JP5961906B2 - 超撥水基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1 特開2006−83244
1)平均間隔を20μmに設定してボロノイダイアグラムの単位セルを形成し、そのボロノイダイアグラムパターンの単位セルの重さ中心に直径3μmの円状のパターンを設計した後、上記ボロノイダイアグラムパターンを除去することで、擬似乱数分布で配列された複数の円状のパターンを設計する。
2)クロム薄膜が形成され、上記クロム薄膜上にフォトレジストがコーティングされた石英材質の基板に上記設計されたパターンを転写し、転写されたフォトレジストを形状化する。
3)現像後に生成されたフォトレジストパターンを膜にしてクロム薄膜をエッチングした後、残ったフォトレジストを除去する。
4)フォトレジストの除去及び洗浄後、マスク上の欠陥有無を検査し、欠陥をリペアしてフォトマスクを完成させる。
1)ポリメチルメタクリレート(Polymethyl Methacrylate、PMMA)の基板を用意し、上記基板の一表面にSu−8感光剤を塗布する。
2)(1)において製作されたフォトマスクを介入させて上記感光剤層に紫外線を照射してから現像する。現像後に露光されていない領域を除去することで、複数の突出部を含む超撥水基板を製造する。
上記製造された超撥水基板の表面にポリテトラフルオロエチレン(PolyTetraFluoroEthylene、PTFE)をコーティングする。
Kruss dsa−100測定機を用いて超撥水基板の表面における接触角を測定した。
(2)ヘイズの測定
Murakami color research labのHR−100を用いて超撥水基板の透明度を測定した。
Claims (10)
- 可視光領域において透明な基板の一表面にボロノイダイアグラム(voronoi diagram)を用いて配列された複数の突出部を含み、前記複数の突出部間の平均間隔が1μm以上50μm以下であり、前記複数の突出部は、隣接した突出部間の間隔が正規分布を満たし、ヘイズは、2以下である、超撥水基板。
- 前記正規分布の標準偏差は、前記複数の突出部間の平均間隔の1/20以上1/4以下である、請求項1に記載の超撥水基板。
- 前記複数の突出部の形状は、円筒型または円錐型であり、前記複数の突出部の直径は、前記複数の突出部間の平均間隔の5%以上30%以下である、請求項1または2に記載の超撥水基板。
- 前記複数の突出部を含む表面に疏水性物質のコーティング層をさらに含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の超撥水基板。
- 前記疏水性物質は、フッ素系化合物またはシラン系化合物である、請求項4に記載の超撥水基板。
- a)可視光領域において透明な基板の一表面にボロノイダイアグラム(voronoi diagram)を用いて配列された複数の光透過部または光遮断部を有し、前記複数の光透過部または光遮断部の平均間隔が1μm以上50μm以下である、フォトマスクを製造する段階と、
b)前記a)段階において製造されたフォトマスクを用いて基板表面に隣接した突出部間の間隔が正規分布を満たす、複数の突出部を形成する段階と、を含み、ヘイズは、2以下である、超撥水基板の製造方法。 - 前記a)段階の光透過部または光遮断部の直径が前記光透過部または光遮断部間の平均間隔の5%以上30%以下である、請求項6に記載の超撥水基板の製造方法。
- 前記複数の突出部が形成された基板表面に疏水性物質をコーティングする段階をさらに含む、請求項6または7に記載の超撥水基板の製造方法。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の超撥水基板を含む、ディスプレイ装置。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の超撥水基板を含む、自動車ガラス。
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