CN108290776B - 玻璃板、触摸板和触摸屏 - Google Patents

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Abstract

玻璃板，它是主面具有微小凹凸面的玻璃板，以所述微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域的形状数据的高度的直方图中所述微小凹凸面的高度的出现频率最高的区间的高度方向中心面作为基准平面时，所述正方形区域中，高度相对于所述基准平面在最大高低差的20％以上的凸起的数量在1以上300以下。

Description

玻璃板、触摸板和触摸屏
技术领域
本发明涉及玻璃板、触摸板(日文：タッチパッド)和触摸屏(日文：タッチパネル)。
背景技术
针对触摸板和触摸屏，正在开发具备各种功能层的基材(例如，参照专利文献1)。根据专利文献1，使用含有平均粒径为1～100μm的微粒的聚合性组合物的固化物形成硬质涂层作为功能层。藉此得到硬度高且没有手指的拖拽的物品。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2012/160894号
发明内容
发明所要解决的技术问题
但是，专利文献1的物品中，使用的粒子尺寸为微米级，存在光散射而发生模糊的技术问题。
本发明的主要目的在于提供在不设置功能层的情况下手指滑动性良好且雾度低的玻璃板。
解决技术问题所采用的技术方案
为解决上述问题，本发明提供一种玻璃板，
它是主面具备微小凹凸面的玻璃板，
以所述微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域的形状数据的高度的直方图中所述微小凹凸面的高度的出现频率最高的区间的高度方向中心面作为基准平面时，
在所述正方形区域中，高度相对于所述基准平面在最大高低差的20％以上的凸起的数量在1以上300以下。
发明效果
根据本发明的一种实施方式，能够提供在不设置功能层的情况下手指滑动性良好且雾度低的玻璃板。
附图说明
图1是表示一种实施方式的玻璃板的图。
图2是将一种实施方式的微小凹凸面的一部分放大表示的截面图。
图3是沿图2的III-III线的截面图。
图4是表示一种实施方式的层叠体的图。
图5是表示变形例的层叠体的图。
图6是表示使用了一种实施方式的层叠体的触摸板的图。
图7是表示使用了一种实施方式的层叠体的触摸屏的图。
图8是表示一种实施方式的层叠体的制造方法的流程图。
图9是表示一种实施方式的玻璃板的蚀刻处理中使用的处理装置的图。
图10是例3的玻璃板的微小凹凸面的正方形区域的AFM像。
图11是例4的玻璃板的微小凹凸面的截面SEM像。
具体实施方式
以下，参照附图说明用于实施本发明的实施方式。各附图中，对于相同或对应的结构标以相同或对应的符号，并省略说明。在本说明书中，表示数值范围的“～”表示包含其前后的数值的范围。
(玻璃板)
图1是表示一种实施方式的玻璃板的图。对图1中的微小凹凸面11a的凹凸进行夸张表示。玻璃板10在第1主面11具备微小凹凸面11a。微小凹凸面11a的表面粗糙度Ra为0.3～100nm。Ra优选为1～50nm，进一步优选为2～30nm。此处，表面粗糙度Ra是日本工业标准JIS B 0601中记载的算术平均粗糙度。
微小凹凸面11a可形成于整个第1主面11上，也可仅形成于第1主面11的一部分上。与包含微小凹凸面11a的第1主面11相反侧的第2主面12例如可以是平面。
根据本发明的一个方面，以微小凹凸面11a中的边长为2μm的正方形区域的形状数据的高度的直方图中的出现频率最高的高度的区间的高度方向中心面作为基准平面时，在正方形区域中，起自正方形区域的基准平面的高度在正方形区域的最大高低差的20％以上的凸起的数量(以下也简记为“凸起数”)在1以上300以下。
此处，正方形区域的位置是微小凹凸面11a中的任意位置。对规定的正方形区域的AFM像中的高度进行直方图分析。在与正方形区域的最小二乘平面正交的方向上从正方形区域的最低位置对高度进行测定。最大高低差是指，从正方形区域的最低位置到正方形区域的最高位置为止的高度。将正方形区域的最低位置到正方形区域的最高位置之间均等划分成500个区间，求出每个区间内的高度的出现频率。基准平面是出现频率最高的高度的区间的高度方向中心面。
正方形区域的凸起数如果在1以上300以下，则具有人的手指可感知的程度的高度的凸起以适度的数量存在，因此手指与玻璃板的接触面积在适度范围内，手指滑动性良好。凸起的数量优选在280以下，更优选在250以下，进一步优选在240以下。
图2是将一种实施方式的微小凹凸面的一部分放大表示的截面图。图3是沿图2的III-III线的截面图。从微小凹凸面11a的基准平面P0起，高度为微小凹凸面11a的最大高低差H的20％的位置P1处的截面中，将连续(日文：ひとつながり)的部分(图3中以斜线表示的部分)记为1个凸起。
各凸起在位置P1处的截面积(例如，图3中的以斜线表示的部分的截面积)中，最大截面积(以下也简称为“凸起的最大截面积”)优选为25000～80000nm2。凸起的最大截面积如果在25000nm2以上，则能够用手指感知凸起。另一方面，凸起的最大截面积如果在80000nm2以下，则雾度得到抑制。
另外，本实施方式中，可对凸起的数量进行管理，也可对凹陷的数量进行管理。具体而言，在正方形区域中，从正方形区域的基准平面起、深度在正方形区域的最大高低差的20％以上的凹陷的数量(以下也简记为“凹陷的数量”)在1以上300以下。正方形区域中的凹陷数量如果在1以上300以下，则由于存在适当数量的凹陷而使得手指滑动性良好。凹陷的数量优选在280以下，更优选在250以下，进一步优选在240以下。从微小凹凸面11a的基准平面P0起，深度为微小凹凸面11a的最大高低差H的20％的位置P2处的截面中，将连续的部分记为1个凹陷。各凹陷在位置P2处的截面积中，最大截面积(以下也简称为“凹陷的最大截面积”)优选为25000～80000nm2。凹陷的最大截面积如果在25000nm2以上，则能够用手指感知凹陷。另一方面，凹陷的最大截面积如果在80000nm2以下，则雾度得到抑制。
另外，根据本发明的另一方面，使用ISO16610-61中记载的S-滤波器(日文：S-フィルタ)从所述微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域的形状数据中除去0.05μm以下的波长成分后的微小凹凸面11a的峰密度(日文：サミット密度)Sds在1/μm2以上170/μm2以下。
此处，正方形区域的位置是微小凹凸面11a中的任意位置。使用上述滤波器对规定的正方形区域的AFM像进行噪声除去处理。通过该噪声除去处理，能够对形状数据中的手指可感知程度的微细的凹凸结构进行解析。
峰密度Sds是突起顶点的密度。峰密度Sds的计算步骤按照下述非专利文献1进行(非专利文献1：K.J.Stout,P.J.Sullivan,W.P.Dong,E.Mainsah,N.Luo,T.Mathia,H.Zahouani(1994)三维粗糙度表征方法的发展(The development of methods for thecharacterization of roughness on three dimensions)。出版号：卢森堡欧盟委员会EUR15178 EN(EUR 15178 EN of the commission of the European communities,Luxembourg))。
峰密度Sds如果在1/μm2以上170/μm2以下，则存在人的手指可感知程度的适当的密度的凸起，因此手指与玻璃板的接触面积在适度范围内，手指滑动性良好。另外，峰密度Sds如果在170/μm2以下，则雾度得到抑制。峰密度Sds优选在160/μm2以下，更优选在140/μm2以下。
玻璃板10的雾度(Haze)从微小凹凸面11a侧进行测定。此处，“从微小凹凸面11a侧进行测定”是指，从玻璃板10的外部的光源向微小凹凸面11a照射检测光以进行测定。玻璃板10的雾度优选在0％以上2％以下。玻璃板10的雾度如果在2％以下，则应用于触摸板或触摸屏时，不必担忧其美观性受损以及识别性变差。玻璃板10的雾度优选在1.5％以下，更优选在1％以下。玻璃板10的雾度越小越好，从制造方面考虑，优选在0.01％以上。
雾度值根据日本工业标准JIS K7136测定，作为在板厚方向上从玻璃板10的第1主面11向第2主面12透射的透射光中的因向前散射而与入射光偏离2.5°以上的透射光的百分率而求出。作为雾度测定中使用的光源，使用C光源。
玻璃板10的厚度无特别限定，优选在3mm以下，例如可以是0.2～2.0mm的范围。玻璃板10的厚度更优选为0.3～1.5mm的范围。玻璃板10的厚度在3mm以上的情况下，重量增加而难以轻量化，而且原材料成本也会上升。玻璃板10的厚度在0.2mm以下的情况下，基板的操作变得困难。
玻璃板10优选具有例如1000～5000N/mm2的范围的马氏硬度。玻璃板10的马氏硬度在1000N/mm2以上的情况下，耐久性优良。另外，玻璃板10的马氏硬度在5000N/mm2以下的情况下，玻璃板10容易加工，因此优选。玻璃板10的马氏硬度更优选为2000～5000N/mm2的范围。
玻璃板10优选在400～700nm的波长区域具有高透射率，例如80％以上的透射率。此外，玻璃板10较好具有足够的绝缘性，化学和物理耐久性高。
玻璃板10可通过浮法或熔融法等成形。玻璃板10由钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃或无碱玻璃等构成。玻璃板10可以是经化学强化处理的化学强化玻璃，也可以是未强化玻璃。在化学强化玻璃的情况下，玻璃板10含有碱金属。微小凹凸面形成后无论是否实施化学强化处理，微小凹凸面的表面形状基本不发生变化，得到手指滑动性良好且雾度低的玻璃板10。
玻璃板10例如以摩尔％表示含有61～77％的SiO2、1～18％的Al2O3、8～18％的Na2O、0～6％的K2O、0～15％的MgO、0～8％的B2O3、0～9％的CaO、0～1％的SrO、0～1％的BaO以及0～4％的ZrO2。
SiO2是构成玻璃骨架的成分，是必要成分。如果SiO2含量低于62摩尔％，则玻璃表面发生损伤时容易产生裂纹，耐候性降低，比重变大，或液相温度上升而容易使玻璃变得不稳定等，因此SiO2含量在61摩尔％以上，优选在63摩尔％以上。SiO2含量如果超过77摩尔％，则玻璃粘度为102dPa·s时的温度T2或玻璃粘度为104dPa·s时的温度T4升高而使玻璃的熔化或成形变得困难，或耐候性容易降低，因此SiO2含量在77摩尔％以下，优选在70摩尔％以下。
Al2O3是提高离子交换性能和耐候性的成分，为必要成分。Al2O3含量如果低于1摩尔％则难以通过离子交换得到期望的表面压缩应力或压缩应力层厚度，或耐候性容易降低等，因此Al2O3含量在1摩尔％以上，优选在5摩尔％以上。Al2O3含量如果超过18摩尔％，则T2或T4升高而使得玻璃难以熔化或成形，或液相温度升高而容易失透，因此Al2O3含量在18摩尔％以下。
Na2O是减少离子交换时的表面压缩应力的偏差、通过离子交换形成表面压缩应力层或提高玻璃的熔融性的成分，是必要成分。Na2O含量如果低于8摩尔％则难以通过离子交换形成期望的表面压缩应力层，或T2或T4升高使得玻璃难以熔化或成形，因此Na2O含量在8摩尔％以上，优选在10摩尔％以上。Na2O含量如果超过18摩尔％则耐候性降低，或容易自压痕产生裂纹，因此Na2O含量优选在18摩尔％以下。
K2O虽不是必要成分，但可以加快离子交换速度，因此也可含有不高于6摩尔％的K2O。K2O含量如果超过6摩尔％则离子交换时的表面压缩应力的偏差变大，容易自压痕产生裂纹，或耐候性降低。
MgO是提高熔融性的成分，可含有该成分。MgO含量如果超过15摩尔％则离子交换时的表面压缩应力的偏差变大，液相温度升高而容易失透，或离子交换速度降低，因此MgO含量在15摩尔％以下，优选在12摩尔％以下。
B2O3用于提高熔融性，优选在8摩尔％以下。B2O3含量如果超过8摩尔％，则有可能难以获得均质的玻璃，玻璃的成型变得困难。
为了提高高温下的熔融性或难以发生失透，也可含有不高于9摩尔％的CaO，但是离子交换时的表面压缩应力的偏差有可能变大，或离子交换速度或对裂纹产生的抗性有可能降低。
为了提高高温下的熔融性或难以发生失透，也可含有1摩尔％以下的SrO，但是离子交换时的表面压缩应力的偏差有可能变大，或离子交换速度或对裂纹产生的抗性有可能降低。
为了提高高温下的熔融性或难以发生失透，也可含有1摩尔％以下的BaO，但是离子交换时的表面压缩应力的偏差有可能变大，或离子交换速度或对裂纹产生的抗性有可能降低。
ZrO2虽不是必要成分，但为了提高表面压缩应力或提高耐候性等，也可含有不高于4摩尔％的ZrO2。ZrO2含量如果超过4摩尔％则离子交换时的表面压缩应力的偏差变大，或对产生裂纹的抗性降低。
(层叠体)
图4是表示一种实施方式的层叠体的图。层叠体20具备图1所示的玻璃板10和至少一部分形成于玻璃板10的微小凹凸面11a上的防污层21。防污层21形成于微小凹凸面11a的至少一部分上即可。微小凹凸面11a仅形成于第1主面11的一部分上的情况下，第1主面11的剩余部分上可形成防污层21，也可未形成防污层21。以下，主要对防污层21进行说明。
(防污层)
防污层21用于防止指纹和油脂等污迹的附着，并使得这种污迹容易被除去。防污层21具有防止指纹附着和促进指纹除去中的至少一种作用。防污层21例如通过从玻璃板10的主面垂直或斜向伸出的树脂毛的集合体构成。
防污层21由含氟树脂形成。作为防污层21的材料，例如使用下式(A)所示的树脂、下式(B)所示的树脂等。
[化1]
Figure GDA0001858328440000071
此处，L1例如由C、H、O、N、F等形成，例如是由醚键、酰胺键等形成的键结构。k是重复次数，是1以上1000以下的自然数。L0是能够与玻璃的末端OH进行交换的水解性基团。
L0优选为除氟以外的卤素或烷氧基(-OR)，其中，R为1～6个碳原子的直链烃或分支链烃，可例举例如-CH3、-C2H5、-CH(CH3)2的烃。优选的卤素为氯。优选的烷氧基为三甲氧基甲硅烷基，即Si(OMe)3。
[化2]
Figure GDA0001858328440000072
此处，L2例如由C、H、O、N、F等形成，例如是由醚键、酰胺键等形成的键结构。m和n是重复次数，分别为1以上1000以下的自然数。L0与式(A)的L0的含义相同。
作为防污层21的材料，可优选使用S600(商品名、旭硝子株式会社(旭硝子社)制)、S550(商品名、旭硝子株式会社制)、KY-178(商品名、信越化学工业株式会社(信越化学工業社)制)、KY-185(商品名、信越化学工业株式会社制)、X-71-186(商品名、信越化学工业株式会社制)、X-71-190(商品名、信越化学工业株式会社制)、X-195(商品名、信越化学工业株式会社制)、オプツール(注册商标)DSX(商品名、大金工业株式会社(ダイキン工業社)制)以及オプツール(注册商标)AES(商品名、大金工业株式会社制)等。
防污层21的厚度例如为1～100nm。
防污层21的表面形成顺应玻璃板10的微小凹凸面11a的表面形状。因此，包含玻璃板10与防污层21的层叠体能够与玻璃板10同样地提高手指滑动性并将雾度抑制在低水平。
层叠体20的可见光反射率Rv从防污层21侧进行测定。此处，“从防污层21侧进行测定”是指，从层叠体20的外部的光源向防污层21照射检测光以进行测定。层叠体20的可见光反射率Rv优选为0～3％的范围，更优选为0～2.5％的范围。此处，层叠体20的可见光反射率Rv是波长450～600nm下的反射率的平均值。
(层叠体的变形例)
图5是表示变形例的层叠体的图。本变形例的层叠体20A如图5所示，在玻璃板10和防污层21之间具有中间层22。以下，主要对中间层22进行说明。
(中间层)
中间层22是使层叠体20A表现出低反射功能、高密合功能、低放射功能、隔热功能等中的至少1种功能的功能层。中间层22无特别限定，可具有氧化物层、氮化物层、氮氧化物层以及金属层中的至少1种。中间层22可由单层构成，也可由两层以上构成。中间层22的材料无特别限定，可通过干法、湿法等公知的方法形成中间层22。
中间层22也可含有低反射层。低反射层由折射率不同的多个层构成。作为各层的材料，可例举氧化钛、氧化钽、氧化铌、氮化硅、氮化铝、二氧化硅等。低反射层也可通过对折射率不同的层进行交互层叠来构成。例如，低反射层可具有含氧化铌(或氧化钽)的第1层与含二氧化硅的第2层的重复结构。
中间层22也可含有基底层。基底层具有改善玻璃板10与防污层21的密合性等效果。基底层例如由氧化硅等形成。
中间层22具有基底层和其它层(例如低反射层)这两者的情况下，从玻璃板10侧依次具有低反射层和基底层。
中间层22的厚度例如为1～100nm。
中间层22的表面形状、进而防污层21的表面形状顺应玻璃板10的微小凹凸面11a的表面形状。因此，包含玻璃板10、中间层22和防污层21的层叠体20A能够与玻璃板10同样地提高手指滑动性并将雾度抑制在低水平。
(触摸板)
图6是表示使用了一种实施方式的层叠体的触摸板的图。
触摸板30具有层叠体20和位置检测器31。位置检测器31为常用的位置检测器即可，例如利用静电容量的变化等以检测层叠体20的手指触碰位置。
触摸板30具备层叠体20，因此能够提高手指滑动性并将雾度抑制在低水平。触摸板30例如组装至笔记本电脑等中。
另外，触摸板30也可具有图5所示的层叠体20A以替代图4所示的层叠体20。
(触摸屏)
图7是表示使用了一种实施方式的层叠体的触摸屏的图。
触摸屏40具有层叠体20、位置检测器41和图像显示装置42。位置检测器41为常用的位置检测器即可，例如利用静电容量的变化等以检测层叠体20的手指触碰位置。图像显示装置42为常用的图像显示装置即可，例如由液晶显示器等构成，显示位置检测器41的检测结果所对应的图像。
另外位置检测器41和图像显示装置42也可相反配置，可以图像显示装置42为基准，在层叠体20的相反侧配置位置检测器41。
触摸屏40具备层叠体20，因此能够提高手指滑动性并将雾度抑制在低水平。触摸屏40例如组装至数字信息设备等中。作为数字信息设备，可例举移动电话(包括智能手机)、计算机(包括平板电脑)、复印机、传真机等。
另外，触摸屏40也可具有图5所示的层叠体20A以替代图4所示的层叠体20。
另外，图4所示的层叠体20和图5所示的层叠体20A也可组装至除触摸板30和触摸屏40以外的制品。例如，图4所示的层叠体20和图5所示的层叠体20A也可用于设备的框体、图像显示装置的盖板等中。
另外，图4所示的层叠体20和图5所示的层叠体20A可以不由手指触碰，而是由笔来触碰。这种情况下，可直接在低雾度下得到规定的书写性。
(层叠体的制造方法)
图8是表示一种实施方式的层叠体的制造方法的流程图。如图8所示，层叠体的制造方法具有主面粗糙化工序S11、化学强化工序S12、涂布工序S13。另外，化学强化工序S12、涂布工序S13是任意的工序，根据需要设置即可。
(主面粗糙化工序S11)
主面粗糙化工程S11中，通过将玻璃板10的第1主面11粗糙化，形成微小凹凸面11a。微小凹凸面11a的表面粗糙度Ra为0.3～100nm。
例如，主面粗糙化工程S11中，对玻璃板10的主面进行蚀刻处理。蚀刻可以是湿法蚀刻和干法蚀刻中的任一种。
蚀刻方法无特别限定，例如在干法蚀刻的情况下，可采用CVD法、等离子体CVD法、反应性离子蚀刻(RIE)法、电感耦合等离子体(ICP)法、反向溅射法、离子铣法(日文：イオンミリング法)、激光离子源(LIS)法等中的任意一种或这些方法的组合。
另外，在使用液体的情况下，可直接以液体状态通过例如喷涂向表面供给处理液体，也可将液体气化后再向表面供给。
这些蚀刻剂例如可含有在其结构中存在氟原子的分子，具体而言，可含有氟化氢(HF)、氢氟酸、氟单质、三氟乙酸、四氟化碳、四氟化硅、五氟化磷、三氟化磷、三氟化硼、三氟化氮、三氟化氯等，但不限于此。还可根据需要被其它液体或气体稀释。另外，这些液体或气体中，可将2种以上混合使用。
蚀刻剂也可含有除这些液体或气体以外的液体或气体，无特别限定，优选在常温下不与含氟原子的分子反应的液体或气体。可例举例如N2、空气、H2、O2、Ne、Xe、CO2、Ar、He、Kr等，但不限于此。另外，这些气体中，能够将2种以上混合使用。作为含有在结构中存在氟原子的分子的气体的载体气体，优选使用N2、氩气等惰性气体。
进一步，蚀刻剂可含有水蒸气或水。此外，还可以含有SO2。
蚀刻处理的温度无特别限定，通常，基于化学反应的在大气压中的干法蚀刻处理在300～800℃的范围内实施。蚀刻处理的温度优选为400～700℃的范围，更优选450～650℃的范围。
蚀刻处理中使用的处理气体例如含有氟化氢气体。处理气体还可含有载体气体和/或稀释气体。载体气体、稀释气体无特别限定，例如有氮气和/或氩气等惰性气体。通过含有载体气体和/或稀释气体，容易对制造条件进行管理。
另外，处理气体还可含有水蒸气(气体状态的水)。通过导入水蒸气，氟化氢气体与玻璃的反应得到缓和，容易控制微小凹凸面11a的表面形状。另外，通过导入水蒸气，容易更稳定地以良好的再现性对形状进行控制。含有水蒸气的情况下，水蒸气的量(V1)与氟化氢气体的量(V2)的体积比(V1/V2)如果在10以下，则能够确保控制表面形状所需的氟化氢，因此优选。从而得到期望的表面形状的微小凹凸面11a。
处理气体中的氟化氢气体的浓度只要能适当地蚀刻处理玻璃板的主面，就没有特别限定。处理气体中的氟化氢气体的浓度为例如0.1～10体积％的范围，优选0.3～5体积％的范围，更优选0.5～4体积％的范围。此时，处理气体中的氟化氢气体的浓度(体积％)通过用氟化氢气体流量除以氟化氢气体流量、载体气体流量、稀释气体流量以及水蒸气流量的总和而求出。
玻璃板的蚀刻处理可在反应容器中实施，在大玻璃板等情况下，在需要时也可在搬运了玻璃板后的状态下实施玻璃板的蚀刻处理。该情况下，与反应容器中的处理相比，能够更迅速且高效地进行处理。
此处，对可在蚀刻处理中使用的装置的一例进行简要说明。
图9示出了一种实施方式的玻璃板的蚀刻处理中使用的处理装置。图9所示的处理装置能够在搬运玻璃板的状态下实施玻璃板的蚀刻处理。
如图9所示，该处理装置300具备喷射器310和搬运单元350。
搬运单元350可将载置于其上部的玻璃板380沿着箭头F301所示的水平方向(x轴方向)进行搬运。
喷射器310配置在搬运单元350和玻璃板380的上方。
喷射器310具有作为处理气体的流路的多个狭缝315、320和325。即，喷射器310具备在中央部分沿铅垂方向(z轴方向)设置的第1狭缝315、以包围该第1狭缝315的方式沿铅垂方向(z轴方向)设置的第2狭缝320、和以包围该第2狭缝320的方式沿铅垂方向(z轴方向)设置的第3狭缝325。
第1狭缝315的一端(上部)与氟化氢气体源(未图示)、载体气体源(未图示)和水蒸气源(未图示)相连，第1狭缝315的另一端(下部)朝玻璃板380的方向取向。同样地，第2狭缝320的一端(上部)与稀释气体源(未图示)和水蒸气源(未图示)相连，第2狭缝320的另一端(下部)朝玻璃板380的方向取向。第3狭缝325的一端(上部)与排气系统(未图示)相连，第3狭缝325的另一端(下部)朝玻璃板380的方向取向。水蒸气可从第1狭缝315、第2狭缝320中的任一者流入。
使用这种结构的处理装置300实施玻璃板380的蚀刻处理的情况下，首先从氟化氢气体源(未图示)通过第1狭缝315沿箭头F305的方向供给氟化氢气体。此外，从稀释气体源(未图示)通过第2狭缝320沿箭头F310的方向供给氮等的稀释气体。这些气体利用排气系统沿箭头F315向水平方向(x轴方向)移动后，通过第3狭缝325被排出至处理装置300的外部。
另外，第1狭缝315中，除了氟化氢气体之外，还可同时供给氮气等载体气体和/或水蒸气。
然后，运行搬运单元350。藉此，玻璃板380向箭头F301方向移动。
玻璃板380在通过喷射器310的下侧时，与自第1狭缝315和第2狭缝320供给的处理气体(例如氟化氢气体、载体气体、稀释气体与水蒸气的混合气体)接触。藉此，玻璃板380的上表面被蚀刻处理。
另外，供给至玻璃板380的上表面的处理气体沿着箭头F315移动而被用于蚀刻处理后，沿箭头F320移动，通过与排气系统相连的第3狭缝325被排出至处理装置300的外部。
通过使用这种处理装置300，可以一边搬运玻璃板，一边利用处理气体实施蚀刻处理。该情况下，与使用反应容器实施蚀刻处理的方法相比，能够提高处理效率。此外，使用这种处理装置300的情况下，也能够对大型的玻璃板实施蚀刻处理。
此处，向玻璃板380供给处理气体的供给速度没有特别限定。处理气体的供给速度例如可以是0.1～1000SLM的范围。此处，SLM是每分钟的标准体积(升)(Standard Litterper Minute)(标准状态下的流量)的缩写。此外，玻璃板380通过喷射器310的时间(通过图9的距离S的时间)为1秒～120秒的范围，优选2～60秒的范围，更优选3～30秒的范围。将玻璃板380通过喷射器310的时间设为120秒以下，藉此能够实施快速的蚀刻处理。以下，也将玻璃板380通过喷射器310的时间记为“蚀刻处理时间”。
由此，通过使用处理装置300，能够对搬运状态下的玻璃板实施蚀刻处理。
另外，图9示出的处理装置300仅仅是一例，也可使用其他装置，实施利用包含氟化氢气体的处理气体的玻璃板的蚀刻处理。例如，图9的处理装置300中，玻璃板380相对于静止的喷射器310进行相对移动。但是，也可以与此相反，使喷射器相对于静止的玻璃板沿水平方向移动。或者，也可使玻璃板和喷射器双方相互朝相反方向移动。另外，也可在搬运单元350的玻璃板的下方设置喷射器，对玻璃板的下表面实施蚀刻处理。
此外，图9的处理装置300中，喷射器310总共具有三个狭缝315、320、325。但是，狭缝的数量没有特别限定。例如，狭缝的数量可以是两个。该情况下，可以是一个狭缝被用于供给处理气体(例如载体气体、氟化氢气体、稀释气体和水蒸气的混合气体)，另一个狭缝用于排气。另外，也可在狭缝320和排气用狭缝325之间设置1个以上的狭缝，用于供给蚀刻气体、载体气体、稀释气体和水蒸气。
进一步，图9的处理装置300中，喷射器310的第2狭缝320以包围第1狭缝315的方式配置，第3狭缝325以包围第1狭缝315和第2狭缝320的方式设置。但是，作为代替，可将第1狭缝、第2狭缝和第3狭缝沿水平方向(x轴方向)排列成一列。该情况下，处理气体在玻璃板的上表面沿一方向移动，然后通过第3狭缝排出。
进一步，也可在搬运单元350的上方将多个喷射器310沿水平方向(x轴方向)配置。
另外，也可通过其他装置等在与蚀刻处理过的面相同的面上层叠以氧化硅为主成分的层。通过层叠该层，能够提高蚀刻处理过的面的化学耐久性。
另外，通过在玻璃板上预先进行遮盖后再进行蚀刻处理，能够对玻璃板主面的期望的区域实施部分蚀刻，根据区域应用不同的蚀刻条件。
(化学强化工序S12)
在化学强化工序S12中对玻璃板进行化学强化处理。此处，“化学强化处理(法)”是指，在含碱金属的熔融盐中浸渍玻璃板，将玻璃板的最表面中存在的原子直径小的碱金属(离子)置换为熔融盐中存在的原子直径大的碱金属(离子)的技术的统称。“化学强化处理(法)”中，处理过的玻璃板的表面中配置有原子直径大于处理前的初始原子的直径的碱金属(离子)。因此，能够在玻璃板的表面形成压缩应力层，藉此提高玻璃板的强度。
例如，玻璃板含有钠(Na)的情况下，在化学强化处理时，该钠在熔融盐(例如硝酸盐)中例如被钾(K)置换。或者例如，玻璃板含有锂(Li)的情况下，在化学强化处理时，该锂在熔融盐(例如硝酸盐)中例如被钠(Na)和/或钾(K)置换。
对玻璃板实施化学强化处理的条件无特别限定。
作为熔融盐的种类，可例举例如硝酸钠、硝酸钾、硫酸钠、硫酸钾、氯化钠和氯化钾等碱金属硝酸盐、碱金属硫酸盐和碱金属氯化盐等。这些熔融盐可单独使用，也可将多种组合使用。
处理温度(熔融盐的温度)因所用的熔融盐的种类而异，例如可以是350～550℃的范围。
化学强化处理例如可通过在350～550℃的熔融硝酸钾盐中将玻璃板浸渍2分钟～20小时左右来实施。从成本和实用角度考虑，优选在350～500℃的温度下实施1～10小时。
藉此能够得到在表面形成有压缩应力层的玻璃板。
如上所述，化学强化工序S12不是必要工序。但是，通过对玻璃板实施化学强化处理，能够提高玻璃板的强度。无论是否进行化学强化处理，微小凹凸面的表面形状基本不发生变化。因此，在化学强化处理后也能够提高手指滑动性并将雾度抑制在低水平。
(涂布工序S13)
涂布工序S13包括对玻璃板的微小凹凸面涂布防污层材料的AFP(防指纹，Anti-Finger Print)处理。
AFP处理中使用的防污层的材料是含有与玻璃板等的主面的Si-OH基结合的官能团以及氟的氟类硅烷偶联剂。防污层的材料与存在于玻璃板的主面的Si-OH基进行缩合，藉此确保与基板的密合性。
作为防污层的材料，可利用公知的材料，例如能够使用上述的化学式(A)或(B)的化合物。
这些材料可以单独使用，也可以混合使用。此外，也可在预先用酸或碱等制备了部分水解缩合物后再使用。
AFP处理可通过干法实施，也可通过湿法实施。在干法中，通过蒸镀法等成膜工艺在玻璃板上对防污层的材料进行成膜。另一方面，在湿法中，将含有防污层的材料的溶液涂布至玻璃板后，将玻璃板干燥。
在AFP处理前也可根据需要对玻璃板进行清洗处理或基础处理(日文：下地処理)。另外，在AFP处理后，为提高防污层的密合力，也可实施加热处理和加湿处理等。
另外，涂布工序还可包括对玻璃板的微小凹凸面涂布中间层材料的中间层形成处理。中间层形成处理先于AFP处理进行。
中间层形成处理中，在玻璃板10的微小凹凸面11a上形成中间层22。
中间层22例如能够通过干法或湿法形成。在干法中，使用“干式”成膜工艺，在玻璃板10的微小凹凸面11a上依次对各层进行成膜，藉此形成单/多层结构的中间层22。
作为“干式”成膜工艺，可例举例如溅射法、电子束蒸镀或电阻加热等蒸镀法、等离子体CVD法以及CVD法等。
另外，也可在部分或全部的层的成膜过程中和/或之后实施热处理或等离子体处理。
实施例
在例1～7中，通过控制玻璃板的蚀刻处理的处理条件等对微小凹凸面的表面形状进行控制，评价了玻璃板的微小凹凸面的手指滑动性和雾度等。另外，例1～5是实施例，例6～7是比较例。
(玻璃板的种类)
准备了浮法成形的厚0.7mm的玻璃板。作为玻璃板的玻璃的种类，在例1、3～7中为玻璃A，在例2中为玻璃B。玻璃A是铝硅酸盐玻璃(旭硝子株式会社制，龙迹(注册商标))。玻璃B是钠钙玻璃(旭硝子株式会社制，AS)。
(玻璃板的蚀刻处理)
在玻璃板的蚀刻处理中，使用前述的图9所示的处理装置300。
在例1～5中，向第1狭缝315供给了氟化氢气体、氮气和水蒸气，在例6～7中，向第1狭缝315供给了氟化氢气体和氮气。另外，在例6～7中，未从第1狭缝315供给水蒸气。
在例1～7中均向第2狭缝320中供给了氮气。
氟化氢气体(HF气体)的浓度在例1中为0.6体积％、在例2中为0.7体积％、在例3中为1.0体积％、在例4中为1.0体积％、在例5中为0.7体积％、在例6中为0.4体积％、在例7中为0.5体积％。
水蒸气的浓度在例1～例5中以水蒸气的量(V1)与氟化氢气体的量(V2)的体积比(V1/V2)计，为1/10。另外，在例6～7中，未从第1狭缝315供给水蒸气。
在例1～7中，从第3狭缝325排出的排气量均为供给气体总量的2倍。
蚀刻处理时的玻璃板的温度在例1、4～7中为580℃，在例2～3中为560℃。另外，玻璃板的温度是对配置了热电偶的同种玻璃板在同样的热处理条件下搬运时测定的值。其中，玻璃板的温度也可使用放射温度计进行测定。
蚀刻处理时间在例1～7中均为10秒。
(表面粗糙度、最大高低差)
使用扫描探针显微镜(SPI3800N：SII·纳米技术公司(エスアイアイ·ナノテクノロジー社)制)测定了微小凹凸面的表面粗糙度Ra和最大高低差H。在微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域中以获取数据数量512×512、扫描频率数0.3Hz的方式实施了测定，取得了AFM像。表面粗糙度Ra采用了各个获取数据的平均值。
作为一例，在图10中示出例3的玻璃板的微小凹凸面的正方形区域的AFM像。另外，作为一例，在图11中示出例4的玻璃板的微小凹凸面的截面SEM像。
(凸起的数量、凸起的最大截面积)
使用Image Metorology公司(イメージメトロロジー社)制的SPIPTM(ScanningProbe Image Processor：扫描探针图像处理器)对表面粗糙度Ra和最大高低差H的测定中使用的AFM像进行图像分析，藉此测定了微小凹凸面的正方形区域中的凸起的数量和凸起的最大截面积。
(峰密度)
使用国际标准ISO16610-61中记载的S-滤波器将表面粗糙度Ra和最大高低差H的测定中使用的AFM像中的波长0.05μm以下的波长成分除去后，从该AFM像测定了微小凹凸面的峰密度(Sds)。
(手指滑动性)
微小凹凸面的手指滑动性通过感官试验进行了评价。手指滑动性良好的情况记为“A”，手指滑动性差的情况记为“B”。
(雾度值)
使用雾度仪(HZ-2：须贺试验仪株式会社(スガ試験機))按照日本工业标准JISK7361测定了玻璃板的雾度。从微小凹凸面侧对玻璃板的雾度进行了测定。在光源中使用了C光源。
(反射率)
层叠体的可见光反射率可在测定中使用分光光度计(U-4100型：日立株式会社(日立株式会社)制)，作为波长450nm～600nm下的平均值求出。另外，为了不受到与层叠体的防污层相反侧的面的影响，将相反侧的面涂黑，从层叠体的防污层侧测定了该可见光反射率。
(总结)
评价结果和蚀刻处理条件等共同示于表1。
[表1]
Figure GDA0001858328440000181
如表1所示，例1～5中在蚀刻处理气体中添加了水蒸气，因此正方形区域中的凸起的数量在1～300的范围内，峰密度在1～170/μm2的范围内。因此，在例1～5中，手指滑动性良好，能够将雾度抑制在低水平。另一方面，例6～7中未在蚀刻处理气体中添加水蒸气，因此正方形区域中的凸起的数量超过300，峰密度超过170/μm2。因此，例6～7的手指滑动性差。另外，这种倾向不因防污层或中间层、化学强化处理的有无等而变化。
以上说明了玻璃板、触摸板和触摸屏的实施方式等，但本发明不限定于上述实施方式等，在专利申请的权利要求书记载的本发明的技术思想的范围内可以进行各种变形和改良。
本专利申请要求基于2015年11月30日向日本专利局提出申请的日本专利申请特愿2015-234217号的优先权，并将日本专利申请特愿2015-234217号的全部内容引用至本专利申请中。
符号说明
10 玻璃板
11 第1主面
11a 微小凹凸面
12 第2主面
20 层叠体
21 防污层
22 中间层
30 触摸板
31 位置检测器
40 触摸屏
41 位置检测器
42 图像显示装置

Claims (10)

1.玻璃板，它是主面具备微小凹凸面的玻璃板，其特征在于，
对规定的正方形区域的AFM像中的高度进行直方图分析，在与所述正方形区域的最小二乘平面正交的方向上从所述正方形区域的最低位置对高度进行测定，将所述正方形区域的最低位置到所述正方形区域的最高位置之间均等划分成500个区间，求出每个区间内的高度的出现频率；
从所述微小凹凸面的基准平面起，高度为所述微小凹凸面的最大高低差的20％的位置处的截面中，将连续的部分记为1个凸起；
以所述微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域的形状数据的高度的直方图中所述微小凹凸面的高度的出现频率最高的区间的高度方向中心面作为基准平面时，
在所述正方形区域中，高度相对于所述基准平面在最大高低差的20％以上的凸起的数量在1以上300以下。
2.玻璃板，它是主面具备微小凹凸面的玻璃板，其特征在于，
使用国际标准ISO16610-61中记载的S-滤波器从所述微小凹凸面中的边长为2μm的正方形区域的形状数据中除去0.05μm以下的波长成分后的峰密度在1/μm2以上170/μm2以下。
3.如权利要求1或2所述的玻璃板，其特征在于，所述微小凹凸面的表面粗糙度Ra为0.3～100nm。
4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃板，其特征在于，玻璃板的从所述微小凹凸面侧测定的雾度在0％以上2％以下。
5.层叠体，其特征在于，具备权利要求1～4中任一项所述的玻璃板、和至少一部分形成于所述微小凹凸面的防污层。
6.如权利要求5所述的层叠体，其特征在于，在所述玻璃板和所述防污层之间还具备中间层。
7.如权利要求6所述的层叠体，其特征在于，所述中间层包含氧化物层、氮化物层、氮氧化物层和金属层中的至少1种。
8.如权利要求5～7中任一项所述的层叠体，其特征在于，层叠体的从所述防污层侧测定的可见光反射率为0～3％。
9.触摸板，其特征在于，具备权利要求5～8中任一项所述的层叠体、和用于检测所述层叠体的手指触碰位置的位置检测器。
10.触摸屏，其特征在于，具备权利要求5～8中任一项所述的层叠体、
用于检测所述层叠体的手指触碰位置的位置检测器、和
用于显示对应于所述位置检测器的检测结果的图像的图像显示装置。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018197183A (ja) * 2017-05-23 2018-12-13 Ａｇｃ株式会社 ガラス物品、および表示装置
JP6908487B2 (ja) * 2017-09-28 2021-07-28 積水化学工業株式会社 表面処理方法及び装置
WO2019225450A1 (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 Ａｇｃ株式会社 防眩性透明基体およびそれを備える表示装置
JP7156377B2 (ja) 2018-07-04 2022-10-19 Ａｇｃ株式会社 ガラス板、反射防止層付きガラス板、およびガラス板の製造方法
CN110372222B (zh) * 2019-06-28 2022-07-22 华为技术有限公司 玻璃面板及其制备方法、包含该玻璃面板的显示屏和终端

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100246016A1 (en) * 2009-03-31 2010-09-30 Carlson Krista L Glass having anti-glare surface and method of making
CN101903301A (zh) * 2007-12-18 2010-12-01 Hoya株式会社 便携式终端用防护玻璃及其制造方法、以及便携式终端装置
CN101939266A (zh) * 2008-02-05 2011-01-05 康宁股份有限公司 用作电子装置中的盖板的耐破损玻璃制品
CN102101755A (zh) * 2011-01-07 2011-06-22 福州华映视讯有限公司 玻璃基板的薄化方法
CN102858705A (zh) * 2010-04-30 2013-01-02 康宁股份有限公司 防眩光表面及其制备方法
EP2563731A1 (en) * 2010-04-30 2013-03-06 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
CN103534219A (zh) * 2010-11-29 2014-01-22 康宁股份有限公司 防眩光表面处理方法及其制品
WO2015046107A1 (ja) * 2013-09-25 2015-04-02 旭硝子株式会社 ガラス板
WO2015072297A1 (ja) * 2013-11-14 2015-05-21 旭硝子株式会社 ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5489051B2 (ja) * 2008-08-18 2014-05-14 日本電気硝子株式会社 タッチパネル用ガラスの製造方法
JP5819952B2 (ja) 2011-05-26 2015-11-24 株式会社ダイセル ディスプレイ用透明積層フィルム及びその使用方法並びにタッチパネル
JPWO2014203820A1 (ja) * 2013-06-17 2017-02-23 株式会社カネカ 太陽電池モジュール及び太陽電池モジュールの製造方法
TR201905051T4 (tr) 2013-12-17 2019-05-21 Nippon Sheet Glass Co Ltd Cam levha üretim yöntemi.
CN108594342B (zh) * 2013-12-19 2020-09-25 康宁股份有限公司 用于显示器应用的织构化表面
CN107001126B (zh) 2014-11-20 2020-04-10 Ａｇｃ株式会社 透明板、触摸板、以及触摸屏

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101903301A (zh) * 2007-12-18 2010-12-01 Hoya株式会社 便携式终端用防护玻璃及其制造方法、以及便携式终端装置
CN101939266A (zh) * 2008-02-05 2011-01-05 康宁股份有限公司 用作电子装置中的盖板的耐破损玻璃制品
US20100246016A1 (en) * 2009-03-31 2010-09-30 Carlson Krista L Glass having anti-glare surface and method of making
CN102858705A (zh) * 2010-04-30 2013-01-02 康宁股份有限公司 防眩光表面及其制备方法
EP2563731A1 (en) * 2010-04-30 2013-03-06 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
CN103534219A (zh) * 2010-11-29 2014-01-22 康宁股份有限公司 防眩光表面处理方法及其制品
CN102101755A (zh) * 2011-01-07 2011-06-22 福州华映视讯有限公司 玻璃基板的薄化方法
WO2015046107A1 (ja) * 2013-09-25 2015-04-02 旭硝子株式会社 ガラス板
WO2015072297A1 (ja) * 2013-11-14 2015-05-21 旭硝子株式会社 ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法

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