CN108303755A - 一种对光学器件进行疏水处理的方法 - Google Patents

一种对光学器件进行疏水处理的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108303755A
CN108303755A CN201810124578.6A CN201810124578A CN108303755A CN 108303755 A CN108303755 A CN 108303755A CN 201810124578 A CN201810124578 A CN 201810124578A CN 108303755 A CN108303755 A CN 108303755A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light transmission
isolation film
optical device
mirror
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN201810124578.6A
Other languages
English (en)
Inventor
程桂平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN201810124578.6A priority Critical patent/CN108303755A/zh
Publication of CN108303755A publication Critical patent/CN108303755A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect

Abstract

一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁。

Description

一种对光学器件进行疏水处理的方法
技术领域
本发明涉及一种对光学器件进行疏水处理的方法。
背景技术
现有技术中,光学器件的疏水处理往往效率很低,无法彻底进行疏水处理,而且流程复杂,成本很高。
发明内容
本发明提供了一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
本发明的发明点是:1)整体方案;2)所选材料;3)具体组分。
具体实施方式
实施例1
一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
实施例2
一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
实施例3一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。

Claims (2)

1.一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤3:将上述玻璃镜面与疏水化合物置于溶 液中,在摄氏30度的温度条件下反应进行改质,所述疏水化合物由以下质量份数的物质组 成:8份13氟硅氧烷、5份15氟硅氧烷、8份17氟硅氧烷;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
步骤5:将该透光隔离膜与疏水化合物至于溶 液中,在摄氏50度的温度条件下反应,所述疏水化合物由以下质量份数的物质组成:10份13 氟硅氧烷、5份15氟硅氧烷、8份17氟硅氧烷。
2.本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
CN201810124578.6A 2018-02-07 2018-02-07 一种对光学器件进行疏水处理的方法 Withdrawn CN108303755A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810124578.6A CN108303755A (zh) 2018-02-07 2018-02-07 一种对光学器件进行疏水处理的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810124578.6A CN108303755A (zh) 2018-02-07 2018-02-07 一种对光学器件进行疏水处理的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108303755A true CN108303755A (zh) 2018-07-20

Family

ID=62864864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810124578.6A Withdrawn CN108303755A (zh) 2018-02-07 2018-02-07 一种对光学器件进行疏水处理的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108303755A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102686527A (zh) * 2009-12-31 2012-09-19 埃西勒国际通用光学公司 包含具有改进的耐久性的临时性防雾涂层的光学制品
CN102998723A (zh) * 2012-11-29 2013-03-27 法国圣戈班玻璃公司 减反光学组件及制造方法
CN103443660A (zh) * 2011-11-25 2013-12-11 Lg化学株式会社 超疏水基板及其制造方法
CN105785484A (zh) * 2016-05-06 2016-07-20 浙江工贸职业技术学院 一种自清洁光学树脂镜片及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102686527A (zh) * 2009-12-31 2012-09-19 埃西勒国际通用光学公司 包含具有改进的耐久性的临时性防雾涂层的光学制品
CN103443660A (zh) * 2011-11-25 2013-12-11 Lg化学株式会社 超疏水基板及其制造方法
CN102998723A (zh) * 2012-11-29 2013-03-27 法国圣戈班玻璃公司 减反光学组件及制造方法
CN105785484A (zh) * 2016-05-06 2016-07-20 浙江工贸职业技术学院 一种自清洁光学树脂镜片及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4181751A (en) Process for the preparation of low temperature silicon nitride films by photochemical vapor deposition
US7541264B2 (en) Temporary wafer bonding method for semiconductor processing
TW200712000A (en) Method for producing porous silica and apparatus for producing thereof
CN102592964B (zh) 一种石墨烯薄膜的衬底转移方法
EP2264113A3 (en) Temporary bonding adhesive for a semiconductor wafer and method for manufacturing a semiconductor device using the same, and use of a resin composition as a temporary bonding adhesive
EP1883102A3 (en) Method for improving the quality of an SiC crystal and SiC semiconductor device
CN103589387A (zh) Led用高强度粘接性室温固化有机硅灌封胶及其制备方法
NO20083285L (no) Fremgangsmate og anordning for presisjonsbearbeiding av substrater ved hjelp av laser anordnet i en vaeskestromning, og anvendelse derav
JP2016529342A (ja) 高温剥離性接着剤
CN112358619A (zh) 一种粘度可调甲基改性聚硅氧烷的制备方法
AU2019204970A1 (en) Method for perforating carbon nanomaterial, and method for producing filter molded article
CN107585762A (zh) 一种铜箔基底石墨烯转移的改良方法
CN108303755A (zh) 一种对光学器件进行疏水处理的方法
CN108516541B (zh) 一种cvd石墨烯干法转移方法
KR102168052B1 (ko) 1k uv 및 열 경화성 고온 탈결합가능한 접착제
CN103928296A (zh) 一种将石墨烯转移到具有pdms过渡层硬质衬底上的方法
CN108375810A (zh) 一种对光学器件进行亲水处理的方法
CN112321632A (zh) 一种用于水性体系的硅烷共聚物及其制备方法
JP7359272B2 (ja) 微小構造体が実装された回路基板の製造方法
CN111116965A (zh) 一种用于丝素蛋白基生物传感器的柔性剥离方法
CN105047528B (zh) 一种用于制备大面积柔性超薄单晶硅片的湿法化学腐蚀法
CN114106771A (zh) 一种高柔顺低渗出的透明硅凝胶
CN105895521B (zh) 一种氧化硅刻蚀的方法
CN108394896A (zh) 一种气体剥离辅助制备氧化石墨烯膜的方法
CN103570947A (zh) 一种非水解法制备苯基乙烯基硅树脂的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20180720

WW01 Invention patent application withdrawn after publication