JP6383985B2 - ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、150gf(1.47N)の荷重を受けた移動部材を、室温で10mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkは、0.14以上0.50以下であり、前記動摩擦力Fk(N)の標準偏差σ(N)は、0.03以下であり、
前記移動部材は、ロックウェル硬度がM90のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が700μmの曲率半径を有するペンであることを特徴とするカバーガラスが提供される。
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、当該カバーガラスの表面において、50gf(0.49N)の荷重を受けた合成皮革を、室温で1mm/秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkが0.9以上であり、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
(a)ガラス基板の表面にフッ化水素(HF)ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
前記(a)の工程後に、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、σ/Fkの値Yが0.05以下である前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法が提供される。
(a)ガラス基板の表面にフッ化水素(HF)ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
前記(a)の工程後に、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
ロックウェル硬度がM90のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が700μmの曲率半径を有するペンを、150gf(1.47N)の荷重で、室温で10mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkは、0.14以上0.50以下であり、前記動摩擦力Fk(N)の標準偏差σ(N)は、0.03以下となる前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法が提供される。
前述のように、特許文献1に記載のペン入力装置用カバー部材では、入力ペンの筆記感(「書き味」)を高めるため、樹脂シートの表面に防眩層が配置される。
ペン入力装置用のカバーガラスであって、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、移動部材(合成皮革)を一方向に移動させた際に、動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
Fk=μk×P (1)式
ここで、μkは動摩擦係数であり、移動表面の状態等によって変化する。
このコーティングは、カバーガラスの表面の少なくとも一部に適用されればよい。これにより、カバーガラス上の所定の位置が、筆記感の相違によって認識可能となる。
次に、本発明の一実施例による第2のカバーガラスについて説明する。
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、150gf(1.47N)の荷重を受けた移動部材を、室温で10mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkは、0.14以上0.50以下であり、前記動摩擦力Fk(N)の標準偏差σ(N)は、0.03以下であり、
前記移動部材は、ロックウェル高度がM90のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が700μmの曲率半径を有するペンであることを特徴とする。
ペン入力装置の高精細性に対するニーズにも対応可能な高い透明性;
感覚的に適度な「へこみ」および有意に良好な耐久性;ならびに
有意に良好な筆記感(書き味);
を得ることができる。
(カバーガラスの組成)
本発明の一実施例において、カバーガラスの組成は、特に限られない。カバーガラスは、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、および無アルカリガラス等で構成されても良い。
カバーガラスの寸法および形状は、特に限られない。カバーガラスは、例えば、0.3mm〜2.0mmの厚さを有しても良い。また、カバーガラスの形状は、略矩形状の他、略円形、および略楕円形等であっても良い。また、カバーガラスは、平坦であっても、若干湾曲していても良い。
カバーガラスは、化学強化処理されていても良い。これにより、カバーガラスの強度を高めることができる。
次に、図5を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施例によるカバーガラスの適用例について説明する。
次に、図6を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施例による第1のカバーガラスの製造方法について説明する。
(a)ガラス基板の表面に、フッ化水素(HF)ガスを含む処理ガスを接触させる工程(ステップS110)と、
(b)前記ガラス基板を化学強化処理する工程(ステップS120)と、
(c)前記ガラス基板に指紋付着防止材をコーティングする工程(ステップS130)と、
を有する。ただし、ステップS120およびステップS130は、任意に実施されるステップであり、何れか一方または両方は、省略されても良い。
まず、ガラス基板が準備される。
ここで、ステップS110におけるエッチング処理に使用され得る装置の一例について簡単に説明する。
次に、必要な場合、エッチング処理されたガラス基板に対して、化学強化処理が実施される。
次に、必要な場合、ガラス基板のエッチング処理表面に対して、指紋付着防止材がコーティングされる。この処理を、以下、「AFPコーティング処理」と称する。
本発明の一実施例による第2のカバーガラスは、前述のような第1のカバーガラスの製造方法と同様の製造方法により、製造することができる。
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、当該カバーガラスの表面において、50gf(0.49N)の荷重を受けた合成皮革を、室温で1mm/秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkが0.9以上であり、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラスは、指を使用した場合も、ペンと同様にビビリ感を抑制しながら、筆記感を有意に高めることができる。
以下の方法により、ガラス基板に対してエッチング処理を実施して、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
まず、フロート法で製造した厚さ1.1mmのアルミノシリケートガラス基板を準備した。
例1−1と同様の方法により、例2−1、例3−1および例4−1に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、エッチング処理の際のHFガスの濃度を変えて、カバーガラスを製造した。
例1−1、2−1、3−1、および4−1に係るカバーガラスを用いて、以下の各値を測定した。
ヘイズ値の測定には、ヘーズメータ(HZ−2:スガ試験機)を使用し、JIS K7361−1に基づいて実施した。光源には、C光源を使用した。
マルテンス硬さの測定には、(Picodenter HM500:Fisher社製)を使用し、ISO 14577に基づいて実施した。圧子には、ビッカース圧子を使用した。
表面粗さRaおよびRzの測定には、走査型プローブ顕微鏡(SPI3800N:エスアイアイ・ナノテクノロジー社製)を使用し、JIS B0601(2001年)に基づいて実施した。測定は、カバーガラスの2μm四方の領域に対して、取得データ数1024×1024として実施した。
以下の方法により、ガラス基板に対してエッチング処理を実施して、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
まず、フロート法で製造した厚さ0.7mmのアルミノシリケートガラス基板を準備した。
例5−1と同様の方法により、例6−1に係るカバーガラスを製造した。ただし、この例6−1では、HFガスの濃度を0.5vol%とした。その他のエッチング処理条件は、例5−1の場合と同様である。
例5−1および6−1に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さの各値を測定した。
以下の方法により、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
前述の例1−2と同様の方法により、例2−2、例3−2および例4−2に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、エッチング処理の際のHFガスの濃度を変えて、カバーガラスを製造した。
例1−2、2−2、3−2、および4−2に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さRa、Rzの各測定を実施した。
以下の方法により、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
前述の例1−3と同様の方法により、例2−3、例3−3および例4−3に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、AFPコーティング処理に供される化学強化処理後のガラス基板として、例1−3の場合とは異なるガラス基板を使用して、カバーガラスを製造した。
以下の方法により、前述の例5−1に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびAFPコーティング処理を実施した。得られたカバーガラスを「例5−3に係るカバーガラス」と称する。
例1−3、2−3、3−3、4−3、および例5−3に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さRa、Rzの各測定を実施した。
接触角は、カバーガラスの表面に純水1μlを滴下してから3秒後の水滴で測定した。測定には、接触角計(CA−X:協和界面科学社製)を使用した。
以下の方法により、各例に係るカバーガラスの動摩擦係数μkおよびY値(=σ/Fk)を測定した。
例1−3、2−3、3−3、4−3、および例5−3に係るカバーガラスを用いて、書き味の評価試験(官能試験)を実施した(○×評価)。
次に、以下の方法により、前述の例5−1に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびAFPコーティング処理を実施した。得られたカバーガラスを「例5−4に係るカバーガラス」と称する。
AFPコーティング付着量W={(AFPコーティング処理後のカバーガラスのF−Kα線強度)−(AFPコーティング施工前のカバーガラスのF−Kα線強度)}
/(標準試料のF−Kα線強度−AFPコーティング施工前のカバーガラスのF−Kα線強度)
なお、標準試料には、フッ素を2wt%含有するアルミノシリケートガラスを使用した。
前述の例5−4と同様の方法により、例5−5、例5−6および例5−7に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、AFPコーティング処理によるAFPコーティング付着量Wを変化させて、カバーガラスを製造した。
前述の例5−4と同様の方法により、例6−4に係るカバーガラスを製造した。ただし、この例6−4では、前述の例6−1に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびAFPコーティング処理を実施した。また、AFPコーティング処理によるAFPコーティング付着量W=0.2であった。その他の製造条件は、例5−4の場合と同様である。
例5−4、5−5、5−6、5−7および6−4に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、表面粗さRa、Rz、および接触角の各測定を実施した。
110 カバーガラス
120 ディスプレイ装置
130 デジタイザー回路
140 電極
150 スペーサー
160 グリッド
170 検出回路
180 入力ペン
300 処理装置
310 インジェクタ
315 第1のスリット
320 第2のスリット
325 第3のスリット
350 搬送手段
380 ガラス基板
Claims (22)
- ペン入力装置用のカバーガラスであって、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、150gf(1.47N)の荷重を受けた移動部材を、室温で10mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkは、0.14以上0.50以下であり、前記動摩擦力Fk(N)の標準偏差σ(N)は、0.03以下であり、
前記移動部材は、ロックウェル硬度がM90のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が700μmの曲率半径を有するペンであることを特徴とするカバーガラス。 - 当該カバーガラスの前記表面は、複数の領域を有し、該複数の領域は、相互に異なる動摩擦係数μkおよび動摩擦力の標準偏差σを有することを特徴とする請求項1に記載のカバーガラス。
- ペン入力装置用のカバーガラスであって、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
当該カバーガラスの表面において、移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラス。 - 当該カバーガラスの前記表面は、複数の領域を有し、該複数の領域は、相互に異なる動摩擦係数μkおよび動摩擦力の標準偏差σを有することを特徴とする請求項3に記載のカバーガラス。
- 前記マルテンス硬さは、2000N/mm2〜3500N/mm2の範囲であることを特徴とする請求項3または4に記載のカバーガラス。
- 前記移動部材は合成皮革であり、
当該カバーガラスの表面において、50gf(0.49N)の荷重を受けた前記移動部材を、室温で1mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkが0.9以上であることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか一つに記載のカバーガラス。 - 表面粗さRa(算術平均粗さ)が0.2nm〜20nmの範囲であり、
表面粗さRz(最大高さ粗さ)が3.5nm〜200nmの範囲であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一つに記載のカバーガラス。 - 前記表面には、指紋付着防止材がコーティングされていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一つに記載のカバーガラス。
- 前記指紋付着防止材は、前記表面の少なくとも一部の領域にコーティングされていることを特徴とする請求項8に記載のカバーガラス。
- 当該カバーガラスのガラス組成として、モル%濃度で
SiO2 61〜77%、
Al2O3 1〜18%、
Na2O 8〜18%、
K2O 0〜6%、
MgO 0〜15%、
B2O3 0〜8%、
CaO 0〜9%、
SrO 0〜1%、
BaO 0〜1%、
ZrO2 0〜4%、
を含むことを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか一つに記載のカバーガラス。 - 化学強化処理されていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一つに記載のカバーガラス。
- 水滴に対する接触角が100°以上であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一つに記載のカバーガラス。
- 使用者によって情報が入力される入力装置用のカバーガラスであって、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、当該カバーガラスの表面において、50gf(0.49N)の荷重を受けた合成皮革を、室温で1mm/秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkが0.9以上であり、σ/Fkの値Yが0.05以下であることを特徴とするカバーガラス。 - 当該入力装置用のカバーガラスは、使用者が指で触れて入力することを特徴とする請求項13に記載のカバーガラス。
- 当該入力装置用のカバーガラスは、ペンで触れて入力することを特徴とする請求項13に記載のカバーガラス。
- ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
(a)ガラス基板の表面にフッ化水素(HF)ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
前記(a)の工程後に、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をFk(N)とし、該動摩擦力Fk(N)の標準偏差をσ(N)としたとき、σ/Fkの値Yが0.05以下である前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法。 - 前記マルテンス硬さは、2000N/mm2〜3500N/mm2の範囲であることを特徴とする請求項16に記載のカバーガラスの製造方法。
- 前記移動部材は合成皮革であり、
前記カバーガラスの表面において、50gf(0.49N)の荷重を受けた前記移動部材を、室温で1mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkが0.9以上であることを特徴とする請求項16または17に記載のカバーガラスの製造方法。 - ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
(a)ガラス基板の表面にフッ化水素(HF)ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
前記(a)の工程後に、
ヘイズ値が1%未満であり、
マルテンス硬さが2000N/mm2〜4000N/mm2の範囲であり、
ロックウェル硬度がM90のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が700μmの曲率半径を有するペンを、150gf(1.47N)の荷重で、室温で10mm/秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Fk(N)と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μkは、0.14以上0.50以下であり、前記動摩擦力Fk(N)の標準偏差σ(N)は、0.03以下となる前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法。 - 前記(a)の工程後の前記ガラス基板の表面粗さRaは、0.2nm〜20nmの範囲であり、
前記(a)の工程後の前記ガラス基板の表面粗さRzは、3.5nm〜200nmの範囲であることを特徴とする請求項16乃至19のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。 - さらに、前記(a)の工程の後に、
(c)前記ガラス基板に指紋付着防止材をコーティングする工程
を有することを特徴とする請求項16乃至20のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。 - 前記(c)の工程が存在しない場合、
さらに、前記(a)の工程の後に、
(b)前記ガラス基板を化学強化処理する工程
を有し、
前記(c)の工程が存在する場合、
さらに、前記(a)の工程の後であって、前記(c)の工程の前に、
(b)前記ガラス基板を化学強化処理する工程
を有することを特徴とする請求項16乃至21のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。
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WO2017073580A1 (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-04 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板、及びディスプレイ用ガラス基板の製造方法 |
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WO2017212996A1 (ja) * | 2016-06-06 | 2017-12-14 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルペン用筆記シートの選別方法、タッチパネルシステム、タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置 |
KR102517515B1 (ko) * | 2016-07-29 | 2023-04-04 | 삼성전자주식회사 | 입력 감지 패널을 구비한 전자 장치 |
JP2018032397A (ja) * | 2016-08-17 | 2018-03-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | タッチ入力ペン、電子機器、およびタッチ入力ペンを用いた電子機器への入力方法 |
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JP7305931B2 (ja) * | 2017-07-20 | 2023-07-11 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルペン用筆記性部材の選別方法 |
KR102490522B1 (ko) * | 2017-11-14 | 2023-01-19 | 삼성전자주식회사 | 커버 글래스 및 이를 포함하는 전자 장치, 및 커버 글래스 제조 방법 |
NL2020896B1 (en) | 2018-05-08 | 2019-11-14 | Corning Inc | Water-containing glass-based articles with high indentation cracking threshold |
US11672380B2 (en) * | 2018-03-07 | 2023-06-13 | Schott Ag | Articles that can be burner shields having grease flow control and/or chemical resistance |
WO2020030697A1 (en) * | 2018-08-08 | 2020-02-13 | Agc Glass Europe | Display device |
WO2020055414A1 (en) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Etched glass surfaces with hydrophobic alkoxyorganosilanes |
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KR20210103454A (ko) * | 2018-12-14 | 2021-08-23 | 린텍 가부시키가이샤 | 필기감 향상 시트 |
JP2020167085A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムおよび画像表示装置 |
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US11313998B2 (en) * | 2019-12-27 | 2022-04-26 | Intel Corporation | Display cover for digital writing and optical performance |
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US7694420B2 (en) * | 2007-07-19 | 2010-04-13 | John Mezzalingua Associates, Inc. | Coaxial cable preparation tool and method of use thereof |
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US9746923B2 (en) * | 2009-03-12 | 2017-08-29 | Immersion Corporation | Systems and methods for providing features in a friction display wherein a haptic effect is configured to vary the coefficient of friction |
US9005750B2 (en) * | 2009-07-08 | 2015-04-14 | Nitto Denko Corporation | Transparent conductive film, electronic device, and touch panel |
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JP5819952B2 (ja) * | 2011-05-26 | 2015-11-24 | 株式会社ダイセル | ディスプレイ用透明積層フィルム及びその使用方法並びにタッチパネル |
US20140146454A1 (en) * | 2011-07-26 | 2014-05-29 | Kimoto Co., Ltd. | Electrostatic Capacitance Type Touch Panel and Anti-Glare Film |
JP5774954B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-09-09 | 東レフィルム加工株式会社 | タッチパネル用シート部材、タッチパネルおよび表示装置 |
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JP2014080332A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止性を有するガラスの製造方法、および反射防止性を有するガラス |
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