JP2016018333A - ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】入力ペンによる筆記感（書き味）に加えて、指による操作感（指滑り性）にも優れるペン入力装置用のカバーガラスを提供する。
【解決手段】ペン入力装置用のカバーガラスであって、表面に複数の突起を有し、該突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記表面に二次元的に配置され、前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、前記突起の先端は、平坦部を有さず、または最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラス。
【選択図】図６

Description

本発明は、ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法に関する。

ペン入力装置は、入力ペンを用いて、紙上に文字および図形等を描写する感覚で入力操作を行うことができるという特徴を有し、各種製品に幅広く使用されている。

このようなペン入力装置は、例えば液晶ディスプレイのようなディスプレイ装置の前面に、例えばカバーガラスやカバー樹脂のようなカバー部材を配置することにより構成される。このカバー部材に対して入力ペンを接触、移動させることにより、様々な入力操作を直感的に行うことができる。

特開２００９−１５１４７６号公報

当然のことながら、従来のペン入力装置では、入力手段として入力ペンを使用することが想定されている。このため、カバー部材には、ユーザが入力ペンを使用した際に、適切な筆記感（「書き味」）が得られるような表面特性が求められ、そのような表面特性を有するカバー部材の開発が進められてきた。

しかしながら、最近の入力装置には、入力手段として、入力ペンと指の両方を使用するものが製品化され始めている。特に、最近のタブレット型携帯電話（スマートフォン）およびタブレット型携帯情報端末などの装置においては、むしろ指による入力の方が、入力ペンによる入力よりも主流になってきている。

しかしながら、これまでの入力装置用のカバー部材は、そのような入力ペンと指の両方による入力を十分に想定しているとは言い難く、このため、入力ペンによる筆記感（書き味）には優れても、指による操作感（指滑り性）が悪いという問題、あるいはその逆の問題が認められるようになってきている。

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、入力ペンによる筆記感（書き味）に加えて、指による操作感（指滑り性）にも優れるペン入力装置用のカバーガラスを提供することを目的とする。また、本発明では、そのようなペン入力装置用のカバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。

本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスであって、
表面に複数の突起を有し、
該突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記表面に二次元的に配置され、
前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、
前記突起の先端は、平坦部を有さず、または最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラスが提供される。

また、本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
熱ナノインプリント法、ナノインプリントリソグラフィ法、およびフォトリソエッチング法のいずれかにより、ガラス基板の表面に、複数の突起を形成するステップを有し、
前記突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記ガラス基板の表面に配置され、
前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、
前記突起の先端は、最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラスの製造方法が提供される。

本発明では、入力ペンによる筆記感（書き味）に加えて、指による操作感（指滑り性）にも優れるペン入力装置用のカバーガラスを提供することができる。また、本発明では、そのようなペン入力装置用のカバーガラスの製造方法を提供することができる。

一定荷重Ｐを受けた物体がある表面を一定の速度で移動する際の時間ｔと摩擦力Ｆ（動摩擦力）の関係を模式的に示した図である。 移動表面が第１の状態を有する場合の動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 移動表面が第２の状態を有する場合の動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 移動表面が第３の状態を有する場合の動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 ペン入力装置用の第１のカバーガラスの構成を概略的に示した図である。 図５に示した第１のカバーガラスの部分拡大断面図である。 ペン入力装置用の第２のカバーガラスの構成を概略的に示した図である。 図７に示した第２のカバーガラスの部分拡大断面図である。 本発明の一実施形態によるカバーガラスの製造方法の概略的なフロー図である。 実施例３に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の断面の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）像である。 実施例４に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の断面の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）像である。 比較例３に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の断面の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）像である。 実施例１に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の上面の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）像である。 実施例１に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 実施例２に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 実施例３に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 実施例４に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 実施例５に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 実施例６に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 比較例２に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。 比較例３に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例である。

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。

前述のように、従来のペン入力装置用のカバー部材は、入力ペンと指の両方による入力を十分に想定しているとは言い難く、このため、入力ペンによる書き味には優れても、指による操作感（指滑り性）が悪いという問題、あるいはその逆の問題が生じている。

これに対して、本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスであって、
表面に複数の突起を有し、
該突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記表面に二次元的に配置され、
前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、
前記突起の先端は、平坦部を有さず、または最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラスが提供される。

本願において、「ペン入力装置」とは、必ずしも、入力ペンによる入力に特化された装置を意味するものではないことに留意する必要がある。すなわち、本願において、「ペン入力装置」とは、入力ペンによる入力および／または指による入力が可能な装置の全体を意味し、「ペン入力装置」には、例えば、タブレット型携帯電話、タブレット型携帯情報端末、電子手帳、画像描画用ペンタブレット、およびタブレット型パーソナルコンピュータ等が含まれる。その意味では、本願の「ペン入力装置」は、「ペン入力可能装置」とも称することができる。

本発明によるペン入力装置用のカバーガラスは、表面に複数の突起を有し、該突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記表面に二次元的に配置され、前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って小さくなり、前記突起の先端は、平坦部を有さず、または最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有するという特徴を有する。

後に詳しく示すように、カバーガラスの表面にこのような突起を形成した場合、入力ペンを使用した際に、良好な筆記感（書き味）が得られるとともに、指による入力の際の操作感（指滑り性）を向上させることができる。

従って、本発明では、入力ペンによる書き味に加えて、指滑り性に優れるカバーガラスを提供することができる。

（指滑り性および入力ペンの書き味について）
以下、図面を参照して、前述のような特徴を有する本発明によるペン入力装置用のカバーガラス（以下、単に「本発明のカバーガラス」と称する）によって得られる、入力ペンによる書き味、および指操作の際の指滑り性の両特性について、詳しく説明する。

図１には、一定荷重Ｐを受けた物体がある表面（以下、「移動表面」という）を一定の速度で移動する際の時間ｔ（または移動距離）と摩擦力Ｆの関係を模式的に示す。

図１に示すように、一般に、物体が定常的に動き始めた以降（時間ｔ＝ｔ_１以降）は、摩擦力Ｆ（動摩擦力Ｆ_ｋ）と時間ｔの間には、近似的に直線的な関係が得られる。以下、このような関係が得られる領域を、「直線領域」と称する。特に、この直線領域では、動摩擦力Ｆ_ｋは、時間によらず比較的一定の値となる場合がある。

また、一般に、直線領域では、動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と荷重Ｐ（Ｎ）の間には以下の関係が成り立つ：

Ｆ_ｋ＝μ_ｋ×Ｐ （１）式

ここで、μ_ｋは動摩擦係数である。μ_ｋは、移動表面の状態等によって変化する。

図２〜図４には、移動表面の状態が異なる場合の動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示す。

図２には、移動表面が極めて平滑な場合に得られる挙動を示す。このような移動表面では、動摩擦係数μ_ｋが小さいため、動摩擦力Ｆ_ｋも小さくなる傾向にある。

このような表面を有するカバーガラスに対して、例えば、入力ペンによる入力操作を実施した場合、入力ペンが滑りすぎて、意図した操作ができなくなるという問題が生じ得る。

次に、図３には、移動表面が激しい凹凸を有する場合に得られる挙動を示す。このような移動表面では、物体の移動中の動摩擦係数μ_ｋの変動が大きくなり、従って、動摩擦力Ｆ_ｋの変動も大きくなる。また、動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆ_ｋで表されるＹ値は、大きくなる。

このような表面を有するカバーガラスに対して、例えば、指による入力操作を実施した場合、指が「引っかかる」感覚を強く感じるようになり、使用者のストレスが高くなるという問題が生じ得る。

これに対して、移動表面が図２と図３の中間の状態を有する場合、動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの間には、例えば図４に示すような関係が得られる。

すなわち、そのような移動表面では、動摩擦係数μ_ｋがある範囲内に制御される。また、動摩擦係数μ_ｋの変動がある程度抑制され、これにより動摩擦力Ｆ_ｋの変動も小さくなる。その結果、Ｙ値（＝σ／Ｆ_ｋ）も小さくなる。

このような表面を有するカバーガラスに対して、例えば入力ペンによる入力操作を実施した場合、入力ペンの滑りすぎによる誤入力が有意に抑制される。また、入力ペンを移動する際に、「引っかかり」感を感じにくくなる。従って、このような表面では、入力ペンの書き味が向上する。

また、このような表面を有するカバーガラスに対して、例えば指による入力操作を実施した場合、指を移動する際に、「引っかかり」感を感じにくくなる。従って、このような表面では、指滑り性が向上する。

このように、動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの間に図４の関係が得られるように、移動表面を制御することにより、入力ペンの書き味と指滑り性の両方の特性を高めることが可能であることがわかる。

本発明では、カバーガラスの表面に、前述のような特徴を有する突起が形成されている。この場合、入力ペンによる入力、および指による操作のいずれに対しても、動摩擦力Ｆ_ｋ（Ｎ）と時間ｔの間に、図４に示すような関係を得ることができる。

より具体的には、本発明では、カバーガラスの表面において、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重を受けた入力ペンを、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力（Ｆ_ｋｐ（Ｎ）で表す）と時間ｔの関係が直線で近似される領域、すなわち直線領域における動摩擦係数（μ_ｋｐで表す）が０．１０以上となる。ここで、この特性は、入力ペンとして、ポリアセタール製のペン先を有するものを使用した場合の結果である。

特に、動摩擦係数μ_ｋｐは、０．２０以上であることが好ましい。

この場合、入力ペンによる操作時に適度の抵抗が発生する。従って、入力ペンに意図しない滑りが生じたり、入力ペンに「引っかかり」が生じたりすることが有意に抑制される。また、入力ペンの操作に対する違和感が少なくなり、入力ペンを意図した通りに移動させることができる。その結果、本発明によるカバーガラスでは、入力ペンによる書き味を有意に向上させることができる。

また、本発明では、カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、直線領域における前記動摩擦力（Ｆ_ｋｇ（Ｎ）で表す）の標準偏差をσ_ｇ（Ｎ）としたとき、σ_ｇ／Ｆ_ｋｇで表されるＹ値が０．０４以下になる。

特に、Ｙ値は、０．０３５以下であることが好ましく、０．０３２以下であることがより好ましい。

この場合、指による入力時に、指に「引っかかり」が生じたりすることが有意に抑制される。その結果、本発明では、指での操作の際の指滑り性を高めることができる。

このような特徴により、本発明では、入力ペンによる書き味および指滑り性の両方に優れるカバーガラスを提供することができる。

（本発明の一実施形態によるペン入力装置用のカバーガラス）
次に、図５および図６を参照して、本発明の一実施形態によるペン入力装置用のカバーガラスの構成および特徴について説明する。

図５には、本発明の一実施形態によるペン入力装置用のカバーガラス（以下、単に「第１のカバーガラス」と称する）の構成を概略的に示す。また、図６には、図５に示した第１のカバーガラスの表面における部分拡大断面図を示す。

図５に示すように、第１のカバーガラス１００は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有するガラス基板１１０を有する。

図６に示すように、少なくともガラス基板１１０の第１の表面１１２には、複数の突起１２０が縦横２次元的に配置されている。各突起１２０は、隣り合う突起同士の距離（ＰＸ）が一定となるように配置されている。

ピッチが極端に大きい場合には、強い回折光によって表示画面に着色を生じたり、光の屈折現象によって表示像が乱れるといった問題が生じるため、ピッチＰＸは、７００ｎｍ以下である。ピッチＰＸは、６００ｎｍ〜８０ｎｍの範囲であることが好ましく、４００ｎｍ〜１６０ｎｍの範囲であることがより好ましい。

各突起１２０は、根元部分１３２および先端１３４を有する。また、各突起１２０は、根元部分１３２から先端１３４に向かって、断面積（第１および第２の水平方向と平行な方向における断面の断面積。以下同じ）が徐々に減少する形状を有する。先端１３４は、実質的に尖った形状を有する。従って、突起１２０は、高さ方向に沿って直線的に変化する輪郭を有しており、図６の方向（Ｙ方向）から見たとき、略三角形状の断面を有する。

なお、図６では例として直線的に変化する輪郭を有する略三角形状の断面を示したが、曲線的に変化する釣鐘型形状などの断面を有しても良い。

また、図６からは明確ではないが、突起１２０は、略円錐形状、略楕円錐形状および略角錐形状（例えば三角錐、四角錐、または多角錐）のいずれの形状を有しても良い。

突起１２０の高さｈは、例えば、２４ｎｍ〜１１９０ｎｍの範囲であり、１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であっても良い。

また、突起１２０のアスペクト比、すなわち、根元部分１３２の最も寸法が大きな位置（底面）における最大長さａに対する突起１２０の高さｈの比（ｈ／ａ）は、０．３〜１．７の範囲である。アスペクト比は、０．５〜１．５の範囲であることが好ましい。

さらに、突起１２０同士の間のギャップ部分１３０の長さＳＸは、極端に大きくなると表面の反射を抑制する効果が低減するため、２００ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましい。ギャップ部分１３０の長さＳＸは、例えば、０（ゼロ）であっても良い。あるいは、突起１２０同士は、根元部分１３２の一部が相互に重なり合っていても良い。

各突起１２０は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２自身をそのような形状に加工することによって構成される。

ガラス基板１１０の第１の表面１１２に、このような突起１２０の配列を形成した場合、入力ペンによる書き味に優れる上、指滑り性も良好な表面が得られる。従って、これにより、入力ペンによる書き味と指滑り性の両立が可能な、第１のカバーガラス１００を得ることができる。

さらに、第１のカバーガラス１００がこのような突起１２０を形成した場合、第１のカバーガラス１００に、反射防止機能が発現される。従って、第１のカバーガラス１００は、周囲が明るい環境下においても、表面での外光の反射を抑制し、ユーザの視認性を高めることができる。

（本発明の一実施形態によるペン入力装置用の別のカバーガラス）
次に、図７および図８を参照して、本発明の一実施形態によるペン入力装置用の別のカバーガラスについて説明する。

図７には、本発明の一実施形態によるペン入力装置用の別のカバーガラス（以下、単に「第２のカバーガラス」と称する）の構成を概略的に示す。また、図８には、図７に示した第２のカバーガラスの表面における部分拡大断面図を示す。

図７に示すように、第２のカバーガラス２００は、第１のカバーガラス１００と同様の構成を有し、すなわち第１の表面２１２および第２の表面２１４を有するガラス基板２１０を有する。ただし、第２のカバーガラス２００は、ガラス基板２１０の第１の表面２１２に配置された突起の構成が、第１のカバーガラス１００とは異なっている。

すなわち、図８に示すように、突起２２０は、第１の表面２１２に、縦横２次元的に配置されているものの、その構成は、図６に示した突起１２０とは異なっている。

より具体的には、第２のカバーガラス２００において、各突起２２０は、根元部分２３２および先端２３４を有する。なお、各突起２２０は、第１の水平方向（Ｘ方向）に沿って、一定のピッチＰＸで配置されている。図８からは明確ではないが、各突起２２０は、第１の水平方向と直交する第２の水平方向（Ｙ方向）においても、一定のピッチＰＹで配置されている。

ピッチＰＸは、７００ｎｍ以下である。なお、突起２２０同士の間には、水平なギャップ部分２３０が存在しても良い。

ここで、突起２２０は、根元部分２３２から先端２３４に向かって、すなわち図８のＺ方向に沿って、断面積が徐々に減少する形状を有する。また、突起２２０の先端２３４は、略水平な平坦部を有する。その結果、突起２２０は、図8の方向（Ｙ方向）から見たとき、略台形状の断面を有する。

なお、図８からは明確ではないが、突起２２０は、略円錐台形状、略楕円錐台形状および略角錐台形状（例えば三角錐、四角錐、および多角錐から、頂点を共有し相似に縮小した錐体を取り除いた立体図形）のいずれの形状を有しても良い。

突起２２０の先端２３４において、平坦部の最大幅Ｗｂは、１２３ｎｍ以下である。平坦部の最大幅Ｗｂが１２３ｎｍを超えると、指滑り性が低下する問題が生じるのみならず、ガラス表面の反射防止性能が低下する問題が生じる。

最大幅Ｗｂは、１００ｎｍ〜１ｎｍの範囲であることが好ましく、５０ｎｍ未満であることがより好ましい。最大幅Ｗｂが実質的に０（ゼロ）〜２０ｎｎｍの場合、先端２３４が尖った突起、すなわち、図６に示したような形状の突起１２０が得られる。

また、図８に示すように、この突起２２０は、ガラス基板２１０自身の一部ではなく、ガラス基板２１０の第１の表面２１２上に配置された、別の材料で構成される。従って、「第２のカバーガラス２００の表面」は、ガラス基板２１０の第１の表面２１２と、突起２２０の配列とで構成される。

突起２２０を構成する材料は、無機材料であり、例えばシリカであっても良い。

一般に、ガラス基板の表面を高精度で微細加工するには、相応の技術およびコストが必要である。これに対して、ガラス基板の表面に別の無機材料層を配置した場合、この無機材料層に対しては、比較的簡単に低コストで、高精度な微細加工を行うことができる。従って、第２のカバーガラス２００では、第１のカバーガラス１００に比べて、突起２２０をより簡単に、効率的に形成することができるという利点が得られる。

なお、エネルギー線硬化性樹脂などの有機物を使用して、さらに安価にガラス基板表面に同様の構造を作製することも可能であるが、本使用目的のように、表面に指で接触したり入力ペンでなぞったりする用途に対しては、充分な擦り耐性強度が得られないため、突起２２０を構成する材料は、強度が確保できる無機材料が適切である。

このようなガラス基板２１０の第１の表面２１２においても、入力ペンによる書き味に優れ、指滑り性が良好な表面が得られる。従って、入力ペンによる書き味と指滑り性の両立が可能な、第２のカバーガラス２００を得ることができる。

さらに、第２のカバーガラス２００の突起２２０をこのように構成した場合、第２のカバーガラス２００に、反射防止機能が発現される。従って、第２のカバーガラス２００は、周囲が明るい環境下においても、表面での外光の反射を抑制し、視認性を高めることができる。

以上、第１のカバーガラス１００および第２のカバーガラス２００を例に、本発明の一実施形態によるペン入力装置用のカバーガラスの構成について説明した。

しかしながら、これらのカバーガラス１００、２００は、単なる一例であって、本発明によるペン入力装置用のカバーガラスは、他の構成を有しても良い。

例えば、図５および図６に示した第１のカバーガラス１００では、突起１２０は、第１の水平方向（Ｘ方向）および第２の水平方向（Ｙ方向）に、一定のピッチＰＸ、ＰＹで規則的に配置されている。しかしながら、各突起１２０は、第１の水平方向および／または第２の水平方向において、ランダムに配置されても良い。その場合、隣接する各突起１２０同士の最大距離が７００ｎｍ以下となるようにして、各突起１２０が配置される。

また、第１のカバーガラス１００では、突起１２０の根元部分１３２は、突起１２０の高さ方向に沿って、直線的に変化する輪郭を有する。しかしながら、突起１２０の根元部分１３２は、突起１２０の高さ方向に沿って、釣鐘形型等の曲線的に変化する輪郭を有しても良い。

第２のカバーガラス２００においても、同様のことが言える。

また、第１および第２の表面１１２、２１２における、突起１２０および突起２２０の配列は、六方格子配列、四方格子配列、もしくはランダムに配置されても良い。

また、第１のカバーガラス１００において、突起１２０は、ガラス基板１１０自身の一部ではなく、ガラス基板１１０の第１の表面１１２上に配置された、別の材料（無機材料）で構成されも良い。同様に、第２のカバーガラス２００において、突起２２０は、ガラス基板２１０の第１の表面２１２自身をそのような形状に加工することにより、構成されても良い。

第１および第２のカバーガラス１００、２００において、この他にも各種変更が可能であることは、当業者には明らかである。

（カバーガラスの詳細仕様について）
次に、本発明の一実施態様によるペン入力装置用のカバーガラスの詳細な特徴について説明する。

なお、ここでは、図７および図８に示した第２のカバーガラス２００を例に、その詳細構成について説明する。従って、以下の説明において、各部分を表す際には、図７および図８に示した参照符号を使用する。ただし、以下の説明が、図５および図６に示したような第１のカバーガラス１００においても、そのまま、または部分的に修正して適用できることは、当業者には明らかである。

（ガラス基板２１０）
ガラス基板２１０の組成は、特に限られない。ガラス基板２１０は、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、および無アルカリガラス等で構成されても良い。

ガラス基板２１０の寸法は、第２のカバーガラス２００が適用されるペン入力装置に依存する。ガラス基板２１０の厚さは、例えば０．２ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲であっても良い。

（突起２２０）
ガラス基板２１０の第１の表面２１２に配置される突起２２０は、前述のように、無機材料で構成される。無機材料としては、例えば、シリカが挙げられる。

無機材料製の突起２２０は、例えば、スパッタリング法およびゾルゲル法などを用いて、ガラス基板２１０に無機材料の層を成膜した後、この層をパターン化することにより形成することができる。

無機材料の層のパターン化処理には、例えば、ゾルゲル材料を用いたナノインプリント法または、後述の熱ナノインプリント法、ナノインプリントリソグラフィ法、フォトリソ／エッチング法、および干渉露光法等の技術が適用されても良い。

ちなみに、第１のカバーガラス１００の突起１２０を形成する場合は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２を加工することにより、突起１２０が形成される。この場合は、後述するように、熱ナノインプリント法、ナノインプリントリソグラフィ法、フォトリソ／エッチング法、および干渉露光法等の技術を適用することにより、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に、複数の突起１２０が形成されても良い。

なお、突起２２０には、指紋付着防止材がコーティングされても良い。突起２２０に指紋付着防止材をコーティングすることにより、第１のカバーガラス１００の表面に指紋や油脂などの汚れが付着することが防止される。また、そのような汚れの除去が容易になる。

（第２のカバーガラス２００の他の特性）
次に、本発明の一実施態様によるペン入力装置用のカバーガラスの他の特性について説明する。

（反射率）
本発明の一実施態様によるペン入力装置用のカバーガラスは、有意に低い反射率を有する。

例えば、本カバーガラスは、波長４００ｎｍから７００ｎｍに範囲おける５°正反射率の平均値（以下、「平均５°正反射率」という）が、１．５％未満である。

平均５°正反射率が低いほど、カバーガラスにおける外光の映り込みが低減される。従って、平均５°正反射率は、１．０％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましく、０．１５％未満であることがさらに好ましい。

なお、平均５°正反射率は、以下のように測定することができる。カバーガラス供試体の裏面に黒色インクを塗り、この裏面での反射を抑制した状態で、供試体の表面方向から、表面に対する鉛直線に対して５°傾斜した角度で光を入射させ、分光光度計を用いて正反射光を測定する。この測定を、波長４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲で実施し、全波長に対する平均値を算出することで、平均５°正反射率が求められる。

（本発明の一実施形態によるカバーガラスの製造方法）
次に、前述のような特徴を有する本発明の一実施形態によるカバーガラスの製造方法について説明する。なお、ここでは、一例として、図５および図６に示したような構成を有する、第１のカバーガラスを例に、その製造方法について説明する。

図９には、本発明の一実施形態によるカバーガラスの製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）の概略的なフローを示す。図９に示すように、この第１の製造方法は、
（ａ）ガラス基板の第１の表面に、突起を形成するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）前記ガラス基板の第１の表面を化学強化処理するステップ（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記ガラス基板の第１の表面に、指紋付着防止材をコーティングするステップ（ステップＳ１３０）と、
を有する。ただし、ステップＳ１２０およびステップＳ１３０は、任意に実施されるステップであり、少なくとも一方は省略されても良い。また、ステップＳ１１０とステップＳ１２０は、逆の順番で実施されても良い。

以下、各工程について説明する。

（ステップＳ１１０）
まず、ガラス基板が準備される。

ガラス基板の種類は、特に限られない。例えば、ガラス基板は、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、または無アルカリガラスであっても良い。ただし、次工程（ステップＳ１２０）において化学強化処理を実施する場合、ガラス基板は、アルカリ金属元素を含む必要がある。

ガラス基板は、３５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領城に高い透過率、例えば８０％以上の透過率を有することが好ましい。また、ガラス基板は、十分な絶縁性を有し、化学的物理的耐久性が高いことが望ましい。

ガラス基板の製造方法は、特に限られない。ガラス基板は、例えばフロート法で製造しても良い。

ガラス基板の厚さは、２ｍｍ以下であることが好ましく、例えば、０．２ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲であっても良い。ガラス基板の厚さは、０．６５ｍｍ〜１．１ｍｍの範囲であることがより好ましい。ガラス基板の厚さが２ｍｍ以上の場合、重量が上昇して軽量化が難しくなり、また原材料コストが上昇してしまう。

次に、ガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、複数の突起が形成される。

突起の形成方法は、特に限られない。突起は、例えば、熱ナノインプリント法、ナノインプリントリソグラフィ法、フォトリソエッチング法、または干渉露光法を用いて、形成しても良い。

このうち、熱ナノインプリント法では、ガラス基板の表面を加熱した状態で、該表面に型を押し付け、熱変形により、表面に所望の突起を形成する。使用される型には、形成する突起に対応した反転形状の凹凸が設けられる。

また、ナノインプリントリソグラフィ法では、まず、ガラス基板の表面に、光硬化性の樹脂が塗布され、樹脂層が形成される。次に、この樹脂層に型を押し付けながら、光を照射することにより、樹脂層を硬化させる。型には、形成する突起に対応した形状の凹凸が設けられているため、型を取り除いた後には、樹脂製の凹凸パターンが形成される。次に、この樹脂製の凹凸パターンをマスク材として、ガラス基板の表面をエッチングすることにより、ガラス基板の表面に、突起の配列を形成することができる。

また、フォトリソ／エッチング法では、まずガラス基板の表面に、フォトレジストが塗布される。次に、フォトレジストの上部にマスクを配置した状態で、フォトレジストに光を照射して、フォトレジスト内で光反応を進行させる。その後、現像処理により、余分なフォトレジストを取り除き、フォトレジストパターンを得る。次に、このフォトレジストパターンをマスク材として、ガラス基板の表面をエッチングすることにより、ガラス基板の表面に突起の配列が形成される。

フォトリソ／エッチング法を使用する場合、特に、米国特許出願公開第２０１２／０２８２５５４号に開示されているローリングマスクリソグラフィ技術を使用しても良い。この技術では、円筒状のロールマスクを使用して、突起を形成することができる。この方法には、微細な突起を大面積にわたって簡便に形成できるという利点がある。

さらに、干渉露光法では、まずガラス基板の表面に、フォトレジストが塗布される。次に、フォトレジストに対して、２光束以上のレーザ光を同時に照射することにより、フォトレジスト内で光干渉を生じさせる。その後、現像処理により余分なフォトレジストを取り除き、フォトレジストパターンを形成する。次に、得られたフォトレジストパターンをマスクとして、ガラス基板の表面をエッチングすることにより、ガラス基板の表面に、突起を形成することができる。

なお、以上の方法は、単なる一例に過ぎず、突起は、その他の方法で形成しても良い。

（ステップＳ１２０）
次に、必要な場合、ステップＳ１１０のガラス基板に対して、化学強化処理が実施される。

ここで、「化学強化処理（法）」とは、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラス基板を浸漬させ、ガラス基板の最表面に存在する原子径の小さなアルカリ金属（イオン）を、溶融塩中に存在する原子径の大きなアルカリ金属（イオン）と置換する技術の総称を言う。「化学強化処理（法）」では、処理されたガラス基板の表面には、処理前の元の原子よりも原子径の大きなアルカリ金属（イオン）が配置される。このため、ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成することができ、これによりガラス基板の強度が向上する。

例えば、ガラス基板がナトリウム（Ｎａ）を含む場合、化学強化処理の際、このナトリウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばカリウム（Ｋ）と置換される。あるいは、例えば、ガラス基板がリチウム（Ｌｉ）を含む場合、化学強化処理の際、このリチウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばナトリウム（Ｎａ）および／またはカリウム（Ｋ）と置換されても良い。

ガラス基板に対して実施される化学強化処理の条件は、特に限られない。

溶融塩の種類としては、例えば、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化ナトリウム、および塩化カリウム等の、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ金属硫酸塩、およびアルカリ金属塩化物塩などが挙げられる。これらの溶融塩は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いても良い。

処理温度（溶融塩の温度）は、使用される溶融塩の種類によっても異なるが、例えば、３５０℃〜５５０℃の範囲であっても良い。

化学強化処理は、例えば、３５０℃〜５５０℃の溶融硝酸カリウム塩中に、ガラス基板を２分〜２０時間程度浸演することにより、実施しても良い。経済的かつ実用的な観点からは、３５０〜５００℃、２〜１０時間で実施されることが好ましい。

これにより、表面に圧縮応力層が形成されたガラス基板を得ることができる。

前述のように、このステップＳ１２０は、必須の工程ではない。しかしながら、ガラス基板に対して化学強化処理を実施することにより、ガラス基板の曲げ強度を高めることができる。この場合、入力ペンの当接に対するカバーガラスの耐破砕性が向上する。また、カバーガラス全体の強度が向上する。

（ステップＳ１３０）
次に、必要な場合、ガラス基板のエッチング処理表面に対して、指紋付着防止材がコーティングされる。この処理を、以下、「ＡＦＰコーティング処理」と称する。

ここで、ＡＦＰコーティング処理は、カバーガラスの表面に指紋や油脂などの汚れが付着することを防止したり、そのような汚れの除去を容易にするために実施される。

ＡＦＰコーティング処理は、ガラス基板と結合する官能基およびフッ素を含むフッ素系シランカップリング剤を用いて、ガラス表面を処理することにより実施される。

なお、指紋付着防止材は、ガラス基板の表面に存在するＯＨ基とシランカップリング剤の縮合反応によりガラス表面に薄い膜を形成する。この縮合反応は、例えば、下記の反応に従って行われる：

ここで、Ｒ_Ｆは、Ｃ_１−Ｃ_２２のペルフルオロアルキル基または炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するＣ_１−Ｃ_２２のペルフルオロアルキル基、好ましくはＣ_１−Ｃ_６のペルフルオロアルキル基、さらに好ましくは炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するＣ_１−Ｃ_１０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒ_Ｆ基の中でＳｉ原子と結合している部分は−ＣＨ_２ＣＨ_２−のハイドロカーボン構造の部位を有していても良く、ｎは１〜３の範囲の整数であり、Ｘはガラス表面に存在するシラノールのＯＨ基と縮合反応が可能な加水分解性基である。

Ｘは、フッ素以外のハロゲンまたはアルコキシ基（−ＯＲ）であることが好ましく、ここで、Ｒは１〜６の炭素原子の直鎖または分岐鎖炭化水素であり、例えば、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２の炭化水素が挙げられる。一部の実施の形態では、ｎ＝２または３である。好ましいハロゲン化シランは、トリクロロシランである。好ましいアルコキシシランは、トリメトキシシランである。

その他の指紋付着防止材としては、Ｒ_Ｆ−Ｃ（Ｏ）−Ｃｌ、Ｒ_Ｆ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ_２などが挙げられる。

これらは、単独で使用しても、混合して使用しても良い。また、予め、酸またはアルカリなどで部分的に加水分解縮合物を作製してから、使用しても良い。

ＡＦＰコーティング処理は、乾式法で実施されても、湿式法で実施されても良い。

このうち乾式法では、蒸着法等の成膜プロセスにより、ガラス基板上にフッ素系シランカップリング剤が成膜される。この処理の前には、必要に応じて、ガラス基板に対して下地処理を実施しても良い。また、コーティングの密着力向上のため、加熱処理および加湿処理等を実施しても良い。

一方、湿式法では、フッ素系シランカップリング剤を含む溶液をガラス基板に塗布した後、ガラス基板を乾燥することにより、指紋付着防止材をコーティングすることができる。この処理の前には、必要に応じて、ガラス基板に対して下地処理を実施しても良い。また、コーティングの密着力向上のため、加熱処理および加湿処理等を実施しても良い。

なお、前述のように、このステップＳ１３０は、必須の工程ではない。

しかしながら、ガラス基板に対してＡＦＰコーティング処理を実施することにより、カバーガラスの表面に指紋などの汚れが付着することを抑制したり、汚れの除去を容易化することができる。

また、ステップＳ１３０を実施することにより、前述の特徴、すなわち、カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、直線領域における前記動摩擦力Ｆ_ｋｇ（Ｎ）の標準偏差をσ_ｇ（Ｎ）としたとき、σ_ｇ／Ｆ_ｋｇで表されるＹ値が０．０４以下であるという特徴を有する表面を、比較的容易に得ることが可能になる。

以上の工程を経て、前述のような特徴を有する本発明の一実施例によるカバーガラスを製造することができる。

なお、上記の製造方法は、単なる一例であって、本発明の一実施例によるカバーガラスは、別の方法で製造されても良い。

例えば、図７および図８に示したような構造のカバーガラスを製造する場合、前述のステップＳ１１０において、ガラス基板の表面に、無機酸化物の層を形成するステップと、この無機酸化物の層をパターン化して、複数の突起を形成するステップが実施されても良い。

次に、本発明の実施例について説明する。

（実施例１）
以下の方法により、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。

まず、十分に洗浄したガラス基板を準備した。ガラス基板の厚さは、２．０ｍｍである。次に、このガラス基板を、下地処理のため、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン（ＯＡＰ；東京応化工業社製）とともに容器に入れて密封し、該容器を１００℃に３０分保持した。

次に、ガラス基板を容器から取り出し、このガラス基板の一方の表面（以下、「第１の表面」と称する）に、レジストを塗布した。

レジストには、ポジ型フォトレジスト（ＡＺ−７９０４：ＡＺエレクトロニクス社製）を使用し、スピンコーター（１Ｈ−ＤＸ２：ミカサ社製）を用いて、このレジストを、２５℃で２０秒間、ガラス基板上にスピンコートした。回転数は、３０００ｒｐｍである。その後、ガラス基板をホットプレートの上に置き、９０℃で１８０秒間、加熱した。これにより、ガラス基板の第１の表面に、厚さ４３０ｎｍのフォトレジスト膜が形成された。

次に、フォトレジスト膜付きのガラス基板に対して、米国特許出願公開第２０１２／０２８２５５４号公報に開示されている、円筒状のロールマスクを使用したローリングマスクリソグラフィ法を使用して、露光を行なった。

露光後のガラス基板を現像液（ＡＺ３００ＭＩＦ ＤＥＶ．（２．３８）：ＡＺエレクトロニクス社製）に３０秒間漬け込み、現像を行った。その後、ガラス基板を純水でリンスし、エアガンでブローにより乾燥させた。これにより、フォトレジストパターン付きのガラス基板が得られた。

次に、得られたフォトレジストパターンにより、ガラス基板のエッチング処理を行なった。エッチング処理には、高密度プラズマエッチング装置（ＮＬＤ−５００：アルバック社製）を使用し、エッチングガスとして、Ａｒ／ＳＦ_６混合ガスを使用した。Ａｒガスの流量は、５０ｓｃｃｍとし、ＳＦ_６ガスの流量は、１０ｓｃｃｍとした。ＲＦパワーは、５００Ｗとし、圧力は、１００Ｐａとした。また、処理時間は、９０秒とした。

以下の表１には、実施例１におけるガラス基板のエッチング処理条件をまとめて示した。

これにより、ガラス基板の第１の表面に、突起の配列が形成された。

次に、ガラス基板を、室温のレジスト剥離液（剥離液１０６：東京応化製）に１０分間浸漬させ、レジスト膜の剥離を行った。その後、ガラス基板を純水でリンスし、エアブローにより乾燥させた。

次に、室温でのディッピング法により、ガラス基板の第１の表面に指紋付着防止材（ＯＰＴＯＯＬ ＤＳＸ：ダイキン工業社製）をコーティングした。

以上の工程により、第１の表面に突起を有するカバーガラス（以下、「実施例１に係るカバーガラス」という）を製造した。

（実施例２〜実施例６）
実施例１と同様の方法により、第１の表面に突起の配列を有するカバーガラスを製造した。

ただし、実施例２〜実施例６では、ガラス基板のエッチング処理の条件として、実施例１とは異なる条件を採用した。すなわち、高密度プラズマエッチング装置によるエッチング処理の際に、エッチングガスの種類（Ａｒ／Ｃ_３Ｆ_８／ＳＦ_６／Ｏ_２のうち、２〜３種を混合したガス）、流量、ＲＦパワー、およびエッチング時間等を変えることにより、ガラス基板の第１の表面に、形状の異なる突起の配列を形成した。

前述の表１には、実施例２〜６におけるガラス基板のエッチング処理条件をまとめて示した。

以下、実施例２〜実施例６で得られたカバーガラスを、それぞれ、「実施例２乃至実施例６に係るカバーガラス」と称する。

（比較例１）
実施例１において準備した、表面が平坦なガラス基板をそのまま、比較例１に係るカバーガラスとした。

（比較例２および比較例３）
実施例１と同様の方法により、第１の表面に突起を有するカバーガラスを製造した。

ただし、比較例２および比較例３では、ガラス基板のエッチング処理の条件として、実施例１とは異なる条件を採用した。すなわち、高密度プラズマエッチング装置によるエッチング処理の際に、エッチングガスの種類（Ａｒ／Ｃ_３Ｆ_８／ＳＦ_６／Ｏ_２のうち、２〜３種を混合したガス）、流量、ＲＦパワー、およびエッチング時間等を変えることにより、ガラス基板の第１の表面に、形状の異なる突起の配列を形成した。

前述の表１には、比較例２〜３におけるガラス基板のエッチング処理条件をまとめて示した。

以下、比較例２および比較例３で得られたカバーガラスを、それぞれ、「比較例２および比較例３に係るカバーガラス」と称する。

図１０〜図１２には、それぞれ、実施例３、実施例４、および比較例３に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の断面図を模式的に示した。また、図１３には、実施例１に係るカバーガラスの第１の表面に形成された突起の上面図を模式的に示した。

これらの断面形状は、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）（Ｌ−ｔｒａｃｅ／Ｎａｎｏｎａｖｉ：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）によって測定されたものである。測定は、各カバーガラスの表面における２μｍ四方の領域に対して、取得データ数１０２４×１０２４として実施した。測定には、Ｎａｎｏｗｏｒｌｄ社製のカンチレバー（製品名：Ｐｏｉｎｔ Ｐｒｏｂｅ Ｐｌｕｓ−ＮＣＨＲ）を使用した。

（評価）
製造された各例に係るカバーガラスを用いて、以下の各特性を測定した。

（突起形状）
突起形状の測定は、製造された各例にかかるカバーガラスを２５℃にて割断し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）（Ｓ４３００：ＨＩＴＡＣＨＩ社製）で断面観察を行ない、得られた像に対して測長を実施した。

突起の寸法として、突起の高さｈ、アスペクト比（＝ｈ／ａ：ここでａは根元部分の最大寸法）、先端の平坦幅Ｗｂ、およびＷｂ／ａ（先端の平坦幅／根元部分の最大寸法）等を測定した。

（平均５°正反射率の測定）
平均５°正反射率の測定は、分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ／ＭＰＣ−３１００：島津製作所製）を使用して、以下のように実施した。

まず、各カバーガラスの第２の表面（突起を有さない表面）に、黒色インク（ヌーロブラック：株式会社カンペハピオ社製）を塗り、一晩乾燥させた。次に、各カバーガラスの第１の表面側から、該第１の表面に対する鉛直線に対して５°傾斜した角度で光を入射させ、分光光度計を用いて正反射光を測定した。測定波長範囲は４００ｎｍ〜７００ｎｍとし、サンプリングピッチは１ｎｍとした。

同じ測定を、測定系にカバーガラスを設置せずに実施した（ブランク測定）。また、各波長において、ブランク測定において得られた光量（１００％）に対する、カバーガラスにおいて測定された反射光量の割合を求め、これをカバーガラスの反射率とした。さらに、得られた反射率から、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける平均値を算出し、これを平均５°正反射率とした。

以下の表２には、各カバーガラスにおいて測定された突起の形状および寸法、ならびに平均５°正反射率をまとめて示す。なお、突起の最大ピッチは、突起を形成していない比較例１に係るカバーガラスを除き、いずれのカバーガラスにおいても、７００ｎｍ以下であった。

また、図１４〜図２１には、それぞれ、実施例１〜実施例６、および比較例２〜比較例３に係るカバーガラスにおける、突起の断面ＳＥＭ像の一例を示す。

これらの結果から、実施例１〜実施例５に係るカバーガラスでは、いずれも突起の先端が実質的に平坦部を有さないことがわかる。また、実施例６に係るカバーガラスでは、突起の先端に、平坦幅Ｗｂ＝１２３ｎｍの平坦部が形成されていることがわかる。

一方、比較例２および比較例３に係るカバーガラスの場合、突起の先端の平坦部の平坦幅Ｗｂは、それぞれ、３３７ｎｍおよび２６４ｎｍであり、比較的大きな平坦部が形成されていることがわかる。

また、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、平均５゜反射率は、最大でも１．３５％（実施例１）であり、表面に突起を有さない比較例１に係るカバーガラスに比べて、平均５゜反射率が有意に抑制されていることがわかった。

（摩擦挙動の評価）
（１．指滑り性に関する評価）
各カバーガラスの指滑り性を評価するため、以下の方法により、各例に係るカバーガラスの摩擦挙動を測定した。

まず、各カバーガラスの第１の表面に、ロードセル付きの平面型圧子を５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重で配置する。圧子の少なくともカバーガラスと接触する面（面積１ｃｍ^２）には、合成皮革（厚さ０．６ｍｍ、表面粗さＲａ＝１５μｍ）を配置した。ロードセルのデータの取り込み速度は１００ｍｓに設定した。

次に、圧子を水平方向に一定の移動速度（１ｍｍ／秒）で移動させる。移動距離は、２０ｍｍである。そして、圧子の移動中に生じる動摩擦力Ｆ_ｋｇ（Ｎ）を、表面性試験機（トライポギア ＴＹＰＥ３８：新東科学社製）を用いて測定した。

また、動摩擦力Ｆ_ｋｇ（Ｎ）と時間ｔの関係が直線で近似される領域（直線領域）において、以下の（２）式から、

Ｆ_ｋｇ＝μ_ｋｇ×Ｐ （２）式

動摩擦係数μ_ｋｇを算定した。ここで、Ｐは、荷重（Ｎ）である。

さらに、直線領域における動摩擦力Ｆ_ｋｇ（Ｎ）の標準偏差をσ_ｇ（Ｎ）としたとき、σ_ｇ／Ｆ_ｋｇで表されるＹ値を求めた。

なお、この実験は、室温（２５℃）で実施した。

（２．入力ペンでの入力に関する評価）
次に、各例に係るカバーガラスの入力ペンによる操作性を評価するため、１．と同様の測定装置を用いて、摩擦挙動測定を実施した。

ただし、ここでは、圧子のカバーガラスと接触する面には、合成皮革の代わりに、入力ペンを取り付けた。入力ペンには、ポリアセタール製のペン先を有する入力ペンを使用した（ＡＣＫ−２０００１：ワコム社製）。また、荷重Ｐは、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）に設定した。その他の条件は、１．の場合と同様である。

圧子の移動中に生じる動摩擦力Ｆ_ｋｐ（Ｎ）を、表面性試験機（トライポギア ＴＹＰＥ３８：新東科学社製）を用いて測定した。また、動摩擦力Ｆ_ｋｐ（Ｎ）と時間ｔの関係が直線で近似される領域（直線領域）において、以下の（３）式から、

Ｆ_ｋｐ＝μ_ｋｐ×Ｐ （３）式

動摩擦係数μ_ｋｐを算定した。

摩擦挙動の評価試験結果を、以下の表３にまとめて示す。

この結果から、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、指滑り性に関する評価に関して、標準偏差σ_ｇが有意に小さく抑制されており、その結果、Ｙ値も有意に抑制されていることがわかる。Ｙ値は、最大でも、０．０３４５であり（実施例６）、いずれも０．０４以下であった。

これに対して、比較例１〜比較例３に係るカバーガラスでは、Ｙ値は、０．０４を超えることがわかった。

また、入力ペンでの入力に関する評価では、比較例１に係るカバーガラスを除き、いずれのカバーガラスにおいても、動摩擦係数μ_ｋｐは０．１０以上であった。特に、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、動摩擦係数μ_ｋｐは、いずれも０．２０以上であり、有意に大きな動摩擦係数μ_ｋｐを有することがわかった。

（書き味および指滑り性の評価）
次に、各例に係るカバーガラスに対して、入力ペンによる書き味と、指滑り性の評価試験（官能試験）を実施した。

入力ペンによる書き味の試験では、入力ペンを使用して、実際にカバーガラス上に描画した際に、ＨＢの鉛筆で普通紙に書いたときの感覚と極めて近いものを◎とし、ＨＢの鉛筆で普通紙に書いたときの感覚に近いものを○とし、書きづらい場合を×として、書き味を判定した。

一方、指滑り性の試験では、石鹸で洗って乾燥させた指を使用して、実際にカバーガラス上で指を滑らせた際に、滑りが非常に滑らかなものを◎、引っかかりなく滑らせることができるものを○、引っかかりを感じるものを×として、指滑り性を判定した。

測定結果を、前述の表３の「官能試験」の欄にまとめて示す。

この結果から、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、いずれも指滑り性が良好であることが確認された。特に、実施例１〜実施例５に係るカバーガラスは、極めて良好な指滑り性を示した。これに対して、比較例１〜比較例３に係るカバーガラスでは、良好な指滑り性が得られないことがわかった。

また、入力ペンによる書き味に関しても、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、良好な書き味が得られることがわかった。

以上のように、実施例１〜実施例６に係るカバーガラスでは、入力ペンによる書き味と、指滑り性の両方に関して、良好な特性が得られることが確認された。

１００ 第１のカバーガラス
１１０ ガラス基板
１１２ 第１の表面
１１４ 第２の表面
１２０ 突起
１３０ ギャップ部分
１３２ 根元部分
１３４ 先端
２００ 第２のカバーガラス
２１０ ガラス基板
２１２ 第１の表面
２１４ 第２の表面
２２０ 突起
２３０ ギャップ部分
２３２ 根元部分
２３４ 先端

Claims (9)

1. ペン入力装置用のカバーガラスであって、
   表面に複数の突起を有し、
   該突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記表面に二次元的に配置され、
   前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、
   前記突起の先端は、平坦部を有さず、または最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラス。
2. 前記突起には、指紋付着防止材がコーティングされている、請求項１に記載のカバーガラス。
3. 前記突起は、当該カバーガラス自身とは別の無機酸化物によって形成される、請求項１または２に記載のカバーガラス。
4. ４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲における５゜正反射率の平均値が、１．５％未満である、請求項１乃至３のいずれか一つに記載のカバーガラス。
5. 前記突起は、０．３〜１．７の範囲のアスペクト比を有する、請求項１乃至４のいずれか一つに記載のカバーガラス。
6. 前記突起は、前記表面に規則的に配列されている、請求項１乃至５のいずれか一つに記載のカバーガラス。
7. 前記突起は、略円錐、略楕円錐、略角錐、略円錐台、略楕円錐台、および略角錐台からなる群から選定されたいずれか一つの形状を有する、請求項１乃至６のいずれか一つに記載のカバーガラス。
8. ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
   熱ナノインプリント法、ナノインプリントリソグラフィ法、およびフォトリソエッチング法のいずれかにより、ガラス基板の表面に、複数の突起を形成するステップを有し、
   前記突起は、相互に７００ｎｍ以下のピッチで前記ガラス基板の表面に配置され、
   前記突起の前記表面と平行な方向における断面の断面積は、前記表面から高さ方向に沿って徐々に小さくなり、
   前記突起の先端は、最大幅が１２３ｎｍ以下の平坦部を有することを特徴とするカバーガラスの製造方法。
9. さらに、前記突起に指紋付着防止材をコーティングするステップを有する、請求項８に記載のカバーガラスの製造方法。