JP6967386B2 - ドレッシング方法 - Google Patents

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Description

本発明は、切削ブレードの先端をドレッシングするドレッシング方法に関する。
切削ブレードを用いた切削加工では、切削中に切削ブレードの先端形状が丸みを帯びて切れ味が悪くなる。このため、定期的に切削ブレードの先端に対してドレッシングを実施して切れ味を復活させている。従来、この種のドレッシングとして、切削ブレードの先端をドレッサボードでフラットに整形するフラットドレスが知られている(例えば、特許文献1、2参照)。フラットドレスでは、切削ブレードを回転させてドレッサボードを僅かに切り込ませた状態で、切削ブレードの回転軸方向にドレッサボードと切削ブレードを相対的に移動させることでドレッシングが行われる。
特開2013−082021号公報 特開2011−249571号公報
しかしながら、特許文献1、2のフラットドレスでは、切削ブレードをドレッサボードに切り込ませたまま回転軸方向に切削ブレードを移動させるため、回転軸方向に大きな負荷がかかって切削ブレードが破損するおそれがあった。このため、ドレッシング中に切削ブレードが破損しないように、切削ブレードの先端をわずかにドレッサボードに切り込ませ、ドレッサボードと切削ブレードを相対的に低速で移動させる必要があり、切削ブレードの先端を少しずつ消耗させフラットに整形するためドレッシング時間が長くなるという問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、切削ブレードを破損させることなく、短時間で切削ブレードの先端をフラットに整形することができるドレッシング方法を提供することを目的の1つとする。
本発明の一態様のドレッシング方法は、平板のドレッサボードから凸部を形成すると共に切削ブレードの先端をフラットにドレッシングするドレッシング方法であって、該平板のドレッサボードを保持テーブルに保持する保持工程と、該保持テーブルが保持した該平板のドレッサボードを該切削ブレードで切削して、該切削ブレードの厚みより僅かに狭い幅で切削方向に延在する凸部を形成する凸部形成工程と、該凸部形成工程の後、該凸部の延在方向に直交する幅の中心と該切削ブレードの厚みの中心とを一致させると共に、該凸部の上面から所定量切り込ませる高さに該切削ブレードを位置づける位置づけ工程と、該位置づけ工程で位置づけられた該切削ブレードと該凸部形成後のドレッサボードとを相対的に切削送り方向に移動させ該凸部を切削して該切削ブレードをドレッシングする。
本発明によれば、ドレッサボードに切削ブレードの厚みよりも狭い凸部を形成し、当該凸部の上面を切削ブレードの先端で切り込むことで、切削ブレードを破損させることなく、短時間で切削ブレードの先端をフラットに整形することができる。
第1の実施の形態の切削装置の斜視図である。 パッケージ基板の切削状態を示す図である。 比較例のフラットドレスの説明図である。 第1の実施の形態のドレッサボード及び保持テーブルの斜視図である。 第1の実施の形態のドレッサボードの凸部の説明図である。 第1の実施の形態のドレッシング方法の説明図である。 第2の実施の形態のドレッシング方法の説明図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態の切削装置について説明する。図1は、第1の実施の形態の切削装置の斜視図である。図2は、パッケージ基板の切削状態を示す図である。図3は、比較例のフラットドレスの説明図である。なお、本実施の形態では、単一の切削ブレードを備えた切削装置を例示するが、この構成に限定されない。切削装置は、ワークを切削可能な構成であればよい。
図1に示すように、切削装置1は、チャックテーブル25に保持されたワークWを切削するものであり、切削ブレード52の先端をドレッサボードD1で定期的にフラットドレスするように構成されている。ワークWは、例えば、半導体チップをパッケージングした上面視長方形状のパッケージ基板であり、配線基板上に実装した半導体チップをモールド樹脂で封止して形成されている。ワークWの表面は分割予定ライン(不図示)によって区画されており、パッケージ基板が分割予定ラインに沿ってワークWが切削されることで個々の半導体パッケージに分割される。
切削装置1の基台10上には、チャックテーブル25をX軸方向に切削送りする切削送り手段20が設けられている。切削送り手段20は、基台10上に配置されたX軸方向に平行な一対のガイドレール21と、一対のガイドレール21にスライド可能に設置されたモータ駆動のX軸テーブル22とを有している。X軸テーブル22の背面側には、不図示のナット部が形成され、このナット部にボールネジ23が螺合されている。ボールネジ23の一端部に連結された駆動モータ24が回転駆動されることで、チャックテーブル25が一対のガイドレール21に沿ってX軸方向に切削送りされる。
X軸テーブル22上には、ワークWを保持するチャックテーブル25がZ軸回りに回転可能に設けられている。チャックテーブル25の上面には、吸引源(不図示)に接続された保持面(不図示)が形成されており、保持面に生じる負圧によってワークWが吸引保持される。また、X軸テーブル22上には、ドレッサボードD1を保持する保持テーブル60が設けられている。切削ブレード52によってドレッサボードD1が切り込まれることで、芯出し、目立て、フラットドレス等が実施される。なお、ドレッサボードD1を用いたドレッシングの詳細については後述する。
基台10上には門型の立壁部11が立設されており、立壁部11には切削手段50をY軸方向にインデックス送りするインデックス送り手段30と、切削手段50をZ軸方向に切込み送りする切り込み送り手段40とが設けられている。インデックス送り手段30は、立壁部11の前面に配置されたY軸方向に平行な一対のガイドレール31と、一対のガイドレール31にスライド可能に設置されたY軸テーブル32とを有している。切り込み送り手段40は、Y軸テーブル32上に配置されたZ軸方向に平行な一対のガイドレール41と、一対のガイドレール41にスライド可能に設置されたZ軸テーブル42とを有している。
Z軸テーブル42の下部には、切削ブレード52でワークWを切り込む切削手段50が設けられている。Y軸テーブル32及びZ軸テーブル42の背面側には、それぞれナット部が形成され、これらナット部にボールネジ33、43が螺合されている。Y軸テーブル32用のボールネジ33、Z軸テーブル42用のボールネジ43の一端部には、それぞれ駆動モータ34、44が連結されている。駆動モータ34、44により、それぞれのボールネジ33、43が回転駆動されることで、切削手段50がガイドレール31に沿ってY軸方向に移動されると共に、ガイドレール41に沿ってZ軸方向に移動される。
切削手段50は、ハウジング51から突出したスピンドル(不図示)の先端に切削ブレード52を回転可能に装着して構成される。切削ブレード52は、ダイヤモンド等の砥粒をボンド剤で結合して円板状に形成されている。このように構成された切削装置1では、ワークWの分割予定ラインに切削ブレード52が位置合わせされ、ワークWの外側で切削ブレード52が降ろされて高さ位置が調整される。そして、切削ブレード52が回転された状態で、切削ブレード52に対してワークWが相対的に切削送りされることで分割予定ラインに沿ってワークWが切削される。
ところで、図2Aに示すように、本実施の形態の切削ブレード52は、いわゆるワッシャータイプのブレードであり、ワークWの樹脂層81や配線基板82を切断するために粗い砥粒を使用して成形されている。この切削ブレード52の先端が経時的な摩耗によって丸みを帯びてくると、配線基板82内に埋設された金属配線83を良好に切断することができない。このため、図2Bに示すように、切削ブレード85の先端面にV溝を作って、左右両側を鋭角に切り立てることで金属配線83を良好に切断できるが、鋭角部分86が激しく摩耗して切削ブレード85の寿命が短くなる。
ここで、本件出願人が切削ブレード52の先端形状を変えてワークWの切削を重ねたところ、図2Cに示すように、切削ブレード52の先端面53と両側面54の角部を直角に整形することで、切削ブレード52の摩耗を抑えつつ切削性を向上できることが判明した。切削ブレード52の角部を直角にすることで、鋭角な角部のように短時間で摩耗することがなく、鋭角な角部と同様に配線基板82の金属配線83が良好に切断される。このように、切削ブレード52で配線基板82を切断する際に、切削ブレード52の長寿命化と切削性の向上を両立することが可能になっている。
図3に示すように、切削ブレード52の角部を直角に保つためには、切削ブレード52の先端面53をフラットに整形するフラットドレスが実施される。一般に、フラットドレスは、エッジトリミング時の切削ブレード52の偏摩耗を抑える際に行われる。このフラットドレスでは、切削ブレード52を回転させながらドレッサボードDに浅く切り込み、切削ブレード52の回転軸方向に切削ブレード52とドレッサボードDが相対的に動かされる。このドレッサボードDへの切り込みと回転軸方向への摺動を繰返しながら、切削ブレード52の先端がフラットに整形される。
しかしながら、切削ブレード52を回転軸方向に移動させるため、切削ブレード52に対して厚み方向に大きな負荷が作用している。このため、フラットドレス中に切削ブレード52が破損しないように、切削ブレード52を回転軸方向に低速移動させる必要がある。また、フラットドレス中に切削ブレード52の切り込み位置を下げなければならない。よって、切削ブレード52の破損を防止するために低速移動するとドレッシング時間が長くなり、逆に高速移動によってドレッシング時間を短くすると切削ブレード52が破損するおそれがある。このように、切削ブレード52の安定性とドレッシング時間がトレードオフの関係になっている。
そこで、本実施の形態のフラットドレスでは、ドレッサボードD1に切削方向に沿って、切削ブレード52の厚みよりも僅かに狭い幅で凸部65(図4参照)を形成し、凸部65の上面を切削ブレード52で切り込むことでドレッシングしている。凸部65に沿って切削ブレード52を切削方向に動かしながらドレッシングするため、切削ブレード52の厚み方向に大きな負荷がかかることがなく、ドレッシング時の切削送り速度を速めることができる。よって、切削ブレード52を破損させることなく、短時間で切削ブレード52の先端をフラットに整形することができる。
以下、図4及び図5を参照して、本実施の形態のドレッサボードについて説明する。図4は、本実施の形態のドレッサボート及び保持テーブルの斜視図である。図5は、第1の実施の形態のドレッサボードの凸部の説明図である。
図4Aに示すように、ドレッサボードD1は、所定の厚みの切削ブレード52の先端をフラット形状にドレッシングするものであり、チャックテーブル25(図1参照)の近くの保持テーブル60で保持される。ドレッサボードD1は、切削ブレード52よりも硬質のボンド剤を用いて、切削ブレード52よりも大きな粒径の砥粒を固めて上面視矩形状に整形されている。ドレッサボードD1の下面はフラットに形成され、ドレッサボードD1の上面は複数列の凸部65によって凹凸状に形成されている。各凸部65は、切削ブレード52の切削方向に沿って延在して切削ブレード52のドレッシング領域を形成している。
保持テーブル60は、ドレッサボードD1を支持するものであり、表面にドレッサボードD1を吸引保持する保持面61が形成されている。保持テーブル60の保持面61にはドレッサボードD1の外縁よりも内側に浅溝62が形成され、さらに保持面61の中心には浅溝62に連なる吸引口63が形成されている。吸引口63は保持テーブル60内の流路を通じて吸引源(不図示)に接続されており、吸引源の吸引力によって保持面61の浅溝62が負圧になることでドレッサボードD1が吸引保持されている。また、ドレッサボードD1の上方には切削ブレード52が位置付けられている。
図4Bに示すように、高速回転した切削ブレード52に対してドレッサボードD1が切削方向に移動されることで、ドレッサボードD1上の直線状の凸部65によって切削ブレード52がドレッシングされる。切削ブレード52とドレッサボードD1が切削方向にトラバースカットされるため、切削ブレード52に対して回転軸方向に強い負荷がかかることがない。よって、移動速度を高めても切削ブレード52が破損することがなく、一般的なフラットドレスの送り速度(例えば、10mm/sec)と比較して高速な送り速度(例えば、30mm/secから200mm/sec)にすることができる。この高速な送り速度は、切削ブレードの砥粒径、切削ブレードの幅に応じて変更される。例えば、砥粒径が大きくなるのに従って送り速度が遅く設定され、切削ブレードの幅が広くなるのに従って送り速度が遅く設定されるが、従来のフラットドレスの送り速度より速い速度で移動させることができる。
また、図5に示すように、ドレッサボードD1の上面には凸部65と凹部66が交互に形成されている。凸部65の上面67は切削ブレード52の厚みよりも狭く形成されており、凹部66は切削ブレード52が隣の凸部65に接触しないように凸部65同士の間隔を空けている。すなわち、凸部65の幅よりも切削ブレード52の厚みが大きく、凸部65と両側の凹部66の幅の合計幅よりも切削ブレード52の厚みが小さく形成されている。ドレッサボードD1の凸部65の高さは、切削ブレード52を凸部65の根元より深く切り込ませないように、切削ブレード52の先端面53に対するドレッシング量よりも大きく設定されている。
これにより、切削ブレード52の先端面53だけが凸部65の上面67によってドレッシングされ、切削ブレード52の先端面53がフラットに整形される。また、切削ブレード52の両側面54がドレッサボードD1に当たらないため、切削ブレード52の両側面54は鉛直のまま維持される。したがって、切削ブレード52の角部にR形状が残ることがなく、切削ブレード52の角部が直角に整形される(図6D参照)。また、ドレッサボードD1の凸部65に対して切削ブレード52を切削方向に動かすだけで、切削ブレード52の先端面53がドレッシングされるため、ドレッシング中に切削ブレード52の切り込み位置を下げる必要がない。
このように、ドレッサボードD1の先端面53だけをドレッシングすることで、切削ブレード52の角部を直角に整形することができる。さらに、切削ブレード52とドレッサボードD1の相対速度を高めても破損することがなく、ドレッシング中に切削ブレード52の切り込み位置を下げる必要がないため、ドレッシング時間を大幅に短縮することができる。なお、切削ブレード52の厚みよりも10%−20%だけドレッサボードD1の凸部65の上面67の幅が小さく形成されることが好ましい。例えば、切削ブレード52の厚みが約100μmから500μmのときに凸部65の上面67の幅が約90μmから400μmに設定される。
次に、図6を参照して、ドレッサボードを用いたドレッシング方法について説明する。図6は、第1の実施の形態のドレッシング方法の説明図である。なお、図6Aは保持工程、図6Bは位置づけ工程、図6C及び図6Dはドレッシング工程のそれぞれ一例を示す図である。
図6Aに示すように、先ず保持工程が実施される。保持工程では、ドレッサボードD1が保持テーブル60の保持面61に載置され、保持面61の吸引力によってドレッサボードD1が保持される。この場合、ドレッサボードD1上面の凸部65の延在方向が切削ブレード52(図6B参照)の切削方向に一致するように、保持テーブル60の保持面61に対してドレッサボードD1の向きが調整されている。保持テーブル60とドレッサボードD1の上面視の外形形状が同じであるため、保持テーブル60の外側面にドレッサボードD1の外側面を一致させることで精度よく位置決めされる。
図6Bに示すように、保持工程の後に位置づけ工程が実施される。位置づけ工程では、切削ブレード52の下方にドレッサボードD1が位置付けられ、ドレッサボードD1の凸部65の延在方向に対する直交方向の幅の中心C1と切削ブレード52の厚みの中心C2とが一致される。この場合、撮像カメラ(不図示)によるアライメント処理によって位置合わせされる。また、ドレッサボードD1の真上から外れた位置で、凸部65の上面67から所定量切り込ませる高さに切削ブレード52が位置付けられる。なお、所定量切り込ませる高さとは、凸部65の上面67よりも深く、凸部65の根元よりも高い位置を示している。
図6Cに示すように、位置づけ工程の後にドレッシング工程が実施される。ドレッシング工程では、位置づけ工程で位置付けられた切削ブレード52とドレッサボードD1とが相対的に切削送り方向に移動される。切削ブレード52によってドレッサボードD1の凸部65が切削されることで、凸部65の上面67によって切削ブレード52の先端面53が徐々に削られて切削ブレード52がドレッシングされる。このとき、切削ブレード52の厚みよりも凸部65の上面67が狭い幅に形成されているため、切削ブレード52の丸みを帯びた先端面53だけが凸部65によって削られる。
図6Dに示すように、切削ブレード52によって1列の凸部65が切削されると、切削ブレード52が隣の列の凸部65に位置合わせされて再びドレッシングされる。切削ブレード52のドレッシングが繰り返される度に、切削ブレード52の先端面53の曲率半径が大きくなってフラットに近付けられる。切削ブレード52の両側面54が削られないため、切削ブレード52の両側面54を鉛直に維持した状態で先端面53がフラットに近付けられて、切削ブレード52の角部が直角に整形される。通常の切削動作と同様な動作で、切削ブレード52をフラットドレスすることが可能になっている。
以上のように、第1の実施の形態のドレッシング方法では、切削ブレード52の両側面54がドレッサボードD1の凸部65に当たることがなく、切削ブレード52の先端面53だけがドレッシングされる。よって、切削ブレード52の先端面53が丸みを帯びていても、切削ブレード52の先端面53でドレッサボードD1の凸部65を切り込むことで切削ブレード52の先端面53がフラットに整形される。また、ドレッサボードD1の凸部65の延在方向と切削ブレード52の切削方向が一致しているため、ドレッシング時に切削ブレード52に大きな負荷がかかることがなく、ドレッサボードD1と切削ブレード52を相対的に高速で移動させることができる。よって、切削ブレード52を破損させることなく、短時間で切削ブレード52の先端をフラットに整形することができる。
なお、第1の実施の形態では、事前に複数列の凸部が形成されたドレッサボードを用意して、切削ブレードをフラットドレスする構成について説明したが、この構成に限定されない。上面が平坦な平板のドレッサボードによって、切削ブレードの先端をフラットにドレッシングする構成にしてもよい。この場合、新品の切削ブレードの芯出し時に平板のドレッサボードに凸部を形成し、切削ブレードのフラットドレス時にドレッサボードの凸部で切削ブレードをドレッシングする。
以下、図7を参照して、平板のドレッサボードを用いたドレッシング方法について説明する。図7は、第2の実施の形態のドレッシング方法の説明図である。図7Aは保持工程、図7Bは凸部形成工程、図7Cは位置づけ工程、図7Dはドレッシング工程のそれぞれ一例を示す図である。なお、第2の実施の形態のドレッシング方法では、第1の実施の形態と同一の切削装置を用いて実施されるため、装置各部の説明については省略する。また、ここでは新品の切削ブレードに付け替えられた直後に、この切削ブレードに対する芯出しとフラットドレスが実施される構成について説明する。
図7Aに示すように、先ず保持工程が実施される。保持工程では、平板のドレッサボードD2が保持テーブル71の保持面72に載置され、保持面72の吸引力によってドレッサボードD2が保持される。この場合、矩形状のドレッサボードD2の一辺が切削ブレード73(図7B参照)の切削方向に一致するように、保持テーブル71の保持面72に対してドレッサボードD2の向きが調整されている。保持テーブル71とドレッサボードD2の上面視の外形形状が同じであるため、保持テーブル71の外側面にドレッサボードD2の外側面を一致させることで精度よく位置決めされる。
図7Bに示すように、保持工程の後に凸部形成工程が実施される。凸部形成工程では、新品の切削ブレード73が取り付けられて、この切削ブレード73で平板のドレッサボードD2が切削される。ドレッサボードD2に対して1本の切削溝77が形成されたら、切削方向に直交するインデックス方向に切削ブレード73が移動されて、切削ブレード73で平板のドレッサボードD2が切削される。平板のドレッサボードD2に対する切削ブレード73の切削が繰り返されることで、ドレッサボードD2に対して複数本の切削溝77が形成されて、新品の切削ブレード73がドレッサボードD2によって芯出しされる。
このとき、ドレッサボードD2の上面には、切削ブレード73の厚みよりも狭い間隔を空けて複数本の切削溝77が形成されている。すなわち、切削ブレード73の芯出し時に、インデックス送り方向に切削ブレード73の厚みよりも狭い間隔を空けて、ドレッサボードD2に対する切削が繰り返されている。ドレッサボードD2が切削ブレード73で切削されることで、切削方向に延在する複数列の凸部78が切削ブレード73の厚みよりも狭い幅で形成される。このように、切削ブレード73に対する芯出しを利用して、平板のドレッサボードD2の上面に切削ブレード73の厚みよりも上面79の幅が狭い凸部78が形成されている。
なお、凸部形成工程では、新品の切削ブレード73は芯出しによって平坦なドレッサボードD2が切削されるため、切削ブレード73の先端面74だけでなく、切削ブレード73の両側面75も僅かにドレッシングされる。したがって、芯出し完了後の切削ブレード73は、先端面74と両側面75の角部がR形状に形成される。このように、新品の切削ブレード73であっても芯出し完了後には切削ブレード73の角部にR形状が付けられるため、芯出しに続けてフラットドレスが実施されて、凸部78が形成されたドレッサボードD2で切削ブレード73の角部が直角に整形される。
図7Cに示すように、凸部形成工程の後に位置づけ工程が実施される。位置づけ工程では、切削ブレード73の下方にドレッサボードD2が位置付けられ、ドレッサボードD2の凸部78の延在方向に対する直交方向の幅の中心C1と切削ブレード73の厚みの中心C2とが一致される。この場合、撮像カメラ(不図示)によるアライメント処理によって位置合わせされる。また、ドレッサボードD2の真上から外れた位置で、凸部78の上面79から所定量切り込ませる高さに切削ブレード73が位置付けられる。なお、所定量切り込ませる高さとは、凸部78の上面79よりも深く、凸部78の根元よりも高い位置を示している。
図7Dに示すように、位置づけ工程の後にドレッシング工程が実施される。ドレッシング工程では、位置づけ工程で位置付けられた切削ブレード73とドレッサボードD2とが相対的に切削送り方向に移動される。切削ブレード73によってドレッサボードD2の凸部78が切削されることで、凸部78の上面79によって切削ブレード73の丸みを帯びた先端面74がドレッシングされる。切削ブレード73の厚みよりも凸部78の上面79が狭い幅に形成されているため、切削ブレード73の両側面75が削られず、切削ブレード73の先端面74がフラットになるまで削られて、切削ブレード73の角部が直角に整形される。
以上のように、第2の実施の形態のドレッシング方法でも、切削ブレード73を破損させることなく、短時間で切削ブレード73の先端をフラットに整形することができる。また、新品の切削ブレード73をドレッシングする際には、平板のドレッサボードD2を切削ブレード73で切り込むことで芯出しされ、芯出し時に形成された凸部78を切削ブレード73で切り込むことでフラットドレスされる。切削ブレード73に対する芯出しとフラットドレスとを連続的に実施することが可能になっている。
また、第1、第2の実施の形態では、ワークとしてパッケージ基板の配線基板を切削ブレードで切削するために、切削ブレードに対してフラットドレスを実施して切削ブレードの角部を直角にする構成にしたが、この構成に限定されない。第1、第2のドレッサボード、ドレッシング方法によって、配線基板を切削しない切削ブレードにフラットドレスを実施してもよい。
また、第1、第2の実施の形態では、切削装置においてワークを切削する切削ブレードにフラットドレスするドレッサボードについて説明したが、この構成に限定されない。本発明は、切削ブレードを用いた加工装置に適用可能であり、例えば、切削装置、エッジトリミング装置、及びこれらを含むクラスター装置等の他の加工装置に適用されてもよい。
また、加工対象のワークとして、加工の種類に応じて、例えば、半導体デバイスウエーハ、光デバイスウエーハ、パッケージ基板、半導体基板、無機材料基板、酸化物ウエーハ、生セラミックス基板、圧電基板等の各種ワークが用いられてもよい。半導体デバイスウエーハとしては、デバイス形成後のシリコンウエーハや化合物半導体ウエーハが用いられてもよい。光デバイスウエーハとしては、デバイス形成後のサファイアウエーハやシリコンカーバイドウエーハが用いられてもよい。また、パッケージ基板としてはCSP(Chip Size Package)及びFOWLP(Fan Out Wafer Level Package)用の基板が用いられてもよい。半導体基板としてはシリコンやガリウム砒素等、無機材料基板としてはサファイア、セラミックス、ガラス等が用いられてもよい。さらに、酸化物ウエーハとしては、デバイス形成後又はデバイス形成前のリチウムタンタレート、リチウムナイオベートが用いられてもよい。
また、本実施の形態及び変形例を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。
また、本発明の実施の形態及び変形例は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。
また、本実施の形態では、本発明を切削装置に適用した構成について説明したが、切削ブレードのドレッシングが必要な他の装置に適用することも可能である。
以上説明したように、本発明は、切削ブレードを破損させることなく、短時間で切削ブレードの先端をフラットに整形することができるという効果を有し、特に、パッケージ基板を切削する切削ブレードのドレッシングするドレッシング方法に有用である。
52、73 切削ブレード
60、71 保持テーブル
65、78 凸部
67、79 凸部の上面
D1、D2 ドレッサボード

Claims (1)

  1. 平板のドレッサボードから凸部を形成すると共に切削ブレードの先端をフラットにドレッシングするドレッシング方法であって、
    該平板のドレッサボードを保持テーブルに保持する保持工程と、
    該保持テーブルが保持した該平板のドレッサボードを該切削ブレードで切削して、該切削ブレードの厚みより僅かに狭い幅で切削方向に延在する凸部を形成する凸部形成工程と、
    該凸部形成工程の後、該凸部の延在方向に直交する幅の中心と該切削ブレードの厚みの中心とを一致させると共に、該凸部の上面から所定量切り込ませる高さに該切削ブレードを位置づける位置づけ工程と、
    該位置づけ工程で位置づけられた該切削ブレードと該凸部形成後のドレッサボードとを相対的に切削送り方向に移動させ該凸部を切削して該切削ブレードをドレッシングするドレッシング方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7378890B2 (ja) * 2019-08-06 2023-11-14 株式会社ディスコ 目立てボード及び切削ブレードの目立て方法
JP2022174532A (ja) 2021-05-11 2022-11-24 株式会社ディスコ ドレッサーボード及び切削ブレードのドレッシング方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3093128A (en) * 1960-10-20 1963-06-11 Cincinnati Milling Machine Co Grinding machine truing mechanism
DE3315196A1 (de) * 1983-04-27 1984-10-31 Schaudt Maschinenbau Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zum abrichten und schaerfen einer schleifscheibe
JPH029576A (ja) * 1988-06-28 1990-01-12 Nippei Toyama Corp 研削砥石の砥石修正装置
JP4329712B2 (ja) * 2005-03-15 2009-09-09 三菱マテリアル株式会社 ツルーイング砥石及びこれを用いたツルーイング方法
JP4852892B2 (ja) * 2005-05-31 2012-01-11 三菱マテリアル株式会社 ツルーイング工具および研削砥石のツルーイング方法
JP5254679B2 (ja) * 2008-06-23 2013-08-07 株式会社ディスコ 切削ブレードのドレス方法
CN201235502Y (zh) * 2008-08-05 2009-05-13 郑飞熊 无心磨插补式金刚滚轮修整器结构
JP2010142890A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Fuji Xerox Co Ltd 切削部材の外周形状の修正方法、ドレッサーボード及び切削装置
TWM370461U (en) * 2009-05-08 2009-12-11 Ufa Machinery Co Ltd Diamond grinding wheel trimmer and trimming structure for triming cylinder grinding bed
JP5541657B2 (ja) * 2009-07-01 2014-07-09 株式会社ディスコ 目立てボード
JP2011249571A (ja) 2010-05-27 2011-12-08 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード外形形状検査方法
CN102347275B (zh) * 2010-08-02 2014-02-19 北京中电科电子装备有限公司 划片机刀片的修整方法
JP2012187693A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Disco Corp ドレス材及びドレッシング方法
JP5764031B2 (ja) 2011-10-06 2015-08-12 株式会社ディスコ 切削装置
CN102862121B (zh) * 2012-09-17 2015-05-20 上海华力微电子有限公司 一种cmp研磨垫修整结构
JPWO2014057894A1 (ja) * 2012-10-10 2016-09-05 旭硝子株式会社 弾性砥石のドレッシング方法
CN203918783U (zh) * 2014-06-24 2014-11-05 浙江司贝宁精工科技有限公司 一种数控抛光机床用的自动修整抛光轮机构
JP6576135B2 (ja) * 2015-07-14 2019-09-18 株式会社ディスコ 切削ブレードの先端形状成形方法
CN105345665A (zh) * 2015-11-30 2016-02-24 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 一种平面磨削用超硬砂轮修整工具及修整方法

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