CN108303755A - 一种对光学器件进行疏水处理的方法 - Google Patents
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Abstract
一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁。
Description
技术领域
本发明涉及一种对光学器件进行疏水处理的方法。
背景技术
现有技术中,光学器件的疏水处理往往效率很低,无法彻底进行疏水处理,而且流程复杂,成本很高。
发明内容
本发明提供了一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
本发明的发明点是:1)整体方案;2)所选材料;3)具体组分。
具体实施方式
实施例1
一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
实施例2
一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
实施例3一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
Claims (2)
1.一种对光学器件进行疏水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:
步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;
步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;
步骤3:将上述玻璃镜面与疏水化合物置于溶
液中,在摄氏30度的温度条件下反应进行改质,所述疏水化合物由以下质量份数的物质组
成:8份13氟硅氧烷、5份15氟硅氧烷、8份17氟硅氧烷;
步骤4:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,接着通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;
步骤5:将该透光隔离膜与疏水化合物至于溶
液中,在摄氏50度的温度条件下反应,所述疏水化合物由以下质量份数的物质组成:10份13
氟硅氧烷、5份15氟硅氧烷、8份17氟硅氧烷。
2.本发明的方法能够应用到智能手机,精密仪器,医疗设备等领域。
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2018
- 2018-02-07 CN CN201810124578.6A patent/CN108303755A/zh not_active Withdrawn
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WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |