JP6813267B2 - エッチングレジスト組成物およびドライフィルム - Google Patents

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本発明はエッチングレジスト組成物およびドライフィルムに関し、詳しくは、ITO膜との密着性および強酸耐性に優れたエッチングレジスト膜を形成できるエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムに関する。
フラットパネルディスプレイ等の画像表示装置の透明電極として、ITO(インジウムチンオキサイド)電極が用いられている。ITO電極を形成するための加工技術として、強酸を用いたエッチングが知られており、マスクとしてパターン状のエッチングレジスト膜で基材上のITO膜を被覆し、濃塩酸等のエッチング液で非被覆部を溶解させることによって所望のパターン状のITO電極を形成することができる(例えば特許文献1、2)。
特開平10−198032号公報 国際公開2010/134549号公報
上記のITO電極の形成方法に用いられるエッチングレジスト膜には、被覆部がエッチング液と接触することを防ぐために、ITO膜としっかりと密着できることが要求される。また、エッチング液として用いられる強酸に曝されても剥離せずに、ITO膜と密着できることが要求される。エッチングレジスト膜が、ITO膜との密着性が不十分な場合や強酸で剥離してしまう場合は、被覆部もエッチング液と接触してしまうことから、所望のパターン状のITO電極が得られないという問題が生じる。
そこで本発明の目的は、ITO膜との密着性および強酸耐性に優れたエッチングレジスト膜を形成できるエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムを提供することにある。
本発明者等は上記に鑑み鋭意検討した結果、エッチングレジスト組成物に特定の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を配合することによって、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明のエッチングレジスト組成物は、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするものである。
本発明のドライフィルムは、前記エッチングレジスト組成物を、フィルムに塗布、乾燥して得られる樹脂層を有することを特徴とするものである。
本発明によれば、ITO膜との密着性および強酸耐性に優れたエッチングレジスト膜を形成できるエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムを提供することができる。
本発明のエッチングレジスト組成物は、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするものである。本発明のエッチングレジスト組成物で形成したエッチングレジスト膜は、ITO膜との密着性および強酸耐性に優れるため、エッチング処理中にITO膜からの剥離が生じにくい。これによって、基板を高精度でエッチング処理することができる。また、エッチング工程でより強い強酸をエッチング液として用いることができるため、エッチング処理時間を短縮することができる。
本発明のエッチングレジスト組成物で形成したエッチングレジスト膜は、強酸耐性に優れるため、膜厚を厚く形成せずとも、エッチング液で剥がれ難い。本発明のエッチングレジスト組成物は現像型、熱乾燥型、光硬化型、熱硬化型の何れでもよいが、露光工程、現像工程を経ないため、工程を簡略化できる点や、形成した塗膜の剥離性に優れる点で、熱乾燥型が好ましい。
また、本発明のエッチングレジスト組成物は、TI値(チキソトロピックインデックス)を2.5以上に調整することによって、線幅再現性を向上することができる。
以下、本発明のエッチングレジスト組成物が含有する成分について詳述する。
[アルカリ可溶性樹脂]
本発明のエッチングレジスト組成物が含有するアルカリ可溶性樹脂は、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有する。アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基含有樹脂やフェノール系水酸基含有樹脂を用いることができるが、カルボキシル基含有樹脂が好ましい。本発明のエッチングレジスト組成物が現像型の場合は、アルカリ可溶性樹脂はエチレン性不飽和結合を有することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよいが、優れたエッチング耐性と剥離性とのバランスから、ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂とビスフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂を組み合わせて用いることが好ましい。
ウレタン構造を有するカルボキシル基含有樹脂の具体例としては、下記(1)〜(4)として列挙するような化合物(オリゴマーおよびポリマーのいずれでもよい)が挙げられる。
(1)脂肪族ジイソシアネート、分岐脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等のジイソシアネートと、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等のカルボキシル基含有ジアルコール化合物およびポリカーボネート系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、アクリル系ポリオール、ビスフェノールA系アルキレンオキシド付加体ジオール、フェノール性ヒドロキシル基およびアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物等のジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有ウレタン樹脂。
(2)ジイソシアネートと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂の(メタ)アクリレートもしくはその部分酸無水物変性物、カルボキシル基含有ジアルコール化合物およびジオール化合物の重付加反応による感光性カルボキシル基含有ウレタン樹脂。
(3)上記(1)または(2)の樹脂の合成中に、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の分子内に1つの水酸基と1つ以上の(メタ)アクリル基を有する化合物を加え、末端(メタ)アクリル化した感光性カルボキシル基含有ウレタン樹脂。
(4)上記(1)または(2)の樹脂の合成中に、イソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの等モル反応物等、分子内に1つのイソシアネート基と1つ以上の(メタ)アクリル基を有する化合物を加え、末端(メタ)アクリル化した感光性カルボキシル基含有ウレタン樹脂。
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレートおよびそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。
ビスフェノール構造を有するカルボキシル基含有樹脂の具体例としては、下記のような水酸基を有する2官能またはそれ以上の多官能ビスフェノール型エポキシ樹脂の水酸基にエピクロルヒドリン等でエポキシ基を付加した後、不飽和基含有モノカルボン酸および2塩基酸無水物をさらに反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂、および、該樹脂にさらに1分子内に1つのエポキシ基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を付加してなるカルボキシル基を有する(メタ)アクリレート変性樹脂も挙げられる。前記水酸基を有する2官能またはそれ以上の多官能ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(1)で表されるビスフェノールF型エポキシ樹脂およびビスフェノールA型エポキシ樹脂が挙げられる。
Figure 0006813267
(式中、XはCHまたはC(CHを表し、nは1〜12である。)
ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するカルボキシル基含有樹脂は、その酸価が30〜300mgKOH/gであることが好ましく、50〜150mgKOH/gであることがより好ましい。酸価が30mgKOH/g以上の場合、現像性が向上する。酸価が300mgKOH/g以下の場合、エッチング耐性が向上する。
ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するフェノール系水酸基含有樹脂としては、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有する、フェノールノボラック樹脂、アルキルフェノールボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、Xylok型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ポリビニルフェノール類、ビスフェノールF、ビスフェノールS型フェノール樹脂、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ナフトールとアルデヒド類の縮合物、ジヒドロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物等のフェノール系水酸基含有樹脂を用いることができる。
ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、樹脂骨格により異なるが、1,000〜150,000であることが好ましく、5,000〜100,000であることがより好ましい。重量平均分子量が1,000以上の場合、エッチング耐性が向上する。重量平均分子量が150,000以下の場合、現像性が良好となる。
ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂とビスフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂を併用する場合、ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂とビスフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂の割合を、好ましくは9:1〜1:9の割合、より好ましくは8:2〜3:7の割合で配合すると、密着性、耐エッチング性が向上する。
また、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂の配合量は、エッチングレジスト組成物の固形分あたり、10〜80質量%であることが好ましく、30〜75質量%であることがより好ましい。配合量が10質量%以上の場合、密着性が向上する。配合量が80質量%以下の場合、粘度が安定する。本発明のエッチングレジスト組成物は、本発明の効果が損なわれない範囲で、他のアルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。
(光硬化性成分)
本発明のエッチングレジスト組成物は、現像型や光硬化型の場合でも、熱乾燥と同等のエッチングレジスト耐性、密着性を有する事ができる。その場合は、光硬化性成分を含有することが好ましい。光硬化性成分としては、活性エネルギー線照射により硬化する樹脂であればよく、特に、本発明においては、分子中に1個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましく用いられる。光硬化性成分は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、公知慣用の光重合性オリゴマー、および光重合性ビニルモノマー等が用いられる。このうち光重合性オリゴマーとしては、不飽和ポリエステル系オリゴマー、(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、フェノールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。
光重合性ビニルモノマーとしては、公知慣用のもの、例えば、スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;酢酸ビニル、酪酸ビニルまたは安息香酸ビニル等のビニルエステル類;ビニルイソブチルエーテル、ビニル−n−ブチルエーテル、ビニル−t−ブチルエーテル、ビニル−n−アミルエーテル、ビニルイソアミルエーテル、ビニル−n−オクタデシルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、エチレングリコールモノブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル等のアリル化合物;2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のエステル類;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート類、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のアルキレンポリオールポリ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールポリ(メタ)アクリレート類;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(メタ)アクリレート等のポリ(メタ)アクリレート類;トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート等のイソシアヌルレート型ポリ(メタ)アクリレート類等が挙げられる。
前記光硬化性成分の含有量は、エッチングレジスト組成物の固形分あたり、5〜38質量%が好ましく、10〜20質量%がより好ましい。光硬化性成分の含有量が5質量%以上の場合、光硬化性が向上する。38質量%以下の場合、タック性が向上する。
(光重合開始剤)
本発明のエッチングレジスト組成物は、現像型の場合は光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−4−プロピルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−1−ナフチルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(BASFジャパン社製,IRGACURE819)等のビスアシルフォスフィンオキサイド類;2,6−ジメトキシベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6−ジクロロベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィン酸メチルエステル、2−メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ピバロイルフェニルフォスフィン酸イソプロピルエステル、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(BASFジャパン社製,DAROCUR TPO)等のモノアシルフォスフィンオキサイド類;1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のヒドロキシアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインn−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル等のベンゾイン類;ベンゾインアルキルエーテル類;ベンゾフェノン、p−メチルベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、メチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル)−1−[4−(4
−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン類;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アントラキノン、クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−アミノアントラキノン等のアントラキノン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、p−ジメチル安息香酸エチルエステル等の安息香酸エステル類;1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)等のオキシムエステル類;ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2−(1−ピル−1−イル)エチル)フェニル]チタニウム等のチタノセン類;フェニルジスルフィド2−ニトロフルオレン、ブチロイン、アニソインエチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル、テトラメチルチウラムジスルフィド等を挙げることができる。光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記光重合開始剤の含有量は、エッチングレジスト組成物の固形分あたり、1〜8質量%が好ましく、2〜5質量%がより好ましい。光重合開始剤の含有量が1質量%以上の場合、光硬化性が向上する。8質量%以下の場合、ハレーションが発生しにくく、硬化深度が適当になる。
(フィラー)
本発明では、従来公知のエッチングレジスト用の無機フィラーおよび有機フィラーを使用することができる。例えば、無機フィラーとしては、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、タルク、クレー、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の体質着色剤が挙げられる。これらの無機フィラーは、レジスト組成物調整の際の粘度を適度に調整し、熱乾燥や熱硬化や光硬化の際に塗膜の硬化収縮を抑制し、ITO膜との密着性を向上させる役割を果たす。このうち、ITO膜との密着性を良好とするためにタルクが特に好ましく用いられる。フィラーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
無機フィラーの平均一次粒径は15μm以下であることが好ましく、更に好ましくは10μm以下である。平均一次粒径(D50)は、レーザー回折/散乱法により測定することができる。
フィラーの配合量は、エッチングレジスト組成物の固形分あたり、0.01〜70質量%が好ましく、より好ましくは10〜40質量%である。フィラーの配合量が0.01質量%以上の場合、レジストとITO膜との密着性が向上し、70質量%以下の場合、組成物の流動性が向上する。
(有機溶剤)
本発明のエッチングレジスト組成物には、有機溶剤を配合してもよい。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル等のエステル類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、および、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のエッチングレジスト組成物の固形分は、20〜85質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。
本発明のエッチングレジスト組成物は、TI値が2.5〜5.0の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、3.0〜4.0である。
粘度は回転式粘度計を用いて回転数を1、2.5、5、10、20、50回転と連続で変化させて測定する。このうち、5回転値の値を50回転値の値で割った数値をTI値とし、流動性の指標として用いる。TI値が2.5以上であると、組成物の流動性が低く流れ難く、すなわち、印刷した線幅の再現性が良い。一方、TI値が5.0以下であると、組成物のレべリング性が良好となる。TI値を調整するには、調整の容易性より、流動調整剤を配合することが好ましい。流動調整剤は、アマイド、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびその変性物等のワックス、変性ウレア、ポリウレタン、ポリヒドロキシカルボン酸アミド、微粉末シリカ、有機ベントナイト等が挙げられ、なかでも、微粉末シリカ、有機ベントナイトのいずれか少なくとも1種を配合することがより好ましい。流動調整剤は、固形分換算で、アルカリ可溶性樹脂100質量部に対し、5〜20質量部が好ましく、8〜18質量部がより好ましい。
(その他の添加剤)
この他、本発明のエッチングレジスト組成物には、エッチングレジストの分野において公知慣用の他の添加剤を配合してもよい。他の添加剤としては、例えば、カップリング剤、表面張力調整剤、界面活性剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の公知慣用の着色剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤およびレベリング剤等が挙げられる。このような添加剤は、本発明の効果を損なわず、添加剤の所望の効果が得られる範囲で、適宜使用量を調節して配合すればよい。
本発明のエッチングレジスト組成物は、液状として用いる場合は、1液性でも2液性以上でもよい。
また、本発明のエッチングレジスト組成物は、下記のようにドライフィルム化して用いてもよい。現像型の場合は、上記と同様の方法で露光現像によって所望のパターンを形成することができる。熱乾燥型、光硬化型、熱硬化型の場合は、レーザー加工等によってパターンを形成すればよい。
本発明のドライフィルムは、本発明のエッチングレジスト組成物を、フィルムに塗布、乾燥して得られる樹脂層を有する。ドライフィルムを形成する際には、まず、本発明のエッチングレジスト組成物を上記有機溶剤で希釈して適切な粘度に調整した上で、コンマコーター、ブレードコーター、リップコーター、ロッドコーター、スクイズコーター、リバースコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、スプレーコーター等により、キャリアフィルム上に均一な厚さに塗布する。その後、塗布された組成物を、通常、50〜130℃の温度で1〜30分間乾燥することで、樹脂層を形成することができる。塗布膜厚については特に制限はないが、一般に、乾燥後の膜厚で、10〜150μm、好ましくは20〜60μmの範囲で適宜選択される。
キャリアフィルムとしては、プラスチックフィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等を用いることができる。キャリアフィルムの厚さについては特に制限はないが、一般に、10〜150μmの範囲で適宜選択される。
キャリアフィルム上に本発明のエッチングレジスト組成物からなる樹脂層を形成した後、膜の表面に塵が付着することを防ぐ等の目的で、さらに、膜の表面に、剥離可能なカバーフィルムを積層することが好ましい。剥離可能なカバーフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルムやポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、表面処理した紙等を用いることができる。カバーフィルムとしては、カバーフィルムを剥離するときに、樹脂層とキャリアフィルムとの接着力よりも小さいものであればよい。
なお、本発明のドライフィルムにおいては、上記保護フィルム上に本発明のエッチングレジスト組成物を塗布、乾燥させることにより樹脂層を形成して、その表面にキャリアフィルムを積層するものであってもよい。すなわち、本発明においてドライフィルムを製造する際に本発明のエッチングレジスト組成物を塗布するフィルムとしては、キャリアフィルムおよび保護フィルムのいずれを用いてもよい。
ドライフィルムの場合は、ラミネーター等により本発明のエッチングレジスト組成物の層が基材上のITO膜と接触するように貼り合わせた後、キャリアフィルムを剥がすことにより、エッチングレジストでITO膜を被覆することができる。
本発明のエッチングレジスト組成物が現像型の液状組成物の場合は、均一な溶液または分散液として調整後、基材上のITO膜に対し、スクリーン印刷やカーテンコーター等の塗布方法を用いて、乾燥後の膜厚が好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜30μmの膜厚になるように塗布すればよい。塗布後、例えば70〜100℃にて、10〜30分間、乾燥炉等において熱乾燥を行った後、マスクを介してエッチングレジストに対して露光を行ってパターンを焼き付ける。その後、アルカリ水溶液で現像を行ってパターンを形成し、エッチングレジストで被覆した基板を得ることができる。現像後の再加熱は、必ずしも必要とするものではないが、再加熱を行う事で耐性をより向上させることができる。
現像型のドライフィルムの形態の場合には、ラミネーター等により本発明のエッチングレジスト組成物の層が基材と接触するように基材上に貼り合わせた後、上記と同様に、露光、現像によってパターンを形成すればよい。
本発明のエッチングレジスト組成物が熱乾燥型の液状組成物の場合は、均一な溶液または分散液として調整後、基材上のITO膜に対し、スクリーン印刷等により所望のパターンにて、乾燥後の塗膜が好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜30μmの膜厚になるように塗布すればよい。印刷後、例えば70〜150℃にて、好ましくは80〜120℃にて、10〜30分間、乾燥炉等において熱乾燥すれば、所望のパターンで乾燥したエッチングレジストで被覆した基板を得ることができる。
熱乾燥後のレジスト塗膜を、乾燥後の状態で、JIS C 5400の試験方法に従って試験した場合に、鉛筆硬度がF以上の硬度を有する膜として基板に密着して熱乾燥されることが好ましい。
熱乾燥型のドライフィルムの形態の場合には、ラミネーター等により本発明のエッチングレジスト組成物の層がITO膜と接触するように貼り合わせた後、レーザー加工等により所望のパターンを形成すればよい。
エッチングレジストで被覆したITO膜を、エッチング液によりエッチング処理することにより、レジストに被覆されていない部分をエッチングすることができる。
エッチング液は、特に限定されず、公知慣用のITO膜用のエッチング液を用いればよい(例えば、塩酸、塩化第二銅−塩酸水溶液、塩化第二鉄−塩酸水溶液、シュウ酸水溶液等の強酸のいずれか1種以上を含む)。本発明のエッチングレジスト組成物で形成したエッチングレジスト膜は強酸耐性に優れるため、通常よりも、強い強酸をエッチング液として用いてもよい。
さらに、本発明のエッチングレジスト組成物で形成したエッチングレジスト膜は希アルカリ水溶液により剥離可能であり、例えば水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等の公知の剥離液にて容易に除去できる。水酸化ナトリウム等のアルカリ物質の濃度は、例えば1〜5質量%である。
本発明のエッチングレジスト組成物は、スクリーン印刷法の他、スプレーコート法、カーテンコート法、グラビア法、グラビアオフセット法等の印刷方法に適用可能である。また、エッチングレジスト組成物は複数回に分けて塗布することもできる。
本発明のエッチングレジスト組成物は、ITO膜上にエッチングレジスト膜を形成するために好適に用いることができ、ITO電極、特に、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられるITO電極の形成に好適に用いることができる。
以下に実施例、参考例および比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
(ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂A−1の合成)
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、2つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール(旭化成ケミカルズ社製T5650J、数平均分子量800)を2400g(3.0モル)、ジメチロールブタン酸を603g(4.5モル)、およびモノヒドロキシル化合物として2−ヒドロキシエチルアクリレートを238g(2.6モル)投入した。次に、芳香族系でないイソシアネート基を有する化合物としてイソホロンジイソシアネート1887g(8.5モル)を投入し、撹拌しながら60℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して80℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル(2280cm−1)が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が50wt%となるようにカルビトールアセテートを添加し、アルカリ可溶性樹脂(A−1)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分の酸価は51.0mgKOH/gであった。
(ビスフェノールF型構造を有するアルカリ可溶性樹脂A−2の合成)
上記一般式(1)においてXがCH、平均の重合度nが6.2であるビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量950g/eq、軟化点85℃)380部とエピクロルヒドリン925部をジメチルスルホキシド462.5部に溶解させた後、攪拌下70℃で98.5%NaOH60.9部を100分かけて添加した。添加後さらに70℃で3時間反応を行った。反応終了後、水250部を加え水洗を行った。油水分離後、油層よりジメチルスルホキシドの大半および過剰の未反応エピクロルヒドリンを減圧下に蒸留回収し、残留した副製塩とジメチルスルホキシドを含む反応生成物をメチルイソブチルケトン750部に溶解させ、更に30%NaOH10部を加え、70℃で1時間反応させた。反応終了後、水200部で2回水洗を行った。油水分離後、油層よりメチルイソブチルケトンを蒸留回収して、エポキシ当量310g/eq、軟化点69℃のエポキシ樹脂(a)を得た。得られたエポキシ樹脂(a)は、エポキシ当量から計算すると、前記出発物質ビスフェノールF型エポキシ樹脂におけるアルコール性水酸基6.2個のうち約5個がエポキシ化されたものであった。このエポキシ樹脂(a)310部およびカルビトールアセテート282部をフラスコに仕込み、90℃に加熱・攪拌し、溶解した。得られた溶液を一旦60℃まで冷却し、アクリル酸72部(1モル)、メチルハイドロキノン0.5部、トリフェニルホスフィン2部を加え、100℃に加熱し、約60時間反応させ、酸価が0.2mgKOH/gの反応物を得た。これにテトラヒドロ無水フタル酸140部(0.92モル)を加え、90℃に加熱し、反応を行い、アルカリ可溶性樹脂(A−2)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は65.0%、固形分酸価(mgKOH/g)は100であった。
(ビスフェノールA型構造を有するアルカリ可溶性樹脂A−3の合成)
上記一般式(1)においてXがC(CH、平均の重合度nが3.3であるビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量650g/eq、軟化点81.1℃)371部とエピクロルヒドリン925部をジメチルスルホキシド462.5部に溶解させた後、攪拌下70℃で98.5%NaOH52.8部を100分かけて添加した。添加後さらに70℃で3時間反応を行った。反応終了後、水250部を加え水洗を行った。油水分離後、油層よりジメチルスルホキシドの大半および過剰の未反応エピクロルヒドリンを減圧下に蒸留回収し、残留した副製塩とジメチルスルホキシドを含む反応生成物をメチルイソブチルケトン750部に溶解させ、更に30%NaOH10部を加え、70℃で1時間反応させた。反応終了後、水200部で2回水洗を行った。油水分離後、油層よりメチルイソブチルケトンを蒸留回収して、エポキシ当量287g/eq、軟化点64.2℃のエポキシ樹脂(a)を得た。得られたエポキシ樹脂(a)は、エポキシ当量から計算すると、前記出発物質ビスフェノールA型エポキシ樹脂におけるアルコール性水酸基3.3個のうち約3.1個がエポキシ化されたものであった。このエポキシ樹脂(a)310部およびカルビトールアセテート282部をフラスコに仕込み、90℃に加熱・攪拌し、溶解した。得られた溶液を一旦60℃まで冷却し、アクリル酸72部(1モル)、メチルハイドロキノン0.5部、トリフェニルホスフィン2部を加え、100℃に加熱し、約60時間反応させ、酸価が0.2mgKOH/gの反応物を得た。これにテトラヒドロ無水フタル酸140部(0.92モル)を加え、90℃に加熱し、反応を行い、アルカリ可溶性樹脂(A−3)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は64.0%、固形分酸価(mgKOH/g)は100であった。
(ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂A−4の合成)
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、2つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール(旭化成ケミカルズ社製TJ5650J、数平均分子量800)を3600g(4.5モル)、ジメチロールブタン酸を814g(5.5モル)、および分子量調整剤(反応停止剤)としてn−ブタノールを118g(1.6モル)投入した。次に、芳香環を有しないイソシアネート化合物としてトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート2009g(10.8モル)を投入し、撹拌しながら60℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して80℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル(2280cm−1)が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が60wt%となるようにカルビトールアセテートを添加し、アルカリ可溶性樹脂(A−4)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分の酸価は49.8mgKOH/gであった。
(ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂:樹脂R−1)
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC社製エピクロンN−680、エポキシ当量:210)210部を撹拌機および還流冷却器の付いた四つ口フラスコに入れ、カルビトールアセテート96.4部を加え、加熱溶解した。次に、重合禁止剤としてハイドロキノン0.46部と、反応触媒としてトリフェニルホスフィン1.38部を加えた。この混合物を95〜105℃に加熱し、アクリル酸72部を徐々に滴下し、酸価が3.0mgKOH/g以下になるまで約16時間反応させた。この反応生成物を80〜90℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物76部を加え、8時間反応させ、冷却後、取り出してアルカリ可溶性樹脂(R−1)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は65%、固形物の酸価85mgKOH/gであった。
(ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂:樹脂R−2)
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた2リットルセパラブルフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル900g、および重合開始剤としてt−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日油社製パーブチルO)21.4gを加えて90℃に加熱した。加熱後、ここに、MAA(メタクリル酸)309.9g、MMA(メタクリル酸メチル)116.4g、およびラクトン変性2−ヒドロキシエチルメタクリレート(ダイセル社製プラクセルFM1)109.8gを、重合開始剤であるビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(日油社製パーロイルTCP)21.4gと共に3時間かけて滴下して加え、さらに6時間熟成することにより、カルボキシル基含有共重合樹脂を得た。なお、反応は、窒素雰囲気下で行った。
次に、得られたカルボキシル基含有共重合樹脂に、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート(ダイセル社製サイクロマーM100)363.9g、開環触媒としてジメチルベンジルアミン:3.6g、重合抑制剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル:1.80gを加え、100℃に加熱し、攪拌することによりエポキシの開環付加反応を16時間行い、アルカリ可溶性樹脂(R−2)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は45%、固形分の酸価が76mgKOH/g、重量平均分子量が25,000であった。
(ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂:樹脂R−3)
カルボキシル基を有するスチレン−アクリル共重合樹脂(BASFジャパン社製ジョンクリル67(固形分100%、固形分酸価200mgKOH/g))を用いた。以下、樹脂R−3と称する。
(ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂:樹脂R−4)
温度計、撹拌機、滴下ロートおよび還流冷却器を備えたフラスコに、溶媒としてのジプロピレングリコールモノメチルエーテル325.0質量部を110℃まで加熱し、メタクリル酸174.0質量部、ε−カプロラクトン変性メタクリル酸(平均分子量314)174.0質量部、メタクリル酸メチル77.0質量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル222.0質量部、および、重合触媒としてのt−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日油社製パーブチルO)12.0質量部の混合物を、3時間かけて滴下し、さらに110℃で3時間攪拌し、重合触媒を失活させて、樹脂溶液を得た。
この樹脂溶液を冷却後、ダイセル社製サイクロマーM100を289.0質量部、トリフェニルホスフィン3.0質量部およびハイドロキノンモノメチルエーテル1.3質量部を加え、100℃に昇温し、攪拌することによってエポキシ基の開環付加反応を行い、アルカリ可溶性樹脂(R−4)の樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は45.5質量%、固形物の酸価が79.8mgKOH/gであった。また、重量平均分子量(Mw)は15,000であった。
下記の表中に示す配合に従い、各成分を配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールミルで分散させ、混練して、それぞれ組成物を調製した。表中の配合量は、質量部を示す。また、表中の樹脂の配合量は固形分量を示す。尚、表1中の参考例1〜4、実施例5、6、比較例1〜3、および、表2中の参考例7、8は、熱乾燥型のエッチングレジスト組成物であり、表中の参考例9〜11、実施例12および比較例4、5は、現像型のエッチングレジスト組成物である。
Figure 0006813267
*1:ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂
*2:ビスフェノールF構造を有するアルカリ可溶性樹脂
*3:ビスフェノールA構造を有するアルカリ可溶性樹脂
*4:ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂
*5:ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂
(クレゾールノボラック構造を有するアルカリ可溶性樹脂)
*6:ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂
(カルボキシル基含有共重合樹脂)
*7:ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂
(スチレン、アクリル共重合樹脂(BASFジャパン社製ジョンクリル67))
*9:シリコーン系消泡剤(信越化学社製)
*10:タルク(富士タルク社製)
*11:フタロシアニンブルー
*12:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
※ 表1中の樹脂の配合量はいずれも固形分の値。
Figure 0006813267
*13:微粉末シリカ(日本アエロジル社製)
*14:有機ベントナイト(白石カルシウム社製)
※表2中の樹脂の配合量はいずれも固形分の値。
Figure 0006813267
*8:ウレタン構造およびビスフェノール構造の何れも有しないアルカリ可溶性樹脂
(カルボキシル基含有共重合樹脂)
*15:多官能アクリルモノマー(東亜合成社製)
*16:α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤(BASFジャパン社製)
※表3中の樹脂の配合量はいずれも固形分の値。
得られた各実施例、参考例および比較例のエッチングレジスト組成物について、以下に従い、評価を行った。その結果を、下記の表中に示す。
(熱乾燥型のエッチングレジスト膜の形成、密着性試験、強酸耐性試験および剥離性試験)
参考例1〜4、7、8、実施例5、6および比較例1〜3の熱乾燥型のエッチングレジスト組成物をそれぞれ、ITO膜を蒸着させたPETフィルム上にスクリーン印刷法で乾燥後の膜厚が7〜15μmの厚みになるように印刷を行った。印刷後、80℃で20分間、乾燥し有機溶剤を蒸発させて、タックフリーの塗膜(以下、乾燥後塗膜と称する)を形成した。
JIS K5600−5−6:1999に準拠して、乾燥後塗膜にクロスカットを入れ、セロハンテープを貼り付け、これを引き剥がすというピーリングテストを行った。塗膜の剥がれの状態を目視観察し、ITO膜との密着性を以下の基準で評価した。
○:剥がれ無し。
△:軽微な剥がれ。
×:剥がれ有り。
乾燥後塗膜を50℃に加温した35%濃塩酸に15分浸漬してエッチング処理を行った。エッチング処理後、水洗し、80℃10分で乾燥した後、JIS K5600−5−6:1999に準拠して、クロスカットを入れ、セロハンテープを貼り付け、これを引き剥がすというピーリングテストを行った。塗膜の剥がれの状態を目視観察し、強酸耐性を以下の基準で評価した。
○:剥がれ無し。
△:軽微な剥がれ。
×:剥がれ有り。
また、乾燥後塗膜を50℃に加温した35%濃塩酸に15分浸漬してエッチング処理を行った(以下、乾燥、エッチング後塗膜と称する)。エッチング処理後、50℃に加温した3%苛性ソーダ水溶液に浸漬し、乾燥、エッチング後塗膜の剥離時間を測定し、以下の基準で評価した。併せて剥離形態が溶解若しくは膨潤であるかを確認した。
◎:20秒以下。
○:20秒超40秒以下。
△:40秒超60秒以下。
さらに、参考例7および8の熱乾燥型のエッチングレジスト組成物をそれぞれ、回転式粘度計(東機産業社製TV型回転式粘度計)を用いて温度を25℃とし、回転数を1、2.5、5、10、20、50回転と連続で変化させて測定し、このうち、5回転値の値を50回転値の値で割った数値をTI値とした。
また、参考例7および8の熱乾燥型のエッチングレジスト組成物をそれぞれ、ITO膜を蒸着させたPETフィルム上に、SUS400メッシュ、乳剤10μmで製版した版を用いて、スクリーン印刷法でライン/スペース=100/100μmのパターン印刷した。印刷後、80℃で20分間、乾燥し有機溶剤を蒸発させタックフリーの塗膜を形成した。前記方法で形成したパターンの線幅を光学顕微鏡を用いて、線幅を測定し、測定した線幅を以下の基準で評価した。
○:設計値に対する線幅の広がりが、20%未満。
×:設計値に対する線幅の広がりが、20%以上。
(現像型のエッチングレジスト膜の形成、密着性試験および強酸耐性試験)
参考例9〜11、実施例12および比較例4、5の現像型のエッチングレジスト組成物をそれぞれ、ITO膜を蒸着させたPETフィルム上にスクリーン印刷法で乾燥後の膜厚が7〜15μmの厚みになる様に印刷を行った。印刷後、80℃で20分間、乾燥し有機溶剤を蒸発させて、タックフリーの塗膜を形成した。その後、フォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線により露光し、未露光部をアルカリ水溶液により現像してレジストパターンを形成した(以下、現像後塗膜と称する)。
JIS K5600−5−6:1999に準拠して、現像後塗膜にクロスカットを入れ、セロハンテープを貼り付け、これを引き剥がすというピーリングテストを行った。塗膜の剥がれの状態を目視観察し、ITO膜との密着性を以下の基準で評価した。
○:剥がれ無し。
△:軽微な剥がれ。
×:剥がれ有り。
現像後塗膜を50℃に加温した35%濃塩酸に15分浸漬してエッチング処理を行った。エッチング処理後、水洗し、80℃10分で乾燥した後、JIS K5600−5−6:1999に準拠して、クロスカットを入れ、セロハンテープを貼り付け、これを引き剥がすというピーリングテストを行った。塗膜の剥がれの状態を目視観察し、強酸耐性を以下の基準で評価した。
○:剥がれ無し。
△:軽微な剥がれ。
×:剥がれ有り。
また、現像後塗膜を50℃に加温した35%濃塩酸に15分浸漬してエッチング処理を行った(以下、現像、エッチング後塗膜と称する)。エッチング処理後、50℃に加温した3%苛性ソーダ水溶液に浸漬し、現像、エッチング後塗膜の剥離時間を測定し、以下の基準で評価した。併せて剥離形態が溶解若しくは膨潤であるかを確認した。
◎:20秒以下。
○:20秒超40秒以下。
△:40秒超60秒以下。
×:60秒超。
Figure 0006813267
Figure 0006813267
Figure 0006813267
上記表中に示すように、ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するエッチングレジスト組成物を用いて形成したエッチングレジスト膜は、ITO膜との密着性および強酸耐性に優れることがわかる。

Claims (2)

  1. ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂と、ビスフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂(ただし、前記ウレタン構造を有するアルカリ可溶性樹脂を除く)と、タルクとを含有することを特徴とするエッチング処理後に剥離されるエッチングレジスト膜の形成に用いられるエッチングレジスト組成物。
  2. 請求項1記載のエッチングレジスト組成物を、フィルムに塗布、乾燥して得られる樹脂層を有することを特徴とするドライフィルム。
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