JP6607710B2 - 自浄式防汚性構造体および関連する製造方法 - Google Patents
自浄式防汚性構造体および関連する製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6607710B2 JP6607710B2 JP2015123565A JP2015123565A JP6607710B2 JP 6607710 B2 JP6607710 B2 JP 6607710B2 JP 2015123565 A JP2015123565 A JP 2015123565A JP 2015123565 A JP2015123565 A JP 2015123565A JP 6607710 B2 JP6607710 B2 JP 6607710B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antifouling structure
- macrostructured
- planar substrate
- oxide layer
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 29
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 18
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 25
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/24—Nitrogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
-
- B01J35/30—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
- C03C2204/08—Glass having a rough surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/477—Titanium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/77—Coatings having a rough surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/31—Pre-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
Description
[0001]本明細書で説明される主題は、一般的には電子ディスプレイシステムに関し、より詳細には主題の実施形態は、電子ディスプレイシステムでタッチセンシングデバイスとともに使用するための透明構造体に関する。
[0002]従前から電子ディスプレイでは、ユーザが様々なシステム特性を制御または調整することを可能にするために、ノブ、ボタン、またはスライダなどの機械制御によってユーザとのインターフェースがとられる。タッチスクリーン技術によって多くのシステム設計者は、ディスプレイ内に機械制御機能性を統合する、または組み込むことにより、電子ディスプレイシステムに対する空間所要量を低減することが可能になる。したがって従前の機械制御の電子的等価物が、ユーザが、タッチスクリーンインターフェースによってシステム特性を調整することが可能となるように開発されてきた。
[0003]タッチスクリーンインターフェースを繰り返し使用することによって、タッチスクリーンディスプレイの表面上に、指紋、汚れ、引っかき傷、および／または、他の跡が結果として生じる場合がある。これらの跡付けによって、ディスプレイの鮮明さが低下し、そのことによって、ディスプレイ上に表示されるコンテンツを読むこと、または別の形で理解することの困難さが増大する。例えば指紋および／または汚れによって、表面反射が増大する、ディスプレイが曇った、もしくはぼやけた、もしくは色あせたように見えるようになる、または別の形で、ユーザにより知覚される画像品質が望ましくなく悪くなる場合がある。これらの問題は、例えば飛行中の航空機のコックピット内などの、高い周囲照明の状況では悪化する。したがって、ディスプレイ画像品質を低下させることなく、指紋、汚れ、引っかき傷、および／または、他の跡に対して抵抗性があるディスプレイ表面を提供することが望ましい。
本願発明の一実施例は、例えば、自浄式防汚性構造体および関連する製造方法に関する。
[0004]１つの例示的な実施形態では、防汚性構造体のための装置が提供される。防汚性構造体は、防汚性構造体との接触を低減するように構成されるマクロ構造化表面（ｍａｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅ）を有する透明基板と、マクロ構造化表面を覆う酸化層とを含む。
[0005]別の実施形態では、防汚性構造体は透明基板を含む。透明基板は、無機材料のマクロ構造化表面を含み、マクロ構造化表面は、防汚性構造体との接触から結果として生じ得る汚染物の連続的な領域の形成を抑制するように構成される。防汚性構造体は、マクロ構造化表面を覆う酸化層もまた含む。酸化層は、電磁スペクトルの可視部分内の光の少なくとも一部分に反応して汚染物の少なくとも一部分を酸化する光触媒酸化材料を含む。
[0006]さらに別の実施形態では、防汚性構造体を製造する方法が提供される。方法は、透明基板上にマクロ構造化表面を形成するステップであって、マクロ構造化表面が、透明基板との接触を低減するように構成される、形成するステップと、マクロ構造化表面を覆う酸化層を形成するステップとを含む。例示的な実施形態では酸化層は、防汚性構造体との接触から結果として生じる、防汚性構造体上の何らかの汚染物の少なくとも一部分を酸化する。
[0007]主題の実施形態は以降、以下の図面の図と関連して説明されることになるが、それらの図は、必ずしも一定の縮尺で描かれておらず、類似する数字は類似する要素を表象する。
[0010]本明細書で説明される主題の実施形態は、指紋、汚れ、および／または、他の表面の跡付けから保護することが望ましい、ディスプレイデバイス、タッチスクリーン、タッチパネル、または他のデバイスとともに使用するのに適した防汚性構造体に関する。本明細書で説明される例示的な実施形態では、防汚性構造体は、防汚性構造体の露出される表面との物理的接触の量を低減し、そのことにより、防汚性構造体の露出される表面上の指紋または別の汚染物の連続的な領域を、分解する、再分布させる、または別の形でその領域の形成を抑制するように構成されるマクロ構造化表面を有する透明基板を含む。例えばマクロ構造化表面は、うねり、または他の表面変動を有する基板材料の単一の表面として実現され得るものであり、それらのうねり、または他の表面変動は、その表面と接触可能である指の量（またはパーセンテージ）を低減し、そのことにより、その表面上に与えられ得る指紋残留物の量（またはパーセンテージ）を低減するように構成されるものである。本明細書で使用される際は「マクロ構造化表面」は、下記で図２の文脈において、より詳細に説明されるように、指と防汚性構造体との間の物理的接触区域を最小化するように、１０マイクロメートル（またはミクロン）程度以上の垂直側面変動の間の横方向の間隔（例えば、分離距離１１４）を有し、垂直側面変動（例えば、高さ１１２）が１マイクロメートル（またはミクロン）程度以上である表面を指すと理解されるべきである。
[0011]下記で図４の文脈において、より詳細に説明されるように、マクロ構造化表面は、防汚性構造体の露出される表面と現実に物理的に接触可能である外部物体のパーセンテージを低減する。例えば一実施形態ではマクロ構造化表面は、防汚性構造体に近接する典型的なサイズの人間の指の約１０％のみと接触するように構成され得るものであり、そのことにより、典型的なサイズの人間の指紋の約９０％が、防汚性構造体の露出される表面と物理的に接触することを防止する。例示的な実施形態ではマクロ構造化表面は、比較的低い拡散反射率（例えば、約０．５％未満）、および比較的低い正反射率（例えば、約２％未満）を提供するように構成され、一方で、比較的高い透過率（例えば、約９０％より高い）もまた提供する。
[0012]下記で図３〜４の文脈において、より詳細に説明されるように、透明防汚性構造体は、基板のマクロ構造化表面の接触される部分上に与えられる何らかの汚染物を酸化するように構成される、マクロ構造化表面を覆う酸化層もまた含む。例えば酸化層は、汚染物の有機成分を気化させ、そのことにより、マクロ構造化表面から汚染物の有機成分を除去することが可能である。換言すれば酸化層は、いわゆる「自浄式」防汚性構造体を提供するように、何らの手動の介在もなく、防汚性構造体の露出される表面から汚染物の部分を自動的に除去することが可能である。例示的な実施形態では酸化層は、電磁スペクトルの一部分に反応して（または、その部分による照射に応答して）、炭素化合物を、それらを二酸化炭素または他のガス状化合物に変換することにより酸化するヒドロキシルラジカルを生成する光触媒材料を含む。例えば一実施形態では光触媒材料は、アナターゼ相二酸化チタンなどの酸化チタン材料として実現される。１つまたは複数の実施形態では光触媒材料は、感光性のその範囲を、電磁スペクトルの紫外線部分から、電磁スペクトルの可視光部分の少なくとも一部分に拡張するために、窒素原子によってドープされる。窒素による二酸化チタンの置換型ドーピングは、二酸化チタンのバンドギャップを狭め、価電子バンドより上のエネルギーレベルを生出して、可視範囲（４００ｎｍより長い波長）に光学吸収を拡張する。硫黄などの他の適切な置換型ドーピング元素もまた、窒素の代わりに、および／または、窒素に加えて使用され得る。
[0013]マクロ構造化表面の比較的少ない接触される部分上に与えられ得る何らかの汚染物の部分を酸化する酸化層と組み合される、透明防汚性構造体の露出される表面と行われる物理的接触の量（またはパーセンテージ）を低減するマクロ構造化表面によって、指紋、汚れ、および／または、他の表面の跡付けの潜在的な影響が軽減される。加えて酸化層は、透明防汚性構造体の露出される表面が手動で、または能動的に洗浄されることを必要とし得る頻度を低減し、そのことにより、その耐久性および／または寿命を、潜在的に摩耗させる要素、溶剤、または他の洗浄剤にさらすことを低減することにより向上させる。手動の、または能動的な洗浄の間の期間を増大することの他に、酸化層により提供される自浄式の特色によって、例えば航空機の機内のタッチスクリーン用途などの、セーフティクリティカルな用途に対する指紋の潜在的な影響が最小化する。さらに透明基板は、ポリマー基板または有機基板に対して、より高いレベルの耐久性を提供する無機材料を使用して実現され得る。透明防汚性構造体は、比較的低い表面反射、および比較的高い耐久性を有する防汚性ディスプレイ表面を提供するように、ディスプレイ、タッチスクリーン、タッチパネル、または別のディスプレイデバイスに付着させられ得る。
[0014]図１〜３は、基板１０２の表面上の汚染物の連続的な領域の形成を抑制するように構成されるマクロ構造化表面１０６と、マクロ構造化表面１０６上の有機汚染物の少なくとも一部分を酸化するように構成される酸化層１２０とを有する防汚性構造体１００の製造を断面で図解する。本明細書で説明される製造プロセスの様々な実装態様はよく知られており、そこで簡潔さのために、多くの従来の態様は、本明細書では簡潔に述べられるだけとなり、または、よく知られているプロセスの詳細を提供することなく全体的に省略されることになる。
[0015]図１を参照すると、例示的な実施形態では基板１０２は、無機材料１０４の層を含む。本明細書で使用される際は、無機材料は、炭素を含まない非ポリマー化学化合物と理解されるべきである。この点に関して無機材料１０４は、ポリマー材料と比較すると、物理的により硬質であり、機械的な摩耗に対してより高い耐久性を呈する。例えば無機材料１０４は、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどのガラス材料、サファイア、二酸化ケイ素などの酸化ケイ素材料、または、透明基板１０２の文脈において本明細書で説明される同じ一般的な特性および特色を有する任意の他の材料として実現され得る。加えて、代替的な実施形態では基板１０２は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、または類するものなど、透明基板１０２の文脈において本明細書で説明される同じ一般的な特性および特色を有するポリマー材料として実現され得るということが留意されるべきである。それでも解説の目的で、例示的な実施形態は、無機材料１０４として実現されている基板１０２の文脈において本明細書で説明される場合があり、その理由は、無機材料は、物理的接触から結果として生じ得る、引っかき、または他の形式の構造的損傷に対して、より耐久性および抵抗性があり得るものであり、それとともに、ポリマー材料に損傷を与え得る、ディスプレイ表面を洗浄するために普通に使用される液体および溶剤に対して抵抗性があるからというものである。例えば無機材料１０４は、約６（６Ｈ）より高い（例えば、スチールウールより高い）鉛筆硬度を有し得るものであり、そのことによって無機材料１０４は、そうでなければ、防汚性構造体１００が後で付着させられ得るタッチセンシングデバイス（例えば、ディスプレイ、タッチスクリーン、タッチパネル、または類するもの）とのインターフェースをとるために使用され得る、指および／もしくは指の爪、スタイラス、ペン、または別の物体によって、無機材料１０４の表面にタッチする、または別の形でその表面を摩耗させることから結果として生じることになる、引っかき、および／または、表面の跡付けに抵抗する。
[0016]例示的な一実施形態では、基板１０２および／または無機材料１０４は、可視光に対して約９５パーセントより高い透明度（または透過率）を有する。この点に関して基板１０２および無機材料１０４は、各々実質的に透明である。したがって便宜上、基板１０２は、代替的に透明基板と本明細書では呼称される場合があり、無機材料１０４は、代替的に透明無機材料と本明細書では呼称される場合がある。１つまたは複数の実施形態では無機材料１０４は、約２．０未満の、および好ましくは、約１．４から約１．７の範囲内の屈折率を有する。例示的な一実施形態では、無機材料１０４の厚さおよびタイプは両方とも、基板１０２が、防汚性構造体１００が後で付着させられ得るタッチスクリーン、タッチパネル、または別のタッチセンシングデバイスのタッチセンシング能力を妨げないように選定される。この点に関して実際には、基板１０２に対して利用される特定の材料１０４、および基板１０２の厚さは、特定の用途の必要性に応じて変動することになる。例えば、無機材料１０４が硬いガラス材料として実現される実施形態では、ガラス材料は、赤外線または他の光学タッチセンシング技術とともに使用されるときは、約２ミリメートル以下の厚さを、および、抵抗式または容量式のタッチセンシング技術とともに使用されるときは、約５０ミクロン（またはマイクロメートル）から約１００ミクロンの範囲内の厚さを有し得る。
[0017]ここで図１〜２を参照すると、例示的な実施形態では、基板１０２の無機材料１０４は、初期には実質的に平坦な露出される表面１０６を有し得るものであり、その表面１０６は、無機材料１０４に表面変動を付与するために、エッチングされ、粗面化され、または別の形で処理され、図２〜３に図示されるマクロ構造化表面１０６が結果として生じる。この点に関してマクロ構造化表面１０６は、基板１０２および／または材料１０４の、その断面側面での変動を有する単一の表面である。例えば図解されるように、マクロ構造化表面１０６は、基板材料１０４内にエッチングされた陥凹部分１０８から、基板材料１０４の上昇部分１１０まで、うねりを有し得る、または別の形で変動し得る。例示的な実施形態ではマクロ構造化表面１０６は、約１．０ミクロンから約５．０ミクロンの範囲内の表面粗さを有する。
[0018]図２を参照すると、例示的な実施形態では、陥凹部分１０８に対する上昇部分１１０の高さ１１２、および、それぞれの上昇部分１１０と、近辺の（または隣り合う）上昇部分１１０との間の分離距離１１４（または間隔）は、外部物体により接触される表面１０６の量（またはパーセンテージ）を低減するように協調的に構成される。この点に関して、無機材料１０４が剛性であるとき、高さ１１２および分離距離１１４は、協調して、分離距離１１４より長い横方向の寸法を有する外部物体が、基板１０２および／または材料１０４の、陥凹部分１０８および／または側壁部分１１８と接触することを防止する。各々のそれぞれの上昇部分１１０の、その近辺の陥凹部分に対する高さ１１２は、１．０ミクロンより高く、１つまたは複数の例示的な実施形態では、約１．０ミクロンから約５．０ミクロンの範囲内である。隣り合う上昇部分１１０の間の分離距離１１４はさらに、１０ミクロンより長く、１つまたは複数の例示的な実施形態では、約１０ミクロンから約１００ミクロンの範囲内である。例示的な実施形態では、上昇部分１１０の表面接線に対するそれぞれの上昇部分１１０の側壁１１８の角度１１６は、マクロ構造化表面１０６が、比較的高い透過率、比較的低い拡散反射率、および比較的低い正反射率を有するようなものである。この点に関して、上昇部分１１０の側壁１１８は垂直でなく（例えば、基板１０２の面に直交せず）、そのことによって、上昇部分１１０と陥凹部分１０８との間の変動は、比較的漸進的なものである。例示的な実施形態ではマクロ構造化表面１０６は、電磁スペクトルの可視光部分に対して９０パーセントより高い透過率を有する。
[0019]さらに図１〜２を参照すると、１つまたは複数の実施形態によれば陥凹部分１０８は、マスクレス化学エッチングプロセスを遂行して、基板１０２の表面１０６の全域で無機材料１０４の部分をランダムに除去することにより形成される。この点に関してエッチングプロセスは、上記で説明されたような、所望される特色をマクロ構造化表面１０６に与える、高さ１１２、分離距離１１４、および側壁角度１１６を達成するようにチューニングされる。他の実施形態では無機材料１０４は、上昇部分１１０に対する陥凹部分１０８の所望される配置構成を提供するようにパターニングされるエッチングマスクを使用してエッチングされ得る。他の実施形態では陥凹部分１０８は、エンボス加工またはスタンピングにより形成され得る。
[0020]ここで図３を参照すると、防汚性構造体１００の製造は、マクロ構造化表面１０６を覆う酸化層１２０を形成することにより継続する。例示的な実施形態では酸化層１２０は、マクロ構造化表面１０６と形が一致し、連続的な介在する層を提供し、そのことによって、防汚性構造体１００の露出される表面との物理的接触が酸化層１２０で起こる。例示的な実施形態では酸化層１２０は、電磁スペクトルの一部分による照射に応答してヒドロキシルラジカルを生成するように構成される光触媒材料を含む。その後ヒドロキシルラジカルは、防汚性構造体１００の露出される表面の接触される部分上に与えられ得る何らかの汚染物の有機成分を酸化する。例えば酸化層１２０は、電磁スペクトルの紫外線部分内の波長に応答してヒドロキシルラジカルを生成する、二酸化チタンなどの酸化チタン材料を含み得る。
[0021]例示的な実施形態では酸化層１２０は、光触媒材料に対する感光性の範囲を、電磁スペクトルの可視部分の少なくとも一部分に拡張するために、窒素によってドープされる。この点に関して、酸化層１２０内部の窒素の原子濃度は、光触媒材料が反応する波長を、可視光スペクトルの少なくとも青色部分（例えば、４００ｎｍより長い波長）に増大するように構成され得る。例示的な実施形態では、酸化層１２０内の窒素の原子濃度は、光触媒材料の感光性を、光スペクトルの可視部分（例えば、４００ｎｍより長い波長）に増大するために、約１パーセントより高い。
[0022]１つまたは複数の実施形態によれば酸化層１２０は、マクロ構造化表面１０６を覆う酸化チタン材料の層を、形を一致させて堆積させることにより形成される。例えばアナターゼ相二酸化チタンの層が、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）プロセスまたは物理蒸着（ＰＶＤ）プロセス（例えば、スパッタリング堆積プロセス）を遂行することにより、露出されるマクロ構造化表面１０６上に堆積され得る。例示的な実施形態では、二酸化チタンの堆積された層は、約５０ナノメートルから約２００ナノメートルの範囲内の、およびより好ましくは約１００ナノメートルの厚さを有する。堆積された二酸化チタン膜はその後、マクロ構造化表面に対するその接着力を向上させるために、１００℃から３００℃の範囲内の温度で熱処理またはアニールされ得る。１つまたは複数の実施形態によれば二酸化チタン層１２０は、二酸化チタンを堆積させるために使用される反応物に窒素を付加することによりインサイチュドープされ、そのことによって、露出されるマクロ構造化表面１０６上に堆積される、窒素がドープされた二酸化チタン材料が結果として生じる。他の実施形態では二酸化チタン層１２０は、１つまたは複数のイオン注入プロセスを遂行して、二酸化チタン材料に窒素イオンを注入することによりドープされ得る。
[0023]別の実施形態では酸化層１２０は、マクロ構造化表面１０６に、アルコール（例えば、エチルアルコール）などの溶剤中で懸濁させられる二酸化チタンナノ粒子を含有する溶液の層を塗布することにより形成される。例えば、中で懸濁させられるアナターゼ相二酸化チタン粒子を含有するエチルアルコールの層が、スピンコーティング、ディップコーティング、または溶液プリンティングによりマクロ構造化表面１０６に塗布され得る。例示的な実施形態では、懸濁させられる二酸化チタン粒子は、約１０ｎｍから約５０ｎｍの範囲内の、最も長い寸法（例えば、実質的に球形の形状の直径）を有する。この点に関して、１０ｎｍ未満の粒子サイズは、量子閉じ込め効果を結果として生じさせる場合があり、一方で５０ｎｍより大きい粒子サイズは、透過率を低下させる場合がある。光触媒層は、溶液を塗布すること（例えば、スピンコーティング、ディップコーティング、溶液プリンティング、または類するもの）、溶液を乾燥させること、および次いで、構造体１００を加熱して、溶剤を蒸発させ、二酸化チタン粒子をマクロ構造化表面１０６に接着することにより、二酸化チタン粒子を含有する溶液から形成され得る。
[0024]１つまたは複数の実施形態によれば、窒素がドープされた光触媒層は、二酸化チタン粒子を形成するときに窒素を導入することにより（例えば、プロセスの間に窒素ガス、または窒素を含有するガスを導入して、二酸化チタン粒子を形成することにより）、窒素がドープされた二酸化チタン粒子が溶剤材料（例えば、エチルアルコール）中で懸濁させられている状態で形成され得る。次いで光触媒層形成は、溶剤、および、約１００℃から約３００℃の範囲内の温度に構造体１００を加熱する（またはアニールする）ことにより完了され得るものであり、そのことによって、窒素がドープされた二酸化チタン粒子の層が結果として生じる。代替的な実施形態では光触媒マトリクスが、１つまたは複数のイオン注入プロセスを遂行して、光触媒層に、それがマクロ構造化表面１０６に塗布される後に窒素イオンを注入することによりドープされ得る。
[0025]別の実施形態では二酸化チタンナノ粒子は、塗布プロセスステップ（例えば、スピンコーティング、ディップコーティング、溶液プリンティング、または類するもの）の前に、二酸化ケイ素ナノ粒子などの他のナノ粒子によって散在させられ、またはそれらの他のナノ粒子と混合され、溶剤中で懸濁させられる場合がある。この点に関して他のナノ粒子は、光触媒層内の二酸化チタン粒子密度を制御するために、および／または、マクロ構造化表面１０６に対する光触媒層の接着力を増大するために利用され得る。そのような実施形態では、その後の熱処理の間の溶剤の蒸発の後で、結果として生じる酸化層１２０は、適宜二酸化ケイ素ナノ粒子または他のナノ粒子の内部で散在させられる二酸化チタンナノ粒子を含有する。さらに他の実施形態では酸化層１２０は、マクロ構造化表面１０６に、中で懸濁させられる光触媒材料の粒子を有するマトリクスまたは結合剤材料の層を塗布することにより形成される。
[0026]ここで図４を参照すると、１つまたは複数の例示的な実施形態では防汚性構造体１００は、ディスプレイシステム４００でディスプレイデバイス４１０とともに利用される。一実施形態によればディスプレイシステム４００は、航空機のコックピット内などの、高い周囲照明の状況で（例えば、いわゆる「グラスコックピット」の一部として）利用される。防汚性構造体１００は、ディスプレイデバイス４１０に近接して配設され、防汚性構造体１００が、ディスプレイデバイス４１０上に表示されるコンテンツをユーザが観視するときに、ユーザとディスプレイデバイス４１０との間の見通し線内に挿置されるように、ディスプレイデバイス４１０に対して位置合わせされる。この点に関して、ディスプレイデバイス４１０のユーザおよび／または観視者の観点から、防汚性構造体１００は、ディスプレイデバイス４１０の少なくとも部分と重なる、および／または、その部分を覆う。１つまたは複数の実施形態では接着剤材料が、マクロ構造化表面１０６の反対の位置にあり、ディスプレイデバイス４１０のディスプレイ表面に防汚性構造体１００を付着させるために利用される、防汚性構造体１００の表面上に形成される、または別の形で付与される。代替的な実施形態では防汚性構造体１００は、（例えば、防汚性構造体１００の周辺部の付近のみに適切な厚さを伴う接着剤材料を付与して、接着剤の厚さだけディスプレイデバイス４１０から防汚性構造体１００を分離することにより）エアギャップによりディスプレイ表面から分離され得る。
[0027]例示的な実施形態ではディスプレイデバイス４１０は、ディスプレイ４１２および透明タッチパネル４１４を含む、タッチスクリーンまたは別のタッチセンシングデバイスとして実現される。実施形態に応じてディスプレイ４１２は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、電気泳動ディスプレイ、または、処理モジュール（例えば、プロセッサ、コントローラ、または類するもの）の制御の下で画像を提示可能である別の電子ディスプレイとして実現され得る。タッチパネル４１４は、ディスプレイ４１２に近接して配設され、タッチパネル４１４が、ディスプレイ４１２上に表示されるコンテンツをユーザが観視するときに、見通し線内に挿置されるように、ディスプレイ４１２に対して位置合わせされる。タッチパネル４１４は、ディスプレイデバイス４１０の能動センシング領域、すなわち、外部物体４０２（例えば、指および／もしくは指の爪、スタイラス、ペン、または類するもの）との接触および／または十分な近接状態を検知可能である、ディスプレイデバイス４１０の領域を提供する、または別の形で規定する。この点に関して防汚性構造体１００は、防汚性構造体１００が、ディスプレイデバイス４１０のセンシング領域と重なる、および／または、その領域を覆うように配設される。実施形態に応じてタッチパネル４１４は、抵抗式タッチパネル、容量式タッチパネル、赤外線タッチパネル、もしくは別のタイプの光学タッチパネル、または、別の適したタッチパネルとして実現され得る。上記で説明されたように、マクロ構造化表面１０６の比較的高い透過率、および比較的低い反射率によって、防汚性構造体１００に入射する、ディスプレイ４１２により透過される光の散乱および／または拡散が、最小化される、または別の形で知覚できないものとなる。
[0028]上記で説明されたように、マクロ構造化表面１０６によって、タッチパネル４１４とのインターフェースをとるために使用される外部物体４０２は、上昇部分１１０で、または上昇部分１１０の近くで防汚性構造体１００と接触することのみが可能であり、一方で防汚性構造体１００の陥凹部分１０８は、物体４０２により接触されない。例えば、外部物体４０２が人間の指として実現される１つの例示的な実施形態では、高さ１１２、分離距離１１４、および側壁角度１１６は、無機材料１０４の剛性によって、指４０２の表面区域の約１０％のみが上昇部分１１０（および潜在的には、側壁１１８の近辺の部分）と接触し、一方で、指４０２の残りの表面区域が、陥凹部分１０８および近辺の側壁部分１１８と接触することを防止されるように構成される。したがって、指４０２により防汚性構造体１００上に堆積され得る汚染物の量は、対応する量（またはパーセンテージ）だけ低減され得るものであり、そのことにより、ディスプレイデバイス４１０および／またはディスプレイ４１２により提供される、知覚される画像品質に対するそのような汚染物の潜在的な影響を軽減する。加えて、光触媒材料を備える酸化層１２０によって、高い周囲照明の状況では、防汚性構造体１００の接触される上昇部分１１０（および場合によっては、それに対する近辺の側壁部分１１８）上に堆積され得る何らかの汚染物の有機成分が、周囲光照光に応答して光触媒から結果として生じるヒドロキシルラジカルにより酸化され得る。したがって、防汚性構造体１００上に堆積され得る汚染物のパーセンテージの量が、マクロ構造化表面１０６によって低減されるだけでなく、防汚性構造体１００上に存し得る汚染物の量またはパーセンテージは、光触媒材料の「自浄式」特性によってさらに低減される。例えば実際には、指４０２との接触から結果として生じる汚れまたは指紋残留物は、有機物を主として含有し（例えば、典型的には約９０％以上の有機材料）、その有機物は、酸化層１２０により酸化され、そのことにより防汚性構造体１００から除去されることになる。したがって、汚染物の比較的小さな量のみが、防汚性構造体１００上に蓄積し得るものであり、上記で説明されたように、無機材料１０４に損傷を与えることなく防汚性構造体１００の表面から洗浄され得る。加えて、ヒドロキシルラジカルは、表面と接触するバクテリアを酸化することにより、防汚性構造体１００上でのバクテリアの増殖を防止する、または別の形で抑制することが可能であるということが留意されるべきである。
[0029]前述の詳細な説明は、単に例示的な性格のものであり、本出願の主題、およびその使用を限定することは意図されない。さらに、先の背景技術、概要、または詳細な説明において提示された何らかの理論により拘束されるという意図は存在しない。簡潔さのために、光学、反射、屈折、光触媒、堆積、エッチング、イオン注入および／またはドーピング、タッチセンシングデバイスおよび／またはディスプレイデバイスに関連する従来の技法は、本明細書では詳細に説明されない場合がある。
[0030]少なくとも１つの例示的な実施形態が前述の詳細な説明で説明されたが、膨大な数の代替の、ただし等価的な変形形態が存在し、本明細書で説明された例示的な実施形態は、決して主題の範囲、適用可能性、または構成を限定することは意図されないということが認識されるべきである。むしろ、様々な変更が、特許請求の範囲およびそれらの法的等価物の範囲から逸脱することなく、本明細書で説明された様々な要素の機能および配置構成において行われ得るということが理解されるべきである。したがって、そうではないという明白な意図がない場合は、上記で説明された例示的な実施形態の詳細、または他の限定は、特許請求の範囲において読み取られるべきではない。
１００ 防汚性構造体、構造体
１０２ 基板、透明基板
１０４ 無機材料、材料、基板材料、特定の材料
１０６ マクロ構造化表面、実質的に平坦な露出される表面、表面
１０８ 陥凹部分
１１０ 上昇部分
１１２ 高さ
１１４ 分離距離
１１６ 角度、側壁角度
１１８ 側壁部分、側壁
１２０ 酸化層、二酸化チタン層
４００ ディスプレイシステム
４０２ 外部物体、物体、指
４１０ ディスプレイデバイス
４１２ ディスプレイ
４１４ 透明タッチパネル、タッチパネル
１０２ 基板、透明基板
１０４ 無機材料、材料、基板材料、特定の材料
１０６ マクロ構造化表面、実質的に平坦な露出される表面、表面
１０８ 陥凹部分
１１０ 上昇部分
１１２ 高さ
１１４ 分離距離
１１６ 角度、側壁角度
１１８ 側壁部分、側壁
１２０ 酸化層、二酸化チタン層
４００ ディスプレイシステム
４０２ 外部物体、物体、指
４１０ ディスプレイデバイス
４１２ ディスプレイ
４１４ 透明タッチパネル、タッチパネル
Claims (3)
- 透明な平面基板（１０２）であって、前記透明な平面基板（１０２）が、前記透明な平面基板（１０２）のマクロ構造化(macrostructured)表面の硬い透明な無機材料の陥凹部分との、前記透明な平面基板に近接し、隣り合う複数の上昇部分の間の分離距離より長い横方向の寸法を有する、外部物体の表面領域の接触を９０％防ぐように構成される、硬い透明な無機材料の複数の上昇部分を含むマクロ構造化表面（１０６）を有する、前記硬い透明な無機材料からなり、隣り合う複数の上昇部分の間の前記分離距離が、１０ミクロンから100ミクロンの範囲内であり、前記複数の上昇部分の、それぞれの上昇部分の側壁が、垂直ではない、透明な平面基板（１０２）と、
前記マクロ構造化表面（１０６）に接して前記マクロ構造化表面を覆う酸化層（１２０）であって、前記酸化層の厚さが、約５０ナノメートルから約２００ナノメートルの範囲内であるものと、
を備え、
前記酸化層（１２０）が、前記マクロ構造化表面（１０６）の上の汚染物の有機成分の少なくとも一部を酸化するものであり、
前記マクロ構造化表面（１０６）が、前記酸化層（１２０）に面する透明な平面基板（１０２）の表面のエッチング又は粗面化によって生成される、
防汚性(smudge-resistant)構造体（１００）。 - 前記マクロ構造化表面が、前記透明な平面基板内の複数の陥凹部分、及び、前記複数の陥凹部分の、それぞれの陥凹部分の間の前記透明な平面基板の複数の上昇部分を備え、前記複数の上昇部分の各々が、前記複数の上昇部分の他のものから、前記分離距離だけ間隔を空けて配置され、前記複数の陥凹部分は、ランダムに分布される、請求項１に記載の防汚性構造体。
- 前記複数の上昇部分のうちの前記それぞれの上昇部分の前記側壁の、前記それぞれの上昇部分の表面接線（surface tangent）に対する角度が、前記マクロ構造化表面が、電磁気スペクトラムの可視部分に対して９０％より大きい透過率を有し、０．５％より小さい拡散反射率を有することになる角度である、請求項１に記載の防汚性構造体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14/320,918 | 2014-07-01 | ||
| US14/320,918 US10317578B2 (en) | 2014-07-01 | 2014-07-01 | Self-cleaning smudge-resistant structure and related fabrication methods |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016015134A JP2016015134A (ja) | 2016-01-28 |
| JP6607710B2 true JP6607710B2 (ja) | 2019-11-20 |
Family
ID=53432995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015123565A Expired - Fee Related JP6607710B2 (ja) | 2014-07-01 | 2015-06-19 | 自浄式防汚性構造体および関連する製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10317578B2 (ja) |
| EP (1) | EP2962999B1 (ja) |
| JP (1) | JP6607710B2 (ja) |
| KR (1) | KR102417456B1 (ja) |
| CN (1) | CN105278738B (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10733414B2 (en) | 2014-12-01 | 2020-08-04 | Zkteco Co., Ltd. | System and method for personal identification based on multimodal biometric information |
| CN107004113B (zh) * | 2014-12-01 | 2021-01-29 | 熵基科技股份有限公司 | 用于获取多模式生物识别信息的系统和方法 |
| KR20200069799A (ko) * | 2018-12-07 | 2020-06-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 폴더블 표시장치 |
| CN111722734B (zh) | 2019-03-20 | 2024-01-02 | 群光电能科技股份有限公司 | 发光触摸板装置 |
| CN111722758B (zh) | 2019-03-20 | 2023-09-29 | 群光电能科技股份有限公司 | 发光触摸板装置 |
| DE102020110567A1 (de) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | Mursall Aktive Coating GmbH | Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung auf eine Glasoberfläche |
| WO2022116005A1 (zh) * | 2020-12-01 | 2022-06-09 | 莱恩创科（北京）科技有限公司 | 一种二氧化钛杀菌消毒膜 |
Family Cites Families (74)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2680583B1 (fr) | 1991-08-22 | 1993-10-08 | Commissariat A Energie Atomique | Materiau presentant des proprietes antireflet, hydrophobes et de resistance a l'abrasion et procede de depot d'une couche antireflet, hydrophobe et resistante a l'abrasion sur un substrat. |
| WO1996007063A1 (de) | 1994-08-26 | 1996-03-07 | Barbara Paechter | Kleingepäckstück mit kühlaggregat |
| WO1997031703A1 (fr) * | 1996-02-28 | 1997-09-04 | Hoya Corporation | Materiau de verre pour porter un photocatalyseur, dispositif filtrant utilisant celui-ci et procede pour emettre de la lumiere |
| US5858876A (en) | 1996-04-01 | 1999-01-12 | Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd. | Simultaneous deposit and etch method for forming a void-free and gap-filling insulator layer upon a patterned substrate layer |
| US5925438A (en) | 1996-06-17 | 1999-07-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflection film |
| US6589650B1 (en) * | 2000-08-07 | 2003-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Microscope cover slip materials |
| JP2000016838A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Central Glass Co Ltd | 耐汚染性を有する粗面形成板ガラス |
| JP3802842B2 (ja) * | 1998-07-07 | 2006-07-26 | 住友化学株式会社 | タッチパネル用上部透明電極板およびそれを含む装置 |
| JP2000135755A (ja) | 1998-07-17 | 2000-05-16 | Toto Ltd | 親水性複合材 |
| US6440858B1 (en) | 1998-08-24 | 2002-08-27 | International Business Machines Corporation | Multi-layer hard mask for deep trench silicon etch |
| US6480250B1 (en) | 1999-06-02 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Low-reflection transparent conductive multi layer film having at least one transparent protective layer having anti-smudge properties |
| CN100374884C (zh) | 1999-06-17 | 2008-03-12 | 富士胶片株式会社 | 滤光器、前板和等离子体显示板 |
| CN1165781C (zh) | 1999-08-24 | 2004-09-08 | 株式会社辻电 | 棱柱透镜用保护膜 |
| JP2001260267A (ja) | 2000-03-21 | 2001-09-25 | Nikon Corp | 防汚酸化膜を有する成形体 |
| EP1111438A3 (en) | 1999-12-23 | 2003-03-19 | Samsung SDI Co., Ltd. | Black matrix and preparing method thereof |
| US20070237962A1 (en) * | 2000-03-03 | 2007-10-11 | Rong-Chang Liang | Semi-finished display panels |
| DE10016485A1 (de) | 2000-04-01 | 2001-10-11 | Dmc2 Degussa Metals Catalysts | Glas-, Keramik- und Metall-Substrate mit selbstreinigender Oberfläche, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| FR2811316B1 (fr) * | 2000-07-06 | 2003-01-10 | Saint Gobain | Substrat texture transparent et procedes pour l'obtenir |
| KR100339334B1 (ko) | 2000-08-31 | 2002-06-03 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시장치의 패드부 구조 및 그 제조방법 |
| KR20020041871A (ko) | 2000-11-29 | 2002-06-05 | 이규상 | 터치패널의 투명도전막 제조방법 |
| US6956118B2 (en) * | 2001-02-08 | 2005-10-18 | Pioneer Hi-Bred International, Inc. | Promoter sequences providing male tissue-preferred expression in plants |
| US7030854B2 (en) | 2001-03-13 | 2006-04-18 | E Ink Corporation | Apparatus for displaying drawings |
| KR100860148B1 (ko) | 2001-08-10 | 2008-09-24 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 방오염성 보호 필름 및 이 방오염성 보호 필름을 표면에갖는 접착 시이트 |
| DE10205007A1 (de) | 2002-02-07 | 2003-08-21 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Schutzschichten mit schmutz- und wasserabweisenden Eigenschaften |
| JP4627437B2 (ja) | 2002-11-20 | 2011-02-09 | 株式会社きもと | 指紋消去性フィルム |
| US6627515B1 (en) | 2002-12-13 | 2003-09-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Method of fabricating a non-floating body device with enhanced performance |
| JP2004263060A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Nippon Zeon Co Ltd | 蒸着用フィルムの保存方法及び積層体 |
| US20060132945A1 (en) | 2003-06-06 | 2006-06-22 | Koichi Sano | Microstructured optical film and production process thereof |
| JP2005149102A (ja) * | 2003-11-14 | 2005-06-09 | Fujitsu Component Ltd | 防汚フィルム又はハードコートを備えたタッチパネル |
| US7378136B2 (en) | 2004-07-09 | 2008-05-27 | 3M Innovative Properties Company | Optical film coating |
| EP1828056A1 (en) * | 2004-11-02 | 2007-09-05 | Nanogate AG | Synthesis of titanium dioxide nanoparticles |
| JP2006142206A (ja) | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Murakami Corp | 光触媒膜坦持部材 |
| US7459197B2 (en) | 2004-11-30 | 2008-12-02 | Lucent Technologies Inc. | Reversibly adaptive rough micro- and nano-structures |
| JP4437200B2 (ja) | 2005-02-28 | 2010-03-24 | 財団法人電力中央研究所 | 水硬性・焼成・石材製品 |
| US20060210798A1 (en) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Clemens Burda | Doped metal oxide nanoparticles and methods for making and using same |
| WO2006116424A2 (en) | 2005-04-26 | 2006-11-02 | Nanosys, Inc. | Paintable nanofiber coatings |
| TWI292340B (en) | 2005-07-13 | 2008-01-11 | Ind Tech Res Inst | Antireflective transparent zeolite hardcoat film, method for fabricating the same, and solution capable of forming said transparent zeolite film |
| US20070023796A1 (en) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | International Business Machines Corporation | Pinning layer for pixel sensor cell and method thereof |
| WO2007045805A2 (fr) | 2005-10-21 | 2007-04-26 | Saint-Gobain Glass France | Materiau anti-salissures et son procede d'obtention |
| FR2893266B1 (fr) | 2005-11-14 | 2007-12-21 | Commissariat Energie Atomique | Produit superhydrophile ou superhydrophobe, procede pour sa realisation et utilisation de ce produit |
| JP5176950B2 (ja) | 2006-02-27 | 2013-04-03 | 日本ゼオン株式会社 | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
| US20070231542A1 (en) | 2006-04-03 | 2007-10-04 | General Electric Company | Articles having low wettability and high light transmission |
| JP2007301773A (ja) | 2006-05-09 | 2007-11-22 | Nof Corp | 表面材及びその製造方法 |
| JP4741417B2 (ja) | 2006-05-18 | 2011-08-03 | ハスクバーナ・ゼノア株式会社 | ケーブル端子およびこれを用いたケーブル |
| US8970502B2 (en) | 2006-05-26 | 2015-03-03 | Touchtable Ab | User identification for multi-user touch screens |
| JP2008081712A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-10 | Sun Medic Corp | 光触媒性塗布剤 |
| JP2008096781A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Nof Corp | 高精細ディスプレイ用表面材並びにそれを備えた高精細ディスプレイ及び高精細タッチパネル |
| US20080095997A1 (en) * | 2006-10-19 | 2008-04-24 | Tien-Hon Chiang | Function-Enhancing Optical Film |
| NL1034727C2 (nl) * | 2006-11-24 | 2010-11-30 | Sumitomo Chemical Co | Lichtdiffusieplaat, oppervlakemissie lichtbroninrichting in vloeibaar kristal weergave inrichting. |
| DE102007013181B4 (de) | 2007-03-20 | 2017-11-09 | Evonik Degussa Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige Schicht |
| GB0712605D0 (en) * | 2007-06-28 | 2007-08-08 | Microsharp Corp Ltd | Optical film |
| WO2009023169A1 (en) | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Nano Terra Inc. | Structured smudge-resistant coatings and methods of making and using the same |
| CN101790596B (zh) * | 2007-08-13 | 2013-03-13 | 英科特有限责任公司 | 制备金属氧化物涂覆的具有可预定疏水行为的工件表面的方法 |
| US20090185276A1 (en) | 2007-12-27 | 2009-07-23 | Tsutomu Matsuhira | Display device |
| US20090191374A1 (en) | 2008-01-24 | 2009-07-30 | Motorola, Inc. | Device having multi-phase surfaces for smudge prevention |
| KR20110053333A (ko) | 2008-08-07 | 2011-05-20 | 유니-픽셀 디스플레이스, 인코포레이티드 | 표면상의 지문 현상을 줄이기 위한 미세구조 |
| JP2010096359A (ja) | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Toshiba Corp | 冷蔵ショーケース |
| EP2287120A1 (en) | 2009-07-16 | 2011-02-23 | AGC Glass Europe | Decorative glass article |
| KR101103264B1 (ko) | 2009-07-29 | 2012-01-11 | 한국기계연구원 | 기능성 표면의 제조방법 |
| US20110076450A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Sharma Pramod K | Titanium dioxide coatings and methods of forming improved titanium dioxide coatings |
| CN103180060A (zh) * | 2010-10-28 | 2013-06-26 | 3M创新有限公司 | 超疏水性膜构造 |
| US20120107558A1 (en) * | 2010-11-01 | 2012-05-03 | Shari Elizabeth Koval | Transparent substrate having durable hydrophobic/oleophobic surface |
| US8742022B2 (en) | 2010-12-20 | 2014-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Coating compositions comprising non-ionic surfactant exhibiting reduced fingerprint visibility |
| US9956743B2 (en) | 2010-12-20 | 2018-05-01 | The Regents Of The University Of California | Superhydrophobic and superoleophobic nanosurfaces |
| US20120251706A1 (en) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | Chih-Hao Huang | Method of manufacturing an anti-fingerprint paint and use of the anti-fingerprint paint |
| TW201243384A (en) * | 2011-04-27 | 2012-11-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Touch screen |
| JP2013018910A (ja) * | 2011-07-13 | 2013-01-31 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 樹脂硬化物 |
| US8545246B2 (en) * | 2011-07-25 | 2013-10-01 | Cisco Technology, Inc. | High connectivity platform |
| CN102950099B (zh) | 2011-08-21 | 2015-08-26 | 比亚迪股份有限公司 | 一种超疏水材料及其制备方法 |
| CN202208152U (zh) | 2011-09-06 | 2012-05-02 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 一种触摸屏用防指纹膜 |
| US8968831B2 (en) | 2011-12-06 | 2015-03-03 | Guardian Industries Corp. | Coated articles including anti-fingerprint and/or smudge-reducing coatings, and/or methods of making the same |
| CN103246007B (zh) * | 2012-02-08 | 2015-04-22 | 颖台科技股份有限公司 | 导光装置、前光模块以及反射式显示器 |
| WO2013187506A1 (ja) | 2012-06-15 | 2013-12-19 | 三菱レイヨン株式会社 | 積層体 |
| JP2014071323A (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品 |
-
2014
- 2014-07-01 US US14/320,918 patent/US10317578B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-06-08 EP EP15171049.8A patent/EP2962999B1/en active Active
- 2015-06-19 JP JP2015123565A patent/JP6607710B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-30 CN CN201510369646.1A patent/CN105278738B/zh active Active
- 2015-06-30 KR KR1020150093146A patent/KR102417456B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2962999B1 (en) | 2020-11-18 |
| CN105278738B (zh) | 2020-05-19 |
| US20160003985A1 (en) | 2016-01-07 |
| KR20160004207A (ko) | 2016-01-12 |
| EP2962999A1 (en) | 2016-01-06 |
| CN105278738A (zh) | 2016-01-27 |
| JP2016015134A (ja) | 2016-01-28 |
| US10317578B2 (en) | 2019-06-11 |
| KR102417456B1 (ko) | 2022-07-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6607710B2 (ja) | 自浄式防汚性構造体および関連する製造方法 | |
| US10829665B2 (en) | Method of forming a self-cleaning film system | |
| US10429641B2 (en) | Light-enhanced self-cleaning film system and method of forming same | |
| US9861974B2 (en) | Film system | |
| US11059035B2 (en) | Self-cleaning film system and method of forming same | |
| US10569263B2 (en) | Self-cleaning film system and method of forming same | |
| US10274647B2 (en) | Self-cleaning film system and article | |
| JP5832768B2 (ja) | 無機の表面構造を有するフィルム構造および関連する製造方法 | |
| JP2019008303A (ja) | 防眩防輝透明構造 | |
| US20130142994A1 (en) | Coated articles including anti-fingerprint and/or smudge-reducing coatings, and/or methods of making the same | |
| US20180334742A1 (en) | Method of forming a self-cleaning film system | |
| CN109375301B (zh) | 光学膜和带触控面板的显示装置 | |
| JP2016018333A (ja) | ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法 | |
| JP5961906B2 (ja) | 超撥水基板及びその製造方法 | |
| TWI401230B (zh) | 防眩性玻璃及其製造方法 | |
| JP5899696B2 (ja) | 反射防止物品 | |
| WO2019017228A1 (ja) | カバー部材及び情報機器 | |
| JP6183700B2 (ja) | タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサ | |
| KR20180019916A (ko) | 패턴 마스크를 이용한 진공증착 코팅방법 | |
| KR20180098512A (ko) | 패턴 마스크를 이용한 진공증착 코팅방법 | |
| KR101392772B1 (ko) | 살균 및 탈취 기능을 갖는 강화 글라스 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널 | |
| JP6666688B2 (ja) | 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム | |
| JP6637286B2 (ja) | 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム | |
| KR102428978B1 (ko) | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 | |
| JP2022187987A (ja) | 光学積層体、偏光板、画像表示装置、および、光学積層体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180507 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181205 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181205 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190225 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190704 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190917 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190926 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191021 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6607710 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |