JP7342629B2 - 試料成分推定方法、試料成分推定装置、試料成分推定プログラム、学習方法および学習プログラム - Google Patents
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Description
図1は、本実施の形態に従う試料成分推定装置を備えた分析システムの全体構成を示す図である。本実施の形態に従う試料成分推定装置は、試料の状態分析を行なう装置であって、X線分析装置により取得された試料の特性X線スペクトルを用いて試料に含まれる分析対象元素の化学結合状態を推定するように構成される。
X線分析装置は、波長分散型の分光器(WDS:Wavelength Dispersive Spectrometer)を有しており、例えば、試料に電子線を照射する電子プローブマイクロアナライザ(EPMA:Electron Probe Micro Analyzer)である。なお、X線分析装置は、EPMAに限定されるものではなく、試料にX線を照射してWDSにより特性X線を分光する蛍光X線分析装置であってもよい。
(試料成分推定装置のハードウェア構成)
試料成分推定装置200は、CPU20と、メモリ22と、通信I/F24と、操作部26と、表示部28とを備える。メモリ22は、図示しないROMおよびRAMを含む。
図2は、試料成分推定装置200の機能構成の一例を示すブロック図である。
図2に示す機能構成において、スペクトル生成器モデル40は、学習部38における学習処理が施された学習済みモデルである。スペクトル生成器モデル40は「第2の学習済みモデル」の一実施例に対応し、学習部38は「第2の学習部」の一実施例に対応する。識別器モデル44は、学習部42における学習処理が施された学習済みモデルである。識別器モデル44は「第1の学習済みモデル」の一実施例に対応し、学習部42は「第1の学習部」の一実施例に対応する。以下、図6から図8を参照して、学習部38および学習部42の機能構成について概略的に説明する。
図6を参照して、学習部38は、学習用データ取得部50と、前処理部52と、学習処理部54と、出力部56とを含む。これらの各機能は、例えば、試料成分推定装置200のCPU20がメモリ22に格納されたプログラムを実行することによって実現される。なお、これらの機能の一部または全部はハードウェアで実現されるように構成されていてもよい。
以下、本実施の形態に従う試料成分推定装置200を用いた試料成分推定処理の実施例について説明する。本実施例では、分析対象元素を鉄とし、試料に含まれる鉄の化学結合状態を推定する。鉄の化学結合状態として、鉄(Fe)、酸化鉄(ウスタイト(FeO)、ヘマタイト(Fe2O3)、マグネタイト(Fe3O4))および、硫化鉄(FeS2)の計5種類の化合物種を識別する場合を想定する。
図11は、本実施例によるモデルの学習処理の手順を説明するためのフローチャートである。図11のフローチャートは、主に学習部38および学習部42(図2参照)により実行される。
図12は、本実施例による試料S中の分析対象元素の化学結合状態の識別処理の手順を説明するためのフローチャートである。図12のフローチャートは、スペクトル取得部30、スペクトル整形部32、化合物種識別部34および表示制御部36に(図2参照)より実行される。
以下、本実施の形態に従う試料成分推定装置および分析システムのその他の構成例について説明する。
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
Claims (11)
- 波長分散型のX線分析装置により測定された試料のスペクトルを取得するステップと、
前記試料の分析対象元素および、前記分析対象元素に対応する入力波長範囲を特定するステップと、
前記試料のスペクトルのうち前記入力波長範囲のスペクトルを第1の学習済みモデルに入力し、前記試料中の前記分析対象元素の化学結合状態を推定するステップとを備え、
前記入力波長範囲のスペクトルから高次線ピーク成分を除去することにより、整形スペクトルを取得するステップをさらに備え、
前記化学結合状態を推定するステップは、前記整形スペクトルを前記第1の学習済みモデルに入力するステップを含む、試料成分推定方法。 - 前記整形スペクトルを取得するステップは、前記入力波長範囲のスペクトルを第2の学習済みモデルに入力し、前記第2の学習済みモデルから前記整形スペクトルを出力させるステップを含む、請求項1に記載の試料成分推定方法。
- 前記第1の学習済みモデルは、既知の化合物種のスペクトルと前記化合物種との組を教師データとして用いた学習処理により作成される、請求項1または2に記載の試料成分推定方法。
- 前記第2の学習済みモデルは、前記高次線ピーク成分を含む第1のスペクトルと前記第1のスペクトルから前記高次線ピーク成分を除去した前記整形スペクトルとの組および、前記高次線ピーク成分を含まない第2のスペクトルと前記第2のスペクトルからなる前記整形スペクトルとの組を教師データとして用いた学習処理により作成される、請求項2に記載の試料成分推定方法。
- 前記整形スペクトルを取得するステップは、前記高次線ピーク成分にフィッティングさせた波形データを、前記入力波長範囲のスペクトルから差し引くことにより、前記整形スペクトルを取得するステップを含む、請求項1に記載の試料成分推定方法。
- 波長分散型のX線分析装置により測定された試料のスペクトルを取得するスペクトル取得部と、
前記試料の分析対象元素および、前記分析対象元素に対応する入力波長範囲を特定する入力部と、
前記試料のスペクトルのうち前記入力波長範囲のスペクトルを第1の学習済みモデルに入力し、前記試料中の前記分析対象元素の化学結合状態を推定する化合物種識別部と、
推定した前記化学結合状態を表示する表示部とを備え、
前記入力波長範囲のスペクトルから高次線ピーク成分を除去することにより、整形スペクトルを取得するスペクトル整形部をさらに備え、
前記化合物種識別部は、前記整形スペクトルを前記第1の学習済みモデルに入力する、試料成分推定装置。 - 既知の化合物種のスペクトルと前記化合物種との組を教師データとして用いた学習処理により、前記第1の学習済みモデルを作成する第1学習部をさらに備える、請求項6に記載の試料成分推定装置。
- 前記スペクトル整形部は、前記入力波長範囲のスペクトルを第2の学習済みモデルに入力し、前記第2の学習済みモデルから前記整形スペクトルを出力させるように構成され、
前記高次線ピーク成分を含む第1のスペクトルと前記第1のスペクトルから前記高次線ピーク成分を除去した前記整形スペクトルとの組および、前記高次線ピーク成分を含まない第2のスペクトルと前記第2のスペクトルからなる前記整形スペクトルとの組を教師データとして用いた学習処理により、前記第2の学習済みモデルを作成する第2学習部をさらに備える、請求項6に記載の試料成分推定装置。 - コンピュータにより実行される試料成分推定プログラムであって、
波長分散型のX線分析装置により測定された試料のスペクトルを取得するステップと、
前記試料の分析対象元素および、前記分析対象元素に対応する入力波長範囲を特定するステップと、
前記試料のX線スペクトルのうち前記入力波長範囲のスペクトルを第1の学習済みモデルに入力し、前記試料中の前記分析対象元素の化学結合状態を推定するステップとをコンピュータに実行させ、
前記入力波長範囲のスペクトルから高次線ピーク成分を除去することにより、整形スペクトルを取得するステップをさらに備え、
前記整形スペクトルを取得するステップは、前記入力波長範囲のスペクトルを第2の学習済みモデルに入力し、前記第2の学習済みモデルから前記整形スペクトルを出力させるステップを含み、
前記化学結合状態を推定するステップは、前記整形スペクトルを前記第1の学習済みモデルに入力するステップを含む、試料成分推定プログラム。 - 請求項2に記載される試料成分推定方法に用いられる前記第1の学習済みモデルおよび前記第2の学習済みモデルを生成するための学習方法であって、
既知の化合物種のスペクトルと前記化合物種との組を教師データとして用いた学習処理により、前記第1の学習済みモデルを作成するステップと、
前記高次線ピーク成分を含む第1のスペクトルと前記第1のスペクトルから前記高次線ピーク成分を除去した前記整形スペクトルとの組および、前記高次線ピーク成分を含まない第2のスペクトルと前記第2のスペクトルからなる前記整形スペクトルとの組を教師データとして用いた学習処理により、前記第2の学習済みモデルを作成するステップとを備
える、学習方法。 - 請求項9に記載される試料成分推定プログラムに用いられる前記第1の学習済みモデルおよび前記第2の学習済みモデルを生成するための学習プログラムであって、
前記学習プログラムは、コンピュータに、
既知の化合物種のスペクトルと前記化合物種との組を教師データとして用いた学習処理により、前記第1の学習済みモデルを作成するステップと、
前記高次線ピーク成分を含む第1のスペクトルと前記第1のスペクトルから前記高次線ピーク成分を除去した前記整形スペクトルとの組および、前記高次線ピーク成分を含まない第2のスペクトルと前記第2のスペクトルからなる前記整形スペクトルとの組を教師データとして用いた学習処理により、前記第2の学習済みモデルを作成するステップとを実行させる、学習プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019201388A JP7342629B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 試料成分推定方法、試料成分推定装置、試料成分推定プログラム、学習方法および学習プログラム |
US17/006,333 US20210131983A1 (en) | 2019-11-06 | 2020-08-28 | Sample Component Determination Method, Sample Component Determination Apparatus, Learning Method and Computer Readable Non-transitory Recording Medium |
CN202011061191.4A CN112782204A (zh) | 2019-11-06 | 2020-09-30 | 试样成分估计方法及其装置、学习方法以及记录介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019201388A JP7342629B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 試料成分推定方法、試料成分推定装置、試料成分推定プログラム、学習方法および学習プログラム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021076411A JP2021076411A (ja) | 2021-05-20 |
JP2021076411A5 JP2021076411A5 (ja) | 2022-03-22 |
JP7342629B2 true JP7342629B2 (ja) | 2023-09-12 |
Family
ID=75687400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019201388A Active JP7342629B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 試料成分推定方法、試料成分推定装置、試料成分推定プログラム、学習方法および学習プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210131983A1 (ja) |
JP (1) | JP7342629B2 (ja) |
CN (1) | CN112782204A (ja) |
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2020
- 2020-08-28 US US17/006,333 patent/US20210131983A1/en active Pending
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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