JP6632302B2 - 配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
[第1の実施の形態に係る配線基板の構造]
まず、第1の実施の形態に係る配線基板の構造について説明する。図1は、第1の実施の形態に係る配線基板を例示する図であり、図1(a)は部分平面図、図1(b)は図1(a)のA−A線に沿う断面図である。なお、図1(a)では、便宜上、配線層10を梨地模様で示している。
次に、第1の実施の形態に係る配線基板の製造方法について説明する。図3〜図6は、第1の実施の形態に係る配線基板の製造工程を例示する図である。本実施の形態では、支持体上に複数の配線基板となる部分を作製し支持体を除去後個片化して各配線基板とする工程の例を示すが、支持体上に1個ずつ配線基板を作製し支持体を除去する工程としてもよい。
第1の実施の形態の変形例1では、配線基板1の製造方法の他の例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例1において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
第1の実施の形態の変形例2では、配線基板1の製造方法の更に他の例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例2において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
第1の実施の形態の変形例3では、配線基板1の製造方法の更に他の例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例3において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
第2の実施の形態では、3層構造の配線基板の例を示す。なお、第2の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
配線基板の応用例1では、第1の実施の形態に係る配線基板に半導体チップが搭載(フリップチップ実装)された半導体パッケージの例を示す。なお、配線基板の応用例1において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
配線基板の応用例2では、半導体パッケージ上に更に他の半導体パッケージが搭載された所謂POP(Package on package)構造の半導体パッケージの例を示す。なお、配線基板の応用例2において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
3、4、5 半導体パッケージ
10 配線層
11、12、31、71 パッド
13、33、73 配線パターン
20、60 絶縁層
20x、60x ビアホール
30、70 配線層
40、50 ソルダーレジスト層
40x、50x 開口部
90、110 バンプ
100 半導体チップ
120 アンダーフィル樹脂
300、300A 支持体
310 プリプレグ
320、320A キャリア付き金属箔
321、321A 薄箔
322 厚箔
330 バリア層
335 保護層
340 レジスト層
345 マスク
Claims (12)
- 半導体チップ搭載面と、前記半導体チップ搭載面の反対面である外部接続面と、を有する配線基板であって、
前記半導体チップ搭載面側の最外の配線層となる第1配線層と、
前記外部接続面側の最外の配線層となる第2配線層と、
前記第1配線層と前記第2配線層との間に形成された絶縁層と、を有し、
前記第1配線層は、半導体チップ搭載用パッドと、前記半導体チップ搭載用パッドから延出する第1配線パターンと、を含み、
前記第1配線層は単一の金属層からなり、
前記第1配線層は、前記絶縁層に埋め込まれており、前記絶縁層の前記半導体チップ搭載面側の面から露出する第1露出面と、前記絶縁層に被覆された側面と、前記絶縁層に被覆された前記第1露出面の反対面と、を備え、
前記第1配線層の側面全体が粗面であり、
前記第1配線層において、前記第1露出面の粗度は、前記側面の粗度よりも小さく、
前記第1露出面の粗度は、前記絶縁層の前記外部接続面側の面から露出する前記第2配線層の第2露出面の粗度よりも小さいことを特徴とする配線基板。 - 半導体チップ搭載面と、前記半導体チップ搭載面の反対面である外部接続面と、を有する配線基板であって、
前記半導体チップ搭載面側の最外の配線層となる第1配線層と、
前記外部接続面側の最外の配線層となる第2配線層と、
前記第1配線層と前記第2配線層との間に形成された絶縁層と、を有し、
前記第1配線層は単一の金属層からなり、
前記第1配線層は、第1の部分と、前記第1の部分よりも幅が広い第2の部分と、を備え、
前記第1の部分は、前記第2の部分よりも層厚が薄く形成され、
前記第1の部分が第1配線パターンを含み、前記第2の部分が半導体チップ搭載用パッドを含み、
前記第2配線層は、前記絶縁層を貫通して前記第2の部分と接続されるビア配線を備え、
前記絶縁層の前記半導体チップ搭載面側の面から露出する前記第1配線層の第1露出面の粗度は、前記絶縁層の前記外部接続面側の面から露出する前記第2配線層の第2露出面の粗度よりも小さいことを特徴とする配線基板。 - 前記第2の部分が、前記ビア配線が接続されるビア配線接続用パッドを含むことを特徴とする請求項2に記載の配線基板。
- 前記第1露出面は、前記絶縁層の前記半導体チップ搭載面側の面と面一であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の配線基板。
- 前記第2配線層は、第2配線パターンを含み、
前記第1配線パターンのライン/スペースは、前記第2配線パターンのライン/スペースよりも小さいことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の配線基板。 - 前記第1露出面の粗度は、前記絶縁層の前記半導体チップ搭載面側の面の粗度よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の配線基板。
- 前記第2配線層の一部は、前記絶縁層の前記外部接続面側の面上に形成されており、
前記第2配線層において、前記第2露出面は、前記絶縁層の前記外部接続面側の面に接する面の反対面、及び側面であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の配線基板。 - 前記第1配線層及び前記第2配線層を含む複数の配線層と、前記絶縁層を含む複数の絶縁層とが積層され、
前記第1配線層は、前記半導体チップ搭載面を有する絶縁層に埋め込まれており、
前記第2配線層は、前記外部接続面を有する絶縁層に設けられている請求項1乃至7の何れか一項に記載の配線基板。 - 半導体チップ搭載面と、前記半導体チップ搭載面の反対面である外部接続面と、を有する配線基板の製造方法であって、
支持体上に、前記半導体チップ搭載面側の最外の配線層となる第1配線層を形成する工程と、
前記第1配線層の前記支持体側を向く面以外の面全体に第1の粗化処理を施す工程と、
前記第1配線層を被覆するように、前記支持体上に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に、前記外部接続面側の最外の配線層となる第2配線層を形成する工程と、
前記第2配線層の前記絶縁層側の面以外の面に第2の粗化処理を施す工程と、
前記支持体を除去する工程と、を有し、
前記第1配線層は単一の金属層からなり、
前記第1配線層は、前記絶縁層に埋め込まれ、前記第1配線層の前記支持体側を向く面が、前記絶縁層の前記半導体チップ搭載面側の面から露出する前記第1配線層の第1露出面となり、前記第1配線層の側面と前記第1露出面の反対面が前記絶縁層に被覆され、
前記第1配線層の側面全体が粗面であり、
前記第1配線層において、前記第1露出面の粗度は、前記側面の粗度よりも小さく、
前記第2配線層の前記絶縁層と接する面以外の面が、前記絶縁層の前記外部接続面側の面から露出する前記第2配線層の第2露出面となり、
前記第1露出面の粗度は、前記第2露出面の粗度よりも小さいことを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記支持体上に第1配線層を形成する工程は、
前記支持体上に保護層を形成する工程と、
前記保護層上に前記第1配線層を形成する工程と、を含み、
前記保護層と前記第2配線層とは同一材料からなり、
前記保護層を除去する工程を有し、
前記保護層を除去する工程では、エッチングにより、前記保護層を除去すると同時に、前記第2配線層の前記絶縁層と接する面以外の面に前記第2の粗化処理を施すことを特徴とする請求項9に記載の配線基板の製造方法。 - 前記第1の粗化処理を施す工程では、前記第1配線層の前記保護層と接する面以外の面に粗化処理を施すと同時に、前記保護層の表面に粗化処理を施し、
前記保護層を除去する工程では、前記保護層の表面と接していた前記絶縁層の面に、前記保護層の凹凸が転写されることを特徴とする請求項10に記載の配線基板の製造方法。 - 前記絶縁層を形成する工程と前記第2配線層を形成する工程との間に、前記絶縁層上に一層以上の他の配線層と一層以上の他の絶縁層とを積層する工程を有し、
前記第1配線層を形成する工程では、前記支持体に接する前記絶縁層に前記半導体チップ搭載面が設けられると共に、前記第1配線層が前記絶縁層に埋め込まれ、
前記第2配線層を形成する工程では、最上層に設けられた絶縁層に前記外部接続面が設けられると共に、前記第2配線層が形成される請求項9乃至11の何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
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