JP7241820B2 - エチレン系ポリマーを生成するための高圧フリーラジカル重合 - Google Patents

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本出願は、２０１６年６月２４日に出願された欧州特許出願第１６３８２２９８．４号
に対する優先権を主張する。

低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）は、高圧フリーラジカル重合プロセスによって生成さ
れる。重合は、１０００バールの圧力レベルを超える圧力条件下で行われる。これらの高
い運転圧力要求は、特殊な高圧ポンプおよび往復動式の圧縮機を必要とする。二次圧縮機
システムは、単一または複数の（電気）モータによって駆動される単一または複数の圧縮
機のフレームからなり得る。プランジャ圧縮機の往復動特性のために、各シリンダは、ク
ランクシャフトの１回転につき、非定常的かつパルス状の流れを与え、圧縮段階の排出部
で脈動および潜在的に振動をもたらす。この排出部における脈動および振動レベルは、以
下、ａ）シリンダ出力を組み合わせて供給流を形成すること、ｂ）結合されたシリンダ出
力を位相調整すること、ｃ）供給または吸引ラインを形成すること、ｄ）レイアウトを形
成し、それぞれの圧縮シリンダの排出ラインおよび組合せされた排出ヘッダ（複数可）の
寸法を選択すること、ｅ）圧縮排出ラインおよびヘッダ内の開口部の位置決めおよびサイ
ジング、ならびに他の手段のうちの１つ以上によって、低減および管理され得る。圧縮シ
ステム内およびその周囲での脈動および振動を防止および低減するための吸引、段間、お
よび排出システムの手段および設計を識別するために、音響学的および機械的研究を行う
ことが強く推奨される。例えば、以下の参考文献を参照されたい。Ｅ．Ｇｉａｃｏｍｅｌ
ｌｉ ｅｔ ａｌ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＰＶＰ ２００６（ＰＶＰ２００６
－ＩＣＰＶＴ１１－９３２３４），Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｖｅｓｓｅｌｓ ａｎｄ ｐｉｐ
ｉｎｇ，２３－２７ Ｊｕｌｙ ２００６，Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，ＢＣ，Ｃａｎａｄａ；
およびＣ．Ｍａｇｇｉ ｅｔ ａｌ；ＧＥ Ｏｉｌ＆Ｇａｓ（ＧＥＡ３２０３１（０８／
２０１５）：Ｅｎｈａｎｃｉｎｇ ｔｈｅ ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｈｙｐｅｒ ｃｏｍｐ
ｒｅｓｓｏｒ ｓｙｓｔｅｍ ｃｏｍｐｒｅｓｓｏｒｓ ａｎｄ ｒｅｌａｔｅｄ ＬＤ
ＰＥ ｐｌａｎｔ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ．

低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）は、高圧および高温でオートクレーブおよび／または
管状反応器で生成される。高圧フリーラジカル重合は、以下の参考文献に開示されている
。米国特許第８，４４５，６０６号、第４，１３５，０４４号、第７，５８２，７０９号
、およびＪＰ０５０５３４４２２（要約）。ＵＳ９，１２０，８８０は、狭いＭＷＤ生成
物および広いＭＷＤ生成物を高転化率で製造するために反応器入口上の一次圧縮機から得
られるエチレン系供給流を分配することの重要性を示している。プロセス効率および生成
物の性能は、一次圧縮機から得られるエチレン系供給流の分配を、反応器の入口上のＣＴ
Ａ補給の分配と組み合わせることによって、さらに強化され得る。生成物の設計の最大限
の柔軟性を依然として維持しながら、一次圧縮機から得られるエチレンの分配および反応
器システム上の補給ＣＴＡの分配を十分に利用することは、反応器への３つ以上のエチレ
ン系供給流を使用する、革新的な二次圧縮機および反応器ラインナップの設計を必要とす
る。本発明の圧縮機および反応器のラインナップは、供給流におけるＣＴＡ濃度差の最大
化、ＣＴＡ濃度差の反転、および反応器供給流におけるＣＴＡ濃度差の柔軟な制御を可能
にする。さらに、本発明は、過度の脈動および振動レベルを低減および回避しつつ、４０
～４５０ＫＴＡまたはそれよりも高い範囲であり得るエチレン系処理量を有する高圧重合
プロセスで使用され得る。

第１の態様において、エチレン系ポリマーを形成するための高圧重合プロセスであって
、少なくとも以下のステップ、
少なくとも３つのエチレン系供給流を含む反応器システムおよび少なくとも４つの反応
区域を含む反応器構成を使用して、エチレンを含む反応混合物を重合するステップを含み
、
以下の分配ａ）～ｃ）、
ａ）第１の反応区域への最大１００重量％のエチレン系供給流が、高圧リサイクルから
得られ、かつ／もしくは反応区域への最大１００重量％の最後のエチレン系供給流が、一
次圧縮機システムからの出力から得られる分配、および／または
ｂ）第１の反応区域への最大１００重量％のエチレン系供給流が、一次圧縮機システム
からの出力から得られ、かつ／もしくは反応区域への最大１００重量％の最後のエチレン
系供給流が、高圧リサイクルから得られる分配、および／または
ｃ）第１の反応区域へのエチレン系供給流および／または反応区域への最後のエチレン
系供給流のそれぞれが制御された組成を含む分配、のうちの少なくとも１つが満たされ、
反応区域への各エチレン系供給流が、独立して、ハイパー圧縮機システムの最後の圧縮
機の段の２つ以上のシリンダからの出力を受け取り、
第１の反応区域へのエチレン系供給流が、反応器構成への全エチレン系供給流の２０重
量％～６０重量％であり、
反応器構成への最後の２つのエチレン系供給流の合計が、反応器構成への全エチレン系
供給流の２０重量％～８０重量％である。

第２の態様において、ハイパー圧縮機システムは、少なくとも以下の構成要素、ａ）少
なくとも２つの圧縮段と、ｂ）少なくとも２つの出力ラインと、ｃ）少なくとも２つの別
個の吸引流と、およびｄ）少なくとも２つの別個の段間冷却システムを含む少なくとも１
つの段間と、ｅ）任意に、別個の段間冷却システム間に少なくとも１つの均衡圧力ライン
、ｆ）任意に、別個の出力ライン間に少なくとも１つの均衡圧力ラインを備える。

全前部ガスプロセス用のハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ１）。 ５０／３５／１５エチレン系供給分配用のハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ２）。 ５０／３５／１５エチレン系供給分配用のハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ３）。 ３３／３３／３３／０エチレン系供給分配用の１０個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ４およびＣＰ５）。 ３３／３３／３３／０エチレン系供給分配用の１０個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＩＰ４．１、ＩＰ４．２、ＩＰ４．３、ＩＰ５．１、ＩＰ５．２、およびＩＰ５．３）。 ３３／３３／３３／０エチレン系供給分配用の１２個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ６およびＣＰ７）。 ３３／３３／３３／０エチレン系供給分配用の１２個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＩＰ６．１、ＩＰ６．２、ＩＰ６．３、ＩＰ７．１、ＩＰ７．２、およびＩＰ７．３）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配用の１４個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ８およびＣＰ９）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配用の１４個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＩＰ８．１、ＩＰ８．２、ＩＰ８．３、ＩＰ９．１、ＩＰ９．２、およびＩＰ９．３）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配用の１４個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ１０およびＣＰ１１）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配ＣＴＡ用の１４個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＩＰ１０．１、ＩＰ１０．２、ＩＰ１０．３、ＩＰ１１．１、ＩＰ１１．２、およびＩＰ１１．３）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配用の１６（２×８）個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＣＰ１２およびＣＰ１３）。 ２５／２５／５０／０エチレン系供給分配ＣＴＡ用の１６（２×８）個のプランジャを有するハイパー圧縮機システムレイアウトである（ＩＰ１２．１、ＩＰ１２．２、ＩＰ１２．３、ＩＰ１３．１、ＩＰ１３．２、およびＩＰ１３．３）。 ＣＰ２およびＣＰ３の実施例についてのＧＰＣプロファイルを示す。

一次圧縮機システムの出力、ＨＰＲの流れ、および補給ＣＴＡの分配は、狭いＭＷＤま
たは広いＭＷＤのどちらかならびに溶融弾性およびＧ’のような関連レオロジー特性を有
するポリマーを生成するために非常に重要である。吸引、段間、および排出流に関するハ
イパー圧縮機システムの本発明のラインナップは、ポリマーＭＷＤの所望の能力を拡張し
、維持する。さらに、本発明の圧縮機ラインナップと本発明のシステムとを組み合わせて
、一次圧縮機システム出力の分配およびＨＰＲから得られる流れを制御することによって
、ポリマーＭＷＤにおける最大の柔軟性および制御が、最大の狭いＭＷＤ能力と最大の広
いＭＷＤ能力との間で達成される。各々のハイパー圧縮機システム設計では、圧縮機シス
テム全体、第１の圧縮段、および／または後続の圧縮段におけるシリンダの数に関わらず
、ＣＴＡ濃度における最大の能力および柔軟性ならびに結果としてＭＷＤおよびレオロジ
ーのようなポリマー特性を達成するために、本発明の圧縮機のラインナップが定義され得
る。さらに、本発明のラインナップは、対向するシリンダを優先的に組み合わせることお
よび／または均衡ラインを使用することにより、圧縮機の段間および出口における組み合
わせられた吐出ラインにおける脈動および振動レベルの低減および最小化を可能にする。

一実施形態では、第１の態様について、分配（ａ）が満たされる。一実施形態では、分
配（ｂ）が満たされる。一実施形態では、分配（ｃ）が満たされる。一実施形態では、分
配（ａ）および（ｂ）が満たされる。一実施形態では、分配（ａ）および（ｃ）が満たさ
れる。一実施形態では、分配（ｂ）および（ｃ）が満たされる。一実施形態では、分配（
ａ）、（ｂ）、および（ｃ）が満たされる。

一実施形態では、第１の態様について、分配（ｂ）に関して、第１の反応区域への≦９
０重量％、または≦８０重量％、または≦７０重量％、または≦６０重量％のエチレン系
供給流が、一次圧縮機システムからの出力から得られ、かつ／もしくは反応区域への最大
１００重量％の最後のエチレン系供給流が、高圧リサイクルから得られる。さらなる実施
形態では、分配（ｂ）が満たされ、任意に分配（ａ）が満たされ、任意に分配（ｃ）が満
たされる。

一実施形態では、第１の態様について、分配（ｂ）に関して、第１の反応区域への１０
～９０重量％、または２０～８０重量％、または３０～７０重量％、または４０～６０重
量％のエチレン系供給流が、一次圧縮機システムからの出力から得られ、かつ／もしくは
反応区域への最大１００重量％の最後のエチレン系供給流が、高圧リサイクルから得られ
る。さらなる実施形態では、分配（ｂ）が満たされ、任意に分配（ａ）が満たされ、任意
に分配（ｃ）が満たされる。

一実施形態では、第１の態様について、反応器構成は、≧５、または≧６、または≧７
、または≧８の反応区域を含む。一実施形態では、第１の態様について、反応器システム
は、≧４、または≧５、または≧６、または≧７のエチレン系供給流を含む。

一実施形態では、第１の態様について、第１の反応区域へのエチレン系供給流は、反応
器構成への全エチレン系供給流の２０重量％～５０重量％、または２０重量％～４０重量
％、または３０重量％～４０重量％である。

一実施形態では、第１の態様について、反応器構成への最後の２つのエチレン系供給流
の合計は、反応器構成への全エチレン系供給流の３０～８０重量％、または４０～８０重
量％、または５０～８０重量％、または６０～７０重量％である。

一実施形態では、第１の態様について、一次圧縮機システムの出力から、および第１の
反応区域への供給における、エチレン系供給流の重量パーセントは、以下の範囲ｉ）また
は範囲ｉｉ）、
ｉ）一次圧縮機システムの出力からのエチレン系供給流が、０重量％～１００重量％で
ある範囲、
ｉｉ）一次圧縮機システムの出力からのエチレン系供給流が、
０重量％～以下の等式によって決定される値

（式中、Ａ＝１．２５、およびさらに１．２２、または１．２０、または１．１８、ま
たは１．１５であり、Ｘは、反応器構成へのエチレン系流の総量に基づいた、最初の反応
区域へのエチレン系供給流の割合であり、「転化率（重量％）」は、「ポリマー出力を反
応器構成への全供給流で割ったもの」であり、パージは重量％で表される）のより小さい
方を使用して変化させられる。

一実施形態では、第１の態様について、一次圧縮機システムの出力から、およびエチレ
ン系供給流を受け取る最後の２つの反応区域への供給における、エチレン系供給流の重量
パーセントは、以下の範囲ｉ）または範囲ｉｉ）、
ｉ）一次圧縮機システムの出力からのエチレン系供給流が、０重量％～１００重量％で
ある範囲、
ｉｉ）一次圧縮機システムの出力からのエチレン系供給流は、０重量％～以下の等式に
よって決定される値

（式中、Ａ＝１．２５、およびさらに１．２２、または１．２０、または１．１８、ま
たは１．１５であり、Ｙは、反応器構成へのエチレン系流の総量に基づいた、エチレン系
供給を受け取る最後の２つの反応区域へのエチレン系供給流の割合であり、「転化率（重
量％）」は、「ポリマー出力を反応器構成への全供給流で割ったもの」であり、パージは
重量％で表される）のより小さい方を使用して変化させられる。

一実施形態では、第１の態様について、一次圧縮機システムの出力から、およびエチレ
ン系供給流を受け取る最後の反応区域への供給における、エチレン系供給流の重量パーセ
ントは、以下の範囲ｉ）または範囲ｉｉ）、
ｉ）０重量％～１００重量％の範囲、または
ｉｉ）０重量％～以下の等式によって決定される範囲

（式中、Ａ＝１．２５、およびさらに１．２２、または１．２０、または１．１８、ま
たは１．１５であり、Ｗは、反応器構成へのエチレン系流の総量に基づいた、エチレン系
供給を受け取る最後の反応区域へのエチレン系供給流の割合であり、「転化率（重量％）
」は、「ポリマー出力を反応器構成への全供給流で割ったもの」であり、パージは重量％
で表される）のより小さい方を使用して変化させられる。

一実施形態では、第１の態様について、反応器システムは、吸引側と、段間システムに
よって接続された第１段圧縮および第２段圧縮と、を備えるハイパー圧縮機システムを備
え、ＣＴＡ補給流が、
第１反応区域の前に、以下のように、ａ）ハイパー圧縮機システムの吸引側に通じるラ
イン、および／またはｂ）段間システムのライン、および／またはｃ）供給冷却器、およ
び／またはｄ）予熱器に供給され、ａ）～ｄ）は各々第１の反応区域の上流にある。

一実施形態では、第１の態様について、反応器への各エチレン系供給流が、ハイパー圧
縮機システムの最後の圧縮段から偶数の排出流を受け取り、各排出流はハイパー圧縮機シ
ステムの１つのシリンダから生成される。

一実施形態では、第１の態様について、ハイパー圧縮機システムからのエチレン系処理
量は、４０～５００ＫＴＡ、または６０～４００ＫＴＡ、または８０～３００ＫＴＡ（キ
ロトン／年）である。

一実施形態では、第１の態様について、反応混合物は、アルデヒド、アルカン、ケトン
、アルコール、エステル、α－オレフィン、またはそれらの組み合わせから選択される少
なくとも１つのＣＴＡをさらに含む。

一実施形態では、第２の態様について、ハイパー圧縮機システム構成は少なくとも３つ
の別個の段間冷却システムを備え、各々の段間冷却システムは入口流と出口流を備え、別
個の段間冷却システムの出口流は合流されていない。

本発明は、また、反応器構成および本明細書に記載の本発明のハイパー圧縮機システム
を備える、反応器システムを提供する。

一実施形態では、第２の態様について、ハイパー圧縮機システムであって、ハイパー圧
縮機システムは、吸引側と、段間システムによって接続された第１段圧縮および第２段圧
縮と、を備え、ＣＴＡ補給流が、第１反応区域の前に、ａ）ハイパー圧縮機システムの吸
引側に通じるライン、および／またはｂ）段間システムのライン、および／またはｃ）ハ
イパー圧縮機システムから予熱器への出力ライン、および／またはｄ）予熱器、および／
またはｅ）第１の反応区域、および／またはｆ）１つ以上の連続する反応区域に供給され
得て、ａ）～ｄ）は各々第１の反応区域の上流にある。

一実施形態では、第２の態様について、ハイパー圧縮機システムは、少なくとも以下の
構成要素、ａ）少なくとも２つの圧縮段と、ｂ）少なくとも２つの出力ラインと、ｃ）少
なくとも２つの入口流と、ｄ）少なくとも２つの別個の段間冷却システムを含む少なくと
も１つの段間と、ｅ）任意で、別個の段間冷却システム間に少なくとも１つの圧力均衡ラ
インと、ｆ）任意で、別個の出力ライン間に少なくとも１つの圧力均衡ラインと、を備え
る。

一実施形態では、第２の態様について、ハイパー圧縮機システムからの少なくとも１つ
の出力ラインがスプリッタ弁によって２つの異なる反応区域に供給される。

以下の実施形態は、本発明の第１および第２の態様の両方に適用される。

一実施形態では、各々エチレン系供給を受け取る、反応器構成の最初および最後の反応
区域に向かう前記エチレン系供給流の組成が、後で圧縮され、かつ／またはそれぞれの反
応区域に送達されるエチレン系供給流が流される弁システムを含む制御システムにより各
々制御される。さらなる実施形態では、弁システムは、３方弁システムを含む。

一実施形態では、制御システムは、少なくとも１つの弁を備える。一実施形態では、制
御システムは、少なくとも２つの弁を備える。

一実施形態では、弁は２方弁、または３方弁である。一実施形態では、弁は、少なくと
も１つの入口と少なくとも２つの出口、または少なくとも２つの入口と少なくとも２つの
出口を有する多方弁である。

一実施形態では、制御システムは、少なくとも１つの分析器を含む。一実施形態では、
制御システムの各弁は、フィードバックループを介して少なくとも１つの分析器に接続さ
れる。

一実施形態では、エチレン系供給流を反応区域に供給する各ラインは、反応区域に進入
する供給流の量を制御する弁を含む。一実施形態では、エチレン系供給流を反応区域に供
給する１つ以上のラインは、反応区域にわたってエチレン系供給流の分配を制御する弁を
含む。

一実施形態では、反応器システムが、反応器構成の流れの成分を検出するための、また
は高圧重合プロセスにより生成されたエチレン系ポリマーの特性を判定するための、少な
くとも一つの分析器をさらに備える。さらなる実施形態では、分析器および制御システム
の弁システムは、フィードバックループを介して接続される。一実施形態では、分析器は
ガスクロマトグラフまたは赤外分光計のうちの少なくとも１つである。

一実施形態では、反応器構成への全エチレン系供給流は、１時間あたり３０～４００ト
ンである。

一実施形態では、エチレン転化率は≧２８％、または≧２９％、または≧３０％、また
は≧３１％、または≧３２％である。

一実施形態では、反応器構成は、少なくとも１つの管状反応器を備える。一実施形態で
は、反応器構成は、少なくともオートクレーブ反応器を備える。

一実施形態では、反応器構成は、オートクレーブ反応器および管状反応器を備える。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムの吸引へのエチレン系流は、別個に圧縮され
、反応器構成に供給される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムへのそれぞれのエチレン系供給流における「
一次圧縮機システムの出力の濃度」は異なる。

一実施形態では、２つのエチレン系供給流におけるハイパー圧縮機システムへの「一次
圧縮機システムの出力の濃度」は、ハイパー圧縮機システムの段間および排出において維
持される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムへのそれぞれのエチレン系供給流における「
一次圧縮機システムの出力の濃度」は、ハイパー圧縮機システムの段間流および排出流に
おいて、および反応器への供給流において維持される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムのエチレン系吸引流のＣＴＡ濃度は、ハイパ
ー圧縮機の段間および排出において維持される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムの少なくとも２つのエチレン系吸引流のＣＴ
Ａ濃度は、ハイパー圧縮機システムの段間および排出において維持される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムのエチレン系吸引流のＣＴＡ濃度は、ハイパ
ー圧縮機システムの段間流および排出流において、および反応器へのエチレン系供給流に
おいて維持される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムのエチレン系吸引流のＣＴＡ濃度は、ハイパ
ー圧縮機システムの段間流および排出流において維持されるが、ＣＴＡ補給供給の注入に
よって反応器への１つまたは２つのエチレン系供給流で変化される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムの排出から得られるエチレン系供給流は、流
れ分配装置を介して２つ以上の反応区域にわたって分配される。流れ分配装置は、スプリ
ッタ弁システムを含むことができる。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムは、１つ以上の圧力均衡ラインを備え、圧力
均衡ラインは、ハイパー圧縮機システムの段間および／または排出部に配置される。さら
に、これらのラインは、圧力均衡ラインを使用する各圧縮ステップにおいて、５重量％未
満、または３重量％未満、または２重量％未満、または１重量％未満だけ、主な段間およ
び／または圧縮機排出流の組成に影響を及ぼす。「圧力均衡ライン」とは、２つの主な圧
縮排出ライン間の制限された流量を有する接続ラインを指し、２つの主な圧縮排出ライン
における圧力脈動を低減するために使用される。

一実施形態では、均衡ラインは、制限された開口部装置によって装備される。

一実施形態では、第１の反応区域の入口圧力は、
４０００バール以下、または≦３６００バール、または≦３２００バール、または≦３
０００バール、または≦２８００バール、または≦２６００バール、または≦２４００バ
ール、または≦２２００バール、または≦２０００バール、または≦１８００バール、ま
たは≦１６００バールである。

一実施形態では、吸引、段間、および排出エチレン系供給流は、単一の流れラインによ
って各々処理される。一実施形態では、吸引、段間、および排出エチレン系流は、単一お
よび／または平行する流れラインを備える流れラインシステムによって各々処理される。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムは、単一の圧縮段を有する。

一実施形態では、反応器システムは、１つ以上の予熱器（複数可）および／または１つ
以上の供給冷却器を備える。一実施形態では、反応器システムは、反応器への少なくとも
１つのエチレン系供給流中に平行する予熱器または供給冷却器を備える。

一実施形態では、本発明は、全ての他の反応器条件（ピーク温度、区域１の開始温度、
および入口温度）を維持しながら、補給、およびリサイクルエチレン分配、および／また
はＣＴＡ分配を介してポリマー特性、特に溶融弾性、Ｇ’、および溶融強度などのレオロ
ジー特性を制御するためのプロセスを提供する。溶融弾性、溶融強度、および／またはレ
オロジー特性は、各々ＭＷＤの指標である。

一実施形態では、反応器構成は、少なくとも１つの管状反応器を備える。一実施形態で
は、反応器構成は、少なくとも１つのオートクレーブ反応器を備える。一実施形態では、
反応器構成は、少なくとも１つの管状反応器および少なくとも１つのオートクレーブ反応
器を備える。

一実施形態では、第１の反応区域は、管状反応区域である。一実施形態では、各反応区
域は、管状反応区域である。一実施形態では、第１の反応区域は、オートクレーブ反応区
域である。

一実施形態では、反応器構成は、少なくとも１つの一次圧縮機および少なくとも１つの
ブースタ圧縮機を備える。一実施形態では、反応器システムは、２つ、または３つ、また
は４つ、または５つ、または６つまたはそれ以上のエチレン系供給流を含む。

一実施形態では、第１および第２のエチレン供給流は、プロセス重合への全エチレン供
給の１～９９重量％（ｗｔ％）、または５～９５重量％ｗｔ％、または１０～９０重量％
、または２０～８０重量％、または３０～７０重量％、または３５～６５重量％、または
４０～６０重量％、または４５～５５重量％を各々含む。

一実施形態では、補給エチレンは、エチレン生成／分別プロセスに由来する１つ以上の
残留化合物以外の連鎖移動剤を含有しない。

一実施形態では、補給（新規）ＣＴＡの総量は、第１の反応区域にのみ分配される。一
実施形態では、補給ＣＴＡの総量は、すなわち、以下の反応区域１以外の、反応区域にの
み分配される。一実施形態では、補給ＣＴＡの総量は、全ての反応区域に分配される。

一実施形態では、重合プロセスは、「注入された」ＣＴＡ無しで、エチレン補給からの
不純物のような「不純物」ＣＴＡ化合物（複数可）、開始剤からの解離成分、溶媒、潤滑
油に由来する成分のみを有して動作する。

一実施形態では、各反応区域への各供給は、同じＣＴＡシステムを含有する。さらなる
実施形態では、各供給のＣＴＡシステムは、単一のＣＴＡを含有する。

一実施形態では、反応区域のうちの少なくとも１つへの供給のうちの少なくとも１つは
、少なくとも１つの他の反応区域へのＣＴＡシステム（複数可）のうちの少なくとも１つ
とは異なるＣＴＡシステムを含有する。一実施形態では、反応区域のうちの少なくとも１
つへの供給のうちの少なくとも１つは、他の反応区域へのＣＴＡシステムのうちの少なく
とも１つとは異なるＣＴＡシステムを含有する。一実施形態では、各ＣＴＡは、オレフィ
ン、アルデヒド、ケトン、アルコール、飽和炭化水素、エーテル、チオール、ホスフィン
、アセテート、アミノ、アミン、アミド、エステル、またはイソシアネートから独立して
選択される。

一実施形態では、反応区域における重合条件の各々は、独立して、４００℃未満の設定
温度および１０００ＭＰａ未満または５００ＭＰａ未満の入口圧力を含む。一実施形態で
は、各反応区域での最大重合温度は、独立して、１００～４００℃である。

一実施形態では、ハイパー圧縮機システムが、少なくとも３つの別個の段間冷却システ
ムを備え、各々の段間冷却システムが、入口流と出口流を備え、別個の段間冷却システム
の出口流が、合流されていない。

本発明のプロセスは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
本発明のハイパー圧縮機システムは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせ
を含み得る。

本発明はまた、本発明のプロセスによって製造されたエチレン系ポリマーを提供する。
一実施形態では、エチレン系ポリマーは、ポリエチレンホモポリマーである（例えば、Ｌ
ＤＰＥ）。一実施形態では、エチレン系ポリマーは、少なくとも１つのコモノマーを含む
エチレン系インターポリマーである。エチレン系ポリマーとしては、ＬＤＰＥホモポリマ
ー、ならびにエチレン／酢酸ビニル（ＥＶＡ）、エチレンエチルアクリレート（ＥＥＡ）
、エチレンブチルアクリレート（ＥＢＡ）、エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）、エチレンビ
ニルシラン（ＥＶＳ）、エチレンビニルトリメチルシラン（ＥＶＴＭＳ）、および「シラ
ン含有」コモノマーで製造された他のコポリマー、ジエン（例えば、ＥＮＢ）またはポリ
エンで製造されたコポリマー、および一酸化炭素エチレン（ＥＣＯ）を含む高圧コポリマ
ーが挙げられる。他のコモノマーは、Ｅｈｒｌｉｃｈ，Ｐ．；Ｍｏｒｔｉｍｅｒ，Ｇ．Ａ
．；Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ；Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ｏｆ Ｆｒ
ｅｅ－ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｅｔｈｙｌｅｎｅ；Ｖｏ
ｌ．７，ｐｐ．３８６－４４８（１９７０）に記載されている。

一実施形態では、本発明のエチレン系ポリマーは、０．９１０～０．９４０、より典型
的には０．９１２～０．９４０、さらにより典型的には０．９１５～０．９３５の密度、
すなわち立方センチメートル当たりのグラム数（ｇ／ｃｃまたはｇ／ｃｍ^３）を有する。
一実施形態では、本発明のエチレン系ポリマーは、０．１～１００、より典型的には０．
１５～５０、さらにより典型的には０．２～２０の典型的なメルトインデックス（Ｉ_２）
、すなわち１９０℃／２．１６ｋｇでの１０分当たりのグラム数（ｇ／分）を有する。一
実施形態では、本発明のエチレン系ポリマーは、３～２０、または３．５～１６、または
４～１４の典型的なＭｗ／Ｍｎを有する。一実施形態では、本発明のエチレン系ポリマー
は、０．１～４０、または０．５～３０センチニュートン（ｃＮ）の溶融強度を有する。
一実施形態では、本発明のエチレン系ポリマーは、これらの密度、メルトインデックス、
Ｍｗ／Ｍｎ、および溶融強度特性のうち２つ以上を有する。

本発明はまた、本発明のエチレン系ポリマーを含む組成物を提供する。一実施形態では
、組成物は、別のエチレン系ポリマーをさらに含む。本発明の組成物は、本明細書に記載
の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。本発明はまた、本発明の組成物から形成
された少なくとも１つの成分を含む物品を提供する。一実施形態では、物品は、押出コー
ティング樹脂である。別の実施形態では、物品は、フィルムである。別の実施形態では、
物品は、金属ワイヤの周りの絶縁材料および／または保護層である。別の実施形態では、
物品は、発泡体である。本発明の物品は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合
わせを含み得る。

定義
反対のことが言及されない限り、文脈から黙示的に、または当該技術分野で慣習的でな
い限り、全ての部およびパーセントは重量に基づくものであり、全ての試験方法は本出願
の出願日現在のものである。

本明細書で使用される「エチレン供給流」または「エチレン系供給」または「エチレン
系供給流」または「エチレン供給流」という用語は、反応区域への供給流を指し、供給流
中の全成分のモル量に基づいてエチレンの大部分の量を含有する。場合によっては、より
多くの連鎖移動剤、コモノマー、他のプロセス成分（潤滑油、溶媒など）および／または
不純物（例えば、開始剤分解生成物）のうちの１つが供給流中に存在してもよい。

本明細書で使用される「全エチレン系供給流」という用語は、反応器構成へ供給される
全てのエチレン系供給流の合計を指す。

本明細書で使用される「エチレン系供給成分」という用語は、反応区域への入口で反応
区域に添加された、エチレン（補給および／またはリサイクル）、および任意にＣＴＡ（
補給および／またはリサイクル）、溶媒（補給および／またはリサイクル）、コモノマー
（複数可）（補給および／またはリサイクル）および／または他の成分（例えば、補給お
よび／またはリサイクルされた潤滑油（複数可）、酸化防止剤（複数可）、エタン、メタ
ン、および／または開始剤解離生成物）を指す。一実施形態では、エチレン系供給成分は
、以下の、エチレン（補給および／またはリサイクル）、および任意でＣＴＡ（補給およ
び／またはリサイクル）、溶媒（補給および／またはリサイクル）、コモノマー（複数可
）（補給および／またはリサイクル）、および／または以下の、補給および／またはリサ
イクルされた潤滑油（複数可）、酸化防止剤（複数可）、エタン、メタン、および／また
は開始剤解離生成物から選択される他の成分を含む。別の実施形態では、エチレン系供給
成分は、以下の、エチレン（補給および／またはリサイクル）、および任意でＣＴＡ（補
給および／またはリサイクル）、溶媒（補給および／またはリサイクル）、コモノマー（
複数可）（補給および／またはリサイクル）、および／または以下の、補給および／また
はリサイクルされた潤滑油（複数可）、酸化防止剤（複数可）、エタン、メタン、開始剤
（例えば、酸素）、および／または開始剤解離生成物から選択される他の成分を含む。

本明細書で使用される「エチレン転化」または「エチレン転化率」という用語は、以下
の等式によって定義される。

「エチレン系ポリマー」という用語は、ポリマーの重量に基づいて、重合されたエチレ
ンの大部分の量、および任意で少なくとも１つのコモノマーを含むポリマーを指す。「エ
チレン系コポリマー」という用語は、コポリマーの重量に基づいて、重合されたエチレン
の大部分の量、および唯一のモノマー型としてのコモノマーを含むコポリマーを指す。

本明細書で使用される「高圧重合プロセス」という用語は、少なくとも１０００バール
（１００ＭＰａ）の高圧で実行されるフリーラジカル重合プロセスを指す。

本明細書で使用される「入口流（ｉｎｌｅｔ ｓｔｒｅａｍ）」、または「入口流（ｉ
ｎｌｅｔ ｆｌｏｗ）」、または「反応区域入口流」という用語は、反応区域の入口での
全質量流または全モル流を指し、前の反応区域から移動された質量流またはモル流、およ
び任意のエチレン系供給流、および任意のＣＴＡ供給流、および任意で単独でまたは別の
供給流と共に供給される任意の開始剤供給からなる。

本明細書で使用される「側流」または「側部供給流」という用語は、連続する反応区域
への、エチレン系供給流、ＣＴＡシステム供給流、および／または開始剤システムを指す
。

本明細書で使用される「反応器システム」という用語は、ポリマーを重合および単離す
るために使用される装置を指す。かかる装置としては、１つ以上の反応器、反応器予熱器
（複数可）、モノマー反応器冷却装置（複数可）、二次圧縮機（複数可）（またはハイパ
ー圧縮機システム（複数可））、一次圧縮機（複数可）、および／またはブースタ圧縮機
（複数可）が挙げられるが、これらに限定されない。

本明細書で使用される「反応器構成」という用語は、１つ以上の反応器、および任意で
、ポリマーの重合に使用される１つ以上の反応器予熱器を指す。かかる反応器としては、
オートクレーブ反応器（複数可）、管状反応器（複数可）、およびオートクレーブと管状
反応器との組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。

本明細書で使用される「入口圧力」または「反応器入口圧力」という用語は、第１の反
応区域の第１の入口における圧力レベルを指す。

本明細書で使用される「予熱器（ｐｒｅｈｅａｔｅｒまたはｐｒｅ－ｈｅａｔｅｒ）」
という用語は、ハイパー圧縮機システムから排出されたエチレン系供給流が所望の開始温
度に加熱される管状反応器の初期部分を指す。

本明細書で使用される「反応区域」という用語は、フリーラジカル、またはフリーラジ
カルへと解離するおよび／またはフリーラジカルを生成する成分の添加によって、重合反
応が開始されるか、または再開される、反応区域を指す。典型的には、反応媒体は、反応
器の周りのジャケットを通って１つ以上の熱伝達媒体が流れることによって加熱および／
または冷却される。反応区域はまた、補給および／またはリサイクルされたエチレン、お
よび／またはフリーラジカル、もしくはフリーラジカルへと解離するおよび／またはフリ
ーラジカルを生成する成分の添加によって開始され得る。

本明細書で使用される「第１の反応区域」という用語は、ラジカル、および／またはラ
ジカルへと解離するおよび／またはラジカルを生成する成分の添加によって重合が開始さ
れる、第１の反応区域を指す。第１の反応区域は、ラジカル、および／またはラジカルへ
と解離するおよび／またはラジカルを生成する成分、ならびに任意で補給および／または
リサイクルされたエチレンおよび／またはコモノマー（複数可）の新しい供給が存在する
地点で終了する。

本明細書で使用される「ハイパー圧縮機システム入口圧力」という用語は、ハイパー圧
縮機システムの吸入側の圧力を指す。

本明細書で使用される「プランジャ（複数可）」または「シリンダ（複数可）」という
用語は、ガス状供給（例えば、エチレン系供給）を吸入圧力から二次圧縮機システムの段
間圧力へ、または段間圧力から二次圧縮システムの最終吐出圧力まで圧縮するシリンダア
センブリ内の往復動式加圧装置を指す。典型的には、プランジャおよびシリンダアセンブ
リのサイジングは、二次圧縮機システムの圧縮段（第１または第２）内では一様であるが
、二次圧縮機システムの第１および第２の圧縮段の間で異なる。

各プランジャは、シリンダアセンブリ内に収容される。

本明細書で使用される「脈動」という用語は、圧縮機の駆動シャフトの回転の各循環の
間プランジャアセンブリの充填および供給段を含む往復動式動作によって引き起こされる
、プランジャの排出における不均一な流れ状態を指す。不均一な流れパターンは、排出シ
ステム内で変化する圧力レベルをもたらし、それゆえ、圧縮機排出およびエチレン系供給
流における変動する圧力状態を引き起こす。２つ以上のプランジャ排出を組み合わせる場
合、異なるプランジャの排出によって引き起こされ、１つのエチレン系段間または反応器
供給流を形成するために使用される流れパターンが、組み合わされた排出中で重複せず、
したがって反応器への供給ラインでの最小の流れと最大の流れとの、および圧力変動にお
ける違いを最小化することを確実にするために注意しなければならない。好ましくは、流
れパターンは互いに相補的（または位相がずれている）である。好ましくは、１つのエチ
レン系反応器供給流に整列されたプランジャは、位相がずれているか、および／またはエ
チレン系反応器供給流に整列された多数の２つ、３つ、または４つのプランジャの組み合
わせでなければならない。

本明細書で使用される「振動」という用語は、圧縮機プランジャ（複数可）の往復動特
性によって引き起こされる流れの脈動による圧縮機装置（複数可）および／または流れラ
イン（複数可）における高速の繰返し運動を指す。

二次圧縮機システムの「最大許容負荷」という用語は、圧縮機フレームおよび／または
シリンダ、プランジャ、ならびに接続および駆動シャフトアセンブリに関連する構成要素
に添加され得る最大の機械的な力（負荷）を指す。「最大許容負荷」は、最も弱い構成要
素によって決定される。最大負荷は、構成要素の製造業者の設計圧力、ならびに動作中の
慣性力によって決定される。

二次圧縮機システムの「最大電気負荷」という用語は、モータの製造業者の設計に基づ
いて、圧縮機を駆動する電気モータが連続運転で送達することができる最大電力を指す。

二次圧縮機システムの「最大設計圧力」という用語は、圧縮機フレームおよび／または
シリンダ、プランジャ、ならびに接続および駆動シャフトアセンブリに関連する構成要素
に添加され得る最大圧力を指す。「最大圧力」は、最も弱い構成要素によって決定される
。最大設計圧力は、二次圧縮機システムの製造業者によって指定される。

例えば、一実施形態では、弁制御システムが、１つまたは２つ以上の供給流の流量比を
制御し、例えば、システムは、反応器への２つ以上の供給流にわたって、補給エチレン、
またはリサイクルエチレン、または補給ＣＴＡを含有する一次圧縮機システム出力の分配
を制御する。弁制御システムの例は、２つ以上のラインを有するシステムであり、独立し
た制御弁または多方制御弁を各々有し、２つ以上の出口流にわたって入口流を分配する。

「２ポート弁」または「２方弁」という用語は、流体がいずれかの方向にそれを介して
流れることができる１つの入口と１つの出口を有する弁を指す。「複数ポート弁」または
「多方弁」という用語は、少なくとも１つの入口および少なくとも１つの出口を有し、入
口および出口の合計が弁のポートの数に等しい弁を指す。

一実施形態では、制御システムは、補給エチレンおよび／または高圧リサイクルエチレ
ンを含有する一次圧縮システム出力の流量比が調製され、ターゲットＭＷＤもしくは他の
ターゲット生成物特性またはＣＴＡ濃度のようなプロセス変数を取得するための閉鎖回路
制御のために使用され得る。あるいは、分析器からのポリマー品質測定、例えば、溶融強
度、溶融弾性、またはＧ’を制御システムによって使用して、反応区域へのエチレン供給
の組成を調整することができる。

あるいは、例えば、生成物分析器、例えば、溶融弾性、溶融強度、Ｇ’、光学特性など
を測定するための典型的な実験機器による生成物分析に応じて、流量比は手動で制御され
得る。流量比コントローラの設定点は、それに従って調整され得る。

重合プロセスおよび／またはポリマーの単離に関連して使用される「分析器」、または
「オンライン分析器」、または「アットライン分析器」という用語は、試薬（例えばＣＴ
Ａ）の濃度および／またはポリマー特性（例えば、溶融強度、または溶融弾性、または他
のレオロジー特性）を測定する反応器構成が組み込まれた装置を指す。例としては、ガス
クロマトグラム機器、赤外線検出機器、および溶融弾性、溶融強度、Ｇ’、光学特性など
を測定するための典型的な実験機器が挙げられるが、これらに限定されない。

本明細書で使用される「制御された組成」という用語は、エチレン系供給流に関して、
高圧リサイクル（ＨＰＲ）およびエチレン系供給流中の一次圧縮機から反応器への出力の
割合を指し、ハイパー圧縮機システムに供給する前に、ＨＰＲ（高圧リサイクル）および
／または一次圧縮機システムの出力からの流れの分配によって決定され、流れは、ハイパ
ー圧縮機システムおよび／または反応区域（複数可）に供給される前に制御システムを介
して調整される。制御システムは、流れ制限装置および／または流れ制御装置であり、制
御システムは、典型的には、制御弁、スプリッタ弁、および／またはスロットル弁のうち
の１つ以上を含む。制御された組成は、一次圧縮機システムの出力の最小レベルと最大レ
ベルとの間、および／または第１の反応区域へのエチレン系供給流におけるＨＰＲ流と、
連続する反応区域への最後のエチレン系供給流におけるＨＰＲ流との間で変化され得る。
最小および最大レベルは、制御システムを使用せずに達成可能である。

本明細書で使用される「制御システム」という用語は、重合プロセスに関連して、流れ
制限装置および／または流れ制御装置を指し、それぞれ、反応区域への供給および／また
は供給流の組成を制御および／または調整するために使用される。制御システムの例とし
ては、１つ以上の制御弁、スプリッタ弁、および／またはスロットル弁が挙げられるが、
これらに限定されない。各弁は、少なくとも１つの入口と１つの出口を有し、一方弁およ
びより多くの多方弁（例えば、三方または四方弁）を含む。

本明細書で使用される「一次圧縮機システム」または類似の用語は、以下の、ａ）補給
流入エチレン、および／またはｂ）ブースタ圧縮システムから得られる低圧リサイクル、
および／またはｃ）リサイクルされた圧縮機充填漏れを、各々ハイパー圧縮機システムの
入口側で必要とされる圧力レベルに圧縮する装置を指す。この圧縮は、１つまたは多数の
圧縮段で行うことができ、中間冷却と組み合わせることができる。一次圧縮機システムは
、単一または複数の圧縮機フレームからなり得て、ブースタ圧縮機フレーム（複数可）と
潜在的に組み合わせ得る。一次圧縮機システムは、１つの出力流を生成する。出力は、低
圧分離器（複数可）からの補給エチレン流を加えたエチレン系流、および任意で重合中に
使用される圧縮機システム（複数可）からの再圧縮された充填漏れである。一次圧縮機シ
ステムは、１つ以上の一次圧縮機からなり得る。典型的には、一次圧縮機システムは、４
０バールから３００バールの排出圧力まで流れを圧縮する。単一のフレームを含有する一
次圧縮機システムを、「一次圧縮機」と呼ぶこともできる。

本明細書で使用される「一次圧縮機システムからの出力」または「一次圧縮機システム
出力」または「一次圧縮機システムの出力」または「一次圧縮機システムの出力からのエ
チレン系流」という語句、または同様の用語は、補給エチレン流および任意で重合中に使
用される圧縮機システム（複数可）からの再圧縮された充填漏れを加えた低圧分離器（複
数可）からのエチレン系流を指す。

本明細書で使用される「二次圧縮機システム」という用語または「ハイパー圧縮機シス
テム（Ｈｙｐｅｒ ｃｏｍｐｒｅｓｓｏｒ ｓｙｓｔｅｍ）」「ハイパー圧縮機システム
（Ｈｙｐｅｒ ｃｏｍｐ． ｓｙｓｔｅｍ）」もしくは同様の用語は、供給流、例えば、
以下のうちの少なくとも１つ、ａ）ＨＰＲ（高圧リサイクル）から得られるエチレン系構
成要素、および／またはｂ）一次圧縮機システムから各々得られるエチレン系構成要素を
、その入口圧力で反応器に供給するのに必要な各々の圧力レベルに圧縮する装置を指す。
この圧縮は、１つまたは多数の圧縮段で行うことができ、中間冷却と組み合わせることが
できる。ハイパー圧縮機システムは、往復動式プランジャ圧縮機を備え、単一または複数
の圧縮機フレーム（複数可）からなり得る。単一のフレームを含有するハイパー圧縮機シ
ステムは、「ハイパー圧縮機システム」と呼ぶこともできる。

本明細書で使用される「二次圧縮機の処理量」という用語は、圧縮されて反応器構成に
供給される供給成分、例えばエチレン系供給成分の正味量を指す。二次処理量は、吸入側
での圧縮体積および供給成分、例えばエチレン系成分の密度の関数である。二次圧縮機の
吸入側の圧力および温度条件は、圧縮されるべき供給成分、例えばエチレン系成分の密度
を定義する。

本明細書で使用される「ブースタ圧縮機システム」は、以下の、ａ）ＬＰＳ（低圧分離
器）から得られる低圧リサイクル、およびｂ）任意で、リサイクルされた圧縮機充填漏れ
を、各々一次圧縮機システムの入口側で必要とされる圧力レベルに圧縮する装置である。
この圧縮は、１つまたは多数の圧縮段で行うことができ、中間冷却と組み合わせることが
できる。ブースタ圧縮機システムは、単一または複数の圧縮機フレームからなり得て、一
次圧縮機フレーム（複数可）と潜在的に組み合わせ得る。単一のフレームを含有するブー
スタ圧縮機システムを、「ブースタ圧縮機」と呼ぶこともできる。典型的には、ブースタ
圧縮機システムは、１バールから４０バールの排出圧力または補給エチレンの供給圧力ま
で流れを圧縮する。

本明細書で使用される「段間システム」という用語は、ハイパー圧縮機システムの第１
圧縮機段のプランジャの出口（流）を指し、ハイパー圧縮機システム－圧縮機システムの
第１圧縮段と第２圧縮段との間の段間冷却器（複数可）を含む。段間システムは、第１の
圧縮段の排出（複数可）を第２の圧縮段の吸引部（複数可）に、またはさらなる圧縮段の
排出部から後続の圧縮段の吸引部（複数可）に移送する。

本明細書で使用される「段間冷却器（複数可）」という用語は、さらなる圧縮前にハイ
パー圧縮機システムの圧縮段のプランジャからの排出流を冷却するために使用される冷却
器を指す。

「ハイパー圧縮機エチレン系吸引流」という用語は、補給エチレンおよび任意で補給Ｃ
ＴＡを含む一次圧縮機出力からの所定の組成を有するエチレン系流を指す。ハイパー圧縮
機システムの入口側に供給する少なくとも２つのハイパー圧縮機システムの吸引流があり
、各入口側が第１圧縮段で少なくとも２つのシリンダに供給している。

「２つの別個の吸引流」という語句は、２つのハイパー圧縮機システムエチレン系吸引
流を指し、それぞれが同じ組成または異なる組成を有する。

「ハイパー圧縮機システムの排出」という用語は、最後の圧縮段の後のハイパー圧縮機
システムの出口側を指す。ハイパー圧縮機システムの出口側は、少なくとも２つのエチレ
ン系反応器供給流からなり、各々最後の圧縮段で動作する少なくとも２つのシリンダから
得られる。

本明細書で使用される「排出流（ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｓｔｒｅａｍ）」または「排出
流（ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｆｌｏｗ）」という用語は、圧縮機（例えば、二次圧縮機）の
排出から得られる流れを指す。

本明細書で使用される「補給」または「新規」という用語は、エチレン系供給成分（す
なわち、「補給エチレン」、「補給ＣＴＡ」）に関して、外部供給源（複数可）から提供
される反応物を指し、リサイクルされた供給源（複数可）から内部的に提供されるもので
はない。例えば、一実施形態では、補給エチレンは、重合によって消費された、および／
または、例えばプロセスからのエチレンパージによって失われたエチレンならびにポリマ
ー中の残留エチレンを補うために必要とされる「補給エチレン」として使用される。

本明細書で使用される場合、反応物（すなわち、「リサイクルされたエチレン」、「リ
サイクルされたＣＴＡ」）に関する、「リサイクルされた」という用語は、高圧分離器（
複数可）及び／または低圧分離器（複数可）でポリマーから分離され、反応器に戻される
／圧縮される未反応の反応物を指す。

本明細書で使用される「高圧リサイクル」という用語は、エチレン、ＣＴＡ、入口流か
らの不純物、開始剤からの解離成分、高圧分離器（複数可）のガス上排出中で分離された
溶媒などの未反応反応体を指す。典型的には、パージ流をＨＰＲから採取して、重合プロ
セスにおける不活性成分（複数可）および／または低反応成分の蓄積を防止する。

本明細書で使用される「低圧リサイクル」という用語は、エチレン、ＣＴＡ、入口流か
らの不純物、解離成分開始剤、低圧分離器（複数可）のガス上排出中で分離された溶媒な
どの未反応反応体を指す。

本明細書で使用される「供給」、または「供給流（ｆｅｅｄ ｆｌｏｗ）」、または「
供給流（ｆｅｅｄ ｓｔｒｅａｍ）」という用語は、入口で反応区域に添加される補給の
および／またはリサイクルされた成分（例えば、エチレン、開始剤、ＣＴＡ、および／ま
たは溶剤）を指す。

本明細書で使用される「モル分率」という用語は、混合物中の１つの成分の、混合物の
成分の全モルに対するモル比を指す。モル分率は、モル量またはモル流の比を計算するこ
とによって決定することができる。

本明細書で使用される「重量分率」という用語は、混合物中の１つの成分の、混合物の
成分の総量に対する重量比を指す。

本明細書で使用される「第１の反応区域（ＦＥ１）に供給される補給エチレンの重量分
率」という語句は、第１の反応区域に（前部流を介して）供給されるエチレン足す任意の
コモノマー（複数可）足す任意のＣＴＡ（複数可）の量で割った第１の反応区域に（前部
流を介して）供給される補給エチレンの量を指す。

本明細書で使用される「第ｎの反応区域（ＦＥｎ）に供給される補給エチレンの重量分
率」という語句は、第ｎの反応区域に（側部流を介して）供給されるエチレン足す任意の
コモノマー（複数可）足す任意のＣＴＡ（複数可）の量で割った第ｎの反応区域に（側部
流を介して）供給される補給エチレンの量を指す。

本明細書で使用される「供給ｉ」という語句は、反応区域ｉに送られたエチレン系供給
の総量で割った、反応区域ｉに供給された一次圧縮機システムの出力からのエチレン系供
給流の量を指す。

本明細書で使用される「最後の２つのエチレン系供給流の合計」という語句は、反応器
への最後の２つのエチレン系供給流の総量を指す。例えば、２５重量％、２５重量％、お
よび５０重量％の３つのエチレン系供給流を示す２５／２５／５０／０の反応器構成では
、最後の２つのエチレン系供給流の合計は２５重量％＋５０重量％＝７５重量％。

「ＣＴＡシステム」という用語は、典型的にはメルトインデックスを制御するために、
重合プロセスに添加される単一のＣＴＡまたはＣＴＡの混合物を含む。ＣＴＡシステムは
、ラジカルを含有する成長中のポリマー分子に水素原子を移動させることができる成分を
含み、ＣＴＡ分子上にラジカルが形成され、次にそれが新しいポリマー鎖を開始すること
ができる。ＣＴＡは、テロゲンまたはテロマーとしても知られている。本明細書で使用さ
れる「ＣＴＡ活性」または「連鎖移動活性係数（Ｃｓ値）」という用語は、「連鎖移動速
度」と「エチレン移動速度」との間の比を指す。以下の実験セクションで提供されている
Ｍｏｒｔｉｍｅｒの参考文献を参照されたい。本明細書で使用される用語「Ｚ１／Ｚｉ」
は以下のように決定される。「反応器区域ｉ（［ＣＴＡ］_ｊｉ）におけるＣＴＡ_ｊの反応
器区域モル濃度」は、「反応器区域ｋ＝１～ｋ＝ｉへのＣＴＡ供給（前の反応区域からの
移動は除く）の総モル量」を、「反応区域１～ｉへのエチレン供給（前の反応区域からの
移動は除く）の総モル量」で割ったものとして定義される（ｉ≧１）。Ｚ１／Ｚｉの例示
的な計算を表２に示す。この関係は、以下に等式ＡＣで示される。

等式ＡＣにおいて、ｊ≧１であり、は、「ｋ番目の反応器区域に注入されたｊ番目のＣ
ＴＡ補給のモル量（ｋ＝１～ｉ）」であり、

は、「ｋ番目の反応区域に注入されたｊ番目のＣＴＡ補給のモル量（ｋ＝１～ｉ）であ
り、

は、「ｋ番目の反応区域に注入されたエチレン補給のモル量（ｋ＝１～ｉ）」である。

「反応器区域Ｉ（Ｚｉ）におけるＣＴＡ（システム）の移動活性」は、「反応区域内の
各ＣＴＡの反応器区域モル濃度の合計」にその連鎖移動活性定数（Ｃｓ）を掛けたものと
して定義される－等式ＢＣを参照されたい。連鎖移動活性定数（Ｃｓ）は、基準圧力（１
３６０気圧）および基準温度（１３０℃）における反応速度比Ｋｓ／Ｋｐである。この関
係は、以下に等式ＢＣで示されており、ｎ_{ｃｏｍｐｉ}は、反応区域ｉにおけるＣＴＡの総
数である。ｉ≧１、およびｎ_{ｃｏｍｐｉ}≧１であることに留意する。

本明細書で使用される「ＦＥ１／ＦＥｉ」という用語は、反応区域ｎについて、「第１
の反応区域（ＲＺ１）に供給される補給エチレンの重量分率」対「反応区域ｎ（Ｚｉ）に
供給される補給エチレンの重量分率」（ｉ＞１）の比を指す。ＦＥ１／ＦＥｉの例示的な
計算を表２に示す。本明細書で使用される「供給条件」という用語は、反応器に供給され
る成分、例えばエチレン、ＣＴＡ、開始剤、および／またはコモノマー（複数可）のモル
（または重量）における流れを指す。

実験
重合用ＣＴＡシステム。本発明の動作のための潜在的なＣＴＡシステム：
表１は、高（プロピオンアルデヒド）、中（プロピレン）、および低（イソブタン）Ｃ
ＴＡの実施例を含む。より多くのＣＴＡ候補が、Ｍｏｒｔｉｍｅｒの参考文献内に見出さ
れ得る。典型的には、反応器中のＣＴＡの転化レベルは、ＣＴＡ活性およびエチレン転化
レベルの関数である。典型的には、反応器中のモルＣＴＡ消費量は、生成物のメルトイン
デックスおよび反応器条件の関数であり、ＣＴＡ活性の影響を受けないが、反応器中で必
要とされるＣＴＡレベルはＣＴＡ活性の関数であり、低活性ＣＴＡのものがより高く、高
活性ＣＴＡのものがより低く、低活性ＣＴＡの場合は低い転化レベル、高活性ＣＴＡの場
合は高転化レベルとなる。その結果、ＣＴＡ補給流は、低い活性のＣＴＡの場合の低い影
響に対して、高いＣＴＡの場合のＣＴＡ濃度の分配へのより大きな影響を有する。

そのＣＴＡの機能性のほかにプロピレンはコモノマーとしても作用し、追加のメチル分
岐をもたらす。これらの追加のメチル分岐は、典型的にはポリマーの密度を０．００１～
０．００４ｇ／ｃｃまで低下させる。さらに、コモノマー活性は、反応器パス当たりの全
体的な消費レベルを増加させ、ＣＴＡおよびコモノマーとしての消費量を補うために、よ
り多くのプロピレンを添加しなければならない。

参考文献：一般：Ｇ．Ｌｕｆｔ，Ｃｈｅｍ．－Ｉｎｇ．－Ｔｅｃｈ．，Ｈｏｃｈｄｒｕ
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ｌｅｎｅ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ Ｐａｒｔ Ｖ．Ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ
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ｏｒｔｉｍｅｒ，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ
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Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ，３６，２１－
４０，１９８１（Ｔｉｔｌｅ：Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｍｏｄｅｌ ｆｏｒ ｃｏｍｍｅｒｃ
ｉａｌ ｈｉｇｈ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｒｅａｃｔｏｒ ｂ
ａｓｅｄ ｏｎ ｅｌｅｍｅｎｔａｒｙ ｒｅａｃｔｉｏｎ ｒａｔｅｓ ｏｂｔａｉｎ
ｅｄ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌｌｙ）におけるシミュレーションモデルを参照されたい
。

ＣＰ１で使用されるプロセス流れ図（シミュレーションされた重合）－図１（ＣＰ１）
は、全エチレン系供給流が第１の反応区域にのみ分配される略系統図を示す。高圧リサイ
クル（ＨＰＲ）流（ライン１）は、組み合わされた低圧リサイクルと補給エチレンとを混
合して（ライン２）、形成され（ライン６）、ハイパー圧縮機システムの吸引部に送られ
る。ハイパー圧縮機システム（ライン１１）からの排出流は、反応器の第１の反応区域に
送られる。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システムの吸引時にプロセスに添加され、任意
で、第１段と第２段の間の断面で、またはハイパー圧縮機システムの排出時に供給され得
る。

ＣＰ２で使用されるプロセス流れ図（図２）－図２は、比較実施例ＣＰ２を製造するた
めに使用される管状反応器を有する高圧重合プロセスの略系統図を示すＣＰ２を示す。エ
チレン補給流（１）は、一次圧縮機システムによってブースタ圧縮システムの出口と共に
圧縮され、流れ（３）を生じる。流れ（３）は、ライン５を通じて反応器の側部（８）に
供給するハイパー圧縮機システムの部分に高圧リサイクル流（１９）からの追加のエチレ
ンと共に供給される。前部流（９）に供給するハイパー圧縮機システムの部分は、ライン
（１９）および（５）を介して高圧リサイクル流（１９）からエチレン供給を受け取る。
ライン（６）およびライン（７）は、ＣＴＡをそれぞれライン（４）および／またはライ
ン（５）に個別に供給するためのそれぞれの個別ラインを示す。反応器システムについて
の情報は、以下に見出され得る。反応器では、フリーラジカル開始系の補助を得て重合が
開始され、各反応区域の入口で注入及び／または活性化される。各反応区域の最高温度は
、各反応区域の開始時の開始系の濃度及び／または供給量を調節することによって設定点
で制御される。反応を終了し、複数の冷却ステップを適用した後、反応混合物を、（１０
）で減圧および／または冷却し、ステップに分離する。

ＣＰ３に使用されるプロセス略系統図－図３は、一次圧縮機システムによって、ブース
タ圧縮システムの出力と共に圧縮され、流れ（２）および（３）をもたらすＣＰ３流（１
）、エチレン補給を製造するために使用される管状反応器を用いた高圧重合プロセスの略
系統図を示す。流れ（３）は、高圧リサイクル流（１９）と合流し、ライン（５）を通じ
て反応器の前部（９）に供給するハイパー圧縮機システムの部分に供給される。側流（８
）に供給するハイパー圧縮機システムの部分は、ライン（４）を通じてエチレン供給を受
ける。ライン（４）は、ライン（１８）からエチレン供給を受ける。ＣＴＡは、ライン（
２３）を通じて供給される。ライン２２は、ＣＴＡ成分を供給する任意のラインだが、こ
の実施例では使用されていない。ハイパー圧縮機システムは、高圧管状反応器（反応器）
に供給するのに十分なレベルまでエチレン供給流を加圧する。反応器では、フリーラジカ
ル開始系の補助を得て重合が開始され、各反応区域の入口で注入及び／または活性化され
る。各反応区域の最高温度は、各反応区域の開始時の開始系の濃度及び／または供給量を
調節することによって設定点で制御される。反応を終了し、複数の冷却ステップを適用し
た後、反応混合物を、（１０）で減圧および／または冷却し、手順に分離する。

ＣＰ４およびＣＰ５に使用されるプロセス流れ図（図４ａ）－図４ａ（ＣＰ４、ＣＰ５
）は、３つのエチレン系反応器供給分配（３３／３３／３３／０）を有する略系統図を示
す。ハイパー圧縮機システムは１０個のシリンダを有し、そのうちの４個のシリンダが第
１段に導入され、６個のシリンダが第２段にある。吸引ライン５および７ならびに段間ラ
イン８および１０は、それぞれ、全エチレン系流の５０％を処理するが、排出ラインまた
は反応器供給ライン１１、１２、および１３は、それぞれ、全エチレン系流の１／３また
は３３％を処理する。任意で、圧力均衡ライン（ｂ１、ｂ２、またはｂ３）を導入し、ラ
イン８、１０、１１、１２、または１３の圧力および／または流れの脈動を低減すること
ができる。ライン８および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システム段間ライ
ンを示す。高いＣＴＡ濃度を有するＨＰＲ流（ライン１）は、ライン６を作製するために
、低いＣＴＡ濃度を有するＬＰＲおよび補給エチレン（ライン２）と組み合わされる。補
給ＣＴＡは、例えば、ＣＴＡ１、ＣＴＡ２、ＣＴＡ４、および／またはＣＴＡ３を介して
異なる場所に添加され得る。この構成では、反応器供給物中のＣＴＡレベルは、供給場所
あたりの補給ＣＴＡ供給物の量によってのみ影響され得る。

ＩＰ４．１、ＩＰ４．２、ＩＰ４．３、ＩＰ５．１、ＩＰ５．２、およびＩＰ５．３に
使用されるプロセス流れ図（図４ｂ）－図４ｂ（ＩＰ４．１、ＩＰ４．２、ＩＰ４．３、
ＩＰ５．１、ＩＰ５．２、およびＩＰ５．３）は、３つのエチレン系反応器供給分配（３
３／３３／３３／０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システムは１０個のシリ
ンダを有し、そのうちの４個のシリンダが第１段に導入され、６個のシリンダが第２段に
ある。吸引ライン５および７ならびに段間ライン８および１０は、それぞれ、全エチレン
系流の５０％を処理するが、排出ラインまたは反応器供給ライン１１、１２、および１３
は、それぞれ、全エチレン系流の１／３または３３％を処理する。任意で、均衡ライン（
ｂ１、ｂ２、またはｂ３）を導入し、ライン８、１０、１１、１２、または１３の圧力お
よび／または流れの脈動を低減することができる。ライン８および１０は、段間冷却器を
有するハイパー圧縮機システムの段間ラインを示す。

分配制御システム無しの説明（図４ｂ）１ａ、１ｂ、２ａ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、Ｃ
Ｖ３、およびＣＶ４。高濃度のＣＴＡ（ライン１および１ａ）を有するＨＰＲ流は、主に
、ライン５を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる。残存するＨＰＲ流（ラ
イン６）は、ＬＰＲ流／補給エチレン（低ＣＴＡ濃度、ライン２および２ａ）と合流され
、ライン７を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる。ライン８からの排出流
は、ライン１１（全エチレン系供給分配の３３．３％からなる）が第１の反応区域に送ら
れる２つの流れに分割される。排出流１１、１２、および１３は、それぞれ２つのシリン
ダから圧縮されたエチレンを受ける。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２
および／またはＣＴＡ３）の吸引に添加し得るか、第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供
給され、従って第１の反応区域でＣＴＡレベルを向上する。ＣＴＡ２および／またはＣＴ
Ａ４を介したＣＴＡ注入と組み合わせたこの構成は、狭いＭＷＤポリマーの作製に好まし
い。

例えば、１ｂ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４からなる任意の分配制御
システム（図４ｂ）は、導入して使用され得る。このシステムは、ライン１および２から
のエチレン系流がライン５および７を通ってどのように分配されるかを制御することがで
きる。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は、ライン１およびライン２をライン５お
よびライン７を通って分配する、ライン１ａ、２ｂ、１ｂ、および２ａ内の制御弁である
。５および６を通ってライン１ｂおよび２ｂによる１および２のこの潜在的な逆の分配は
、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから非常に広く、ＭＷＤポリマー間で広げる。補給ＣＴＡ
は、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）の吸引に添加され得る
か、または第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供給され得る。

ＣＰ６およびＣＰ７に使用されるプロセス流れ図（図５ａ）－図５ａ（ＣＰ６およびＣ
Ｐ７）は、３つのエチレン系供給分配（３３／３３／３３／０）を有する略系統図を示す
。ハイパー圧縮機システムは、１２個のシリンダを有し、そのうちの６個のシリンダが第
１段に、６個のシリンダが第２段にある。吸引ライン５、６ａ、および７、ならびに段間
ライン８、９、および１０ならびに排出または反応器供給ライン１１、１２、および１３
は、それぞれ、全エチレン系流の１／３または３３％を処理する。任意で、均衡ライン（
ｂ１、ｂ２、ｂ３、およびまたはｂ４）を導入し、ライン８、９、１０、１１、１２、ま
たは１３の圧力および／または流れの脈動を低減することができる。ライン８、９、およ
び１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システム段間ラインを示す。高いＣＴＡ濃
度を有するＨＰＲ流（ライン１）は、ライン６を作製するために、低いＣＴＡ濃度を有す
るＬＰＲおよび補給エチレン（ライン２）と組み合わされる。補給ＣＴＡは、例えば、Ｃ
ＴＡ１、ＣＴＡ２、ＣＴＡ４、および／またはＣＴＡ３を介して異なる場所に添加され得
る。この構成では、反応器供給物中のＣＴＡレベルは、場所あたりの補給ＣＴＡ供給物の
量によってのみ影響され得る。

ＩＰ６．１、ＩＰ６．２、ＩＰ６．３、ＩＰ７．１、ＩＰ７．２、およびＩＰ７．３に
使用されるプロセス流れ図（図５ｂ）－図５ｂ（ＩＰ６．１、ＩＰ６．２、ＩＰ６．３、
ＩＰ７．１、ＩＰ７．２、およびＩＰ７．３）は、３つのエチレン系反応器供給分配（３
３／３３／３３／０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システムは、１２個のシ
リンダを有し、そのうちの６個のシリンダがそれぞれ第１段および第２段に導入される。
吸引ライン５、６ａ、および７、ならびに段間ライン８、９、および１０ならびに排出ま
たは反応器供給ライン１１、１２、および１３は、それぞれ、全エチレン系流の１／３ま
たは３３％を処理する。ライン３と４は、流れ均衡接続である。任意で、均衡ライン（ｂ
１、ｂ２、ｂ３、および／またはｂ４）を導入し、ライン８、９、１０、１１、１２、お
よび／または１３の圧力および／または流れの脈動を低減することができる。ライン８、
９、および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システム段間ラインを示す。分配
制御システム無しの説明１ａ、１ｂ、２ａ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ
４。

高濃度のＣＴＡ（ライン１および１ａ）を有するＨＰＲ流は、主に、ライン５を介して
ハイパー圧縮機システムの吸引部に送られ、一方で、ＬＰＲ流／補給エチレン（低ＣＴＡ
濃度、ライン２および２ａ）は、ライン６ａを介して、ハイパー圧縮機システムの吸引部
に送られる。残存するＨＰＲ流（ライン３）は、残存するＬＰＲ流／補給エチレン（ライ
ン４）と合流され、ライン６ａを介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる。排
出流１１、１２、および１３は、それぞれ２つのシリンダから圧縮されたエチレンを受け
る。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）の吸引
に添加し得るか、第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供給され、従って第１の反応区域で
ＣＴＡレベルを向上する。ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ４を介したＣＴＡ注入と組み合
わせたこの構成は、狭いＭＷＤポリマーの作製に好ましい。

例えば、１ｂ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４からなる任意の分配制御
システム（図５ｂ）は、導入して使用され得る。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４
は、ライン１およびライン２をライン５、６ａ、および７を通って分配する、ライン１ａ
、２ｂ、１ｂ、および２ａ内の制御弁である。５、６ａ、および７を通ってライン１ｂお
よび２ｂによる１および２のこの潜在的な逆の分配は、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから
非常に広く、ＭＷＤポリマー間で広げる。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴ
Ａ２および／またはＣＴＡ３）の吸引に添加され得る。

ＣＰ８およびＣＰ９に使用されるプロセス流れ図（図６ａ）－図６ａ（ＣＰ８およびＣ
Ｐ９）は、３つのエチレン系供給分配（２５／２５／５０）を有する略系統図を示す。ハ
イパー圧縮機システムは、１４個のシリンダを有し、そのうちの６個のシリンダが第１段
に、８個のシリンダが第２段にある。吸引ライン５、６ａ、および７ならびに段間ライン
８、９、および１０は、それぞれ、全エチレン系流の１／３または３３％を処理するが、
排出ライン１１、１２、および１３は、全エチレン系供給流の２５％、２５％、および５
０％を処理する。任意で、均衡ライン（ｂ１、ｂ２、ｂ３、およびまたはｂ４）を導入し
、ライン８、９、１０、１１、１２、または１３の圧力および／または流れの脈動を低減
することができる。ライン８、９、および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機シ
ステム段間ラインを示す。ライン９は、９ａと９ｂに分かれる。高いＣＴＡ濃度を有する
ＨＰＲ流（ライン１またはライン１ａ）は、ライン６ａを作製するために、低いＣＴＡ濃
度を有するＬＰＲおよび補給エチレン（ライン２またはライン２ａ）と組み合わされる。
補給ＣＴＡは、例えば、ＣＴＡ１、ＣＴＡ２、ＣＴＡ４、および／またはＣＴＡ３を介し
て異なる場所に添加され得る。この構成では、反応器供給物中のＣＴＡレベルは、補給Ｃ
ＴＡ供給物の場所によってのみ影響され得る。

ＩＰ８．１、ＩＰ８．２、ＩＰ８．３、ＩＰ９．１、ＩＰ９．２、およびＩＰ９．３に
使用されるプロセス流れ図（図６ｂ）－図６ｂ（ＩＰ８．１、ＩＰ８．２、ＩＰ８．３、
ＩＰ９．１、ＩＰ９．２、およびＩＰ９．３）は、３つのエチレン系反応器供給分配（２
５／２５／５０／０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システムは、１４個のシ
リンダを有し、そのうちの６個のシリンダがそれぞれ第１段に導入され、８個のシリンダ
が第２段にある。吸引ライン５、６ａ、および７ならびに段間ライン８、９、および１０
は、それぞれ、全エチレン系流の１／３または３３％を処理するが、排出ライン１１、１
２、および１３は、全エチレン系流の２５％、２５％、および５０％を処理する。ライン
３および４は、ハイパー圧縮機システムの吸引に送る前の均衡流ラインである。任意で、
均衡ライン（ｂ１、ｂ２、ｂ３、および／またはｂ４）を導入し、ライン８、９、１０、
１１、１２、および／または１３の圧力および／または流れの脈動を低減することができ
る。ライン８、９、および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システム段間ライ
ンを示す。ライン９は、９ａと９ｂに分かれる。

分配制御システム無しの説明（図６ｂ）１ａ、１ｂ、２ａ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、Ｃ
Ｖ３、およびＣＶ４。高濃度のＣＴＡ（ライン１および１ａ）を有するＨＰＲ流は、主に
、ライン５を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られ、一方で、ＬＰＲ流／補給
エチレン（低ＣＴＡ濃度、ライン２および２ａ）は、ライン７を介して、ハイパー圧縮機
システムの吸引部に送られる。残存するＨＰＲ流（ライン３）は、残存するＬＰＲ流／補
給エチレン（ライン４）と合流され、ライン６ａを介してハイパー圧縮機システムの吸引
部に送られる。排出流１１、１２は、それぞれ、２つのシリンダからの全圧縮エチレン系
の２５％を受け取り、一方、排出流１３は、４つのシリンダからの全圧縮エチレン系流の
５０％を受け取る。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣ
ＴＡ３）の吸引に添加し得るか、第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供給され、従って第
１の反応区域でＣＴＡレベルを向上する。ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ４を介したＣＴ
Ａ注入と組み合わせたこの構成は、狭いＭＷＤポリマーの作製に好ましい。

例えば、１ｂ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４からなる任意の分配制御
システム（図ｂ）は、導入して使用され得る。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は
、ライン１およびライン２をライン５、６ａ、および７を通って分配する、ライン１ａ、
２ｂ、１ｂ、および２ａ内の制御弁である。５、６ａ、および７を通ってライン１ｂおよ
び２ｂによる１および２のこの潜在的な逆の分配は、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから非
常に広く、ＭＷＤポリマー間で広げる。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は、ライ
ン１およびライン２をライン５、６ａ、および７を通って分配する、ライン１ａ、２ｂ、
１ｂ、および２ａ内の制御弁である。５、６ａ、および７を通ってライン１ｂおよび２ｂ
による１および２のこの潜在的な逆の分配は、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから非常に広
く、ＭＷＤポリマー間で広げる。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２およ
び／またはＣＴＡ３）の吸引に添加され得る。

ＣＰ１０およびＣＰ１１に使用されるプロセス流れ図（図７ａ）－図７ａは、３つのエ
チレン系供給分配（２５／２５／５０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システ
ムは、１４個のシリンダを有し、そのうちの６個のシリンダが第１段に、８個のシリンダ
が第２段にある。吸引ライン５および７ならびに段間ライン８および１０は、それぞれ、
全エチレン系流の５０％を処理するが、排出ライン１１、１２、および１３は、反応器シ
ステムに供給される全圧縮エチレン系供給流の２５％、２５％、および５０％を処理する
。任意で、均衡ライン（ｂ１、ｂ２、ｂ３、および／またはｂ４）を導入し、ライン８、
１０、１１、１２、および／または１３の圧力および／または流れの脈動を低減すること
ができる。ライン８および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システムの段間ラ
インを示す。

高いＣＴＡ濃度を有するＨＰＲ流（ライン１またはライン１ａ）は、ライン６を作製す
るために、低いＣＴＡ濃度を有するＬＰＲおよび補給エチレン（ライン２またはライン２
ａ）と組み合わされる。補給ＣＴＡは、例えば、ＣＴＡ１、ＣＴＡ２、ＣＴＡ４、および
／またはＣＴＡ３を介して異なる場所に添加され得る。この構成では、反応器供給物中の
ＣＴＡレベルは、補給ＣＴＡ供給物の場所によってのみ影響され得る。

ＩＰ１０．１、ＩＰ１０．２、ＩＰ１０．３、ＩＰ１１．１、ＩＰ１１．２、およびＩ
Ｐ１１．３のプロセス流れ図（図７ｂ）－図７ｂは、３つのエチレン系反応器供給分配（
２５／２５／５０／０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システムは、１４個の
シリンダを有し、そのうちの６個のシリンダがそれぞれ第１段に導入され、８個のシリン
ダが第２段にある。吸引ライン５および７ならびに段間ライン８および１０は、それぞれ
、全エチレン系流の５０％を処理するが、排出ライン１１、１２、および１３は、全エチ
レン系流の２５％、２５％、および５０％を処理する。ライン６は、ハイパー圧縮機シス
テムの吸引に送る前の均衡流ラインである。任意で、均衡ライン（ｂ１、ｂ２、および／
またはｂ３）を導入し、ライン８、９、１０、１１、１２、および／または１３の圧力お
よび／または流れの脈動を低減することができる。ライン８および１０は、段間冷却器を
有するハイパー圧縮機システムの段間ラインを示す。

分配制御システム無しの説明（図７ｂ）１ａ、１ｂ、２ａ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、Ｃ
Ｖ３、およびＣＶ４。高濃度のＣＴＡ（ライン１および１ａ）を有するＨＰＲ流は、主に
、ライン５を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られ、一方で、ＬＰＲ流／補給
エチレン（低ＣＴＡ濃度、ライン２および２ａ）は、ＨＰＲからの残存流（ライン６）と
組み合わされ、ライン７を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる。排出流１
１、１２、および１３は、全圧縮エチレン系供給流の２５％、２５％、および５０％を受
けている。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）
の吸引に添加し得るか、第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供給され、従って第１の反応
区域でＣＴＡレベルを向上する。ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ４を介したＣＴＡ注入と
組み合わせたこの構成は、狭いＭＷＤポリマーの作製に好ましい。例えば、１ｂ、２ｂ、
ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４からなる任意の分配制御システム（図７ｂ）は、
導入して使用され得る。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は、ライン１およびライ
ン２をライン５および７を通って分配する、ライン１ａ、２ｂ、１ｂ、および２ａ内の制
御弁である。５および７を通ってライン１ｂおよび２ｂによる１および２のこの潜在的な
逆の分配は、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから非常に広く、ＭＷＤポリマー間で広げる。
補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）の吸引に添
加され得る。

ＣＰ１２およびＣＰ１３に使用されるプロセス流れ図（図８ａ）－図８ａは、３つのエ
チレン系供給分配（２５／２５／５０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システ
ムは、１６個のシリンダを有し、そのうちの各８個のシリンダが第１段および第２段に導
入される。吸引ライン３ａ、５、７、および４ａならびに段間ライン８および１０は、そ
れぞれ、全エチレン系流の２５％を処理するが、排出ライン１１、１２、および１３は、
全エチレン系供給流の２５％、２５％、および５０％を、それぞれ処理する。任意で、均
衡ライン（ｂ１、ｂ２、ｂ３、および／またはｂ４）を導入し、ライン８、９、１０ａ、
１０、１１、１２、または１３の圧力および／または流れの脈動を低減することができる
。ライン８、９、１０ａ、および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機システム段
間ラインを示す。高いＣＴＡ濃度を有するＨＰＲ流（ライン１またはライン１ａ）は、ラ
イン６を作製するために、低いＣＴＡ濃度を有するＬＰＲおよび補給エチレン（ライン２
またはライン２ａ）と組み合わされる。補給ＣＴＡは、例えば、ＣＴＡ１、ＣＴＡ２、Ｃ
ＴＡ４、および／またはＣＴＡ３を介して異なる場所に添加され得る。この構成では、反
応器供給物中のＣＴＡレベルは、補給ＣＴＡ供給物の場所によってのみ影響され得る。

ＩＰ１２．１、ＩＰ１２．２、ＩＰ１２．３、ＩＰ１３．１、ＩＰ１３．２、およびＩ
Ｐ１３．３用のプロセス流れ図（図８ｂ）－図８ｂは、３つのエチレン系反応器供給分配
（２５／２５／５０／０）を有する略系統図を示す。ハイパー圧縮機システムは、６個の
シリンダを有し、そのうちの８個のシリンダがそれぞれ第１段および第２段に導入される
。吸引ライン３ａ、５、７、および４ａならびに段間ライン８、９、１０ａ、および１０
は、それぞれ、全エチレン系流の２０％を処理するが、排出ライン１１、１２、および１
３は、全エチレン系流の２５％、２５％、および５０％を処理する。ライン３ｂ、６、お
よび４ｂは、ハイパー圧縮機システムの吸引に送る前の均衡流ラインである。任意で、均
衡ライン（ｂ１、ｂ２、ｂ３、および／またはｂ４）を導入し、ライン８、９、１０ａ、
１０、１１、１２、および／または１３の圧力および／または流れの脈動を低減すること
ができる。ライン８、９、１０ａ、および１０は、段間冷却器を有するハイパー圧縮機シ
ステム段間ラインを示す。ライン８、９、１０ａ、および１０は、段間冷却器を有するハ
イパー圧縮機システム段間ラインを示す。分配制御システム無しの説明（図８ｂ）１ａ、
１ｂ、２ａ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４。高濃度のＣＴＡ（ライン１
および１ａ）を有するＨＰＲ流は、主に、ライン３ａおよび５を介してハイパー圧縮機シ
ステムの吸引部に送られ、一方で、ＬＰＲ流／補給エチレン（低ＣＴＡ濃度、ライン２お
よび２ａ）は、主に、ライン４ａを介して、ハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる
。ＨＰＲからの残存流（ライン６）は、ＬＰＲ流／補給からの残存流と合流され、ライン
７を介してハイパー圧縮機システムの吸引部に送られる。排出流１１、１２、および１３
は、全圧縮エチレン系供給流の２５％、２５％、および５０％を受けている。補給ＣＴＡ
は、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）の吸引に添加し得るか
、第１の反応区域（ＣＴＡ４）に直接供給され、従って第１の反応区域でＣＴＡレベルを
向上する。ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ４を介したＣＴＡ注入と組み合わせたこの構成
は、狭いＭＷＤポリマーの作製に好ましい。例えば、１ｂ、２ｂ、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ
３、およびＣＶ４からなる任意の分配制御システム（図８ｂ）は、導入して使用され得る
。ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は、ライン１およびライン２をライン３ａ、５
、７、および４ａを通って分配する、ライン１ａ、２ｂ、１ｂ、および２ａ内の制御弁で
ある。３ａ、５、７、および４ａを通ってライン１ｂおよび２ｂによる１および２のこの
潜在的な逆の分配は、ＭＷＤ能力を非常に狭いものから非常に広く、ＭＷＤポリマー間で
広げる。補給ＣＴＡは、ハイパー圧縮機システム（ＣＴＡ２および／またはＣＴＡ３）の
吸引に添加され得る。

図５ｂに示されている選択肢のような代表的な制御システムの実施例の説明－
ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は、制御弁である。１ａおよび１ｂは、ハイパ
ー圧縮機システムレベルの吸引流５、６ａ、および７を通る流れ１および流れ５の分配を
変更／制御するためのラインである。ハイパー圧縮機システムの吸引流５、６ａ、および
７を介して流れ１および２を分配する以下の制御シナリオが可能である。
・ＣＶ２およびＣＶ３が閉じているとき、ライン５はライン１からエチレン系流を受
け取り、ライン７は流れ２からエチレン系流を受け取る。流れ６ａは、流れ１および任意
で流れ２からエチレン系流を受け取る。
・ＣＶ１およびＣＶ４が閉じているとき、ライン５はライン２からエチレン系流を受
け取り、ライン７は流れ１からエチレン系流を受け取る。流れ６ａは、流れ１および任意
で流れ２からエチレン系流を受け取る。
・ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４の位置が制御されるとき、流れ１および流
れ２がライン５および７にわたって自由に分配され得る一方、流れ６ａは流れ１および流
れ２からエチレン系流を受け取る。

Ｃ２＝およびＣＴＡの相対質量バランスを確立することにより反応器供給流にわたる補
給エチレンおよび全体的なＣＴＡの相対分配の導出（代表的な実施例としてのＩＰ８．１
の実施例）
表２は、ＩＰ８．１の実施例で使用されているような、反応器供給流にわたるエチレン
およびＣＴＡ分配の導出を示す。この実施例は、３つのエチレン系供給流分配（２５／２
５／５０／０）を有する１４個のシリンダのハイパー圧縮機システムに対して、図５ｃに
示されるプロセス略系統図を利用する。第１段は６個のシリンダを含み、３つのグループ
の２個のシリンダに分割され、各グループは全エチレン系供給分配の３３％を受け取る。
しかし、その後、ＨＰＲおよびＬＰＲからの主な流れはライン５およびライン７に続いて
送られ、一方、組み合わされた残りの流れはライン６ａに送られる。ライン５、６ａ、お
よび７は、その後、異なる反応区域に送られ、分化したＣＴＡレベルをもたらす。

相対質量バランス計算では、反応器に送られたエチレンおよびＣＴＡの総量を両方とも
１００％に設定した。相対質量バランス計算では、反応器に送られたエチレンおよびＣＴ
Ａの総量を両方とも１００％に設定した。エチレンの相対的な補給量は、反応器内の転化
率＋パージしたエチレン％に等しい。ＣＴＡについても同様の計算を行った。ＦＥ１、Ｆ
Ｅ２、およびＦＥ３は、補給Ｃ２＝の相対重量分率を表し、一方でＦＲＺ１、ＦＲＺ２、
およびＦＲＺ３は反応器供給流中に供給される補給ＣＴＡの相対重量分率を表す。反応器
供給流中のＣＴＡの相対量の助けにより、反応区域に供給される累積ＣＴＡ中の相対濃度
を計算することができる。Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３は、対応する反応区域に対するＣＴＡ
の累積相対濃度を表す。ＩＰ８．１の実施例では、２８％、２％、および６．２％のＬＰ
Ｒ（ポリマーへの２２％エチレンエントレインメント×２８％Ｃ２＝転化率）へ送られる
ポリマー中のエチレン転化率、エチレンパージ、およびエントレインメントの仮定がなさ
れている。補給エチレンは、ポリマーに転化されたＣ２、パージ、およびＬＰＲに送られ
るＣ２＝流れの全流れである。補給ＣＴＡは、転化されたＣＴＡおよびパージ流の全流れ
である（各流のＣＴＡは表２に見出すことができる）。

表２：反応区域への反応器供給流にわたる補給エチレンおよび全体的なＣＴＡの相対分
配の導出（ＩＰ８．１）。

管状反応器用の比較重合：ＣＰ２およびＣＰ３（実際の重合）
ＣＰ２およびＣＰ３重合では、３つの反応区域システム（５０／３５／１５）にわたっ
て分配された３つのエチレン系供給を使用する。ＣＰ２では、ＬＰＲ／補給エチレンは主
に反応区域２および３にわたって分配し、一方で補給ＣＴＡと一緒のＨＰＲからの大部分
は主に第１反応区域に送られ（図２参照）、反応器システムの前部で高いＣＴＡ濃度をも
たらす。全ＬＰＲ／補給エチレンを第１反応区域に送り、一方で補給ＣＴＡを有する全Ｈ
ＰＲ流を次の反応区域に送る逆の操作は、第１反応区域での低いＣＴＡ濃度をもたらす。
表１０ａおよび１０ｂに示すように、最初のエチレン系流と最後のエチレン系流（Ｚ１／
Ｚ３）との間の反応区域への最終的なＣＴＡ分配は、４．８～５．８のＭＷＤ（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）、１．２～２．３ｃＮの溶融弾性、および１７０℃での６７～９９ＰａのＧ’におけ
る増加に対応するＣＰ２およびＣＰ３について、それぞれ１．３７および０．７１である
。ＨＰＲおよび一次圧縮機システム（ＬＰＲ／補給エチレン）から得られる第１の反応区
域へのエチレン系流の分配はＭＷＤパラメータおよび溶融弾性およびＧ’のようなレオロ
ジー特性に関して生成ポリマーに強く影響することが結論付けられ得る。プロセス条件お
よび生成物の特徴付けの結果を表６ａおよび６ｂに示す。

管状反応器用の比較重合：ＣＰ４～ＣＰ１３－ＣＰ４～ＣＰ７は、第１および第２の圧
縮段のために配置された複数のシリンダ（ＣＰ４およびＣＰ５用の１０個のシリンダ、Ｃ
Ｐ６およびＣＰ７用の１２個のシリンダ）を含むハイパー圧縮機システムを使用し、３３
／３３／３３の反応器構成に適用される（図４ａおよび図５ａ参照）。ＣＰ８～ＣＰ１１
は、図６ａおよび図７ａを参照して、１４個のシリンダ（第１段の６個のシリンダと第２
段の８個のシリンダ）を含むハイパー圧縮機システムを示し、一方でＣＰ１２およびＣＰ
１３については１６個のシリンダ（各段は８個のシリンダを含む）が使用される（図８ａ
参照）。実施例ＣＰ８～ＣＰ１３は、２５／２５／５０／０反応器構成のために使用され
る。図４ａ～７ａに示すように、ＨＰＲおよびＬＰＲ／補給エチレン流は、ハイパー圧縮
機システムの第１段に分配される前にライン６に組み合わされる。補給ＣＴＡ（ＣＴＡ１
）がライン６に添加され、均等なＣＴＡ分配をもたらす。しかしながら、補給ＣＴＡ（Ｃ
ＴＡ３、ＣＴＡ４）は、第１の反応区域におけるＣＴＡ濃度を区別するために添加される
。各流の（ＣＴＡ１を有する）質量バランスの詳細計算は、それぞれ２８％および３８％
のエチレン転化率について表３～表７に見出すことができる。

略系統図でＣＴＡ１を有する実施例で使用されるＣＰｘ。
略系統図でＣＴＡ２およびＣＴＡ４を有する本発明のポリマー実施例に使用されるＩＰ
ｘ．１およびｘ．２。
略系統図でＣＴＡ３を有する本発明のポリマー実施例に使用されるＩＰｘ．３。

実施例 ＣＰ４、ＣＰ６、ＣＰ８、ＣＰ１０、ＣＰ１２、ＩＰ４．１、ＩＰ４．２、Ｉ
Ｐ４．２、ＩＰ６．１、ＩＰ６．２、ＩＰ６．３、ＩＰ８．１、ＩＰ８．２、ＩＰ８．３
、ＩＰ１０．１、ＩＰ１０．２、ＩＰ１０．３、ＩＰ１２．１、ＩＰ１２．２、ＩＰ１２
．３の場合、転化率は２８．０％である。

実施例ＣＰ５、ＣＰ７、ＣＰ９、ＣＰ１１、ＣＰ１３、ＩＰ５．１、ＩＰ５．２、ＩＰ
５．２、ＩＰ７．１、ＩＰ７．２、ＩＰ７．３、ＩＰ９．１、ＩＰ９．２、ＩＰ９．３、
ＩＰ１１．１、ＩＰ１１．２、ＩＰ１１．３、ＩＰ１３．１、ＩＰ１３．２、ＩＰ１３．
３の場合、転化率は３８．０％である。

表４：反応区域１（供給１－請求項２）、反応区域２＋３（供給２＋３－請求項３）、
および反応区域３（供給３－請求項４）にわたる一次出力供給分配値は最大１００％であ
り得る。

本発明の重合ＩＰ４．１～ＩＰ１３．３。
ＩＰ４．１～ＩＰ１３．３に記載されているハイパー圧縮機システムの吸引、段間、お
よび排出流の本発明のラインナップは、ポリマーＭＷＤおよびレオロジー特性において所
望の能力および柔軟性を達成する第１および第３の反応区域への極端なＨＰＲおよびＬＰ
Ｒ／補給エチレン系分配を示す。例えば、第１の反応区域へのＣＴＡ濃度を最大にするこ
とは（補給ＣＴＡ分配と組み合わされたＨＰＲから受け取る、表３のＺ１／Ｚ２およびＺ
１／Ｚ３比についてより高い値（＞１）を参照）、非常に狭いＭＷＤポリマーを可能にす
る一方で、第１の反応区域でＣＴＡ濃度を低下することは（表３のＺ１／Ｚ２およびＺ１
／Ｚ３比についてより低い値（＜１）を参照）、非常に広いＭＷＤポリマーをもたらす。

非常に狭いＭＷＤ（ＩＰ４．１、ＩＰ４．２、ＩＰ５．１、ＩＰ５．２、ＩＰ６．１、
ＩＰ６．２、ＩＰ７．１、ＩＰ７．２、ＩＰ８．１、ＩＰ８．２、ＩＰ９．１、ＩＰ９．
２、ＩＰ１０．１、ＩＰ１０．２、ＩＰ１１．１、ＩＰ１１．２、ＩＰ１２．１、ＩＰ１
２．２、ＩＰ１３．１、ＩＰ１３．３）が行われ、ＣＶ１とＣＶ４は完全に開かれ、一方
でＣＶ２とＣＶ３は完全に閉じている。他方で、広いＭＷＤポリマーは、ＣＶ２およびＣ
Ｖ３の完全な開放によって生成される一方で、ＩＰ４．３、ＩＰ５．３、ＩＰ６．３、Ｉ
Ｐ７．３、ＩＰ８．３、ＩＰ９．３、ＩＰ１０．３、ＩＰ１１．３、ＩＰ１２．３、ＩＰ
１３．３に関する限りはＣＶ１およびＣＶ４の閉鎖によって生成される。ハイパー圧縮機
システム、例えば、第１段および第２段のシリンダのラインナップの設計は、ＭＷＤおよ
びレオロジー特性における最大の能力および柔軟性を達成するために、反応区域へのハイ
パー圧縮機システム段間および排出を通してＨＰＲエチレンおよびＬＰＲ／補給エチレン
混合物の好ましい分配を維持するために重要である。相対的補給エチレンおよび全ＣＴＡ
分配の要約－表３、４、および５を参照。Ｚ１／Ｚｎ比の重要性は、上記のシミュレーシ
ョン例ならびに実際の重合例に示されている。

任意で、ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣＶ４は制御弁である。１ａおよび１ｂは、
ハイパー圧縮機システムレベルの吸引流５、６、および７を通る流れ１および流れ５の分
配を変更／制御するためのラインである。流れ１および２をハイパー圧縮機システム吸引
流５、６、および７にわたって分配する以下の制御シナリオ：Ａ）ＣＶ２およびＣＶ３が
閉じられるとき、ライン５がライン１からエチレン系流を受け取り、ライン７は流れ２か
らエチレン系流を受け取る。流れ６ａは、流れ１および任意で流れ２からのエチレン系流
である。Ｂ）ＣＶ１およびＣＶ４が閉じているとき、ライン５はライン２からエチレン系
流を受け取り、ライン７は流れ１からエチレン系流を受け取る。流れ６ａは、流れ１およ
び任意で流れ２からのエチレン系流を受け取る。Ｃ）ＣＶ１、ＣＶ２、ＣＶ３、およびＣ
Ｖ４の位置が制御されるとき、流れ１および流れ２がライン５および７にわたって自由に
分配され得る一方、流れ６ａは流れ１および流れ２からエチレン系流を受け取る。シナリ
オＡ、Ｂ、またはＣを介して、生成物特性（光学、レオロジー溶融強度、ＭＷＤ）を満た
すプラントの所望の能力は、好ましいラインナップの他に、プランジャの数および圧力範
囲などのハイパーシステムの設計にも影響する。

異なる転化率でのハイパー圧縮機システムラインナップのＣＴＡ分配全体への影響を表
５に示す。これは、驚くべきことに、各圧縮機システムが第１および第２の圧縮段の吸引
および排出側に異なる数のシリンダ、流れラインナップを有する一方で、同じ反応器構成
を使用して、Ｚ１／Ｚｉの範囲をＣＰ２およびＣＰ３を超えて広げることができることを
示す。これは、広いＭＷＤ側（Ｚ１／Ｚ３＜１）とならんで狭いＭＷＤ側（Ｚ１／Ｚ３＞
１）の両方で改善されたＭＷＤ能力を示す。本発明のラインナップは、より高い転化率で
同じＭＷＤポリマーを作製するために使用されることもできる。Ｚ１／Ｚ３および任意の
Ｚ１／Ｚ３動作範囲の詳細については、表５を参照されたい。また、本発明のハイパー圧
縮機システムラインナップを本発明の制御と組み合わせることで、最小および最大境界値
の間のＺ１／Ｚ３値を制御することが可能になる。これは、他のプロセス条件を変更する
ことなく、最小および最大Ｚ１／Ｚ３値で得られたＭＷＤ値の範囲で完全な制御を与える
。一次圧縮機システムの出力、ＨＰＲの流れ、および補給ＣＴＡ分配の分配は、狭いＭＷ
Ｄまたは広いＭＷＤ能力および関連レオロジー特性（例えば、溶融弾性およびＧ’）を達
成するために非常に重要である。吸引、段間、および排出流に関するハイパー圧縮機シス
テムの本発明のラインナップは、ＭＷＤの所望の能力を向上し、維持する。さらに、本発
明の圧縮機ラインナップと本発明のシステムとを組み合わせて、一次圧縮機システム出力
の分配およびＨＰＲから得られる流れを制御することによって、ＭＷＤにおける最大の能
力が、最大の柔軟性および全ＭＷＤ（最小の狭いＭＷＤから最大の広いＭＷＤまで）の制
御とならんで達成される。各々のハイパー圧縮機システム設計では、システム全体、第１
の圧縮段、および／または後続の圧縮段におけるシリンダの数に関わらず、ＣＴＡ濃度に
おける最大の能力および柔軟性ならびに結果としてＭＷＤおよびレオロジーのようなポリ
マー特性を達成するために、本発明の圧縮機のラインナップが定義され得る。また、本発
明のラインナップは、対向するシリンダを優先的に組み合わせることおよび／または均衡
ラインを使用することにより、圧縮機の段間および排出部分からの組み合わせられた吐出
ラインにおける脈動および振動レベルの低減および最小化を可能にする。

Claims (3)

1. 少なくとも以下の構成要素
   ａ）少なくとも２つの圧縮段と、
   ｂ）少なくとも２つの出力ラインと、
   ｃ）少なくとも２つの別個の吸引流と、
   ｄ）少なくとも２つの別個の段間冷却システムを備える少なくとも１つの段間システムと、
   ｅ）前記別個の段間冷却システム間に少なくとも１つの均衡圧力ラインと、
   ｆ）前記少なくとも２つの出力ライン間に少なくとも１つの均衡圧力ラインと
   を備えるハイパー圧縮機システム。
2. 前記ハイパー圧縮機構成が、少なくとも３つの別個の段間冷却システムを備え、各々の段間冷却システムが、入口流と出口流を備え、これら別個の段間冷却システムの前記出口流は、合流されない、請求項１に記載のハイパー圧縮機システム。
3. 反応器構成および請求項１または２に記載のハイパー圧縮機システムを備える、反応器システム。

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