもので分解でき、その結果脱臭効果
の高い脱臭方法を提供できる。
また、上記脱臭剤の基本成分の混合物を焼結して多孔状
にする脱臭剤の製造方法によれば、脱臭剤と光触媒また
は光触媒と第2成分との混合物を一8= コーティングした場合は、光触媒等が吸着剤の表面にし
か存在しないことにより、吸着剤に吸着された悪臭成分
のうち光触媒等が存在していない内部に吸着された悪臭
成分は分解されずに残存してしまうのに対して、悪臭成
分をすべて分解することができる。
紫外線照射手段の周囲に上記脱臭剤を配置した脱臭装置
では、紫外光をすべて脱臭反応に利用することができる
ために脱臭効率が向」こする。
また上流側に上記脱臭剤を配置し、下流側に吸着剤を配
置した脱臭装置によれば、悪臭成分の分解生成物、例え
ば、硫黄、アルコール等の比較的有害な物質か下流の吸
着層で吸着できる。
さらに、このような脱臭装置を備えた冷蔵庫・空気調節
器の冷凍サイクル装置は、装置内を循環する空気の脱臭
を確実におこなうことができる。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について説明する。
(実施例1) 次に示す実施例は、本発明に係る脱臭剤を作成し、この
脱臭剤の吸着能力を試験した結果について示したもので
ある。
実施例脱臭剤1 含水酸化チタン(TiOア 30%)100gに酸化第
1錫19gを溶かした水溶液を添加して、よく混合する
。この混合ゾルに蒸溜水を添加して希釈し、コーティン
グ剤とする。このコーティング剤を活性炭ハニカム担体
(多孔質)(20X45X90)に3〜5回の回数に分
けてコーティングする。このコーテイング後は150℃
で乾燥する。乾燥後は300℃で2時間焼成して、脱臭
剤1とした。この脱臭剤は、活性炭担体に対し、TiO
2が30重量%、Sn○2が10重量%含有されている
ものである。
実施例脱臭剤2 含水チタン100gに蒸溜水を添加して希釈し、コーテ
ィング剤とする。このコーティング剤を活性炭ハニカム
担体に3〜5回に分けてコーティングする。このコーテ
イング後は150℃で乾燥する。乾燥後は300″Cで
2時間焼成して吸着剤2とした。この吸着剤は活性炭担
体に対し、TlO2を30重量%含有している。
実施例脱臭剤3〜5 脱臭剤1の調整において、酸化錫の添加量を種々変えて
脱臭剤3〜5を調整した。それぞれの脱臭剤中の酸化錫
の含有量は次の通りである。
脱臭剤3   TiO2−8nO2(1重量%)脱臭剤
4   TiO2−8nO2(5重量%)脱臭剤5  
 TiO2−8nO7(20重量%)比較例脱臭剤1 上記脱臭剤2の調整法において、含水チタンをコーティ
ングしない活性炭ハニカム担体を比較例脱臭剤1とした
実施例脱臭剤6〜20 塩化第1錫の代りに、それぞれ硝酸銅、硝酸ランタン、
モリブデン酸アンモニウム、硫酸亜鉛、塩化第2鉄、メ
タバナジン酸アンモニウム、硝酸ストロンチウム、硝酸
リン、塩化白金酸、硝酸マグネシウム、硝酸パラジウム
、硝酸アルミニウム、硝酸バリウム、硝酸セリウム、パ
ラタングステン酸アンモニウムを用いて実施例脱臭剤6
〜20&得た。
破過時間の測定 調整した上記脱臭剤を箱型ケースに設置し、箱型ケース
内に悪臭ガス成分があるジメチルサルファイド(500
ppmの模擬ガス)を流した。
ハニカム状の上記脱臭剤に模擬ガスを飽和吸着に達する
まで流して劣化させた後、4Wのキセノンランプで25
0nmの紫外光を照射させて、模擬ガスを分解、脱着さ
せた後、再び模擬ガスを流して、ジメチルサルファイド
の流出をガスクロマトグラフで分析した。
脱臭剤の能力は、光照射前後のジメチルサルファイドの
破過時間により求めた。したがって、破過時間が長く照
射前後の差の少ないほど分解活性が高いことになる。な
お、ここにおいて破過時間とは、横軸に時間をとり、縦
軸に悪臭成分ガスの吸着量(触媒1g当り)のグラフを
とった場合に、ある時間を境にして吸着量がプラトーに
なる場合の、その時間をいう。
破過時間の測定結果を次の第1表に示す。
このような第1表から判るように、脱臭剤1〜20は、
比較例脱臭剤1に比べて光照射後の分解が著しく、光照
射前の破過時間とほぼ同じとなった。このことから、本
実施例に係る脱臭剤は、分解活性が高く、脱臭能力が大
きいことが判る。しかも、脱臭能力が長時間維持できる
ものである。
また、上記第1表によれば、脱臭剤に光触媒単独にコー
ティングした場合(実施例脱臭剤2)に比べ、さらに第
2成分を添加した方が、脱臭効果が高いことがわかる。
(実施例2) この実施例では、脱臭剤の作成方法を終えて、作成され
た結果の吸着能力の試験をおこなった。
実施例脱臭剤21 被表面積1250rrr/gの活性炭と含水TiO2ゾ
ル(T i O230重量%含有)を混合し、これに粘
着剤であるPVA (ポリビニルアルコール)を5重量
%添加した。この混合物をハニカム状に成形した後、5
00℃で焼成し、実施例脱臭剤2」−とじた。最終のT
i○2含有量は20重量%である。
この脱臭剤に悪臭の模擬ガス(ジメチルサルファイド5
00ppm)を流通させてガスを吸着させながら、出口
ガスの濃度を分析した。出口ガスの濃度が500ppm
になる時間を測定し、これを飽和時間Tとした。はじめ
にかかった時間T。と、光照射して吸着ガスを分解後に
もう一度模擬ガスを吸着させたときの時間T1を次の第
2表に示す。
T、とT、が同じであることから、はじめに吸着された
ガスは光照射することですべて分解され、T1ではT。
と同じ量のガスが吸着されていることがわかる。なお、
吸着量は2%(対脱臭剤)であった。
比較例脱臭剤2 市販の活性炭ハニカムに含水T]02ゾル(Tj、02
30重量%を含有)を含浸によりコーティングした。こ
れを500℃で焼成し比較例脱臭剤2とした。最終のT
i○2含有量は20重量%である。含有して」二部実施
例脱臭剤21と同じ重量だけこの脱臭剤を用いて、前記
実施例脱臭剤2]−における操作と同様の方法により飽
和時間T。
とT1を測定した。Toの場合の飽和吸着量は2%であ
った。さらにT、測定後に光照射して吸着ガスを分解後
、模擬ガスを吸着させT2を測定した。
T3、T、の場合の飽和吸着量は1.5%であった。
T、、T、、T2を次の第2表に示す。Toに比較して
、T1、T2が減少していることから、−度ガスを吸着
させてこれを分解した後は、吸着量が比較例脱臭剤2て
は減っていることが判る。またT。
とT、が同じであることから、この脱臭剤中には常に定
量のガスが光照射では分解されずに残存していることが
判る。これは、活性炭ハニカムに光触媒成分をコーティ
ングすると、光触媒が存在しない活性炭部分が生じるの
に対して、前記実施例脱臭剤21では、光触媒と吸着剤
との混合物をハニカム状に成形しているため、光触媒と
吸着剤とが均一に接触して、吸着剤に吸着された悪臭ガ
ス成分を光触媒で確実に分解することができるためであ
る。
実施例脱臭剤22 実施例脱臭剤21と同様に活性炭と含水Ti○2ゾルを
混合し、これにPVAを添加した混合物のスラリーを、
金網に塗布して乾燥後、500℃で焼成し、板状脱臭剤
とした。実施例脱臭剤21と同じ重量だけこの脱臭剤を
用いて、同じ方法により、飽和時間T。−T、を測定し
た。このときの飽和吸着量は2%であった。このT。−
T、を第2表に示す。第2表から判るように脱臭剤の形
状が板状であっても、実施例脱臭剤21のハニカム状の
場合と同様の効果を有する。
以上本実施例では脱臭剤の形状としてハニカム状または
板状について説明したが、その他ペレット状に構成する
こともできる。この場合はペレッ1〜状の脱臭剤の複数
個を、一定の容器につめて、この容器に悪臭ガスを遵通
することをよって脱臭をおこなうものである。
(実施例3) 本実施例では紫外線照射手段の周囲に上記脱臭剤を配置
してなる脱臭装置の一実施例について説明する。
第1図はその一実施例に係る脱臭装置の横断面構成図を
示したものである。
第1−図において、箱型脱臭ケース1内には紫外線照射
手段としての紫外線ランプ2が設けられている。この紫
外線ランプ2は、外部からの空気導入経路の途中に設け
られてなり、この紫外線ランプ2の上流側及び下流側す
なわち紫外線ランプ2の正面および背面には、上記脱臭
剤が配置された脱臭剤層3が設けられている。この脱臭
剤層3の下流側には、吸気ファン4が設けられている。
このように構成された脱臭装置では、吸気ファン4の回
転により、悪臭ガスを含んでなる空気Aが、脱臭剤層3
を通過して悪臭ガス成分が吸着され、紫外線ランプ2の
作用により、分解される。
この結果脱臭された空気Cが、系外に供給されることに
なる。
」二部本実施例によれば、紫外線ランプ2からの紫外光
を、その正面と背面に設けられた脱臭剤層で効率よく利
用することができるために、脱臭効率が向−1ニすると
ともに、脱臭層3を2重に設けていることから、悪臭成
分を確実に吸着、分解して脱臭効果を長時間にわたって
維持することができる。
(実施例4) 本実施例では、」二部脱臭剤3の下流側に、吸着層4が
設けられた脱臭装置の一実施例について説明する。第2
図はその一実施例に係る脱臭装置の横断面構成図を示し
たものである。
第2図において、第1図と同一の部分については同一の
符号を付しその説明を省略する。第2図に示す脱臭装置
では、紫外線ランプ2の下流側に」二部脱臭剤層3を設
け、さらにその下流に吸着層20が設けられている。本
実施例では、紫外線ランプ2の照射により、脱臭剤層3
の光触媒が励起されて悪臭成分が分解し、分解ガスBが
生成する。
この分解ガスBは、下流側の吸着層4においてほぼ完全
に吸着され、確実に脱臭された空気Cとなる。
空気中に含まれる悪臭成分として、イオウ化合物、窒素
化合物、有機化合物等があるが、これらは前述のごとく
脱臭剤層3で分解される。この分解後のガスは悪臭でな
い半面、ときによっては有害な場合もある。そこで、下
流側に吸着層20を改番づることにより、悪臭成分の分
解生成物をほぼ完全にここで吸着することができる。し
たがって、完全に脱臭されることになる。
なお、紫外線ランプ2の照射は、間欠点燈と、連続点燈
と、あるいは外部より人為的に点燈するように構成する
こともてきる。
次に上記第2図で説明した脱臭装置を用いて、脱臭性能
を調べた。この試験は、悪臭カスの模擬ガス(ジメチル
サルファイド500ppm  N2)を用いた。第;3
図にその結果を示す。
第3図に示すように、模擬ガスを空気脱臭装置に流通さ
せると、時間の経過に従い模擬ガス濃度は増加し、遂に
は飽和吸着に対して流出する。流出後のガスの分析は、
ガスクロマトグラフを用いた。次に、紫外線ランプを照
射すると、第2図に示すごとく、吸着層出口の模擬ガス
が長時間にわたって流出せず、本実施例による脱臭装置
の脱臭性能が良好であることが判った。
〔発明の効果〕
以」二説明したように、本発明に係る吸着剤と光触媒と
を含んでなる脱臭剤によれば、悪臭成分ガスを吸着し、
次いでこれを分解することができるために、脱臭効率が
向上し、かつ脱臭効果を長期間にわたって維持すること
ができる。
また、光触媒の活性を向」ニさせる第2成分が添加され
た本発明によれば、悪臭成分の分解効率がさらに向上し
、脱臭効果を長期にわたって維持することができる。
また、上記脱臭剤が多孔状に形成されてなる本発明によ
れば、脱臭剤中に空気の流通が良好になり、かつ悪臭成
分ガスと脱臭剤との接触面積が向上し、脱臭効果が向上
する。
また、脱臭剤の各成分の混合物を焼結して多孔状に形成
してなる本発明によれば、吸着剤と光触媒とが均一に混
合するために、吸着した悪臭成分を完全に分解すること
ができる。
また、」二部このような脱臭剤に紫外線を照射してなる
本発明に係る脱臭方法によれば、悪臭成分ガスを長期に
わたって効率よく分解し、脱臭することができる。
また、空気循環経路に設けられた紫外線照射手段の周囲
に、上記脱臭剤を配置した本発明によれば、紫外線の脱
臭剤に当たる面積が大きくなり、脱臭効率が向上する。
また、空気循環経路の」1流側に」−記脱臭剤を設け、
下流側に吸着剤を配置した本発明にかかる脱臭装置によ
れば、吸着剤で分解された悪臭成分ガスの分解生成物を
、吸着剤でほぼ完全に除去できる結果、完全な脱臭をお
こなうことができる。
さらに、このような脱臭装置を備えた冷蔵庫、空気調和
器等の冷凍サイクル装置に係る本発明によれば、このよ
うな装置の脱臭を完全におこなうことができるため、装
置の利用性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る脱臭装置の一実施例を示す横断
面構成図、第2図はこの脱臭装置の他の実施例柘示す横
断面構成図、第3図は第2図の装置を用いて脱臭性能を
調べた結果を示すグラフである。 1・・・箱型脱臭ケース 2・・紫外線ランプ 3・・脱臭剤層 4・・・吸気ファン 20・・・吸気層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、吸着剤と光触媒とを含んでなることを特徴とする脱
    臭剤。 2、吸着剤と、光触媒と、II_a・III_a・IV_a・
    V_a・VI_a・VIII・ I _b・II_b・III_b・I
    V_b族の少なくとも1種の元素を含有する第2成分と
    、を含んでなることを特徴とする脱臭剤。 3、前記吸着剤が、活性炭・アルミナ・シリカの少なく
    とも1種であり、前記光触媒が、TiO_2・SnO_
    2・ZnOの少なくとも1種であり、前記第2成分は、
    Cu・Zn・La・Mo・V・Sr・Ag・Ba・Ce
    ・Sn・Fe・W・Pt・Pd・Mg・Alの少なくと
    も1種を含有するものであることを特徴とする請求項1
    または2記載の脱臭剤。 4、前記光触媒が5〜50重量%含有されてなることを
    特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の脱臭剤。 5、前記第2成分が、0.5〜40重量%含有されてな
    ることを特徴とする請求項2または3記載の脱臭剤。 6、多孔状に形成されてなることを特徴とする請求項1
    〜5のいがれかに記載の脱臭剤。7、混合物を焼結して
    多孔状に形成することを特徴とする請求項1〜6のいが
    れかに記載の脱臭剤の製造方法。 8、請求項1〜6のいがれかに記載の脱臭剤に紫外線を
    照射することを特徴とする脱臭方法。 9、空気循環経路に設けられた紫外線照射手段の周囲に
    、請求項1〜6のいがれかに記載の脱臭剤が配置されて
    なることを特徴とする脱臭装置。 10、紫外線照射手段が空気循環経路に設けられてなり
    、かつ該空気循環経路の上流側に請求項1〜6のいがれ
    かに記載の脱臭剤が配置され、下流側に吸着剤が配置さ
    れたことを特徴とする脱臭装置。 11、請求項10または11記載の脱臭装置を備えた冷
    蔵庫、空気調整器等の冷凍サイクル装置。
JP63047141A 1988-02-29 1988-02-29 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置 Expired - Fee Related JPH06102155B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63047141A JPH06102155B2 (ja) 1988-02-29 1988-02-29 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63047141A JPH06102155B2 (ja) 1988-02-29 1988-02-29 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01218635A true JPH01218635A (ja) 1989-08-31
JPH06102155B2 JPH06102155B2 (ja) 1994-12-14

Family

ID=12766831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63047141A Expired - Fee Related JPH06102155B2 (ja) 1988-02-29 1988-02-29 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06102155B2 (ja)

Cited By (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01288321A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
JPH0398931U (ja) * 1990-01-23 1991-10-15
JPH04174679A (ja) * 1990-11-06 1992-06-22 Nippon Zeon Co Ltd 光反応性有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
JPH04215841A (ja) * 1990-03-01 1992-08-06 Nippon Zeon Co Ltd 有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
JPH04117644U (ja) * 1991-03-29 1992-10-21 アイシン精機株式会社 脱臭装置
JPH0665012A (ja) * 1992-08-19 1994-03-08 Agency Of Ind Science & Technol 抗菌抗カビ性セラミックス及びその製造方法
JPH06288672A (ja) * 1991-09-26 1994-10-18 Gold Star Co Ltd 冷蔵庫の青果物新鮮度維持装置
JPH0866635A (ja) * 1993-12-14 1996-03-12 Toto Ltd 光触媒薄膜及びその形成方法
EP0719579A1 (en) * 1994-12-26 1996-07-03 Takeda Chemical Industries, Ltd. Catalytic compositions and a deodorizing method using the same
US5541096A (en) * 1993-07-12 1996-07-30 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Photocatalyst and process for purifying water with same
US5616532A (en) * 1990-12-14 1997-04-01 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
EP0780158A1 (en) * 1995-12-21 1997-06-25 Asahi Glass Company Ltd. Photocatalyst composition and process for its production, and photocatalyst composition attached substrate
EP0590477B1 (en) * 1992-09-22 1997-07-02 Takenaka Corporation Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity
JPH09196399A (ja) * 1996-01-22 1997-07-29 Toshiba Corp 空気調和機
JPH09231821A (ja) * 1995-12-22 1997-09-05 Toto Ltd 照明器具及び照度維持方法
EP0812619A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-17 Eastman Kodak Company Inorganic transparent photocatalytic composition
JPH10167727A (ja) * 1995-10-26 1998-06-23 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk 変性酸化チタンゾル、光触媒組成物及びその形成剤
US5790934A (en) * 1996-10-25 1998-08-04 E. Heller & Company Apparatus for photocatalytic fluid purification
US5849200A (en) * 1993-10-26 1998-12-15 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
JPH11179118A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Aqueous Reserch:Kk 空気清浄用フィルタ及びこれを用いた空気清浄器
US5939194A (en) * 1996-12-09 1999-08-17 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material
JPH11300150A (ja) * 1998-04-22 1999-11-02 Aqueous Reserch:Kk 空気清浄用フィルタ及びこれを用いた空気清浄器
US6013372A (en) * 1995-03-20 2000-01-11 Toto, Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
US6090489A (en) * 1995-12-22 2000-07-18 Toto, Ltd. Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface
US6165256A (en) * 1996-07-19 2000-12-26 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifiable coating composition
JP2001088247A (ja) * 1996-05-31 2001-04-03 Toto Ltd 防汚性部材および防汚性コーティング組成物
US6277346B1 (en) 1993-06-28 2001-08-21 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Photocatalyst composite and process for producing the same
JP2002001105A (ja) * 2000-06-23 2002-01-08 Shinto Fine Co Ltd 脱臭組成物
KR100357765B1 (ko) * 1999-11-25 2002-10-25 (주)바이오세라 광반도성 탈취/항균 필터의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 광반도성 탈취/항균필터
EP1417978A1 (en) * 2000-12-28 2004-05-12 Toshiba Lighting & Technology Corporation Deodorizing device
KR100436109B1 (ko) * 2001-06-25 2004-06-23 세신전자(주) 광효율을 향상시킨 실내 공기 정화용 저온 촉매와 광촉매 결합 시스템
US6779860B1 (en) 1998-11-12 2004-08-24 Seiko Epson Corporation Ink-jet recording apparatus
US6830785B1 (en) 1995-03-20 2004-12-14 Toto Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
JP2005254102A (ja) * 2004-03-10 2005-09-22 Dainippon Printing Co Ltd 光触媒含有組成物および光触媒含有層
JP2007289955A (ja) * 2007-05-25 2007-11-08 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 光触媒体およびそれを形成するための塗料組成物のセット
WO2008105295A1 (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Nagamune Industrial Co., Ltd. 流体浄化装置
KR100980322B1 (ko) * 2009-01-29 2010-09-07 서울대학교산학협력단 가시광 응답형 산화물 광촉매 화합물 및 그 제조방법
US8148289B2 (en) 2007-04-18 2012-04-03 Panasonic Corporation Titanium oxide photocatalyst and method for producing the same
US8367050B2 (en) 2007-04-18 2013-02-05 Panasonic Corporation Photocatalytic material and photocatalytic member and purification device using the photocatalytic material
CN103949276A (zh) * 2014-04-11 2014-07-30 广州市胜佳环保科技有限公司 超分子免光触媒及其制备方法
JP2016205684A (ja) * 2015-04-21 2016-12-08 日立アプライアンス株式会社 冷蔵庫
JP2016221447A (ja) * 2015-05-29 2016-12-28 アンデス電気株式会社 吸着材‐光触媒ハイブリッド型脱臭材料、その製造方法、脱臭フィルター、脱臭材およびその製造方法
JP2017080727A (ja) * 2015-10-30 2017-05-18 Toto株式会社 光触媒塗装体
CN108452847A (zh) * 2018-03-21 2018-08-28 湖南工程学院 一种稀土掺杂SnO2/TS-1的纳米光催化材料的合成方法及应用
CN113069915A (zh) * 2020-01-03 2021-07-06 湖南巨高屾科技发展有限公司 一种用于养殖场臭气处理的多功能型除臭剂

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4570637B2 (ja) * 2007-04-06 2010-10-27 石原産業株式会社 可視光応答型光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた光触媒体
KR101389378B1 (ko) * 2012-07-10 2014-04-29 한국화학연구원 광활성금속 산화물이 함침된 다공성 금속산화물-탄소 복합체, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 광촉매

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60118236A (ja) * 1983-11-30 1985-06-25 Giken Kogyo Kk 光酸化触媒成形体
JPS60187322A (ja) * 1984-03-06 1985-09-24 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 廃棄物の浄化方法
JPS60235637A (ja) * 1984-05-09 1985-11-22 Nippon Kasei Kk ガス用吸着剤の製造法
JPS61151738U (ja) * 1985-03-12 1986-09-19
JPS624341U (ja) * 1985-06-24 1987-01-12
JPS62176538A (ja) * 1986-01-31 1987-08-03 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 脱臭剤
JPS62252875A (ja) * 1986-04-25 1987-11-04 株式会社日立製作所 冷蔵庫
JPS62260717A (ja) * 1986-05-07 1987-11-13 Shiseido Co Ltd 光半導体およびその製法
AU7602887A (en) * 1986-07-22 1988-01-28 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Coating photoactive metal oxides onto substrates
JPH01139139A (ja) * 1987-11-26 1989-05-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 脱臭・殺菌装置
JPH01218622A (ja) * 1988-02-26 1989-08-31 Agency Of Ind Science & Technol 空気中低濃度窒素酸化物の除去方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56164039A (en) * 1980-05-21 1981-12-16 Shigeru Komoshita Execution of glass lining

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60118236A (ja) * 1983-11-30 1985-06-25 Giken Kogyo Kk 光酸化触媒成形体
JPS60187322A (ja) * 1984-03-06 1985-09-24 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 廃棄物の浄化方法
JPS60235637A (ja) * 1984-05-09 1985-11-22 Nippon Kasei Kk ガス用吸着剤の製造法
JPS61151738U (ja) * 1985-03-12 1986-09-19
JPS624341U (ja) * 1985-06-24 1987-01-12
JPS62176538A (ja) * 1986-01-31 1987-08-03 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 脱臭剤
JPS62252875A (ja) * 1986-04-25 1987-11-04 株式会社日立製作所 冷蔵庫
JPS62260717A (ja) * 1986-05-07 1987-11-13 Shiseido Co Ltd 光半導体およびその製法
AU7602887A (en) * 1986-07-22 1988-01-28 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Coating photoactive metal oxides onto substrates
JPH01139139A (ja) * 1987-11-26 1989-05-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 脱臭・殺菌装置
JPH01218622A (ja) * 1988-02-26 1989-08-31 Agency Of Ind Science & Technol 空気中低濃度窒素酸化物の除去方法

Cited By (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0512967B2 (ja) * 1988-05-13 1993-02-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd
JPH01288321A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
JPH0398931U (ja) * 1990-01-23 1991-10-15
JPH04215841A (ja) * 1990-03-01 1992-08-06 Nippon Zeon Co Ltd 有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
JPH04174679A (ja) * 1990-11-06 1992-06-22 Nippon Zeon Co Ltd 光反応性有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
JP2618287B2 (ja) * 1990-11-06 1997-06-11 日本ゼオン株式会社 光反応性有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
US5616532A (en) * 1990-12-14 1997-04-01 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
JPH04117644U (ja) * 1991-03-29 1992-10-21 アイシン精機株式会社 脱臭装置
JPH06288672A (ja) * 1991-09-26 1994-10-18 Gold Star Co Ltd 冷蔵庫の青果物新鮮度維持装置
JPH0665012A (ja) * 1992-08-19 1994-03-08 Agency Of Ind Science & Technol 抗菌抗カビ性セラミックス及びその製造方法
EP0590477B1 (en) * 1992-09-22 1997-07-02 Takenaka Corporation Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity
JP2009160581A (ja) * 1993-06-28 2009-07-23 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 光触媒体およびその製造方法
US6277346B1 (en) 1993-06-28 2001-08-21 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Photocatalyst composite and process for producing the same
US6498000B2 (en) 1993-06-28 2002-12-24 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Photocatalyst composite and process for producing the same
JP4695700B2 (ja) * 1993-06-28 2011-06-08 石原産業株式会社 光触媒体およびその製造方法
US5541096A (en) * 1993-07-12 1996-07-30 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Photocatalyst and process for purifying water with same
US5854169A (en) * 1993-10-26 1998-12-29 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
US5849200A (en) * 1993-10-26 1998-12-15 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
US6093676A (en) * 1993-10-26 2000-07-25 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
JPH0866635A (ja) * 1993-12-14 1996-03-12 Toto Ltd 光触媒薄膜及びその形成方法
CN1101726C (zh) * 1994-12-26 2003-02-19 武田药品工业株式会社 催化剂组合物以及使用它们的除臭方法
US5872072A (en) * 1994-12-26 1999-02-16 Takeda Chemcial Industries, Ltd. Catalytic compositions and a deodorizing method using the same
EP0719579A1 (en) * 1994-12-26 1996-07-03 Takeda Chemical Industries, Ltd. Catalytic compositions and a deodorizing method using the same
US6830785B1 (en) 1995-03-20 2004-12-14 Toto Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
US6013372A (en) * 1995-03-20 2000-01-11 Toto, Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
JPH10167727A (ja) * 1995-10-26 1998-06-23 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk 変性酸化チタンゾル、光触媒組成物及びその形成剤
EP0780158A1 (en) * 1995-12-21 1997-06-25 Asahi Glass Company Ltd. Photocatalyst composition and process for its production, and photocatalyst composition attached substrate
US6090489A (en) * 1995-12-22 2000-07-18 Toto, Ltd. Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface
JP2001089752A (ja) * 1995-12-22 2001-04-03 Toto Ltd 光半導体の光励起に応じて親水化される部材及びその製造方法
JPH09231821A (ja) * 1995-12-22 1997-09-05 Toto Ltd 照明器具及び照度維持方法
JPH09196399A (ja) * 1996-01-22 1997-07-29 Toshiba Corp 空気調和機
US6524664B1 (en) 1996-03-21 2003-02-25 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material
JP2001088247A (ja) * 1996-05-31 2001-04-03 Toto Ltd 防汚性部材および防汚性コーティング組成物
FR2749777A1 (fr) * 1996-06-12 1997-12-19 Kodak Pathe Composition photocatalytique transparente inorganique
US5972831A (en) * 1996-06-12 1999-10-26 Eastman Kodak Company Inorganic transparent photocatalytic composition
EP0812619A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-17 Eastman Kodak Company Inorganic transparent photocatalytic composition
US6165256A (en) * 1996-07-19 2000-12-26 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifiable coating composition
US5790934A (en) * 1996-10-25 1998-08-04 E. Heller & Company Apparatus for photocatalytic fluid purification
US5939194A (en) * 1996-12-09 1999-08-17 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material
JPH11179118A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Aqueous Reserch:Kk 空気清浄用フィルタ及びこれを用いた空気清浄器
JPH11300150A (ja) * 1998-04-22 1999-11-02 Aqueous Reserch:Kk 空気清浄用フィルタ及びこれを用いた空気清浄器
US6779860B1 (en) 1998-11-12 2004-08-24 Seiko Epson Corporation Ink-jet recording apparatus
KR100357765B1 (ko) * 1999-11-25 2002-10-25 (주)바이오세라 광반도성 탈취/항균 필터의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 광반도성 탈취/항균필터
JP2002001105A (ja) * 2000-06-23 2002-01-08 Shinto Fine Co Ltd 脱臭組成物
EP1417978A1 (en) * 2000-12-28 2004-05-12 Toshiba Lighting & Technology Corporation Deodorizing device
EP1417978A4 (en) * 2000-12-28 2004-11-24 Toshiba Lighting & Technologyc AIR FRESHENER
KR100436109B1 (ko) * 2001-06-25 2004-06-23 세신전자(주) 광효율을 향상시킨 실내 공기 정화용 저온 촉매와 광촉매 결합 시스템
JP2005254102A (ja) * 2004-03-10 2005-09-22 Dainippon Printing Co Ltd 光触媒含有組成物および光触媒含有層
WO2008105295A1 (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Nagamune Industrial Co., Ltd. 流体浄化装置
US8148289B2 (en) 2007-04-18 2012-04-03 Panasonic Corporation Titanium oxide photocatalyst and method for producing the same
US8367050B2 (en) 2007-04-18 2013-02-05 Panasonic Corporation Photocatalytic material and photocatalytic member and purification device using the photocatalytic material
US8518848B2 (en) 2007-04-18 2013-08-27 Panasonic Corporation Titanium oxide photocatalyst and method for producing the same
JP4629700B2 (ja) * 2007-05-25 2011-02-09 石原産業株式会社 光触媒体およびそれを形成するための塗料組成物のセット
JP2007289955A (ja) * 2007-05-25 2007-11-08 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 光触媒体およびそれを形成するための塗料組成物のセット
KR100980322B1 (ko) * 2009-01-29 2010-09-07 서울대학교산학협력단 가시광 응답형 산화물 광촉매 화합물 및 그 제조방법
CN103949276A (zh) * 2014-04-11 2014-07-30 广州市胜佳环保科技有限公司 超分子免光触媒及其制备方法
JP2016205684A (ja) * 2015-04-21 2016-12-08 日立アプライアンス株式会社 冷蔵庫
JP2016221447A (ja) * 2015-05-29 2016-12-28 アンデス電気株式会社 吸着材‐光触媒ハイブリッド型脱臭材料、その製造方法、脱臭フィルター、脱臭材およびその製造方法
JP2017080727A (ja) * 2015-10-30 2017-05-18 Toto株式会社 光触媒塗装体
CN108452847A (zh) * 2018-03-21 2018-08-28 湖南工程学院 一种稀土掺杂SnO2/TS-1的纳米光催化材料的合成方法及应用
CN113069915A (zh) * 2020-01-03 2021-07-06 湖南巨高屾科技发展有限公司 一种用于养殖场臭气处理的多功能型除臭剂

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06102155B2 (ja) 1994-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01218635A (ja) 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置
JP4431700B2 (ja) 一酸化炭素除去用触媒及び該触媒を用いた一酸化炭素除去方法
CN1724138A (zh) 含纳米氧化锌微粒的多孔炭吸附剂及其制备方法和用途
JP2002153734A (ja) 亜酸化窒素分解触媒、その製造方法及び亜酸化窒素の分解方法
KR101762718B1 (ko) 다공성 구리-망간 필터메디아 및 그 제조방법
JP4119974B2 (ja) 一酸化炭素除去用触媒複合体及びそれを用いた一酸化炭素除去方法
Shelimov et al. Enhancement effect of TiO2 dispersion over alumina on the photocatalytic removal of NOx admixtures from O2–N2 flow
CN112337481B (zh) 一种能够同时脱除氰化氢和氨气的催化剂在处理含氰化氢和氨气的尾气中的应用
JP3799945B2 (ja) 常温浄化触媒およびその使用方法
JP2691751B2 (ja) 触媒構造体及びその製造方法と装置
JP3227373B2 (ja) 光触媒を用いた空気浄化塗料
KR960008937B1 (ko) 탈취촉매체 및 그 제조방법 및 그 촉매체를 사용한 탈취장치
JP2000254449A (ja) 有害又は臭気ガス分解用基材及び装置
JP3722866B2 (ja) 疎水性脱臭材およびその再生方法
JP4904695B2 (ja) 脱臭体および脱臭体の製造方法およびそれを用いた脱臭装置
JP4780490B2 (ja) 活性炭フィルタ
CN110302830A (zh) 高湿度环境下的VOCs净化用分子筛基催化剂及其制备方法与应用
JP3689754B2 (ja) 光触媒材および空気浄化膜
JP2001090214A (ja) 有害物質の吸着分解能を有する建築材料
JPH07155611A (ja) 悪臭物質除去用触媒と除去方法
JPH0790148B2 (ja) 有害物質除去フィルター及びその製造方法
JP3470496B2 (ja) オゾンによる脱臭処理方法
JPH09154927A (ja) 脱臭体
KR102454332B1 (ko) 공기 청정기
WO2022230343A1 (ja) 臭気物質分解剤、臭気物質分解剤を備えた物品およびそれを用いた臭気物質分解方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees