JP6852678B2 - ガラス板、タッチパッド、およびタッチパネル - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
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- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
- G—PHYSICS
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Description
主面に微小凹凸面を備えるガラス板であって、
前記微小凹凸面のうちの一辺2μmの正方形領域の形状データの高さのヒストグラムに
おいて、前記微小凹凸面の高さの出現頻度が最も多い区間の高さ方向中心面を基準平面と
したとき、
前記正方形領域において、前記基準平面に対する最大高低差の20%以上高い凸の数が
、1以上300以下であり、
前記微小凹凸面の表面粗さRaは2〜100nmであることを特徴とするガラス板を提供する。
図1は、一実施形態によるガラス板を示す図である。図1において微小凹凸面11aの凹凸を誇張して示す。ガラス板10は、第1主面11に微小凹凸面11aを備える。微小凹凸面11aの表面粗さRaは、0.3〜100nmである。Raは好ましくは、1〜50nm、さらに好ましくは2〜30nmである。ここで、表面粗さRaとは、日本工業規格JIS B 0601に記載の算術平均粗さである。
図4は、一実施形態による積層体を示す図である。積層体20は、図1に示すガラス板10と、少なくとも一部がガラス板10の微小凹凸面11aに形成される防汚層21とを備える。防汚層21は、微小凹凸面11aの少なくとも一部に形成されていればよい。微小凹凸面11aが第1主面11の一部のみに形成される場合、第1主面11の残部に防汚層21が形成されても形成されなくてもよい。以下、防汚層21について主に説明する。
防汚層21は、指紋や油脂などの汚れが付着することを防止したり、そのような汚れの除去を容易にしたりするためのものである。防汚層21は、指紋付着防止および指紋除去促進の少なくとも一方の作用を有する。防汚層21は、例えば、ガラス板10の主面から垂直または斜めに伸びる樹脂毛の集合体で構成される。
図5は、変形例による積層体を示す図である。本変形例による積層体20Aは、図5に示すように、ガラス板10と防汚層21との間に、中間層22を有する。以下、中間層22について主に説明する。
中間層22は、低反射機能、高密着機能、低放射機能、断熱機能などのうちの少なくとも1つの機能を積層体20Aに発現させる機能層である。中間層22は、特に限定されないが、酸化物層、窒化物層、酸窒化物層、および金属層のうちの少なくとも1つを有してもよい。中間層22は、単層で構成されてもよいし、二層以上で構成されてもよい。中間層22の材料は特に限られず、中間層22は乾式法、湿式法の公知の方法によって形成できる。
図6は、一実施形態による積層体を用いたタッチパッドを示す図である。
図7は、一実施形態による積層体を用いたタッチパネルを示す図である。
図8は、一実施形態による積層体の製造方法を示すフローチャートである。図8に示すように、積層体の製造方法は、主面粗化工程S11と、化学強化工程S12と、コーティング工程S13とを有する。尚、化学強化工程S12、コーティング工程S13は、任意の工程であって、必要に応じて設ければよい。
主面粗化工程S11では、ガラス板10の第1主面11を粗化することにより、微小凹凸面11aを形成する。微小凹凸面11aの表面粗さRaは、0.3〜100nmである。
化学強化工程S12では、ガラス板を化学強化処理する。ここで、「化学強化処理(法)」とは、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラス板を浸漬させ、ガラス板の最表面に存在する原子径の小さなアルカリ金属(イオン)を、溶融塩中に存在する原子径の大きなアルカリ金属(イオン)と置換する技術の総称を言う。「化学強化処理(法)」では、処理されたガラス板の表面には、処理前の元の原子よりも原子径の大きなアルカリ金属(イオン)が配置される。このため、ガラス板の表面に圧縮応力層を形成することができ、これによりガラス板の強度が向上する。
コーティング工程S13は、ガラス板の微小凹凸面に対し防汚層の材料をコーティングするAFP(Anti−Finger Print)処理を有する。
フロート法で成形した厚さ0.7mmのガラス板を用意した。ガラス板のガラスの種類としては、例1、3〜7ではガラスA、例2ではガラスBとした。ガラスAは、アルミノシリケートガラス(旭硝子社製 ドラゴントレイル(登録商標))である。ガラスBは、ソーダライムガラス(旭硝子社製 AS)である。
ガラス板のエッチング処理には、前述の図9に示した処理装置300を使用した。
微小凹凸面の表面粗さRaと最大高低差Hは、走査型プローブ顕微鏡(SPI3800N:エスアイアイ・ナノテクノロジー社製)により測定した。測定は、微小凹凸面のうちの一辺2μmの正方形領域において、取得データ数512×512、走査周波数0.3Hzとして実施し、AFM像を取得した。表面粗さRaは、各取得データの平均値を採用した。
微小凹凸面の正方形領域における凸の数や凸の最大断面積は、表面粗さRaと最大高低差Hの測定に用いたAFM像を、イメージメトロロジー社製 SPIPTM (Scanning Probe Image Processor:走査型プローブ・イメージ・プロセッサ)により画像解析することで測定した。
微小凹凸面のサミット密度(Sds)は、表面粗さRaと最大高低差Hの測定に用いたAFM像に対して国際規格ISO16610−61に記載のS−フィルタを適用し、波長0.05μm以下の波長成分を除去した後のAFM像から測定した。
微小凹凸面の指滑り性は、官能試験によって評価した。指滑り性が良い場合を「A」とし、指滑り性が悪い場合を「B」とした。
ガラス板のヘイズは、ヘーズメータ(HZ−2:スガ試験機)を用いて、日本工業規格JIS K7361に準拠して測定した。ガラス板のヘイズは、微小凹凸面側から測定した。光源には、C光源を使用した。
積層体の可視光反射率は、測定に分光光度計(U−4100型:日立株式会社製)を使用し、波長450nm〜600nmの平均値として、算出することが可能である。なお、この可視光反射率は、積層体の防汚層と反対側の面の影響を受けないように反対側の面を黒塗りにして、積層体の防汚層側から測定する。
評価結果を、エッチング処理条件などと共に表1に示す。
11 第1主面
11a 微小凹凸面
12 第2主面
20 積層体
21 防汚層
22 中間層
30 タッチパッド
31 位置検出器
40 タッチパネル
41 位置検出器
42 画像表示装置
Claims (9)
- 主面に微小凹凸面を備えるガラス板であって、
前記微小凹凸面のうちの一辺2μmの正方形領域の形状データの高さのヒストグラムに
おいて、前記微小凹凸面の高さの出現頻度が最も多い区間の高さ方向中心面を基準平面と
したとき、
前記正方形領域において、前記基準平面に対する最大高低差の20%以上高い凸の数が
、1以上300以下であり、
前記微小凹凸面の表面粗さRaは2〜100nmであることを特徴とするガラス板。 - 主面に微小凹凸面を備えるガラス板であって、
前記微小凹凸面のうちの一辺2μmの正方形領域の形状データから国際規格ISO16
610−61に記載のS−フィルタを用いて0.05μm以下の波長成分を除去した後の
サミット密度が1/μm2以上170/μm2以下であり、
前記微小凹凸面の表面粗さRaは2〜100nmであることを特徴とするガラス板。 - ガラス板の、前記微小凹凸面側から測定したヘイズが0%以上2%以下である、請求項
1又は2に記載のガラス板。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラス板と、
少なくとも一部が前記微小凹凸面に形成される防汚層とを備える、積層体。 - 前記ガラス板と前記防汚層との間にさらに中間層を備える、請求項4に記載の積層体。
- 前記中間層は、酸化物層、窒化物層、酸窒化物層、および金属層の少なくとも1つを含
む、請求項5に記載の積層体。 - 積層体の、前記防汚層側から測定した可視光反射率が0〜3%である、請求項4乃至6
のいずれか1項に記載の積層体。 - 請求項4乃至7のいずれか1項に記載の積層体と、
前記積層体における指のタッチ位置を検出する位置検出器と、
を備える、タッチパッド。 - 請求項4乃至7のいずれか1項に記載の積層体と、
前記積層体における指のタッチ位置を検出する位置検出器と、
前記位置検出器による検出結果に応じた画像を表示する画像表示装置と、
を備える、タッチパネル。
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