TW201302650A - 耐指紋污染性基材 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種耐指紋污染性基材，其特徵在於：於具有透光性、光反射性、或光澤性之基材之平滑面之手指所接觸的部位，具有利用毛細管力收集附著於該平滑面之指紋成分之凹型的孔，該孔於前視時之投影面積之平方根之尺寸為10~300μm，該孔之平均深度為0.2~50μm，且存在於觀察區域內之該孔之合計面積相對於該平滑面之觀察區域之面積的面積比為10~85%。該基材具有優異之耐指紋污染性。

Description

耐指紋污染性基材

本發明係關於一種具有優異之耐指紋污染性之基材。

玻璃、塑膠、金屬等具有透光性、光反射性、或光澤性之基材正廣泛用作電子機器或汽車零件、建築物等之材料。該等基材有如下性質：根據使用部分不同而被人手接觸之機會較多，容易附著指紋或皮脂等源自活體之污漬(以下僅記載為「指紋成分」)，且無法容易地擦除該污漬。因此，存在附著之指紋成分及/或未完全擦除之指紋成分容易變得非常顯眼，明顯有損基材之美觀(以下亦有時僅記載為「指紋污染性」)的問題。

為解決上述問題，進行有如下嘗試：藉由對基材進行表面處理以降低基材表面之表面能量，而使指紋成分不易附著於基材上，又，不易浸染(不易潤濕)基材，藉此提高對指紋成分之耐性。例如，於專利文獻1中記載有一種防污性基材，其特徵在於：於基材之表面形成有下述通式(I)所示之數平均分子量為5×10²~1×10⁵的含矽之有機含氟聚合物之層。

於專利文獻2中，揭示有一種藉由基材表面之加工而對基材賦予撥水撥油性並降低表面能量之方法，具體而言記載有一種玻璃基材，其至少一表面顯示出撥水撥油性，且有具有用以避免水或油之至少一種液滴之接觸角減小之凹型結構的幾何學特徵，並且具有凹型結構尺寸不同之複數組。

然而，難以使指紋成分完全不附著於基材上，故而近年來，作為針對上述問題之其他方法，以使指紋成分之附著不易顯眼或容易浸染作為課題。例如，於專利文獻3中提供一種不鏽鋼板，其藉由於不鏽鋼板之表面無規則地排列複數之凹凸結構並於表面形成透明之有機樹脂覆膜，而使指紋成分不易顯眼。又，於專利文獻4中，揭示有一種藉由於基材上形成特定之微細結構，使指紋成分自該微細結構之凸部向凹部擴散而變得不顯眼的方法；於專利文獻5中，揭示有一種藉由使基材包含具有凹凸部之層，將指紋成分向凹部引導而使之變得不顯眼的方法。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開平09-157582號公報

專利文獻2：美國專利公開第2010/0285272號

專利文獻3：日本專利特開2004-136344號公報

專利文獻4：美國專利公開第2010/0033818號

專利文獻5：日本專利特開2007-058162號公報

於如專利文獻4或專利文獻5般賦予使指紋成分容易浸染之效果之情形時，大部分情況下暫時附著之指紋成分之去除性較「指紋成分不易附著」之基材差或未作考慮。於進入上述微細結構中之指紋成分即便以布等進行擦除亦容易殘留之情形時，當指紋成分再次附著於該微細結構表面時，有未能完全收容於微細結構內之指紋成分大量存在於基材表面，而明顯有損使指紋成分之附著不易顯眼之效果之虞。因此，重要的是利用布等之擦除可容易地將暫時附著之指紋成分自亦將微細結構包括在內之基材表面去除，故而本發明之課題在於提供一種基材，其係藉由與先前技術不同之微細結構，使附著之指紋成分不易顯眼且利用布等之乾擦容易將附著之指紋成分擦除者，並且即便於指紋成分再次附著於擦除部分之情形時，該指紋成分亦不易顯眼。

本發明提供一種於表面具有收集指紋成分之凹型之孔的基材，藉此可解決上述課題。

於本發明中，所謂「耐指紋污染性」，係指附著之指紋成分不易顯眼，且附著之指紋成分容易使用布等擦除，進而，即便於指紋成分再次附著於經擦除之部分之情形時，該指紋成分亦不易顯眼。於下述實施例中記載「耐指紋污染性」之評價方法。

根據本發明，提供一種耐指紋污染性基材(第1基材)，其特徵在於：於具有透光性、光反射性、或光澤性之基材之平滑面之手指所接觸的部位，具有利用毛細管力收集附 著於該平滑面之指紋成分之凹型的孔，該孔於前視時之投影面積之平方根之尺寸為10~300 μm，該孔之平均深度為0.2~50 μm，且存在於觀察區域內之該孔之合計面積相對於該平滑面之觀察區域之面積(100%)的面積比為10~85%。

第1基材亦可為以上述孔於前視時之形狀具有1~6個角作為特徵之耐指紋污染性基材(第2基材)。

第1或第2基材亦可為以耐指紋污染性部分中之上述孔之面積比為13~60%作為特徵之耐指紋污染性基材(第3基材)。此處所謂「耐指紋污染性部分」，係指基材之平滑面中欲賦予耐指紋污染性之部分。

第1至第3基材之任一者亦可為如下之耐指紋污染性基材(第4基材)，其特徵在於：上述孔係藉由在實施對應於該孔之形狀之遮蔽處理後，實施表面研磨或蝕刻而形成於上述基材之平滑面者。

第1至第4基材之任一者亦可為以上述基材之平滑面為浮法玻璃之頂面或底面作為特徵之耐指紋污染性基材(第5基材)。

第1至第5基材之任一者亦可為以於上述基材表面包含撥水撥油性膜作為特徵之耐指紋污染性基材(第6基材)。

根據本發明，可提供一種基材，其係使附著之指紋成分不易顯眼且使用布等進行乾擦而容易擦除者，並且即便於指紋成分再次附著於擦除部分之情形時，該指紋成分亦不 易顯眼。

本發明提供一種於表面具有用以收集附著之指紋成分之孔，且容易去除所收集之指紋成分的基材。作為本發明之實施形態之一，有如圖2所示般對於基材1之表面2(以下，將不為基材之孔之部分的表面記載為「基準面」)直接形成有凹型之孔3者。本發明之耐指紋污染性基材係於指紋直接接觸於上述基準面時容易地將指紋成分收容於上述孔中，表現出優異之耐指紋污染性。又，於上述基材表面包含撥水撥油性膜之情形時，當指紋接觸於基準面上之撥水撥油性膜時亦同樣地表現出優異之耐指紋污染性。

本發明之基材只要為具有透光性、光反射性、或光澤性者即可，材質並無特別限制，較佳為玻璃或塑膠。具體而言，例如可列舉包含鈉鈣矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、石英玻璃、無鹼玻璃、其他各種玻璃等之玻璃。除玻璃以外，例如亦可列舉包含聚酯、聚醯胺、聚丙烯酸酯、聚烯烴、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚胺基甲酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯丁醛、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等之塑膠。作為本發明之基材，較佳為於原本具有平滑之表面的基材之該表面形成有上述孔者。於該情形時，未形成有孔之部分、即原本之平滑面相當於上述基準面。就剛性、耐磨耗性及耐損傷性之觀點而言，較佳為玻璃。

又，作為另一實施形態，亦可為如圖3所示般於基準面2形成有凹型之孔3之膜狀之基材5與另一基材4的複合基材 (此處所謂膜係包含「膜」、「片」、「板」、「覆膜」或「塗層」等概念者)。作為膜，有溶膠凝膠膜、玻璃之薄板等，或高分子膜，作為具體之材質，可列舉二氧化矽、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、含銦之氧化錫、含銻之氧化錫等無機化合物，鋁、錫、鋅、銀、金、銅、鉑、鎳、鈷、鉻等金屬，聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚丙烯酸酯、聚烯烴、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚胺基甲酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯丁醛、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚矽氧、纖維素系樹脂、氟系樹脂等有機化合物，或有機-無機混合材料以及該等之組合。又，包含膜之基材之材質並無特別限制，例如可列舉玻璃或塑膠等。

上述基材之形狀係根據用途而適當決定。較佳為片狀及膜狀。

於上述基材中，具有用以收集指紋成分之凹型之孔之面並無特別限定，可為單面，亦可為雙面，又，可為上述基材表面之整體，亦可為一部分。只要於上述基材之欲賦予耐指紋污染性之部分(以下僅記載為「耐指紋污染性部分」)具有該孔即可，且根據用途而適當決定即可。換言之，若於手指所接觸之部位設置該孔，則耐指紋污染性變得有效。又，基材之基準面可為平面，亦可為曲面。

於本發明中，藉由於基材之平滑面具有凹型之孔，可獲得耐指紋污染性。藉由具有凹型之孔，使毛細管力作用於該孔而將指紋成分捕獲於該孔中。圖4中表示於孔3之一部分或整體中捕獲之指紋成分6，如此捕獲之該指紋成分係 作為聚集之液滴存在於該孔中，故而於目視時變得不易顯眼。

又，就指紋成分之擦除容易度之觀點而言，由於液滴聚集於該孔中，故而即便於使用通用之布進行乾擦之情形時，藉由作用於該布之纖維之空隙的毛細管力將該指紋成分上吸至布中之效果亦會提高，而可容易地擦除。孔之剖面形狀如圖2、3、4及7所示，較佳為底部平坦。於底部為例如V型或拱型時，指紋成分積存於孔底之狹小區域中，作用於該區域之毛細管力變得大於作用於纖維之空隙之毛細管力，而使指紋成分之擦除變困難。又，由於布之纖維難以到達該孔之底部，故而指紋成分之擦除變困難。再者，於上述擦除中可使用毛巾等通用之布，若為如擦拭眼鏡用之布之類的繊維更細之布，則更容易擦除，故而較佳。

於不存在該孔之情形時，由於附著於基材上之指紋成分之液滴尺寸較小，故而不會產生向布方向上吸之力而僅使指紋成分之液滴移動。此外，於其擦除過程中，指紋成分之液滴分裂，液滴尺寸進而變小，因此液滴尺寸成為米氏散射(Mie scattering)之區域，由於其散射特性而使指紋擦除痕跡看上去浮白，有損基材之美觀。

上述孔之形狀只要為可將指紋成分收集成聚集之液滴之形狀則並無特別限定，該孔於前視時之形狀較佳為具有1~6個角者。例如如圖5所示，可列舉：具有一個角之將大致淚滴型平面投影而成之形狀者、具有兩個角之將大致紡 錘型平面投影而成之形狀者、大致三角形、大致四邊形、大致五邊形、大致六邊形等，且構成各角度或形狀之曲線之形狀係根據用途而適當決定。於前視時之形狀具有1~6個角之凹型之孔中，因角之角度適當，故而即便為較少之指紋成分，亦可將指紋成分收集至角中，並且與該孔之前視時之形狀為圓相比容易用布進行擦除而較佳(參照圖6、7)。於具有7個以上角之情形時，每個角之角度較大，與該孔之前視時之形狀為圓之情形相比於效果上無差異。更佳為具有1~4個角者。進而較佳為該孔於前視時之形狀為大致三角形或大致四邊形。於無損收集指紋成分之性狀之範圍內，角之形狀亦可視孔之加工精度而附以r(圓弧狀)。

該孔之尺寸(此處所謂尺寸係指「孔之投影面積之平方根」)為10~300 μm。若未達10 μm，則該孔之尺寸過小，故而產生利用通常之指紋擦除之布之繊維變得難以與該孔之指紋成分接觸，且若非使用有極細繊維之特殊者則無法擦除等問題。又，若大於300 μm，則作用於該孔之毛細管力實質上消失。該孔之形狀及尺寸無需統一，並可以任意之組合存在於基材表面。

上述孔之平均深度(此處所謂「深度」係指基準面之高度於孔之底部之高度的差，於圖2、3中為以d所表示之長度)可根據該基材之用途而適當變更，通常為0.2~50 μm。若小於0.2 μm則接近平坦之狀態，實質上無法獲得耐指紋污染性。又，若大於50 μm，則多數情況下利用布以較小之力進行擦除時，布之繊維未達到圖案之底面，擦除性變 差。更佳為0.5~20 μm。

於上述基材表面中，耐指紋污染性部分中之上述孔之面積比為10~85%。此處所謂面積比係指任係指定矩形區域(觀察區域)之情形時孔之面積之總和相對於矩形區域之面積(100%)的比例。若未達10%，則實質上無法獲得耐指紋污染性。若大於85%，則於布擦拭時會因所加工之該孔而卡住，故而滑動變差。更佳為13~60%。又，孔之分佈密度可存在偏差，可對指紋附著頻度較高之部分實施更為密集之加工。

於上述基材表面中，耐指紋污染性部分中之上述孔及與該孔相鄰之孔之間隔只要根據基材之用途與該孔之形狀而進行最佳化即可，通常較佳為1~300 μm左右，更佳為10~100 μm。於窄於1 μm之情形時，有於布擦拭時，該布之繊維於該孔之壁面被卡住，故而滑動變差而不佳的情況，於寬於300 μm之情形，有於布擦拭後，指紋成分以微細之液滴之形式殘留於基材表面之基準面上而容易目視觀察到附著之指紋成分的情況。

上述孔於基材表面之排列圖案較佳為規則地實施。若為規則之圖案，則例如於用作顯示器之覆蓋玻璃的情形時，視認性變高。另一方面，若於像素間距與圖案之間產生干涉，則產生疊紋，故而不佳，於該情形時，必需調整圖案之頻度即圖案間距離或以接近不規則排列之方式調整圖案等。

對上述基材表面加工上述孔之形狀之方法並無特別限 制，只要考慮獲得之基材之特性(光學特性或加工面之粗燥度、強度等)而選擇各種加工法中所期望之方法即可。例如可列舉如下方法：藉由利用光阻劑等實施對應於上述孔之形狀之遮蔽處理後，實施噴砂法等表面研磨或蝕刻，從而於上述基材之平滑面形成上述孔。除此以外，例如可列舉：模壓成形法、網版印刷法、噴墨印刷法、壓印法等。

又，經上述之加工之基材亦可使用表面處理劑而賦予撥水撥油性。表面處理劑例如可列舉：市售品之作為全氟聚伸烷基醚改性矽烷的Optool DSX(大金工業公司製造)、KY-130(信越化學工業公司製造)、Dow Corning 2634(Dow Corning Toray公司製造)等。又，表面處理只要為通常已知之方法，則可使用任何方法，可列舉浸漬塗佈法、手塗法、噴霧法、旋轉塗佈法、流塗法、蒸鍍法、刷塗法、輥塗法等，進而可列舉進行乾燥(加熱乾燥)之方法。

實施例

雖於下述說明詳情，但本發明並不僅限定於該等實施例。

[實施例1] [基材之準備]

於100 mm見方、厚度為2 mm之浮法玻璃基板之頂面上塗佈光阻劑，經由實施表1所記載之加工圖案之光罩而曝光後，進行顯影及清洗，繼而進行噴砂處理直至加工深度成為5 μm。其後自基板去除光阻劑並進行清洗，藉此獲得 如表1所示般前視時之孔之形狀為圓形、尺寸為44 μm(該孔之形狀為直徑為50 μm之圓，若算出該孔之投影面積之平方根則為44 μm)、平均深度為5 μm、孔相對於觀察區域(100%)之面積比為20%、且孔及與該孔相鄰之孔之間隔為50 μm的基材。所謂該觀察區域，係指例如圖8之顯微鏡照片整體之面積。

[耐指紋污染性之評價方法]

進行以下之(1)~(3)作為獲得之基材之耐指紋污染性之評價。

(1)模擬指紋之附著試驗

使用JIS R6252所規定之基材Cw、研磨材A、粒度P240之研磨紙使直徑為29 mm之聚矽氧橡膠塞之端面粗糙而用作人工手指，並使用以膜厚0.5 mm旋轉塗佈於丙烯酸系基板上之油酸作為人工手指紋液，藉此進行定量之模擬指紋附著試驗。藉由將人工手指以250 g/cm²對丙烯酸系基板垂直按壓而將人工指紋液轉印至人工手指上，並藉由對評價之基材同樣地以250 g/cm²進行垂直按壓於而使模擬指紋附著於基材上。於下述之使模擬指紋再次附著於擦除試驗後之基材上之情形時，亦以與上述相同之方式進行。

(2)模擬指紋之擦除試驗

重疊兩片120錢之通常用毛巾並固定於直徑為33 mm之金屬圓柱底面上，以40 g/cm²之負荷使模擬指紋附著部往復1次，藉此進行乾擦。

(3)耐指紋污染性之評價

對模擬指紋附著後之基材、模擬指紋擦除後之基材、以及模擬指紋再次附著後之基材利用下述三種方法評價耐指紋污染性。

1.目視評價(附著後：￮不顯眼、△難以判定、×與未加工之基材相同；擦除後：￮未殘留指紋痕跡、△殘留指紋痕跡、×指紋痕跡擴散；再次附著後：￮不顯眼、△難以判定、×與未加工之基材相同)

2.霧度之變化量(測定模擬指紋附著前與模擬指紋附著後之霧度值，求出各值之差(以下記載為「初次附著霧度變化」)。又，測定模擬指紋擦除後之基材與模擬指紋再次附著後之霧度值，求出各值之差(以下記載為「再次附著霧度變化」))

3.光學顯微鏡觀察(觀察模擬指紋附著後、模擬指紋擦除後、以及模擬指紋再次附著後之基材表面)

將實施例1之基材之評價結果示於表2、3。具有面積比為20%、尺寸為44 μm、深度為5 μm之孔之浮法玻璃之附著模擬指紋後之指紋痕跡於目視時並不顯眼，又，無法利用目視確認擦除後之指紋痕跡。進而，使模擬指紋再次附著於擦除部分後之指紋痕跡於目視時並不顯眼。又，初次附著霧度變化為4%，再次附著霧度變化為5%。

進而，利用光學顯微鏡觀察附著有模擬指紋之該基材表面，結果可確認：大部分之指紋成分捕獲於孔中，存在於 基準面上之指紋成分較少。又，利用光學顯微鏡觀察模擬指紋擦除後之基材表面，結果可確認：指紋成分自上述孔中去除，於該孔中為液滴細微之指紋成分少量殘留之程度，且指紋成分大致未殘留於基準面上。

進而，利用光學顯微鏡觀察使模擬指紋再次附著於擦除部分上後之基材表面，結果可確認：大部分之指紋成分捕獲於孔中，存在於基準面上之指紋成分較少。如此，可知可藉由對浮法玻璃加工如上所述之孔而獲得優異之耐指紋污染性。

進而，與下述之比較例(比較例1)中不加工如上所述之孔而僅使浮法玻璃具有撥水撥油性的基材相比，耐指紋污染性較高，可知具有上述孔對耐指紋污染性提高非常有效。

[實施例2~23]

利用與實施例1相同之方法獲得具有表1所記載之孔之基材後，進而將混合有表1所示之全氟聚伸烷基醚改性矽烷(Dow Corning 2634：Dow Corning Toray公司製造，或KY-130：信越化學工業公司製造)1重量份與氟系惰性液體(FC-3283：住友3M公司製造)500重量份的試劑液浸漬塗佈於該基材上，並於150℃下加熱該基材10分鐘，藉此獲得賦予撥水撥油性之基材。

將實施例2~23之基材之各評價結果示於表2、3。於實施例之全部之基材中可確認耐指紋污染性。若以實施例2之 光學顯微鏡觀察為例，則如圖8所示，附著於基材上之模擬指紋之大部分捕獲於基材表面所具有之孔中，存在於基準面上之指紋成分較少。又，如圖9所示，可確認1個往復之擦除試驗後指紋成分自上述孔中去除，於該孔中為液滴細微之指紋成分少量殘留之程度，且指紋成分大致未殘留於基準面上。進而，如圖10所示，再次附著於上述擦除部分上之模擬指紋之大部分捕獲於基材表面所具有之孔中，存在於基準面上之指紋成分較少。

又，若以實施例11之光學顯微鏡觀察為例，則如圖11所示，附著於基材上之模擬指紋之大部分捕獲於基材表面所具有之孔中而成為聚集之液滴，存在於基準面上之指紋成分較少。又，如圖12所示，可確認：1個往復之擦除試驗後指紋成分自上述孔中大致去除，於基準面上亦大致未殘留指紋成分，且指紋成分之殘留量極少。進而，如圖13所示，再次附著於上述擦除部分上之模擬指紋之大部分捕獲於基材表面所具有之孔中而成為聚集之液滴，存在於基準面上之指紋成分較少。

再者，於實施例13及實施例16中，擦除時之作業性有容易被卡住且略微難以滑動之傾向。於除此以外之全部之實施例中，擦除時之作業性容易滑動且良好。

[比較例]

藉由對通用之一種浮法玻璃、兩種與實施例同樣地於浮法玻璃上加工微細結構而成之玻璃基板與實施例同樣地賦予撥水撥油性而獲得基材。將製作條件之詳情作為比較例 1~7示於表1中。

將各評價結果示於表2、3。可確認：於如比較例1般僅進行使浮法玻璃具有撥水撥油性之類之表面處理之基材中，附著模擬指紋時之指紋痕跡與未進行表面處理之未加工之浮法玻璃之情形之指紋痕跡無差異，又，擦除後之指紋痕跡於基材表面擴散而未被確實地擦除。

又，若孔之尺寸過小，則無法充分獲得耐指紋污染性(比較例2)，且即便孔之尺寸過大，亦無法獲得充分之耐指紋污染性(比較例3)。又，於孔之深度過小之情形時無法充分獲得耐指紋污染性(比較例4)，且於孔之深度過大之情形時亦無法充分獲得耐指紋污染性(比較例5)。又，於孔之面積比過低之情形時無法充分獲得耐指紋污染性(比較例6)，且於孔之面積比過高之情形時亦無法充分獲得耐指紋污染性(比較例7)。

如圖14、15所示，附著於僅賦予撥水撥油性之浮法玻璃上之模擬指紋於基材上成為液滴，且1個往復之擦除試驗後可觀察到液滴尺寸變小而大量殘留之情況。

產業上之可利用性

本發明之耐指紋污染性基材於手指等容易接觸且指紋成分容易附著之環境下顯示優異之耐指紋污染性。具體而言，可藉由用於建築用之窗玻璃或展示櫃(店內商品用、假人用等)、間隔用基材、樹脂材料、裝飾用壁板、金屬板、傢具、電氣、電子機器(電視、行動電話、PC(Personal Computer，個人電腦)、ATM(Automated Teller Machine，自動櫃員機)、照相底板等)用顯示面板或觸控面板、保護膜、電氣、電子機器殼體之金屬部或樹脂塗層、鏡、飲料用瓶、飲料用玻璃等而賦予優異之耐指紋污染性。

1‧‧‧具有孔之基材

2‧‧‧基材之基準面

3‧‧‧凹型之孔

4‧‧‧包含具有孔之層之基材

5‧‧‧具有孔之層

6‧‧‧於孔之一部分或整體中捕獲之指紋成分

圖1係前視觀察於基材表面具有複數個四邊形之孔之基材的模式圖。

圖2係表示圖1中之a-a'剖面之一部分之一實施形態的剖面圖。

圖3係表示圖1中之a-a'剖面之一部分之另一實施形態的剖面圖。

圖4係於孔之一部分或整體中捕獲有指紋成分之狀態之模式圖。

圖5係自正面觀察本發明之基材表面時之孔之若干形狀的投影圖。

圖6係自正面觀察本發明之基材表面時之孔與於孔之一部分中捕獲之指紋成分之投影圖。

圖7係表示圖6中之b-b'剖面之剖面圖。

圖8係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例2中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上之情況的光學顯微鏡照片。

圖9係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例2中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上並進行1個往復之擦除試驗後之情況的光學顯微鏡照片。

圖10係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例2中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上並進行1個往復之擦除試驗後，使模擬指紋再次附著於該擦除部分之情況的光學顯微鏡照片。

圖11係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例11中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上之情況的光學顯微鏡照片。

圖12係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例11中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上並進行1個往復之擦除試驗後之情況的光學顯微鏡照片。

圖13係表示使模擬指紋附著於本發明之實施例11中所獲得之於表面具有凹型之孔之基材上並進行1個往復之擦除試驗後，使模擬指紋再次附著於該擦除部分之情況的光學顯微鏡照片。

圖14係表示使模擬指紋附著於本發明之比較例1中所獲得之基材(實施有撥水撥油處理之浮法玻璃)上之情況的光學顯微鏡照片。

圖15係表示使模擬指紋附著於本發明之比較例1中所獲得之基材(實施有撥水撥油處理之浮法玻璃)上並進行1個往復之擦除試驗後之情況的光學顯微鏡照片。

1‧‧‧具有孔之基材

2‧‧‧基材之基準面

3‧‧‧凹型之孔

Claims (11)

1. 一種耐指紋污染性基材，其特徵在於：於具有透光性、光反射性、或光澤性之基材之平滑面之手指所接觸的部位，具有利用毛細管力收集附著於該平滑面之指紋成分之凹型的孔，該孔於前視時之投影面積之平方根之尺寸為10~300 μm，該孔之平均深度為0.2~50 μm，且存在於觀察區域內之該孔之合計面積相對於該平滑面之觀察區域之面積的面積比為10~85%。
2. 如請求項1之耐指紋污染性基材，其中上述孔於前視時之形狀具有1~6個角。
3. 如請求項1之耐指紋污染性基材，其中耐指紋污染性部分中之上述孔之面積比為13~60%。
4. 如請求項2之耐指紋污染性基材，其中耐指紋污染性部分中之上述孔之面積比為13~60%。
5. 如請求項1至4中任一項之耐指紋污染性基材，其中上述孔係藉由在實施對應於該孔之形狀之遮蔽處理後，實施表面研磨或蝕刻而形成於上述基材之平滑面者。
6. 如請求項1至4中任一項之耐指紋污染性基材，其中上述基材之平滑面為浮法玻璃之頂面或底面。
7. 如請求項5之耐指紋污染性基材，其中上述基材之平滑面為浮法玻璃之頂面或底面。
8. 如請求項1至4中任一項之耐指紋污染性基材，其中於上述基材表面包含撥水撥油性膜。
9. 如請求項5之耐指紋污染性基材，其中於上述基材表面 包含撥水撥油性膜。
10. 如請求項6之耐指紋污染性基材，其中於上述基材表面包含撥水撥油性膜。
11. 如請求項7之耐指紋污染性基材，其中於上述基材表面包含撥水撥油性膜。