JP2022187987A - 光学積層体、偏光板、画像表示装置、および、光学積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】防眩性を維持しつつ、耐擦傷性を向上する。【解決手段】光学積層体１０は、透明基材１１と、透明基材１１上に設けられ、樹脂組成物からなる少なくとも１層以上のハードコート層１２と、ハードコート層１２上に設けられ、金属酸化物からなる少なくとも１層以上の金属酸化物層（密着層１３、反射防止層１４）と、を備え、ハードコート層１２の金属酸化物層側の表面に凹凸構造が形成されており、凹凸構造の表面の高さ分布は、以下の式（１）を満たす。Ａ／１．９ < Ｐ ・・・（１）Ａ：凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、凹凸構造の表面の最高点の高さＰ：凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、凹凸構造の表面の高さ分布の最頻値【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体、偏光板、画像表示装置、および、光学積層体の製造方法に関する。

反射防止フィルムは、反射防止性を有する透明フィルムである。従来、反射防止フィルムとして、透明基板上に高屈折率層と低屈折率層とを順次積層した多層膜を備えた光学積層体が用いられている。反射防止フィルムは、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、または、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）等のディスプレイ装置の表示画面に設けられる。これにより、光学干渉の原理を用いて表示画面の反射率を低減して、表示画面における外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを抑制できる。

さらに、反射防止フィルムとして、反射防止性（アンチリフレクション：ＡＲ）に加え、防眩性（アンチグレア：ＡＧ）も有するＡＧＡＲ型のフィルムも開発されている。反射防止フィルムに防眩性を付与するために、フィルム表面に、マイクロオーダーの微粒子（フィラー）を用いた粗面構造を形成し、当該粗面構造によって入射光を散乱させる技術が提案されている。

例えば、特許文献１には、反射防止フィルムに防眩性を付与するために、高屈折率層である防眩性ハードコート層に、１～１０μｍのマット粒子を分散して含有させることにより、反射防止フィルムの表面に、マット粒子の粒子形状に応じたドーム状の突起を有する突起状構造を形成する技術が開示されている。また、特許文献２には、防眩層に直径２～５μｍの透光性微粒子または無機フィラーを含ませて、フィルム表面にドーム状の突起を有する突起状構造を形成する技術が開示されている。

特許第５３３１９１９号公報 特許第４４３１５４０号公報

しかしながら、反射防止フィルムに防眩性を付与するために、上記特許文献１、２に記載のように反射防止フィルムの表面に突起状構造を形成してしまうと、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下するという問題があった。例えば、スマートホン、各種操作機器のタッチパネルなどの表示画面上に反射防止フィルムを設ける場合、操作者の指やポインティングデバイスなどにより表面画面に加えられる荷重が、突起状構造の突起部分に集中してしまう。このため、突起状構造が削れて傷つきやすくなり、フィルム表面の耐擦傷性が低下するという問題があった。したがって、従来では、反射防止フィルムの表面において、突起状構造を極力排除して、窪み状の粗面構造を形成することにより、防眩性を維持しつつ、フィルム表面の耐擦傷性も向上させることが可能な光学積層体が希求されていた。

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、防眩性を維持しつつ、耐擦傷性を向上することが可能な、光学積層体、および、これを備えた偏光板、画像表示装置、光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、
透明基材と、
前記透明基材上に設けられ、樹脂組成物からなる少なくとも１層以上のハードコート層と、
前記ハードコート層上に設けられ、金属酸化物からなる少なくとも１層以上の金属酸化物層と、
を備え、
前記ハードコート層の前記金属酸化物層側の表面に凹凸構造が形成されており、
前記凹凸構造の表面の高さ分布は、以下の式（１）を満たす、光学積層体が提供される。
Ａ／１．９ < Ｐ ・・・（１）
Ａ：前記凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、前記凹凸構造の表面の最高点の高さ
Ｐ：前記凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、前記凹凸構造の表面の高さ分布の最頻値

前記ハードコート層の前記凹凸構造を構成する複数の凸部の頂部は、相互に実質的に同一の高さを有してもよい。

前記光学積層体の最外表面は、前記ハードコート層の前記凹凸構造の形状に追従した凹凸面となっており、
前記凹凸面を構成する複数の凸部の頂部は、相互に実質的に同一の高さを有してもよい。

前記ハードコート層の前記凹凸構造を構成する複数の凸部の頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有してもよい。

前記光学積層体の最外表面は、前記ハードコート層の前記凹凸構造の形状に追従した凹凸面となっており、
前記凹凸面を構成する複数の凸部の頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有してもよい。

前記ハードコート層の前記凹凸構造の表面粗さＳａが、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であってもよい。

スチールウールを用いた摩擦試験機を用いて、前記スチールウールを前記光学積層体の表面に対して、荷重：１ｋｇ、接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、往復運動：２０００回の条件で摩擦した後の前記光学積層体の最外表面の水に対する接触角は、９０度以上であってもよい。

ＪＩＳ Ｋ７１３６で規定される外部ヘーズ値が、３％以上、４０％以下であってもよい。

前記ハードコート層は、平均粒径が２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子を含んでもよい。

前記ハードコート層は、平均粒径が１μｍ以上のフィラー粒子を含まなくてもよい。

前記金属酸化物層は、反射防止層を含み、
前記反射防止層は、低屈折率層と、前記低屈折率層よりも大きい屈折率を有する高屈折率層とが交互に積層された積層体からなり、
前記光学積層体は、防眩機能および反射防止機能を有する反射防止フィルムであってもよい。

前記金属酸化物層は、前記ハードコート層と前記反射防止層との間に設けられる密着層を含んでもよい。

上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、
上記光学積層体を備える、偏光板が提供される。

上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、
上記光学積層体を備える、画像表示装置が提供される。

上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、
上記光学積層体の製造方法であって、
透明基材上に樹脂組成物からなるハードコート層を設ける工程と、
前記ハードコート層上に少なくとも１層以上の金属酸化物層を設ける工程と、
前記金属酸化物層上に防汚層を設ける工程と、
を含み、
前記ハードコート層を設ける工程は、
前記透明基材の表面に前記樹脂組成物を塗布する工程と、
前記樹脂組成物に転写型の凹凸形状を転写する工程と、
を有する、光学積層体の製造方法が提供される。

本発明によれば、防眩性を維持しつつ、耐擦傷性を向上することが可能となる。

本発明の一実施形態に係る光学積層体を示す断面図である。 同実施形態に係るハードコート層の一例を示す断面図である。 同実施形態に係る光学積層体の一例の３Ｄ像を示す図である。 同実施形態に係る光学積層体の一例の断面粗さを示す図である。 同実施形態に係る光学積層体の製造方法を示すフローチャートである。 同実施形態に係る転写型の製造方法の一例を説明する工程図である。 同実施形態に係る塗布工程および転写工程を説明する工程図である。 比較例に係るサンプルＡのヒストグラムを示す図である。 比較例に係るサンプルＢのヒストグラムを示す図である。 比較例に係るサンプルＣのヒストグラムを示す図である。 比較例に係るサンプルＤのヒストグラムを示す図である。 比較例に係るサンプルＥのヒストグラムを示す図である。 比較例に係るサンプルＫのヒストグラムを示す図である。 実施例に係るサンプルＦのヒストグラムを示す図である。 実施例に係るサンプルＧのヒストグラムを示す図である。 実施例に係るサンプルＨのヒストグラムを示す図である。 実施例に係るサンプルＩのヒストグラムを示す図である。 実施例に係るサンプルＪのヒストグラムを示す図である。

以下に添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易にするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。

なお、以下の説明において参照する各図面では、説明の便宜上、一部の構成要素の大きさを誇張して表現している場合がある。したがって、各図面において図示される構成要素同士の相対的な大きさは、必ずしも実際の構成要素同士の大小関係を正確に表現するものではない。

［１．光学積層体の全体構成］
まず、図１を参照して、本発明の一実施形態に係る光学積層体１０の全体構成について説明する。図１は、本実施形態に係る光学積層体１０を示す断面図である。

本実施形態に係る光学積層体１０は、例えば、防眩機能（アンチグレア：ＡＧ）および反射防止機能（アンチリフレクション：ＡＲ）を有するＡＧＡＲ型の反射防止フィルムとして用いられる。図１に示すように、本実施形態に係る光学積層体１０は、透明基材１１と、ハードコート層１２と、密着層１３と、反射防止層１４と、防汚層１５とがこの順に積層されてなるものである。以下、各層について説明する。

［透明基材１１］
透明基材１１は、例えば、３５０～８３０ｎｍの波長を有する可視光域の光を透過可能な透明材料によって形成される。なお、本実施形態において、「透明材料」は、本実施形態に係る光学積層体１０の効果を損なわない範囲で、使用波長域の光の透過率が、例えば、８０％以上の材料である。

透明基材１１は、例えば、有機材料としてプラスチックフィルムで構成されてもよいし、無機材料としてガラスフィルムで構成されてもよい。プラスチックフィルムの構成材料は、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、および、ポリフェニレンサルファイド系樹脂のうちのいずれか１または複数であり、好ましくは、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂のうちのいずれか１または複数である。なお、本実施形態において「（メタ）アクリル」は、メタクリルおよびアクリルを意味する。

透明基材１１は、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、および、ガラスの群から選択される１または複数で構成される。

本実施形態では、透明基材１１が、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）から構成される例について説明する。透明基材１１がＴＡＣで構成されると、その一面側にハードコート層１２を形成したとき、ハードコート層１２を構成する成分の一部が浸透してなる浸透層が形成される。その結果、透明基材１１とハードコート層１２との密着性が良好になるとともに、互いの層間の屈折率差に起因した干渉縞の発生を抑制できる。

また、光学特性を著しく損なわない限りにおいて、透明基材１１には補強材料が含まれていてもよい。補強材料は、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカ等である。

また、透明基材１１は、光学的機能および物理的機能のいずれか一方または両方の機能が付与されたフィルムであってもよい。光学的機能および物理的機能のいずれか一方または両方の機能を有するフィルムの例として、偏光板、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、透明導電フィルム、輝度向上フィルム、バリア性向上フィルム等が挙げられる。

透明基材１１の厚みは、特に限定されないが、取り扱い性、可撓性、コスト、特性の観点から、例えば、１０μｍ以上、５００μｍ以下であり、好ましくは、２５μｍ以上、１８８μｍ以下であり、より好ましくは、４０μｍ以上、１００μｍ以下である。

透明基材１１の厚みが２５μｍ以上であると、基材自体の剛性が確保され、光学積層体１０に応力が加わっても皺が発生し難くなる。また、透明基材１１の厚みが２５μｍ以上であると、透明基材１１上にハードコート層１２を連続的に形成しても、皺が生じにくく製造上の懸念が少なく好ましい。透明基材１１の厚みが４０μｍ以上であると、より一層皺が生じにくく、好ましい。

光学積層体１０の製造時に、ロールを用いる場合、透明基材１１の厚みは、１，０００μｍ以下であることが好ましく、６００μｍ以下であることがより好ましい。透明基材１１の厚みが１０００μｍ以下であると、製造途中の光学積層体１０および製造後の光学積層体１０をロール状に巻きつけやすく、効率よく光学積層体１０を製造できる。また、透明基材１１の厚みが１０００μｍ以下であると、光学積層体１０の薄膜化、軽量化が可能となる。透明基材１１の厚みが６００μｍ以下であると、より効率よく光学積層体１０を製造できるとともに、より一層の薄膜化、軽量化が可能となり、好ましい。

透明基材１１は、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理および下塗り処理などの各種処理のうち１つまたは複数の処理が、予め施されていてもよい。これらの処理が透明基材１１の表面に予め施されていることで、透明基材１１の上に形成されるハードコート層１２との密着性を向上させることができる。また、透明基材１１上にハードコート層１２を形成する前に、必要に応じて、透明基材１１の表面に対して溶剤洗浄、超音波洗浄等を行うことにより、透明基材１１の表面を除塵、清浄化させておくことも好ましい。

［ハードコート層１２］
ハードコート層１２は、透明基材１１上に設けられる。ハードコート層１２は、ＡＧ型のハードコート層であり、ハードコート層１２の表面には、光学積層体１０に防眩性を付与するための凹凸構造３０が形成されている。ハードコート層１２は、樹脂、例えば、樹脂組成物の硬化物で構成される。ハードコート層１２を構成する樹脂は、特に限定されないが、例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、赤外線硬化型樹脂等のエネルギー線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、二液混合型樹脂などが挙げられる。これらの中でも、紫外線照射により効率よくハードコート層１２を形成することができる紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。

紫外線硬化型樹脂としては、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、アミド系、シリコーン系などが挙げられる。これらの中でも、例えば積層薄膜を光学用途としたときに、高い透明性が得られるアクリル系を用いることが好ましい。

アクリル系の紫外線硬化型樹脂は、特に限定されないが、例えば、単官能、２官能、３官能以上の多官能のアクリル系のモノマー、オリゴマー、ポリマー成分などから、硬度、密着性、加工性等を鑑みて適宜選択して配合することができる。また、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合される。

単官能アクリレート成分の具体例としては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル又は脂環類のモノマー（イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２－メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリン、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、２－（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル－アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル－アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチルアクリレート）、２，４，６－トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６－トリブロモフェノールメタクリレート、２－（２，４，６－トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２－エチルヘキシルアクリレート、ノニルフェノールＥＯ変性アクリレートなどが挙げられる。

２官能アクリレート成分の具体例としては、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、ビスフェノールＡＥＯ変性ジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、ポリエーテル系ウレタンアクリレートなどが挙げられる。市場で入手可能な具体例としては、例えばサートマー（株）の商品名「ＳＲ６１０」などを挙げることができる。

３官能以上アクリレート成分の具体例としては、ペンタエリストリールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変換トリアクリレート、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ε－カプロラクトン変性トリス（アクロキシエチル）アクリレート、トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレートなどが挙げられる。市場で入手可能な具体例としては、例えばサートマーの商品名「ＣＮ９６８」、サートマーの商品名「ＳＲ４４４」などを挙げることができる。

光重合開始剤の具体例としては、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤などが挙げられる。市場で入手可能な具体例としては、1－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦジャパン（株））などを挙げることができる。

また、アクリル系の紫外線硬化型樹脂は、平滑性を向上させるためにレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤の具体例としては、例えば、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤などが挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でも、塗膜性の観点からシリコーン系レベリング剤を用いることが好ましい。市場で入手可能な具体例としては、例えばビックケミー・ジャパン（株）の商品名「ＢＹＫ３３７」（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）などを挙げることができる。

また、アクリル系の紫外線硬化型樹脂に使用される溶剤は、樹脂組成物の塗布性を満足すれば特には限定されるものではないが、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。溶剤の具体例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でも、塗布性の観点からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチルを用いることが好ましい。また、アクリル系の紫外線硬化型樹脂は、前記の他に、色相調整剤、着色剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、各種熱可塑型樹脂材料、屈折率調整樹脂、屈折率調整粒子、密着性付与樹脂等の機能性付与剤を含有することができる。

また、ハードコート層１２の上記樹脂中に、金属酸化物微粒子（図示せず。）が分散して含有されていてもよい。ここで、本実施形態に係るハードコート層１２に含まれる金属酸化物微粒子は、上記特許文献１、２に記載の従来の突起状構造を形成するためのマイクロオーダーのフィラー粒子（平均粒径が１μｍ以上）とは異なり、フィラー粒子よりも粒径が小さいナノオーダーの微粒子（平均粒径が１μｍ未満）である。ナノオーダーの金属酸化物微粒子をハードコート層１２に含有させることにより、ハードコート層１２と密着層１３との密着性を高めることができる。

金属酸化物微粒子は、金属酸化物が粒子状になったものである。金属酸化物微粒子の平均粒径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径が８００ｎｍよりも大きすぎると、積層薄膜を光学用途にすることが困難となる。一方、金属酸化物微粒子の平均粒径が２０ｎｍよりも小さすぎると、ハードコート層１２と密着層１３との密着性が低下してしまう。したがって、本実施形態に係る金属酸化物微粒子の平均粒径を上記範囲内にすることにより、光学積層体１０を光学用途に好適に適用できるとともに、ハードコート層１２と密着層１３との密着性を向上できる。なお、本実施形態において、平均粒径とは、ＢＥＴ法により測定した値をいう。

また、金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層１２の樹脂組成物の固形分全体に対し、２０質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。金属酸化物微粒子の含有量が少なすぎると、ハードコート層１２と密着層１３との密着性が低下してしまう。一方、金属酸化物微粒子の含有量が多すぎると、ハードコート層１２の屈曲性などが低下してしまう。したがって、本実施形態に係る金属酸化物微粒子の含有量を上記範囲内にすることにより、ハードコート層１２の屈曲性などの低下を抑制しつつ、ハードコート層１２と密着層１３との密着性を向上できる。なお、樹脂組成物の固形分とは、溶剤以外の全成分であり、液状のモノマー成分も固形分に含まれる。

金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物の具体例としては、ＳｉＯ_２（シリカ）、Ａｌ_２Ｏ_３（アルミナ）、ＴｉＯ_２（チタニア）、ＺｒＯ_２（ジルコニア）、ＣｅＯ_２（セリア）、ＭｇＯ（マグネシア）、ＺｎＯ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｎＯ_２などが挙げられる。これらの中でも、例えば積層薄膜を光学用途としたときに、高い透明性が得られるシリカを用いることが好ましい。市場で入手可能な具体例としては、例えば日産化学（株）の商品名「ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ」（シリカゾル）などを挙げることができる。また、金属酸化物微粒子の表面に、樹脂との密着性や親和性を高める目的で、アクリル基、エポキシ基等の官能基を導入してもよい。

また、本実施形態に係るハードコート層１２は、上記のナノオーダーの金属酸化物微粒子を含有してもよいが、平均粒径が１μｍ以上のフィラー粒子（上記特許文献１、２に記載の従来の突起状構造を形成するためのマイクロオーダーの粒子）を含まない。ただし、本実施形態に係るハードコート層１２は、フィラー粒子を含まずとも、密着層１３側の表面に凹凸構造３０が形成されているので、当該凹凸構造３０により光学積層体１０に防眩性を付与することができる。なお、ハードコート層１２の凹凸構造３０の構成と、凹凸構造３０の形成方法については、後に詳述する。

ハードコート層１２の厚みは、特に限定されないが、例えば、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層１２の厚みが０．５μｍ以上であると、十分な硬度が得られるため、製造上のひっかき傷が発生し難くなる。また、ハードコート層１２の厚みは、１００μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層１２の厚みが１００μｍ以下であると、光学積層体１０の薄膜化、軽量化が可能となる。また、ハードコート層１２の厚みが１００μｍ以下であると、製造途中の光学積層体１０が曲がった際に発生するハードコート層１２のマイクロクラックが生じにくく、生産性が良好となる。

ハードコート層１２は、単一の層であってもよく、複数の層が積層されたものであってもよい。また、ハードコート層１２には、例えば、紫外線吸収性能、帯電防止性能、屈折率調整機能、硬度調整機能など公知の機能が更に付与されていてもよい。また、ハードコート層１２に付与される機能は、単一のハードコート層中に付与されていてもよいし、複数のハードコート層に分割して付与されていてもよい。

［密着層１３］
密着層１３は、有機膜であるハードコート層１２と、無機膜である反射防止層１４との密着を良好にするために形成される層である。密着層１３は、酸素欠損状態の金属酸化物もしくは金属からなるものであることが好ましい。酸素欠損状態の金属酸化物とは、化学量論組成よりも酸素数が不足した状態の金属酸化物をいう。酸素欠損状態の金属酸化物としては、例えば、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ、ＣｅＯｘ、ＭｇＯｘ、ＺｎＯｘ、ＴａＯｘ、ＳｂＯｘ、ＳｎＯｘ、ＭｎＯｘなどが挙げられる。また、金属としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｉｎなどが挙げられる。密着層１３は、例えば、ＳｉＯｘにおけるｘが、０を超え２．０未満であるものであってもよい。また、密着層１３は、複数種の金属または金属酸化物の混合物から形成されていてもよい。

なお、密着層１３がＳｉＯｘで構成される場合、密着層１３の屈折率は、好ましくは１．２０～１．６０である。つまり、密着層１３がＳｉＯｘで構成される場合、密着層１３は、後述する低屈折率層１４ｂとしても機能する。

密着層１３の厚みは、透明性、および、反射防止層１４との密着性を維持し、良好な光学特性を得る観点から、０ｎｍ超、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。

なお、ハードコート層１２と反射防止層１４との間に密着層１３を設けることにより、両層の密着性を向上できるので好ましい。しかし、密着層１３は必須ではなく、ハードコート層１２上に反射防止層１４を直接的に積層してもよい。

［反射防止層１４］
反射防止層１４は、ハードコート層１２上に設けられる金属酸化物層の一例である。反射防止層１４は、光学機能層の一例である。反射防止層１４は、反射防止機能を発現させる積層体である。反射防止層１４は、図１に示すように、低屈折率層１４ｂと高屈折率層１４ａとが交互に積層された積層体からなる。本実施形態において、反射防止層１４は、密着層１３側から順に高屈折率層１４ａと低屈折率層１４ｂとが交互に積層された合計４層の積層体である。高屈折率層１４ａと低屈折率層１４ｂの層数は、特に限定されるものではなく、高屈折率層１４ａおよび低屈折率層１４ｂの層数は、任意の層数とすることができる。

図１に示すように、防汚層１５は、反射防止層１４を構成する低屈折率層１４ｂに接している。したがって、防汚層１５側から入射した光が反射防止層１４によって拡散される。これにより、防汚層１５側から入射した光が、一方向に反射されることを防止する反射防止機能が得られる。

低屈折率層１４ｂは、入手の容易さとコストの点からＳｉの酸化物を含むことが好ましく、ＳｉＯ_２（Ｓｉの酸化物）等を主成分とした層であることが好ましい。ＳｉＯ_２単層膜は、無色透明である。本実施形態において、低屈折率層１４ｂの主成分とは、低屈折率層１４ｂ中に５０質量％以上含まれる成分であることを意味する。

低屈折率層１４ｂが、Ｓｉの酸化物を主成分とした層である場合、５０質量％未満の別の元素を含んでも良い。Ｓｉの酸化物とは別の元素の含有量は、好ましくは１０％以下である。別の元素としては、例えば、耐久性向上の目的でＮａ、硬度向上の目的でＺｒ、Ａｌ、またＮ、耐アルカリ性向上の目的で、Ｚｒ、Ａｌを含有できる。

低屈折率層１４ｂの屈折率は、好ましくは１．２０～１．６０であり、より好ましくは１．３０～１．５０である。低屈折率層１４ｂに用いられる誘電体としては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２、屈折率１．３８）などが挙げられる。

高屈折率層１４ａの屈折率は、好ましくは２．００～２．６０であり、より好ましくは２．１０～２．４５である。高屈折率層１４ａに用いられる誘電体としては、五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ_３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率２．０６）、酸化ジルコニウム(ＺｒＯ_２、屈折率２．２)などが挙げられる。

高屈折率層１４ａに導電特性を付与したい場合、例えば、ＩＴＯ、酸化インジウム酸化亜鉛（ＩＺＯ）を選択できる。

反射防止層１４は、例えば、高屈折率層１４ａとして五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率２．３３）からなるものを用い、低屈折率層１４ｂとしてＳｉＯ_２からなるもの用いることが好ましい。

低屈折率層１４ｂの膜厚は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。

高屈折率層１４ａの膜厚は、例えば、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。

高屈折率層１４ａおよび低屈折率層１４ｂの膜厚は、それぞれ反射防止層１４の設計に応じて適宜選択できる。例えば、密着層１３側から順に、５～５０ｎｍの高屈折率層１４ａ、１０～８０ｎｍの低屈折率層１４ｂ、２０～２００ｎｍの高屈折率層１４ａ、５０～２００ｎｍの低屈折率層１４ｂとすることができる。

反射防止層１４を形成している層のうち、防汚層１５側には、低屈折率層１４ｂが配置されている。反射防止層１４の低屈折率層１４ｂが防汚層１５と接している場合、反射防止層１４の反射防止性能が良好となるため、好ましい。

なお、本実施形態では、ハードコート層１２上に設けられる光学機能層として、反射防止層１４の例を挙げたが、光学機能層は、かかる例に限定されない。光学機能層は、光学機能を発現させる層である。光学機能とは、光の性質である反射と透過、屈折をコントロールする機能であり、例えば、反射防止機能、選択反射機能、防眩機能、レンズ機能などが挙げられる。光学機能層は、上記の反射防止層１４以外にも、例えば、選択反射層、防眩層などであってもよい。選択反射層、防眩層としては、公知のものを用いることができる。反射防止層、選択反射層、防眩層は、いずれも単層であってもよく、複数の層の積層体であってもよい。

［防汚層１５］
防汚層１５は、反射防止層１４の最外面に形成され、反射防止層１４の汚損を防止する。また、防汚層１５は、タッチパネル等に適用する際に、耐摩耗性によって反射防止層１４の損耗を抑制する。

本実施形態の防汚層１５は、防汚性材料を蒸着させた蒸着膜からなる。本実施形態では、防汚層１５は、反射防止層１４を構成する低屈折率層１４ｂの一面に、防汚性材料としてフッ素系有機化合物を真空蒸着することによって形成される。本実施形態では、防汚性材料が、フッ素系有機化合物を含むため、より一層耐摩擦性および耐アルカリ性の良好な光学積層体１０となる。

防汚層１５を構成するフッ素系有機化合物としては、フッ素変性有機基と、反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物が好ましく用いられる。防汚層１５を構成するフッ素系有機化合物は、例えば、フルオロアルキル鎖を有するシラン化合物、または、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物である。市販品としては、オプツールＤＳＸ（ダイキン株式会社製）、ＫＹ－１００シリーズ（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。

防汚層１５を構成するフッ素系有機化合物として、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を用いることにより、防汚層１５の水に対する接触角を１１０度以上とすることができ、撥水性および防汚性を向上させることが可能となる。

防汚層１５を構成するフッ素系有機化合物として、フッ素変性有機基と、反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物を用い、防汚層１５に接する反射防止層１４の低屈折率層１４ｂとして、ＳｉＯ_２からなるものを用いた場合、フッ素系有機化合物の骨格であるシラノール基とＳｉＯ_２と間でシロキサン結合が形成される。このため、反射防止層１４と防汚層１５との密着性が良好となり、好ましい。

防汚層１５の光学厚みは、１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の範囲であればよく、好ましくは３ｎｍ以上、１０ｎｍ以下の範囲である。防汚層１５の厚みが１ｎｍ以上であると、光学積層体１０をタッチパネル用途などに適用した際に、耐摩耗性を十分に確保できる。また、防汚層１５の厚みが２０ｎｍ以下であると、蒸着に要する時間が短時間で済み、効率よく製造できる。

防汚層１５は、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤などの添加剤を含んでいてもよい。

蒸着によって形成された防汚層１５は、反射防止層１４と強固に結合し、空隙が少なく緻密である。これにより、本実施形態の防汚層１５は、防汚性材料の塗布など従来の方法によって形成された防汚層とは異なる特性を示す。

［２．ハードコート層１２の凹凸構造３０］
次に、図１～図４を参照して、本実施形態に係るハードコート層１２の凹凸構造について説明する。

図２は、本実施形態に係るハードコート層１２の一例を示す断面図である。図２に示すように、本実施形態に係るハードコート層１２の密着層１３側の表面には、凹凸構造３０が形成されている。凹凸構造３０は、複数の凸部３２と、複数の凹部３４とで構成される。ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａは、相互に実質的に同一の高さを有し、また、頂部３２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有する。また、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凹部３４は、ハードコート層１２を貫通しない。つまり、ハードコート層１２の凹部３４の底部３４ａは、透明基材１１の表面に接触しない。

また、上記したように、密着層１３の厚み（例えば、０．００５μｍ程度）、反射防止層１４の厚み（例えば、０．２μｍ程度）、および、防汚層１５の厚み（例えば、０．００５μｍ程度）は、ハードコート層１２の厚み（例えば、５～１０μｍ）よりも格段に薄い。このため、密着層１３、反射防止層１４および防汚層１５は、ハードコート層１２の凹凸構造３０に追従して形成される。

したがって、図１に示すように、密着層１３の表面は、ハードコート層１２の凹凸構造３０の形状に追従した凹凸面４０となっている。このため、密着層１３の凹凸面４０を構成する複数の凸部の頂部は、ハードコート層１２の凸部３２の頂部３２ａと同様に、相互に実質的に同一の高さを有し、また、頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有する。

同様に、反射防止層１４の表面、つまり、高屈折率層１４ａの表面および低屈折率層１４ｂの表面は、ハードコート層１２の凹凸構造３０の形状に追従した凹凸面５０ａ、５０ｂとなっている。このため、高屈折率層１４ａの凹凸面５０ａを構成する複数の凸部の頂部、および、低屈折率層１４ｂの凹凸面５０ｂを構成する複数の凸部の頂部は、ハードコート層１２の凸部３２の頂部３２ａと同様に、相互に実質的に同一の高さを有し、また、頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有する。

また、防汚層１５の表面、つまり、光学積層体１０の最外表面は、ハードコート層１２の凹凸構造３０の形状に追従した凹凸面６０となっている。このため、光学積層体１０の最外表面に形成される凹凸面６０は、複数の凸部６２と、複数の凹部６４とで構成される。したがって、凹凸面６０を構成する複数の凸部６２は、ハードコート層１２の複数の凸部３２と同様の形状を有する。つまり、凹凸面６０を構成する複数の凸部６２の頂部６２ａは、ハードコート層１２の凸部３２の頂部３２ａと同様に、相互に実質的に同一の高さを有し、また、頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有する。また、凹凸面６０を構成する複数の凹部６４は、ハードコート層１２の複数の凹部３４と同様の形状を有する。

図３は、本実施形態に係る光学積層体１０の一例の３Ｄ像を示す図である。図４は、本実施形態に係る光学積層体１０の一例の断面粗さを示す図である。

図３に示すように、光学積層体１０の最外表面は、複数の凸部６２と複数の凹部６４から構成される凹凸面６０になっている。この凹凸面６０において、複数の凸部６２は、面方向にランダムに分散して配置される浮島状に形成される。個々の凸部６２は、概ね錐台形状を有するが、凸部６２の平面形状はランダムである。同様に、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２も、面方向にランダムに分散して配置される浮島状に形成されている。

また、光学積層体１０の凹凸面６０を構成する複数の凸部６２の頂部６２ａは、相互に実質的に同一の高さを有する。したがって、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａも、相互に実質的に同一の高さを有するといえる。ここで、「実質的に同一の高さ」とは、例えば、図４に示すように、光学積層体１０の表面に多数形成された凸部６２の高さを実質的に等しくすることで、光学積層体１０に接触する物体、例えば、操作者の指、スタイラスペン（ポインティングデバイス）等による荷重に対し、その応力を均等に分散させることが可能な構造であることを意味する。複数の凸部６２の頂部６２ａの高さが、「相互に実質的に同一の高さ」を有する場合、当該複数の凸部６２の頂部６２ａの高さのばらつき（すなわち、複数の頂部６２ａの高低差）は、望ましくは０．５μｍ以内、さらに望ましくは０．２μｍ以内であってよい。同様に、複数の凸部３２の頂部３２ａの高さが、「相互に実質的に同一の高さ」を有する場合、当該複数の凸部３２の頂部３２ａの高さ（すなわち、複数の頂部３２ａの高低差）は、望ましくは０．５μｍ以内、さらに望ましくは０．２μｍ以内であってよい。

また、ハードコート層１２の凹凸面６０を構成する複数の凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面（頂面）を有することが、さらに望ましい。ここで、「実質的な平坦面」とは、凸部６２の頂部６２ａが完全な平坦面を有する場合に加え、微細凹凸が形成された平坦面を有する場合を含む。微細凹凸が形成された平坦面は、例えば、微細凹凸の高低差が、頂部６２ａの基準面に対して±０．３μｍ以下、好ましくは±０．１μｍ以下である平坦面を意味する。なお、基準面とは、凸部６２の所望高さ位置に仮想的に設定される完全な平坦面である。

同様に、光学積層体１０の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａのそれぞれは、実質的な平坦面（頂面）を有することが、さらに望ましい。ここで、「実質的な平坦面」とは、凸部３２の頂部３２ａが完全な平坦面を有する場合に加え、微細凹凸が形成された平坦面を有する場合を含む。微細凹凸が形成された平坦面は、例えば、微細凹凸の高低差が、頂部３２ａの基準面に対して±０．３μｍ以下、好ましくは±０．１μｍ以下である平坦面を意味する。なお、基準面とは、凸部３２の所望高さ位置に仮想的に設定される完全な平坦面である。

また、図３に示すように、光学積層体１０の凹凸面６０において、複数の凹部６４は、面方向にランダムに分散して点在する。個々の凹部６４は、例えば、ランダムな平面形状を有する陥没部であり、凹部６４の底部６４ａの深さもランダムである。同様に、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凹部３４も、面方向にランダムに分散して点在し、個々の凹部３４の平面形状もランダムであり、凹部３４の底部３４ａの深さもランダムである。

また、図４に示すように、光学積層体１０の凹凸面６０において、凸部６２の頂部６２ａと、凹部６４の底部６４ａとの間の高低差は、例えば、０．４μｍ～１μｍ程度である。同様に、ハードコート層１２の凹凸構造３０においても、凸部３２の頂部３２ａと、凹部３４の底部３４ａとの間の高低差は、例えば、０．４μｍ～１μｍ程度である。

このように、ハードコート層１２が凹凸構造３０を有する、つまり、光学積層体１０の最外表面に凹凸面６０が形成される。これにより、光学積層体１０の凹凸面６０において入射光が散乱するので、光学積層体１０は、防眩性を発揮することができる。

また、本実施形態に係るハードコート層１２の凹凸構造３０の表面の高さ分布は、以下の式（１）を満たす。
Ａ／１．９ < Ｐ ・・・（１）
Ａ：凹凸構造３０の表面の最低点の高さＢを０としたときの、凹凸構造３０の表面の最高点の高さ
Ｐ：凹凸構造３０の表面の最低点の高さＢを０としたときの、凹凸構造３０の表面の高さ分布の最頻値
換言すれば、Ｐは、凹凸構造３０の表面の高さ分布をヒストグラムで表したときの分布の最大点である。

上記式（１）を満たす場合、ハードコート層１２の凹凸構造３０において、実質的に平坦な頂部３２ａを有する凸部３２が、錘状またはドーム状に尖った頂部を有する凸部よりも多く分布し、当該平坦な頂部３２ａの分布面積が広く、かつ、当該平坦な頂部３２ａの高さが概ね揃うことになる。このため、凹凸構造３０は、平坦面からなる頂部３２ａを多く含む粗面構造となり、耐擦傷性に優れる。一方、上記式（１）を満たさない場合、つまり、Ａ／１．９≧Ｐである場合、ハードコート層の凹凸構造において、錘状またはドーム状に尖った頂部を有する凸部の分布が多くなり、平坦な頂部の分布面積が狭くなる。このため、当該凹凸構造は、尖った突起を有する突起状構造となり、耐擦傷性が低下する。

以上説明したように、本実施形態に係る光学積層体１０の最外表面は、ハードコート層１２の凹凸構造３０の形状に追従した凹凸面６０となっており、この凹凸面６０を構成する複数の凸部６２の頂部６２ａは、相互に実質的に同一の高さを有し、また、複数の凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有する。

このため、従来技術のようなドーム状または錘状に尖った突起を有する突起状構造が、光学積層体１０の最外表面にはほとんど形成されない。したがって、本実施形態に係る光学積層体１０の表面は、凸部６２の頂部６２ａが実質的な平坦面であるテーブル状の粗面構造となる。これにより、例えば、反射防止フィルムとして光学積層体１０をタッチパネル上に設置した場合に、操作者の指やポインティングデバイスなどにより表面画面に加えられる荷重を、凸部６２の頂部６２ａにおいて分散させることが可能となる。したがって、ドーム状または錘状に尖った突起を有する突起状構造を備える従来の光学積層体と比較して、光学積層体１０は、凸部６２の摩耗を抑制することができ、耐擦傷性を向上させることができる。これにより、光学積層体１０の耐久性を向上させることが可能となる。

［３．光学積層体１０の特性］
次に、本実施形態に係る光学積層体１０の特性について説明する。本実施形態に係る光学積層体１０は、例えば、以下の特性（Ａ）～特性（Ｃ）を有する。

（Ａ）水接触角（ＷＣＡ）
ＪＩＳ Ｌ０８４９に準拠して、スチールウールを用いた摩擦試験機を用いて、スチールウールを光学積層体１０の表面に対して、荷重：１ｋｇ、接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、往復運動：２０００回の条件で摩擦する摩擦試験を行う場合を考える。本実施形態に係る光学積層体１０では、この摩擦試験後の光学積層体１０の最外表面の水に対する接触角は、９０度以上であることが好ましい。

従来技術のような尖った突起を有する突起状構造が光学積層体の最外表面に形成されている場合、スチールウールの摺動によって、突起が削られて、削屑が生じる。そうすると、スチールウールと光学積層体との間に削屑が介在した状態で、摩擦試験が継続されるため、ハードコート層から反射防止層とともに防汚層が削れてしまう。この場合、光学積層体の最外表面から防汚層が取り除かれるため、光学積層体１０の最外表面が濡れやすくなり、摩擦試験後の水に対する接触角が９０度未満となる。つまり、摩擦試験後の水に対する接触角が９０度未満である場合、上記摩擦試験を実行することによって、光学積層体１０の凹凸面６０を構成する凸部６２とともに防汚層１５が削られてしまっており、耐擦傷性が低いといえる。

これに対し、本実施形態に係る光学積層体１０は、上記摩擦試験を実行した後であっても、摩擦した後の光学積層体１０の最外表面の水に対する接触角が、９０度以上であるという特性を有する。したがって、本実施形態に係る光学積層体１０は、上記摩擦試験を実行しても、光学積層体１０の凹凸面６０を構成する凸部６２（防汚層１５）がほとんど削られない。これにより、本実施形態に係る光学積層体１０は、凹凸面６０が傷つきにくく、耐擦傷性に優れる。

（Ｂ）表面粗さＳａ
ハードコート層１２の凹凸構造３０の表面粗さＳａは、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることが好ましい。なお、表面粗さＳａは、算術平均高さＳａ（ＩＳＯ２５１７８）を意味する。

表面粗さＳａが、５０ｎｍ未満であると、十分な防眩性を発揮できないという問題があり、３００ｎｍ超であると、複数の凸部６２の頂部６２ａを、相互に実質的に同一の高さにするのが難しく、十分な耐擦傷性を実現できないという問題がある。これに対し、本実施形態に係る光学積層体１０のハードコート層１２の凹凸構造の表面粗さＳａは、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であるため、防眩性および耐擦傷性を好適に実現することが可能となる。

（Ｃ）外部ヘーズ値（Ｈａｚｅ）
本実施形態に係る光学積層体１０は、ＪＩＳ Ｋ７１３６で規定される外部ヘーズ値が、３％以上４０％以下であることが好ましい。外部ヘーズ値は、全光線透過率の中の拡散光成分の割合を数値化したものである。外部ヘーズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１３６で規定されるヘーズ値から、試料（光学積層体１０）内部の散乱成分を除いた値である。

光学積層体の外部ヘーズ値が、３％未満であると、十分な防眩性を発揮できないという問題があり、４０％超であると、画像を表示する際の黒色の再現性や画像鮮明性が低くなるという問題がある。これに対し、本実施形態に係る光学積層体１０は、外部ヘーズ値が、３％以上４０％以下であるため、防眩性、および、高い画像表示品位を好適に実現することが可能となる。

以上説明したように、本実施形態に係る光学積層体１０のハードコート層１２は、マイクロオーダーの凹凸構造３０を有する。これにより、本実施形態に係る光学積層体１０は、防眩性を発揮することができる。また、本実施形態に係るハードコート層１２の凹凸構造３０は、後述する転写型を用いた転写により形成され、従来技術のようなフィラー粒子を含有することにより形成されるものではない。したがって、本実施形態に係る凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａは、相互に実質的に同一の高さを有し、また、複数の凸部３２の頂部３２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有する。したがって、光学積層体１０の最外表面の凹凸面６０においても、複数の凸部６２の頂部６２ａは、相互に実質的に同一の高さを有し、また、複数の凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有し、尖った突起状の凸部が存在しないため、光学積層体１０の耐擦傷性が向上する。よって、光学積層体１０は、防眩性を維持しつつ、耐擦傷性を向上することができる。

［４．光学積層体１０の製造方法］
図５は、本実施形態に係る光学積層体１０の製造方法を示すフローチャートである。

図５に示すように、本実施形態に係る光学積層体１０の製造方法は、ハードコート層形成工程Ｓ１１０と、密着層形成工程Ｓ１２０と、反射防止層形成工程Ｓ１３０と、防汚層形成工程Ｓ１４０とを含む。以下、各工程について説明する。

［ハードコート層形成工程Ｓ１１０］
ハードコート層形成工程Ｓ１１０は、透明基材１１上にハードコート層１２を設ける工程である。

本実施形態において、ハードコート層形成工程Ｓ１１０は、塗布工程Ｓ１１２と、転写工程Ｓ１１４とを含む。ハードコート層形成工程Ｓ１１０の転写工程Ｓ１１４では、転写型を用いて、ハードコート層１２の表面に上記凹凸構造３０を転写する。以下では、まず、図６を参照して、本実施形態に係る転写型の製造方法について説明する。続いて、図７を参照して、塗布工程Ｓ１１２、および、転写工程Ｓ１１４について説明する。

図６は、本実施形態に係る転写型１５０の製造方法の一例を説明する工程図である。なお、図６中、黒い丸は、フィラー粒子１２０を示し、白い丸は、溶媒１１２を示す。図６に示すように、まず、転写型用のレジン１００が作成される。レジン１００は、例えば、バインダー樹脂１１０にフィラー粒子１２０が分散されたものである。レジン１００を構成するバインダー樹脂１１０は、特に限定されないが、紫外線、赤外線、電子線等のエネルギー線を透過する透明性のものが好ましく、例えば、紫外線、赤外線、電子線により硬化する樹脂であるエネルギー線硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、熱硬化型樹脂などを用いることができる。

バインダー樹脂１１０に用いるエネルギー線硬化型樹脂としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル又は脂環類のモノマー（イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２－メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリン、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、２－（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル－アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル－アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチルアクリレート）、２，４，６－トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６－トリブロモフェノールメタクリレート、２－（２，４，６－トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２－エチルヘキシルアクリレート、ノニルフェノールＥＯ変性アクリレート等を挙げることができる。

また、２以上の不飽和結合を有するエネルギー線硬化型樹脂である化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、ビスフェノールＡＥＯ変性ジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、ポリエーテル系ウレタンアクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変換トリアクリレート、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ε－カプロラクトン変性トリス（アクロキシエチル）アクリレート、トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレート等の多官能化合物等を挙げることができる。なかでも、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）およびペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が好適に用いられる。なお、「（メタ）アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを指すものである。また、エネルギー線硬化型樹脂として、上述した化合物をＰＯ（プロピレンオキサイド）、ＥＯ（エチレンオキサイド）、ＣＬ（カプロラクトン）等で変性したものも使用できる。

バインダー樹脂１１０に用いる熱可塑型樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴムまたはエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑型樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマー、硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性および耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

バインダー樹脂１１０に用いる熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂（かご状、ラダー状などのいわゆるシルセスキオキサン等を含む）等を挙げることができる。

なお、ここでは、バインダー樹脂１１０として、紫外線硬化型樹脂を例に挙げる。また、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合される。

バインダー樹脂１１０に含まれるフィラー粒子１２０は、例えば、シリカ（Ｓｉの酸化物）粒子、アルミナ（酸化アルミニウム）粒子などの無機酸化物からなる粒子、または、有機粒子など公知のものを用いることができる。フィラー粒子１２０としてのシリカ粒子、アルミナ粒子などの無機酸化物粒子の平均粒径は、特に限定されないが、好ましくは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であり、より好ましくは、１μｍ以上、５μｍ以下である。

また、フィラー粒子１２０としての有機粒子としては、例えば、アクリル樹脂などが挙げられる。有機粒子の粒子径は、特に限定されないが、好ましくは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であり、より好ましくは、１μｍ以上、５μｍ以下である。

なお、後述する型基材１３０にレジン１００が塗布された際に、バインダー樹脂１１０にフィラー粒子１２０が埋もれないように、レジン１００におけるバインダー樹脂１１０の含有量は、極力少なく調整される。

そして、作成されたレジン１００を型基材１３０の表面１３０ａ上に塗布する。型基材１３０は、例えば、紫外線を透過可能な材料によって形成される。型基材１３０は、例えば、上記透明基材１１と同様の有機材料または無機材料で形成されてもよい。型基材１３０における、レジン１００が塗布される表面１３０ａは、実質的に平坦である。ここで、「実質的に平坦」とは、型基材１３０の表面１３０ａ全体において実質的な高低差を有さないことを意味し、例えば、型基材１３０の表面１３０ａ全体の高低差は、望ましくは０．５μｍ以内、さらに望ましくは０．２μｍ以内であってよい。また、型基材１３０の表面１３０ａに微細凹凸が形成されていてもよい。表面１３０ａに形成される微細凹凸の高低差は、表面１３０ａの基準面に対して±０．３μｍ以下、好ましくは±０．１μｍ以下であるとよい。なお、基準面とは、表面１３０ａの所望高さ位置に仮想的に設定される完全な平坦面である。

その後、型基材１３０に塗布されたレジン１００を乾燥させつつ、レジン１００に紫外線を照射して、レジン１００に含まれるバインダー樹脂１１０としての紫外線硬化型樹脂を硬化させる。そうすると、レジン１００に含まれる溶媒１１２が気化し、フィラー粒子１２０を中心にして、バインダー樹脂１１０が凝集する。

こうして、型基材１３０の表面１３０ａ上に、バインダー樹脂１１０に覆われたフィラー粒子１２０が点在した転写型１５０が製造される。バインダー樹脂１１０に覆われたフィラー粒子１２０は、型基材１３０の表面１３０ａ上において、ドーム状または錘状等の任意の形状で突出した突起となっている。以下、バインダー樹脂１１０に覆われたフィラー粒子１２０を単に「突起１４０」と称する。型基材１３０の平坦な表面１３０ａ上に、複数の突起１４０が相互に離隔して形成される。隣り合う突起１４０同士の間において、型基材１３０の平坦な表面１３０ａが露出している。このようにして、複数の凸部１４２と複数の凹部１３２からなる凹凸形状１５２を有する転写型１５０が製造される。この凹凸形状１５２の凸部１４２は、上記突起１４０からなり、凹部１３２の底部は、型基材１３０の平坦な表面１３０ａである。

［塗布工程Ｓ１１２］
続いて、図７を参照して、図５に示す塗布工程Ｓ１１２、および、転写工程Ｓ１１４について説明する。図７は、本実施形態に係る塗布工程Ｓ１１２および転写工程Ｓ１１４を説明する工程図である。塗布工程Ｓ１１２は、透明基材１１の表面に、例えば、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０を塗布する工程である。エネルギー線硬化型樹脂組成物７０は、未硬化のエネルギー線硬化型樹脂と、エネルギー線重合開始剤と、金属酸化物微粒子とを含む。

なお、透明基材１１の表面に塗布される、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０の厚み（膜厚）は、図６に示した転写型１５０の突起１４０（凸部１４２）の高さよりも大きい。

［転写工程Ｓ１１４］
転写工程Ｓ１１４は、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０に、転写型１５０の凹凸形状１５２を転写する工程である。具体的に説明すると、まず、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０に転写型１５０の凹凸形状１５２を押し当てる。そして、エネルギー線を照射して、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０を硬化させる。なお、上記したように、転写型１５０は、エネルギー線を透過する透明性を有する。したがって、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０に転写型１５０の凹凸形状１５２を押し当てつつ、エネルギー線を照射することで、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０に、転写型１５０の凹凸形状１５２を転写しつつ、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０を硬化させることができる。

そして、硬化したエネルギー線硬化型樹脂組成物７０から転写型１５０を剥離すると、凹凸構造３０を有するハードコート層１２が形成される。ハードコート層１２の凹凸構造３０は、転写型１５０の凹凸形状１５２の反転形状を有する。詳細には、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する凸部３２は、転写型１５０の凹凸形状１５２の凹部１３２に対応する形状を有する。また、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する凹部３４は、転写型１５０の凹凸形状１５２の凸部１４２（突起１４０）に対応する形状を有する。

また、上記したように、転写型１５０の型基材１３０の表面１３０ａは、実質的に平坦である。したがって、転写型１５０の凹凸形状１５２を転写することで、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａも、相互に実質的に同一の高さを有することになる。また、上記したように、転写型１５０の型基材１３０の表面１３０ａにおける微細凹凸の高低差は、表面１３０ａの基準面に対して±０．３μｍ以下である。したがって、転写型１５０の凹凸形状１５２を転写することで、ハードコート層１２の凹凸構造３０を構成する複数の凸部３２の頂部３２ａのそれぞれも、実質的な平坦面を有することになる。

なお、ハードコート層１２の凹凸構造３０の所望形状に合わせて、転写型１５０の凹凸形状１５２が調整される。具体的に説明すると、転写型１５０を製造する際に、凹凸構造３０の所望形状に応じて、レジン１００に含まれるフィラー粒子１２０の粒径、および、フィラー粒子１２０の含有量などが調整される。例えば、ハードコート層１２の凹凸構造３０の凸部３２を大きくしたい場合、フィラー粒子１２０の含有量を少なくすればよい。ハードコート層１２の凹凸構造３０の凸部３２を小さくしたい場合、フィラー粒子１２０の含有量を多くすればよい。また、ハードコート層１２の凹凸構造３０の凸部３２の高さや、凹部３４の深さを大きくしたい場合、フィラー粒子１２０の粒径を大きくすればよい。ハードコート層１２の凸部３２の高さや、凹部３４の深さを小さくしたい場合、フィラー粒子１２０の粒径を小さくすればよい。

また、転写型１５０の表面（バインダー樹脂１１０に覆われたフィラー粒子１２０、および、フィラー粒子１２０間の表面１３０ａ）には、必要に応じ、転写型１５０の剥離を軽減する、もしくは、表面の形状を保護する等の目的で、さらに層が設けられていても構わない（不図示）。層の例としては、バインダー樹脂１１０側から順に、無機物層、防汚層が挙げられる。防汚層は、エネルギー線硬化型樹脂組成物７０（ハードコート層１２）に形状を転写した後に剥離する際の、剥離性を向上させる。また、無機物層は、防汚層をより転写型１５０に強固に結合させる作用を有する。ここで、無機物層はスパッタ法や蒸着法で設けることができ、その層数も任意に設定できる。また、防汚層は、ハードコート層１２からの剥離性が向上する作用の限りにおいて材料は問わず、例えばフルオロアルキル基などのフッ素含有基を有するシラン化合物が挙げられる。防汚層の形成方法も、塗布乾燥、蒸着法などが挙げられる。すなわち、目的とする形状をハードコート層１２に転写できる場合、その所望の形状に対応した形状を有する別の光学積層体を転写型１５０として用いることができる。

なお、ハードコート層形成工程Ｓ１１０は上記に限定されるものでなく、いずれかの公知の手法で実施してもよい。例えば、所望の形状を付与した剛体ロールを用いた形状転写や、所望の形状を付与したスタンパー等を用いて、射出成型等により実施されてもよい。

［密着層形成工程Ｓ１２０］
図５に戻って説明すると、密着層形成工程Ｓ１２０は、ハードコート層１２の表面に密着層１３を形成する工程である。

［反射防止層形成工程Ｓ１３０］
反射防止層形成工程Ｓ１３０は、密着層１３の表面に反射防止層１４を形成する工程である。例えば、反射防止層形成工程Ｓ１３０は、高屈折率層１４ａと低屈折率層１４ｂとを交互に形成する。

本実施形態において、密着層形成工程Ｓ１２０および反射防止層形成工程Ｓ１３０は、スパッタ法によって実行される。本実施形態では、成膜速度の高速化の観点から、スパッタ法として、マグネトロンスパッタ法を用いることが好ましい。なお、スパッタ法は、マグネトロンスパッタ法に限定されるものではなく、直流グロー放電または高周波によって発生させたプラズマを利用する２極スパッタ方式、熱陰極を付加する３極スパッタ方式などを用いてもよい。

［防汚層形成工程Ｓ１４０］
防汚層形成工程Ｓ１４０は、反射防止層１４の表面に防汚層１５を形成する工程である。本実施形態において、防汚層形成工程Ｓ１４０は、例えば、真空蒸着法によって実行される。

以上の製造方法により、透明基材１１、ハードコート層１２、密着層１３、反射防止層１４、および、防汚層１５を備える光学積層体１０が得られる。

なお、本実施形態に係る光学積層体１０において、透明基材１１の両表面のうち、ハードコート層１２などが積層される第１表面とは反対側の第２表面に、必要に応じて各種の層が設けられてもよい。例えば、他の部材との接着に用いられる粘着剤層が設けられてもよい。また、この粘着剤層を介して他の光学フィルムが設けられてもよい。他の光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム（偏光板）、位相差補償フィルム、１／２波長板、１／４波長板として機能するフィルムなどが挙げられる。

また、透明基材１１の第２表面に、反射防止、選択反射、防眩、偏光、位相差補償、視野角補償若しくは拡大、導光、拡散、輝度向上、色相調整、または導電などの機能を有する層が直接形成されてもよい。

本実施形態に係る光学積層体１０は、偏光板などの光学部材や、画像表示装置に適用することができる。例えば、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネルなどの画像表示装置の表示画面に、光学積層体１０を設けてもよい。これにより、例えば、スマートホンや操作機器のタッチパネル式表示部に対して、高い耐擦傷性を付与することができ、耐久性に優れた、実使用に好適な画像表示装置を実現できる。

また、光学積層体１０が適用される物品としては、上記の画像表示装置の例に限定されない。例えば、窓ガラスやゴーグル、太陽電池の受光面、スマートホンの画面やパーソナルコンピューターのディスプレイ、情報入力端末、タブレット端末、ＡＲ（拡張現実）デバイス、ＶＲ（仮想現実）デバイス、電光表示板、ガラステーブル表面、遊技機、航空機や電車などの運行支援装置、ナビゲーションシステム、計器盤、光学センサーの表面などの各種の物品に対して、光学積層体１０を適用可能である。

以下では、本発明の実施例および比較例について具体的に説明する。なお、以下に示す実施例は、あくまでも一例であって、本発明に係る光学積層体、光学積層体の製造方法は、下記の実施例に限定されない。

光学積層体のサンプルとして、サンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫを比較例として作成し、サンプルＦ～サンプルＪを実施例として作成した。また、サンプルＡ～サンプルＪの作成にあたり、樹脂Ａおよび樹脂Ｂを準備した。樹脂Ａの組成は、下記表１に示される。樹脂Ｂの組成は、下記表２に示される。なお、表１、２中の配合比の単位は、重量％である。

［サンプルＡ：比較例］
透明基材１１として、ＴＡＣフィルム（富士フイルム製ＺＲＤ６０ＳＬ）を用いた。そして、樹脂Ａ：７．３重量％、酢酸ブチル：９１．２重量％、レベリング剤ＢＹＫ－３７７：０．７５重量％、積水化成製有機フィラーＳＳＸ－１０１：０．７５重量％を含有する混合樹脂を、透明基材１１上にスピンコートによって塗工した。スピンコート条件は３５００ｒｐｍとした。その後、混合樹脂が塗工された透明基材１１を、８０℃環境下で１分乾燥後、ＵＶ照射を行い、混合樹脂を硬化させて、透明基材１１上にハードコート層を形成した。そして、スパッタリング装置を用いて、ハードコート層上に金属酸化物層を形成した後、蒸着機を用いて防汚層の形成を行い、サンプルＡを得た。

比較例に係るサンプルＡでは、高さの異なる突起状構造が複数点在していることが確認できた。また、比較例に係るサンプルＡでは、凸部よりも凹部が多く形成されていた。

［サンプルＢ：比較例］
樹脂Ａ：９．８重量％、酢酸ブチル：８８重量％、レベリング剤ＢＹＫ－３７７：１．２重量％、積水化成製有機フィラーＢＭＳＡ－１８ＧＮ：１．０重量％とした以外は、サンプルＡと同様にして、サンプルＢを得た。

比較例に係るサンプルＢは、高さの異なる突起状構造が、浮島状に複数点在していることが確認できた。また、比較例に係るサンプルＢは、凸部よりも凹部が多く形成されていた。

[サンプルＣ：比較例]
樹脂Ａ：１１．１重量％、酢酸ブチル：８６．５重量％、レベリング剤ＢＹＫ－３７７：１．３重量％、積水化成製有機フィラーＢＭＳＡ－１８ＧＮ：１．１重量％とした以外は、サンプルＡと同様にして、サンプルＣを得た。

比較例に係るサンプルＣは、高さの異なる突起状構造が、浮島状に複数点在していることが確認できた。また、比較例に係るサンプルＢは、凸部と凹部とが略等しく形成されていた。

[サンプルＤ：比較例]
透明基材１１およびハードコート層を、厚み６０μｍのＴＡＣ基材上に、粒子径２μｍを中心としたフィラー粒子を含有したアクリル系樹脂組成物の硬化物を備えた市販フィルムＡとしたこと以外は、サンプルＡと同様にして、サンプルＤを得た。

比較例に係るサンプルＤは、高さの異なる突起状構造が、複数点在していることが確認できた。

[サンプルＥ：比較例]
透明基材１１およびハードコート層を、厚み６０μｍのＴＡＣ基材上に、粒子径５μｍを中心としたフィラー粒子を含有したアクリル系樹脂組成物の硬化物を備えた市販フィルムＢとしたこと以外は、サンプルＡと同様にして、サンプルＥを得た。

比較例に係るサンプルＥは、高さの異なる突起状構造が、複数点在していることが確認できた。

［サンプルＦ：実施例］
透明基材１１として、ＴＡＣフィルム（富士フイルム製ＺＲＤ６０ＳＬ）を用いた。透明基材１１上に、樹脂Ｂを膜厚１０μｍとなるように、既知の手法を用いて塗工した。その後、樹脂Ｂが塗工された透明基材１１を、８０℃環境下で１分乾燥後、サンプルＡを転写型１５０としてラミネートした。そして、ＵＶ照射を行い、樹脂Ｂを硬化させた後、サンプルＡを転写型１５０から剥離して、透明基材１１上にハードコート層１２を形成した。続いて、スパッタリング装置を用いて、ハードコート層１２上に金属酸化物層（密着層１３および反射防止層１４）を形成した後、蒸着機を用いて防汚層１５の形成を行い、サンプルＦを得た。

実施例に係るサンプルＦでは、相互に実質的に同一の高さを有する複数の凸部６２が、浮島状に形成されていることが確認できた。また、サンプルＦにおいて、凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有することが確認できた。さらに、実施例に係るサンプルＦは、凹部６４よりも凸部６２が多く形成されていた。

[サンプルＧ]
ラミネートする転写型１５０をサンプルＢとした以外は、サンプルＦと同様とし、サンプルＧを得た。

実施例に係るサンプルＧは、相互に実質的に同一の高さを有する複数の凸部６２が、浮島状に形成されていることが確認できた。また、サンプルＧにおいて、凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有することが確認できた。さらに、実施例に係るサンプルＧは、凹部６４よりも凸部６２が多く形成されていた。

[サンプルＨ]
ラミネートする転写型１５０をサンプルＣとした以外は、サンプルＦと同様とし、サンプルＨを得た。

実施例に係るサンプルＨは、相互に実質的に同一の高さを有する複数の凸部６２が、浮島状に形成されていることが確認できた。また、サンプルＨにおいて、凸部６２の頂部６２ａのそれぞれは、実質的な平坦面を有することが確認できた。さらに、実施例に係るサンプルＨは、凸部６２と凹部６４とが略等しく形成されていた。

[サンプルＩ]
ラミネートする転写型１５０をサンプルＤとした以外は、サンプルＦと同様とし、サンプルＩを得た。

実施例に係るサンプルＩは、相互に実質的に同一の高さを有する複数の凸部６２が、浮島状に形成されていることが確認できた。

[サンプルＪ]
ラミネートする転写型１５０をサンプルＥとした以外は、サンプルＦと同様とし、サンプルＪを得た。

実施例に係るサンプルＪは、相互に実質的に同一の高さを有する複数の凸部６２が、浮島状に形成されていることが確認できた。

［サンプルＫ：比較例］
透明基材１１として、ＴＡＣフィルム（富士フイルム製ＺＲＤ６０ＳＬ）を用いた。透明基材１１上に、樹脂Ｂを膜厚１０μｍとなるように、既知の手法を用いて塗工した。その後、樹脂Ｂが塗工された透明基材１１を、８０℃環境下で１分乾燥後、サンプルＪを転写型１５０としてラミネートした。そして、ＵＶ照射を行い、樹脂Ｂを硬化させた後、サンプルＪを転写型１５０から剥離して、透明基材１１上にハードコート層を形成した。続いて、スパッタリング装置を用いて、ハードコート層上に金属酸化物層を形成した後、蒸着機を用いて防汚層の形成を行い、サンプルＫを得た。

比較例に係るサンプルＫは、高さの異なる突起状構造が、複数点在していることが確認できた。

［形状の評価］
日立ハイテクノロジーズ社製 走査型白色干渉顕微鏡 ＶＳ１８００を用いて、サンプルＡ～Ｋの表面形状を撮像した。撮像時の対物レンズは２０倍とした。撮像後、撮像画像の各画素の高さの測定データが記録されたｃｓｖファイルを取得した。そして、ｃｓｖファイルから高さの最低点を検出したのち、全データに対して最低点が０（ゼロ）となるようにオフセットをかけた。その後、高さの最高点を検出し、ヒストグラムを作成した。そして、ヒストグラムに基づき、上記式（１）に示す最高点の高さＡおよび最頻値Ｐの値を得た。

図８は、比較例に係るサンプルＡのヒストグラムを示す図である。図９は、比較例に係るサンプルＢのヒストグラムを示す図である。図１０は、比較例に係るサンプルＣのヒストグラムを示す図である。図１１は、比較例に係るサンプルＤのヒストグラムを示す図である。図１２は、比較例に係るサンプルＥのヒストグラムを示す図である。図１３は、比較例に係るサンプルＫのヒストグラムを示す図である。なお、図８～図１３中、破線は、「Ａ／１．９」の値を示す。

図８に示すように、比較例に係るサンプルＡの最高点の高さＡは、３．４１μｍであり、最頻値Ｐは、１．７６であった。したがって、サンプルＡは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図８に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図９に示すように、比較例に係るサンプルＢの最高点の高さＡは、２．２１μｍであり、最頻値Ｐは、０．４３であった。したがって、サンプルＢは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図９に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図１０に示すように、比較例に係るサンプルＣの最高点の高さＡは、１．７１μｍであり、最頻値Ｐは、０．３０であった。したがって、サンプルＣは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図１０に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図１１に示すように、比較例に係るサンプルＤの最高点の高さＡは、１．２９μｍであり、最頻値Ｐは、０．３０であった。したがって、サンプルＤは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図１１に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図１２に示すように、比較例に係るサンプルＥの最高点の高さＡは、２．５１μｍであり、最頻値Ｐは、０．４９であった。したがって、サンプルＥは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図１２に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図１３に示すように、比較例に係るサンプルＫの最高点の高さＡは、１．９０μｍであり、最頻値Ｐは、０．５９であった。したがって、サンプルＫは、Ａ／１．９>Ｐとなる。つまり、図１３に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の左側に位置する。

図１４は、実施例に係るサンプルＦのヒストグラムを示す図である。図１５は、実施例に係るサンプルＧのヒストグラムを示す図である。図１６は、実施例に係るサンプルＨのヒストグラムを示す図である。図１７は、実施例に係るサンプルＩのヒストグラムを示す図である。図１８は、実施例に係るサンプルＪのヒストグラムを示す図である。なお、図１４～図１８中、破線は、「Ａ／１．９」の値を示す。

図１４に示すように、実施例に係るサンプルＦの最高点の高さＡは、３．２６μｍであり、最頻値Ｐは、２．６２であった。したがって、サンプルＦは、Ａ／１．９<Ｐとなる。つまり、図１４に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の右側に位置する。

図１５に示すように、実施例に係るサンプルＧの最高点の高さＡは、２．６６μｍであり、最頻値Ｐは、２．２１であった。したがって、サンプルＧは、Ａ／１．９<Ｐとなる。つまり、図１５に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の右側に位置する。

図１６に示すように、実施例に係るサンプルＨの最高点の高さＡは、１．６７μｍであり、最頻値Ｐは、１．１７であった。したがって、サンプルＨは、Ａ／１．９<Ｐとなる。つまり、図１６に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の右側に位置する。

図１７に示すように、実施例に係るサンプルＩの最高点の高さＡは、１．２２μｍであり、最頻値Ｐは、０．８７であった。したがって、サンプルＩは、Ａ／１．９<Ｐとなる。つまり、図１７に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の右側に位置する。

図１８に示すように、実施例に係るサンプルＪの最高点の高さＡは、２．５７μｍであり、最頻値Ｐは、２．０８であった。したがって、サンプルＪは、Ａ／１．９<Ｐとなる。つまり、図１７に示すヒストグラムにおいて、最頻値Ｐは、Ａ／１．９を示す破線の右側に位置する。

以上の結果から、実施例に係るサンプルＦ、サンプルＧ、サンプルＨ、サンプルＩ、および、サンプルＪは、上記式（１）を満たすことが確認された。つまり、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、光学積層体１０の最外表面（防汚層１５の表面）の凹凸面６０において、複数の凸部６２の頂部６２ａが、相互に実質的に同一の高さを有し、また、複数の凸部６２の頂部６２ａそれぞれが実質的な平坦面を有し、凹凸面６０が耐擦傷性に優れた粗面構造になっていることが確認された。

一方、比較例に係るサンプルＡ、サンプルＢ、サンプルＣ、サンプルＤ、サンプルＥ、および、サンプルＫは、上記式（１）を満たさないことが確認された。つまり、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥ、および、サンプルＫは、光学積層体の最外表面（防汚層の方面）の凹凸面において、複数の凸部の頂部それぞれの高さが、実質的に同一ではなく、凹凸面が、相互に高さの異なる尖った突起（尖端）を多く含む突起状構造になっており、耐擦傷性に劣ることが確認された。

［耐擦傷性の評価］
比較例に係るサンプルＡ～ＥおよびサンプルＫ、ならびに、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪをそれぞれ１００ｍｍ×５０ｍｍの青板ガラスに、巴川製紙所製の透明ＰＳＡ：（ＴＤ０６Ａ）を用いて貼合して、試験片を作成した。続いて、ＪＩＳ Ｌ０８４９に準拠した摩擦試験機Ｉ形を用いて、各試験片の表面に沿って、摩擦体を水平往復運動させた。摩擦体としてスチールウール（ボンスター株式会社製 ＃００００番）を用いた。この摩擦試験の条件設定は、荷重１ｋｇ、接触面積１ｃｍ×１ｃｍ、摺動距離５０ｍｍ、摺動速度６０往復／ｍｉｎとした。また、水平往復回数を２０００回とした。その後、純水接触角を測定した。

純水接触角（ＷＣＡ）は、全自動接触角計ＤＭ－７００（協和界面化学株式会社製）を用い、以下の条件で楕円フィッティング法によって測定した。蒸留水をガラスシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて、試験片それぞれに純水を滴下した。
純水の滴下量：２．０μＬ
測定温度：２５℃
純水を滴下して４秒経過後の接触角を、試験片表面の任意の６か所で測定し、その平均値を純水接触角（ＷＣＡ）とした。

［光学評価］
比較例に係るサンプルＡ～ＥおよびサンプルＫ、ならびに、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪの外部ヘーズ値を測定した。外部ヘーズ値の測定は、日本電色製ＮＤＨ－７０００を使用し、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて行った。

以上の実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪで測定された結果をまとめて下記の表３１に示す。また、比較例に係るサンプルＡ～ＥおよびサンプルＫで測定された結果をまとめて下記の表４に示す。

表３および表４の結果を参照すると、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪの外部ヘーズ値［％］は、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫと同様に、３％以上４０％以下であることが分かる。したがって、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫと同程度の外部ヘーズ値［％］を有することが確認された。

また、表３および表４の結果を参照すると、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪの表面粗さＳａ［ｎｍ］は、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫと同様に、６０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下であることが分かる。したがって、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫと同程度の表面粗さＳａを有することが確認された。

以上の外部ヘーズ値［％］および表面粗さＳａ［ｎｍ］の測定結果から、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫと同程度の防眩性を有することが分かった。

また、表３の結果を参照すると、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、上記式（１）を満たすことが確認された。つまり、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、最外表面（防汚層１５）の凹凸面６０を構成する複数の凸部６２の頂部６２ａが、相互に実質的に同一の高さを有し、また、複数の凸部６２の頂部６２ａのそれぞれが、実質的な平坦面を有することが確認された。

一方、表４の結果を参照すると、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫは、上記式（１）を満たさないことが確認された。つまり、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥ、および、サンプルＫは、最外表面（防汚層）の凹凸面を構成する複数の凸部の頂部それぞれの高さが、実質的に同一ではなく、頂部が平坦面ではない、すなわち、相互に高さの異なる複数の突起を有する突起状構造を備えることが確認された。

また、表３の結果を参照すると、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪに対し、摩擦試験を行った後の、最外表面の水に対する接触角は、９０度以上であることが確認された。これにより、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪは、耐擦傷性が高いことが分かった。

一方、表４の結果を参照すると、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫに対し、摩擦試験を行った後の、最外表面の水に対する接触角は、５８度以下であることが確認された。

つまり、実施例に係るサンプルＦ～サンプルＪに対し、摩擦試験を行った後の、最外表面の水に対する接触角は、比較例に係るサンプルＡ～サンプルＥおよびサンプルＫの接触角の１．５７倍～１．９６倍であった。

以上説明したように、本実施形態によれば、１～１０μｍ程度のフィラー粒子によって凹凸構造を形成する従来技術と同程度の防眩性を有しつつ、従来技術よりも耐擦傷性を大幅に向上させた光学積層体１０、および、これを備える偏光板ならびに画像表示装置を提供することが可能となる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

なお、上記実施形態において、光学積層体１０が、密着層１３、反射防止層１４および、防汚層１５を備える場合を例に挙げた。しかし、光学積層体１０は、ハードコート層１２上に、金属酸化物からなる少なくとも１層以上の金属酸化物層を備えていればよい。金属酸化物層は、上述した各種の光学機能層であってもよい。例えば、光学積層体１０は、透明基材１１と、ハードコート層１２と、密着層１３と、光学機能層と、防汚層１５とを備えていてもよい。また、密着層１３または防汚層１５のいずれか一方もしくは双方を設けなくてもよい。

１０ 光学積層体
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 密着層（金属酸化物層）
１４ 反射防止層（金属酸化物層）
１４ａ 高屈折率層
１４ｂ 低屈折率層
１５０ 転写型
３０ 凹凸構造
３２ 凸部
３２ａ 頂部
３４ 凹部
６０ 凹凸面
６２ 凸部
６２ａ 頂部
６４ 凹部

Claims (15)

1. 透明基材と、
   前記透明基材上に設けられ、樹脂組成物からなる少なくとも１層以上のハードコート層と、
   前記ハードコート層上に設けられ、金属酸化物からなる少なくとも１層以上の金属酸化物層と、
   を備え、
   前記ハードコート層の前記金属酸化物層側の表面に凹凸構造が形成されており、
   前記凹凸構造の表面の高さ分布は、以下の式（１）を満たす、光学積層体。
   Ａ／１．９ < Ｐ ・・・（１）
   Ａ：前記凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、前記凹凸構造の表面の最高点の高さ
   Ｐ：前記凹凸構造の表面の最低点の高さＢを０としたときの、前記凹凸構造の表面の高さ分布の最頻値
2. 前記ハードコート層の前記凹凸構造を構成する複数の凸部の頂部は、相互に実質的に同一の高さを有する、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記光学積層体の最外表面は、前記ハードコート層の前記凹凸構造の形状に追従した凹凸面となっており、
   前記凹凸面を構成する複数の凸部の頂部は、相互に実質的に同一の高さを有する、請求項２に記載の光学積層体。
4. 前記ハードコート層の前記凹凸構造を構成する複数の凸部の頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
5. 前記光学積層体の最外表面は、前記ハードコート層の前記凹凸構造の形状に追従した凹凸面となっており、
   前記凹凸面を構成する複数の凸部の頂部のそれぞれは、実質的な平坦面を有する、請求項４に記載の光学積層体。
6. 前記ハードコート層の前記凹凸構造の表面粗さＳａが、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
7. スチールウールを用いた摩擦試験機を用いて、前記スチールウールを前記光学積層体の表面に対して、荷重：１ｋｇ、接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、往復運動：２０００回の条件で摩擦した後の前記光学積層体の最外表面の水に対する接触角は、９０度以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
8. ＪＩＳ Ｋ７１３６で規定される外部ヘーズ値が、３％以上、４０％以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
9. 前記ハードコート層は、平均粒径が２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
10. 前記ハードコート層は、平均粒径が１μｍ以上のフィラー粒子を含まない、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
11. 前記金属酸化物層は、反射防止層を含み、
    前記反射防止層は、低屈折率層と、前記低屈折率層よりも大きい屈折率を有する高屈折率層とが交互に積層された積層体からなり、
    前記光学積層体は、防眩機能および反射防止機能を有する反射防止フィルムである、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
12. 前記金属酸化物層は、前記ハードコート層と前記反射防止層との間に設けられる密着層を含む、請求項１１に記載の光学積層体。
13. 請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体を備える、偏光板。
14. 請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体を備える、画像表示装置。
15. 請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体の製造方法であって、
    透明基材上に樹脂組成物からなるハードコート層を設ける工程と、
    前記ハードコート層上に少なくとも１層以上の金属酸化物層を設ける工程と、
    前記金属酸化物層上に防汚層を設ける工程と、
    を含み、
    前記ハードコート層を設ける工程は、
    前記透明基材の表面に前記樹脂組成物を塗布する工程と、
    前記樹脂組成物に転写型の凹凸形状を転写する工程と、
    を有する、光学積層体の製造方法。

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