JP7042726B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7042726B2 JP7042726B2 JP2018189130A JP2018189130A JP7042726B2 JP 7042726 B2 JP7042726 B2 JP 7042726B2 JP 2018189130 A JP2018189130 A JP 2018189130A JP 2018189130 A JP2018189130 A JP 2018189130A JP 7042726 B2 JP7042726 B2 JP 7042726B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fin
- insulating film
- semiconductor device
- fins
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 172
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 95
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 39
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 53
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 29
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 29
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 23
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 19
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 19
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 19
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 19
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 18
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 15
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 101150014330 dfa2 gene Proteins 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 9
- 101000955967 Deinagkistrodon acutus Thrombin-like enzyme acutin Proteins 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 8
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 6
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- PCLURTMBFDTLSK-UHFFFAOYSA-N nickel platinum Chemical compound [Ni].[Pt] PCLURTMBFDTLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910019001 CoSi Inorganic materials 0.000 description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N nickel silicon Chemical compound [Si].[Ni] PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910021339 platinum silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 101100009548 Arabidopsis thaliana DHFS gene Proteins 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004129 HfSiO Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Metal Oxide Nitride Chemical class 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N difluoroboron Chemical compound F[B]F OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/0886—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate including transistors with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8232—Field-effect technology
- H01L21/8234—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
- H01L21/823431—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type with a particular manufacturing method of transistors with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
- H01L27/0924—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors including transistors with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/4234—Gate electrodes for transistors with charge trapping gate insulator
- H01L29/42344—Gate electrodes for transistors with charge trapping gate insulator with at least one additional gate, e.g. program gate, erase gate or select gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66787—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a gate at the side of the channel
- H01L29/66795—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a gate at the side of the channel with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
- H01L29/6681—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a gate at the side of the channel with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET using dummy structures having essentially the same shape as the semiconductor body, e.g. to provide stability
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66833—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a charge trapping gate insulator, e.g. MNOS transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/785—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate having a channel with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/792—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with charge trapping gate insulator, e.g. MNOS-memory transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/30—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/30—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region
- H10B43/35—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region with cell select transistors, e.g. NAND
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/50—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the boundary region between the core and peripheral circuit regions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/10—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the top-view layout
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Element Separation (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
本実施の形態における不揮発性メモリセルを有する半導体装置について図面を参照しながら説明する。まず、不揮発性メモリセルを含むシステムが形成された半導体装置のレイアウト構成について説明する。図1は、本実施の形態の半導体装置である半導体チップCHPのレイアウト構成を示す概略図である。図1において、半導体チップCHPには、互いに異なる用途で使用される複数の回路ブロックが設けられている。具体的には、半導体チップCHPは、フラッシュメモリ回路ブロックC1、EEPROM回路ブロックC2、CPU(Central Processing Unit)回路ブロックC3、RAM(Random Access Memory)回路ブロックC4、アナログ回路ブロックC5およびI/O(Input/Output)回路ブロックC6を有する。
以下に、図2~図5を用いて、本実施の形態の半導体装置の構造について説明する。図2は、フラッシュメモリ回路ブロックC1およびEEPROM回路ブロックC2で使用される不揮発性メモリセルであるメモリセルMCの斜視図を示している。図3は、メモリセルMCの平面図を示している。図3には、メモリセルMCが形成されるメモリセル形成領域MR、メモリセルMCに含まれるゲート電極に電位を給電するためのシャント領域SR、および、メモリセル形成領域MRとシャント領域SRとの間に位置するダミーセル領域DRが示されている。図4は、図3のA1-A1線に対応する断面図を示している。図5は、図3のA2-A2線およびB-B線に対応する断面図を示している。
次に、不揮発性メモリの動作例について、図6および図7を参照して説明する。
以下に、本実施の形態の半導体装置の主な特徴について説明する。
以下に、図8~図27を用いて、本実施の形態の半導体装置の製造方法について説明する。まず、図8~図17では、A2-A2断面のみを示し、フィンFAの製造工程を説明する。その後、図18~図27では、A2-A2断面およびB-B断面の製造工程を説明する。
以下に、図28~図31を用いて、変形例1の半導体装置の製造方法を説明する。なお、以下の説明では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
以下に、図32~図34を用いて、変形例2の半導体装置およびその製造方法を説明する。なお、以下の説明では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
以下に、図35~図42を用いて、実施の形態2の半導体装置およびその製造方法を説明する。なお、以下の説明では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
以下に、図43を用いて、変形例3の半導体装置の製造方法を説明する。なお、以下の説明では、実施の形態2との相違点を主に説明する。
[付記1]
メモリセル形成領域、シャント領域、および、前記メモリセル形成領域と前記シャント領域との間に位置するダミーセル領域を有する半導体装置であって、
半導体基板の上面上に形成された素子分離部と、
前記半導体基板の一部であり、前記素子分離部の上面から突出し、平面視における第1方向に延在し、且つ、前記第1方向と交差する第2方向において互いに隣接するように形成された複数のフィンと、
を有し、
前記複数のフィンは、前記メモリセル形成領域に形成された複数の第1フィン、および、前記ダミーセル領域に形成された第2フィンを有し、
前記第2方向において、前記複数のフィンは、互いに等間隔になるように形成され、
互いに隣接する前記複数の第1フィンの間に形成されている前記素子分離部の前記上面の位置をH1とし、前記第2フィンに最も近い前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記素子分離部の前記上面の位置をH2とし、前記シャント領域に形成されている前記素子分離部の前記上面の位置をH3とした場合、(H2-H1)の絶対値は、(H3-H2)の絶対値よりも小さい、半導体装置。
[付記2]
付記1記載の半導体装置において、
電荷蓄積層を含む第1ゲート絶縁膜を介して前記複数のフィンに跨り、且つ、前記シャント領域において前記素子分離部上に位置するように、前記第2方向に延在する第1ゲート電極を更に有する、半導体装置。
[付記3]
付記2記載の半導体装置において、
前記記複数の第1フィンには、それぞれ不揮発性メモリセルが形成され、
前記第2フィンには、前記不揮発性メモリセルとして機能しないダミー素子が形成されている、半導体装置。
[付記4]
付記3記載の半導体装置において、
前記シャント領域には、前記素子分離部から突出した前記複数のフィンが形成されていない、半導体装置。
[付記5]
付記4記載の半導体装置において、
前記シャント領域の前記第1ゲート電極上に形成されたプラグを更に有し、
前記メモリセル形成領域および前記ダミーセル領域の前記第1ゲート電極上には、前記プラグが形成されていない、半導体装置。
[付記6]
付記1記載の半導体装置において、
前記シャント領域には、前記メモリセル形成領域に形成されている前記複数のフィンよりも高さの低い複数の第3フィンが形成され、
前記複数の第3フィンの各々の上面は、前記素子分離部によって覆われている、半導体装置。
[付記7]
付記1記載の半導体装置において、
前記シャント領域における前記素子分離部の下の前記半導体基板の上面の位置は、前記メモリセル形成領域における前記素子分離部の下の前記半導体基板の上面の位置よりも低い、半導体装置。
[付記8]
付記1記載の半導体装置において、
前記素子分離部は、酸化シリコン膜を含む、半導体装置。
CF 導電性膜
CG 制御ゲート電極
CHP 半導体チップ
DFA、DFA1、DFA2 ダミーフィン
DR ダミーセル領域
ES エッチングストッパ膜
FA フィン
FG 導電性膜
GF1、GF2 ゲート絶縁膜
HM ハードマスク
IF1~IF5 絶縁膜
IL1、IL2 層間絶縁膜
L1~L5 距離
MC メモリセル
MCR メモリセル形成領域
MD 拡散領域(不純物領域)
MG メモリゲート電極
MP マスクパターン
MS 拡散領域(不純物領域)
PG プラグ
RP1~RP5 レジストパターン
PW ウェル領域
SB 半導体基板
SI1、SI2 シリサイド層
SR シャント領域
STI 素子分離部
SW サイドウォールスペーサ
Claims (11)
- (a)半導体基板の上面の一部を後退させることで、前記半導体基板の一部であり、後退させた前記半導体基板の前記上面から突出し、且つ、平面視における第1方向に延在する複数のフィンを、前記第1方向と交差する第2方向において互いに隣接するように形成する工程、
(b)前記複数のフィンの間を埋め込むように、前記複数のフィンの各々の上面上に、第1絶縁膜を形成する工程、
(c)前記第1絶縁膜の上面の位置が、前記複数のフィンの各々の前記上面の位置よりも低くなるように、前記第1絶縁膜を後退させることで、前記複数のフィンの上部を前記第1絶縁膜から突出させる工程、
を有し、
前記複数のフィンは、第1フィン、前記第1フィンに隣接する第2フィン、前記第2フィンに隣接する第3フィンおよび前記第3フィンに隣接する第4フィンを含み、
前記第1フィンと前記第2フィンとの間の距離は、前記第3フィンと前記第4フィンとの間の距離よりも短く、且つ、前記第2フィンと前記第3フィンとの間の距離よりも長く、
前記(c)工程後、前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置、および、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置は、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置よりも低く、
前記(a)工程は、
(a1)前記半導体基板上に、複数のマスクパターンを形成する工程、
(a2)前記複数のマスクパターンを覆うように、前記半導体基板上に、前記複数のマスクパターンと異なる材料からなるハードマスク材を形成する工程、
(a3)前記ハードマスク材に対して異方性エッチング処理を行うことで、前記複数のマスクパターンの各々の側面に、前記ハードマスク材からなる複数のハードマスクを形成する工程、
(a4)前記(a3)工程後、前記複数のマスクパターンを除去する工程、
(a5)前記(a4)工程後、前記複数のハードマスクをマスクとして、前記半導体基板の前記上面の一部を後退させることで、前記複数のフィンを形成する工程、
を有し、
前記複数のマスクパターンは、互いに隣接する第3マスクパターンおよび第4マスクパターンを有し、
前記第2方向において、第3マスクパターンと第4マスクパターンとの間の距離は、他の前記複数のマスクパターンが互いに隣接する距離よりも短く、
前記第2フィンを形成するための前記ハードマスクは、前記第2方向における前記第3マスクパターンの2つの側面のうち、前記第4マスクパターンに近い側面に形成され、
前記第3フィンを形成するための前記ハードマスクは、前記第2方向における前記第4マスクパターンの2つの側面のうち、前記第3マスクパターンに近い側面に形成される、半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH1とし、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH2とし、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH3とした場合、(H2-H1)の絶対値は、(H3-H2)の絶対値よりも小さい、半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程は、
(c1)前記第1絶縁膜を研磨する工程、
(c2)前記(c1)工程後、前記第1絶縁膜に対して異方性エッチング処理を行うことで、前記複数のフィンの前記上部を前記第1絶縁膜から突出させる工程、
を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項3記載の半導体装置の製造方法において、
(d)前記(b)工程と前記(c)工程との間に、前記第1絶縁膜に対して熱処理を行う工程、
を更に有し、
前記(c2)工程時に、前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質は、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質よりも柔らかく、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質は、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質よりも柔らかい、半導体装置の製造方法。 - (a)半導体基板上に、複数のマスクパターンを形成する工程、
(b)前記複数のマスクパターンを覆うように、前記半導体基板上に、前記複数のマスクパターンと異なる材料からなるハードマスク材を形成する工程、
(c)前記ハードマスク材に対して異方性エッチング処理を行うことで、前記複数のマスクパターンの各々の側面に、前記ハードマスク材からなる複数のハードマスクを形成する工程、
(d)前記(c)工程後、前記複数のマスクパターンを除去する工程、
(e)前記(d)工程後、前記複数のハードマスクをマスクとして、前記半導体基板の上面の一部を後退させることで、前記半導体基板の一部であり、後退させた前記半導体基板の前記上面から突出し、且つ、平面視における第1方向に延在する複数のフィンを、前記第1方向と交差する第2方向において互いに隣接するように形成する工程、
(f)前記複数のフィンの間に第1絶縁膜を埋め込む工程、
(g)前記(f)工程後、前記複数のフィンの一部、および、前記複数のフィンの間に埋め込まれた前記第1絶縁膜の一部を選択的に覆うレジストパターンを形成する工程、
(h)前記(g)工程後、前記レジストパターンから露出している前記第1絶縁膜および前記複数のフィンをエッチングする工程、
(i)前記(h)工程後、前記レジストパターンを除去する工程、
(j)前記(i)工程後、前記第1絶縁膜および前記複数のフィンがエッチングされた領域に、第2絶縁膜を形成する工程、
(k)前記(j)工程後、前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜の各々の上面の位置が、前記複数のフィンの各々の上面の位置よりも低くなるように、前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜を後退させることで、前記複数のフィンの上部を前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜から突出させる工程、
を有し、
前記複数のフィンは、第1フィン、前記第1フィンに隣接する第2フィン、前記第2フィンに隣接する第3フィンおよび前記第3フィンに隣接する第4フィンを含み、
前記第1フィンと前記第2フィンとの間の距離は、前記第2フィンと前記第3フィンとの間の距離と同じであり、前記第3フィンと前記第4フィンとの間の距離よりも短く、
前記第1フィンと前記第2フィンとの間、および、前記第2フィンと前記第3フィンとの間には、前記第1絶縁膜が形成され、
前記第3フィンと前記第4フィンとの間には、前記第2絶縁膜が形成され、
前記(k)工程後、前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置、および、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置は、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第2絶縁膜の上面の位置よりも低い、半導体装置の製造方法。 - 請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH1とし、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH2とし、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の上面の位置をH3とした場合、(H2-H1)の絶対値は、(H3-H2)の絶対値よりも小さい、半導体装置の製造方法。 - 請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記(h)工程において、エッチングの対象となった前記複数のフィンは残されており、
前記(k)工程後、残された前記複数のフィンの各々の上面は、前記第2絶縁膜によって覆われている、半導体装置の製造方法。 - 請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記(h)工程において、エッチングの対象となった前記複数のフィンが残されないように、前記半導体基板の一部もエッチングされる、半導体装置の製造方法。 - 請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記(f)工程は、
(f1)前記複数のフィンの間を埋め込み、且つ、前記複数のハードマスクを覆う前記第1絶縁膜を形成する工程、
(f2)前記(f1)工程後、前記第1絶縁膜に対して熱処理を行う工程、
(f3)前記(f2)工程後、CMP法による研磨処理によって、前記複数のフィンの各々の上面上の前記第1絶縁膜および前記複数のハードマスクを除去する工程、
を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(j)工程において、前記第2絶縁膜は、前記複数のフィンの各々の上面上にも形成され、
前記(k)工程は、
(k1)前記第2絶縁膜を研磨する工程、
(k2)前記(k1)工程後、前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜に対して異方性エッチング処理を行うことで、前記複数のフィンの前記上部を前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜から突出させる工程、
を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項10記載の半導体装置の製造方法において、
(l)前記(j)工程と前記(k)工程との間に、前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜に対して熱処理を行う工程、
を更に有し、
前記(k2)工程時に、前記第1フィンと前記第2フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質、および、前記第2フィンと前記第3フィンとの間に形成されている前記第1絶縁膜の膜質は、前記第3フィンと前記第4フィンとの間に形成されている前記第2絶縁膜の膜質よりも柔らかい、半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018189130A JP7042726B2 (ja) | 2018-10-04 | 2018-10-04 | 半導体装置の製造方法 |
US16/572,116 US11195953B2 (en) | 2018-10-04 | 2019-09-16 | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018189130A JP7042726B2 (ja) | 2018-10-04 | 2018-10-04 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020057735A JP2020057735A (ja) | 2020-04-09 |
JP7042726B2 true JP7042726B2 (ja) | 2022-03-28 |
Family
ID=70051031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018189130A Active JP7042726B2 (ja) | 2018-10-04 | 2018-10-04 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11195953B2 (ja) |
JP (1) | JP7042726B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7458960B2 (ja) * | 2020-11-10 | 2024-04-01 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008311503A (ja) | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2013038213A (ja) | 2011-08-08 | 2013-02-21 | Toshiba Corp | 集積回路装置及びその製造方法 |
JP2018056453A (ja) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6974981B2 (en) * | 2002-12-12 | 2005-12-13 | International Business Machines Corporation | Isolation structures for imposing stress patterns |
US7812375B2 (en) * | 2003-05-28 | 2010-10-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory device and method of fabricating the same |
TWI283482B (en) * | 2006-06-05 | 2007-07-01 | Promos Technologies Inc | Multi-fin field effect transistor and fabricating method thereof |
US7560785B2 (en) * | 2007-04-27 | 2009-07-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device having multiple fin heights |
US20090321834A1 (en) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Willy Rachmady | Substrate fins with different heights |
US8263462B2 (en) * | 2008-12-31 | 2012-09-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Dielectric punch-through stoppers for forming FinFETs having dual fin heights |
US9087725B2 (en) * | 2009-12-03 | 2015-07-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | FinFETs with different fin height and EPI height setting |
US20110147848A1 (en) * | 2009-12-23 | 2011-06-23 | Kuhn Kelin J | Multiple transistor fin heights |
US20120032267A1 (en) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | International Business Machines Corporation | Device and method for uniform sti recess |
US8461008B2 (en) * | 2011-08-15 | 2013-06-11 | GlobalFoundries, Inc. | Methods for fabricating FinFET integrated circuits in bulk semiconductor substrates |
US9287385B2 (en) * | 2011-09-01 | 2016-03-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Multi-fin device and method of making same |
JP2013058688A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
US8476137B1 (en) * | 2012-02-10 | 2013-07-02 | Globalfoundries Inc. | Methods of FinFET height control |
US8361894B1 (en) * | 2012-04-04 | 2013-01-29 | Globalfoundries Inc. | Methods of forming FinFET semiconductor devices with different fin heights |
KR101961322B1 (ko) * | 2012-10-24 | 2019-03-22 | 삼성전자주식회사 | 매립 채널 어레이를 갖는 반도체 소자 |
US9318367B2 (en) * | 2013-02-27 | 2016-04-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | FinFET structure with different fin heights and method for forming the same |
US9530654B2 (en) * | 2013-04-15 | 2016-12-27 | Globalfoundaries Inc. | FINFET fin height control |
US9035425B2 (en) * | 2013-05-02 | 2015-05-19 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor integrated circuit |
US9087869B2 (en) * | 2013-05-23 | 2015-07-21 | International Business Machines Corporation | Bulk semiconductor fins with self-aligned shallow trench isolation structures |
US9324790B2 (en) * | 2013-11-19 | 2016-04-26 | International Business Machines Corporation | Self-aligned dual-height isolation for bulk FinFET |
TWI552232B (zh) * | 2013-11-25 | 2016-10-01 | Nat Applied Res Laboratories | The Method and Structure of Fin - type Field Effect Transistor |
US9184087B2 (en) * | 2013-12-27 | 2015-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Mechanisms for forming FinFETs with different fin heights |
US20150206759A1 (en) * | 2014-01-21 | 2015-07-23 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor structure and manufacturing method thereof |
CN105097686B (zh) * | 2014-04-25 | 2018-04-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 鳍片式场效应晶体管及其制造方法 |
US9385123B2 (en) * | 2014-05-20 | 2016-07-05 | International Business Machines Corporation | STI region for small fin pitch in FinFET devices |
US9362176B2 (en) * | 2014-06-30 | 2016-06-07 | Globalfoundries Inc. | Uniform exposed raised structures for non-planar semiconductor devices |
US9324799B2 (en) * | 2014-09-09 | 2016-04-26 | Globalfoundries Inc. | FinFET structures having uniform channel size and methods of fabrication |
US9293459B1 (en) * | 2014-09-30 | 2016-03-22 | International Business Machines Corporation | Method and structure for improving finFET with epitaxy source/drain |
US9653605B2 (en) * | 2014-10-17 | 2017-05-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Fin field effect transistor (FinFET) device and method for forming the same |
US9455198B1 (en) * | 2014-12-08 | 2016-09-27 | Globalfoundries Inc. | Methods of removing fins so as to form isolation structures on products that include FinFET semiconductor devices |
US9397099B1 (en) * | 2015-01-29 | 2016-07-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor device having a plurality of fins and method for fabricating the same |
US9418994B1 (en) * | 2015-03-26 | 2016-08-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Fin field effect transistor (FinFET) device structure |
US10312149B1 (en) * | 2015-03-26 | 2019-06-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Fin field effect transistor (FinFET) device structure and method for forming the same |
KR102310076B1 (ko) * | 2015-04-23 | 2021-10-08 | 삼성전자주식회사 | 비대칭 소스/드레인 포함하는 반도체 소자 |
KR102270920B1 (ko) * | 2015-06-10 | 2021-06-29 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 이의 제조 방법 |
JP6557095B2 (ja) | 2015-08-26 | 2019-08-07 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US9905467B2 (en) * | 2015-09-04 | 2018-02-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US9607985B1 (en) * | 2015-09-25 | 2017-03-28 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor device and method of fabricating the same |
KR102480447B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2022-12-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
US9735156B1 (en) * | 2016-01-26 | 2017-08-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device and a fabricating method thereof |
US10438948B2 (en) * | 2016-01-29 | 2019-10-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and device of preventing merging of resist-protection-oxide (RPO) between adjacent structures |
US20170256555A1 (en) * | 2016-03-07 | 2017-09-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
TWI627665B (zh) * | 2016-04-06 | 2018-06-21 | 瑞昱半導體股份有限公司 | 鰭式場效電晶體及其製造方法 |
KR102481479B1 (ko) * | 2016-04-29 | 2022-12-26 | 삼성전자 주식회사 | 집적회로 소자 및 그 제조 방법 |
US10910223B2 (en) * | 2016-07-29 | 2021-02-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Doping through diffusion and epitaxy profile shaping |
US10297555B2 (en) * | 2016-07-29 | 2019-05-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated circuit structure having crown-shaped semiconductor strips and recesses in the substrate from etched dummy fins |
US9660028B1 (en) * | 2016-10-31 | 2017-05-23 | International Business Machines Corporation | Stacked transistors with different channel widths |
US10157770B2 (en) * | 2016-11-28 | 2018-12-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor device having isolation structures with different thickness and method of forming the same |
US10026737B1 (en) * | 2016-12-30 | 2018-07-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
CN108962753A (zh) * | 2017-05-19 | 2018-12-07 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 半导体结构及其形成方法 |
US10083873B1 (en) * | 2017-06-05 | 2018-09-25 | Globalfoundries Inc. | Semiconductor structure with uniform gate heights |
US10109531B1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-10-23 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor structure having a bump lower than a substrate base and a width of the bump larger than a width of fin shaped structures, and manufacturing method thereof |
US10276720B2 (en) * | 2017-08-31 | 2019-04-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for forming fin field effect transistor (FINFET) device structure |
KR102527383B1 (ko) * | 2017-09-15 | 2023-04-28 | 삼성전자주식회사 | 핀형 활성 영역을 가지는 반도체 소자 |
KR102342551B1 (ko) * | 2017-09-25 | 2021-12-23 | 삼성전자주식회사 | 아이솔레이션 영역을 포함하는 반도체 소자 |
US10680109B2 (en) * | 2017-09-28 | 2020-06-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | CMOS semiconductor device having fins and method of fabricating the same |
US10510580B2 (en) * | 2017-09-29 | 2019-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Dummy fin structures and methods of forming same |
KR102392058B1 (ko) * | 2017-11-06 | 2022-04-28 | 삼성전자주식회사 | 집적회로 소자의 제조 방법 |
US10396184B2 (en) * | 2017-11-15 | 2019-08-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Integrated circuit device fins |
US10832965B2 (en) * | 2018-01-11 | 2020-11-10 | Globalfoundries Inc. | Fin reveal forming STI regions having convex shape between fins |
US10312150B1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-06-04 | Globalfoundries Inc. | Protected trench isolation for fin-type field-effect transistors |
CN110581128B (zh) * | 2018-06-07 | 2022-05-10 | 联华电子股份有限公司 | 半导体结构及其制作方法 |
KR102550651B1 (ko) * | 2018-06-22 | 2023-07-05 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 및 그의 제조 방법 |
US10720526B2 (en) * | 2018-06-29 | 2020-07-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Stress modulation for dielectric layers |
US10763118B2 (en) * | 2018-07-11 | 2020-09-01 | International Business Machines Corporation | Cyclic selective deposition for tight pitch patterning |
US10672643B2 (en) * | 2018-08-22 | 2020-06-02 | International Business Machines Corporation | Reducing off-state leakage current in Si/SiGe dual channel CMOS |
KR102663192B1 (ko) * | 2018-09-06 | 2024-05-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 및 이의 제조 방법 |
US11217486B2 (en) * | 2018-10-31 | 2022-01-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method |
US10818556B2 (en) * | 2018-12-17 | 2020-10-27 | United Microelectronics Corp. | Method for forming a semiconductor structure |
US11043596B2 (en) * | 2019-06-25 | 2021-06-22 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor device and fabrication method thereof |
US11127639B2 (en) * | 2019-08-22 | 2021-09-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Structure and formation method of semiconductor device with fin structures |
-
2018
- 2018-10-04 JP JP2018189130A patent/JP7042726B2/ja active Active
-
2019
- 2019-09-16 US US16/572,116 patent/US11195953B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008311503A (ja) | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2013038213A (ja) | 2011-08-08 | 2013-02-21 | Toshiba Corp | 集積回路装置及びその製造方法 |
JP2018056453A (ja) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200111902A1 (en) | 2020-04-09 |
US11195953B2 (en) | 2021-12-07 |
JP2020057735A (ja) | 2020-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7123622B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
CN107887392B (zh) | 半导体器件及制造半导体器件的方法 | |
US10062706B2 (en) | Semiconductor device | |
US10483275B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JP6998267B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US10797065B2 (en) | Nonvolatile semiconductor storage device and method of manufacture thereof | |
US20210043753A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing thereof | |
TW201838193A (zh) | 半導體裝置及半導體裝置之製造方法 | |
JP6877319B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP6885787B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
US10229998B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
TWI822805B (zh) | 半導體元件及其製造方法 | |
JP7042726B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
TW202224158A (zh) | 半導體裝置 | |
CN114512492A (zh) | 半导体器件 | |
JP2022082914A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7042726 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |