JP6210875B2 - ヘッド・ジンバル・アセンブリ - Google Patents

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Description

本発明は、ヘッド・ジンバル・アセンブリ、詳しくは、詳しくは、ハードディスクドライブに用いられるヘッド・ジンバル・アセンブリに関する。
従来、回路付サスペンション基板に、種々の電子素子、具体的には、例えば、磁気ヘッドが実装されたスライダおよびピエゾ素子(圧電素子)を搭載したヘッド・ジンバル・アセンブリが知られている。このようなヘッド・ジンバル・アセンブリでは、ピエゾ素子の伸縮によって、スライダの位置を調整して、磁気ヘッドによる書込および読込の精度を向上させている。
例えば、回路付サスペンション基板のジンバル部に、スライダおよび1対のピエゾ素子を実装したヘッド・ジンバル・アセンブリが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、1対のピエゾ素子のそれぞれが、回路付サスペンション基板の長手方向に沿って平行に配置されている。詳しくは、1対のピエゾ素子のそれぞれは、長手方向に間隔を隔てて配置される基部、および、スライダが搭載されるステージを架設するように配置されており、一方のピエゾ素子を収縮させる一方、他方のピエゾ素子を伸長させることによって、ステージおよびスライダを幅方向に揺動させている。
特開2013−062012号公報
近年、ピエゾ素子の伸縮に基づいて、スライダを幅方向により大きく移動させて、磁気ヘッドの位置を大きく調整したい要求がある。しかし、特許文献1に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、1対のピエゾ素子が平行に配置されているので、上記要求を満足させることができないという不具合がある。
本発明の目的は、スライダを大きく移動させて、磁気ヘッドの位置を大きく調整することのできるヘッド・ジンバル・アセンブリを提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリは、回路付サスペンション基板と、前記回路付サスペンション基板に、伸縮可能に搭載される1対の圧電素子と、前記回路付サスペンション基板に搭載され、前記1対の圧電素子の伸縮によって揺動可能に構成され、磁気ヘッドを実装するスライダとを備え、一方の前記圧電素子の伸縮方向に沿う第1仮想線と、他方の前記圧電素子の伸縮方向に沿う第2仮想線とが交差するように、前記1対の圧電素子が前記回路付サスペンション基板に配置されていることを特徴としている。
このヘッド・ジンバル・アセンブリでは、一方の圧電素子の伸縮方向に沿う第1仮想線と、他方の圧電素子の伸縮方向に沿う第2仮想線とが交差するように、1対の圧電素子が回路付サスペンション基板に配置されているので、一方の圧電素子を伸長させ、他方の圧電素子を収縮させれば、スライダを第1仮想線および第2仮想線に対する交差方向に、大きく揺動させることができる。
そのため、磁気ヘッドの交差方向における位置を大きく調整することができる。
また、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、前記スライダは、前記第1仮想線および前記第2仮想線の交点から一方の前記圧電素子までの第1線分と、前記交点から他方の前記圧電素子までの第2線分との成す角の二等分線上に配置されていることが好適である。
このヘッド・ジンバル・アセンブリによれば、スライダは、第1仮想線および第2仮想線の交点から一方の圧電素子までの第1線分と、交点から他方の圧電素子までの第2線分との成す角の二等分線上に配置されているので、スライダを交点に対する第1線分側および第2線分側の両側にバランスよく揺動させることができる。
また、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、前記第1線分と前記第2線分との成す角度が、90度以下であることが好適である。
このヘッド・ジンバル・アセンブリによれば、第1線分と第2線分との成す角度が特定値以下であるので、回路付サスペンション基板のデザイン上の制約を受けにくくしながら、スライダを揺動させることができる。
また、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、前記第1仮想線と前記第2仮想線とは、前記1対の圧電素子から前記スライダに向かうに従って、互いに近接することが好適である。
このヘッド・ジンバル・アセンブリによれば、第1仮想線と第2仮想線とは、1対の圧電素子からスライダに向かうに従って、互いに近接するので、第1仮想線と第2仮想線とが互いに離間する場合に比べて、1対の圧電素子のスライダ側端部の間の長さを短くすることができる。そのため、1対の圧電素子のうち、一方を伸長させ、他方を収縮させたときに、スライダをより大きく揺動させることができる。
また、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、前記1対の圧電素子は、前記第1線分と前記第2線分との成す角の二等分線に対して線対称に配置されていることが好適である。
このヘッド・ジンバル・アセンブリによれば、1対の圧電素子は、第1線分と第2線分との成す角の二等分線に対して線対称に配置されているので、1対の圧電素子のうち、一方を伸長させ、他方を収縮させれば、スライダを交点に対する第1線分側および第2線分側の両側にバランスよく揺動させることができる。
本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリによれば、磁気ヘッドの交差方向における位置を大きく調整することができる。
図1は、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリの第1実施形態の平面図を示す。 図2は、図1に示すヘッド・ジンバル・アセンブリのジンバル部の拡大平面図を示す。 図3は、図2に示すジンバル部のA−A線に沿う断面図を示す。 図4は、図2に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の拡大平面図を示す。 図5は、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリの第2実施形態(第2仮想線が先後方向に対して平行である態様)のジンバル部の平面図を示す。 図6は、本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリの第3実施形態(第1仮想線と第2仮想線とが、1対のピエゾ素子からスライダに向かうに従って互いに離間する態様)の平面図を示す。 図7は、第1実施形態および第3実施形態のステージの揺動を示す平面図であり、図7Aは、第1実施形態のステージの揺動を示す平面図、図7Bは、第3実施形態のステージの揺動を示す平面図を示す。
[第1実施形態の構成]
本発明のヘッド・ジンバル・アセンブリの第1実施形態を、図1〜図4を参照して説明する。なお、図1において、紙面左側を先側(第1方向一方側)、紙面右側を後側(第1方向他方側)、紙面上側を左側(第1方向に直交する第2方向一方側、幅方向(交差方向の一例)一方側)、紙面下側を右側(第2方向他方側、幅方向他方側)、紙面紙厚方向手前側を上側(第1方向および第2方向に直交する第3方向一方側)、紙面紙厚方向奥側を下側(第3方向他方側)とする。図2以降の各図の方向は、図1の方向を基準とする。
なお、図1、図2および図4において、後述するベース絶縁層7およびカバー絶縁層8は、後述する金属支持基板5、導体層6およびスライダ26の相対配置を明瞭に示すため、省略している。 図1および図2において、このヘッド・ジンバル・アセンブリ1は、回路付サスペンション基板2と、回路付サスペンション基板2に、伸縮可能に搭載される1対の圧電素子としての1対のピエゾ素子23と、回路付サスペンション基板2に搭載されるスライダ26とを備える。このヘッド・ジンバル・アセンブリ1は、ハードディスクドライブ(図示せず)に搭載される。
回路付サスペンション基板2では、金属支持基板5に導体層6が支持されている。
金属支持基板5は、先後方向(長手方向)に延びる平面視略矩形平帯状に形成されており、本体部3と、本体部3の先側に形成されるジンバル部4とを一体的に備えている。
本体部3は、平面視略矩形状に形成されている。
ジンバル部4は、本体部3の先端から先側に延びるように形成されている。また、ジンバル部4には、厚み方向を貫通する平面視略矩形状の基板開口部11が形成されている。ジンバル部4は、基板開口部11の幅方向(先後方向に直交する方向)外側に仕切られるアウトリガー部14と、アウトリガー部14に連結されるタング部12とを備えている。
アウトリガー部14は、本体部3の幅方向両端部から先側に向かって直線状に延びるように形成されている。
タング部12は、図2に示すように、アウトリガー部14の幅方向内側に設けられ、アウトリガー部14の先端部から幅方向内側斜め後方に向かって延びる第1連結部13を介して、アウトリガー部14に連結されている。タング部12は、平面視略H字状に形成されており、幅方向に長く延びる平面視略矩形状の基部15と、基部15の先側に間隔を隔てて配置され、幅方向に長く延びる平面視略矩形状のステージ17と、基部15およびステージ17の幅方向中央を接続し、先後方向に長い平面視略矩形状の中央部16とを一体的に備えている。
ステージ17は、スライダ26を実装するために設けられており、可撓性の第2連結部20によって、アウトリガー部14に接続されている。第2連結部20は、各アウトリガー部14の先端と、ステージ17の幅方向両端を湾曲状に連結する湾曲部21と、各アウトリガー部14の先端と、ステージ17の先端とを連結するE字部22とを備えている。
湾曲部21は、アウトリガー部14の先端から幅方向内側斜め先側に向かって湾曲状に延び、ステージ17の幅方向両端に至っている。
E字部22は、平面視略E字状をなし、具体的には、両アウトリガー部14の先端から先側に向かって延び、その後、幅方向内側に屈曲し、幅方向内側に延びて合一となった後、後側に屈曲して、ステージ17の先端に至っている。
中央部16は、幅方向に湾曲可能な幅狭に形成されている。
導体層6は、図1に示すように、外部側端子10と、ヘッド側端子18と、ピエゾ先側端子24と、ピエゾ後側端子25と、配線9とを備えている。
外部側端子10は、本体部3の後端部に設けられ、先後方向に互いに間隔を隔てて複数(8個)配置されている。
ヘッド側端子18は、図2に示すように、ステージ17の先端部に設けられ、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(4個)配置されている。
ピエゾ先側端子24は、ステージ17の幅方向外側部の後端縁から後方に向かって突出するように形成され、中央部16の幅方向両外側に互いに間隔を隔てて複数(2個)配置されている。詳しくは、ピエゾ先側端子24は、ステージ17の後端部の配線9(後述)が、ステージ17の後端縁から後側斜め幅方向外側に向かって傾斜して突出し、かつ、幅方向に膨出するように形成されている。また、ピエゾ先側端子24は、長手方向に延びる平面視略矩形状をなし、その長手方向が幅方向内側に向かうに従って後側に傾斜するように形成されている。なお、後述するが、図3が参照されるように、ピエゾ先側端子24を形成する導体層6の周端部には、ステージ17の後端部の配線9の下に形成されるベース絶縁層7が連続して平面視枠状に形成されており、導体層6がかかるベース絶縁層7の枠内に落ち込んでいる。
ピエゾ後側端子25は、図2に示すように、ピエゾ先側端子24に対応して形成されており、具体的には、中央部16の幅方向両外側に互いに間隔を隔てて複数(2個)配置されている。ピエゾ後側端子25は、基部15の幅方向外側部の先端縁から先方に向かって突出するように形成され、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2個)配置されている。複数のピエゾ後側端子25のそれぞれは、複数のピエゾ先側端子24のそれぞれの後側斜め幅方向外方に間隔を隔てて設けられている。具体的には、右側のピエゾ後側端子25は、右側のピエゾ先側端子24の後側斜め右方に間隔を隔てて設けられている。一方、左側のピエゾ後側端子25は、左側のピエゾ先側端子24の後側斜め左方に間隔を隔てて設けられている。つまり、先後方向に複数のピエゾ後側端子25および複数のピエゾ先側端子24を投影したときに、複数のピエゾ後側端子25の少なくとも幅方向外端部のそれぞれは、複数のピエゾ先側端子24のそれぞれの外側に配置される。詳しくは、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を先後に投影したときに、右側のピエゾ後側端子25の右端部は、右側のピエゾ先側端子24のさらに右側に配置される。一方、左側のピエゾ後側端子25の左端部は、左側のピエゾ先側端子24のさらに左側に配置される。ピエゾ後側端子25は、導体層6が、基部15の先端縁から先側斜め幅方向内側に向かって傾斜して突出し、かつ、幅方向に膨出するように形成されている。ピエゾ後側端子25は、長手方向に延びる平面視略矩形状をなし、その長手方向が幅方向内側に向かうに従って後側に傾斜するように形成されている。なお、後述するが、図3が参照されるように、ピエゾ後側端子25を形成する導体層6の周端部には、ベース絶縁層7が平面視枠状に形成されており、導体層6がかかるベース絶縁層7の枠内に落ち込んでいる。
配線9は、図1に示すように、外部側端子10と、ヘッド側端子18、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25とに連続し、それらを電気的に接続している。配線9は、本体部3において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(10個)形成されている。具体的には、配線9は、本体部3の後端部において、外部側端子10から先側に向かって延び、本体部3の幅方向中央において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲した後、幅方向両端部において先側に屈曲し、本体部3の先端部に向けて、幅方向外端縁に沿って延びるように配置されている。また、配線9は、図2に示すように、ジンバル部4において、基板開口部11を通過しながら、基部15の先後方向途中に集束状に至るように、配置されている。また、配線9は、基部15において、3つ、具体的には、幅方向両側および先側に分岐しており、それらのうち、先側に向かう束状の複数(8個)の配線9は、中央部16に沿って先側に延び、その後、ステージ17の後端部において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲した後、ステージ17の周端縁に沿って延び、その後、折り返されて、ヘッド側端子18およびピエゾ先側端子24に至るように形成されている。一方、基部15において、両外側にそれぞれ分岐した1個の配線9は、基部15の幅方向外端部において、先側に屈曲し、ピエゾ後側端子25に至るように、形成されている。
図3に示すように、回路付サスペンション基板2は、金属支持基板5、金属支持基板5の上に形成されるベース絶縁層7、ベース絶縁層7の上に形成される導体層6、および、ベース絶縁層7の上に、導体層6を被覆するように形成されるカバー絶縁層8を備えている。
金属支持基板5は、図1に示すように、回路付サスペンション基板2の外形形状に対応する形状に形成されている。金属支持基板5は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などの金属材料から形成されている。好ましくは、ステンレスから形成されている。金属支持基板5の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、また、例えば、50μm以下、好ましくは、35μm以下である。基部15の幅(左右方向長さ)L6は、例えば、400μm以上、好ましくは、500μm以上であり、また、例えば、5000μm以下、好ましくは、4000μm以下である。ステージ17の幅L8は、例えば、500μm以上、好ましくは、600μm以上であり、また、例えば、2000μm以下、好ましくは、1500μm以下である。
ベース絶縁層7は、図1および図2が参照されるように、本体部3およびジンバル部4にわたって形成されており、図3に示すように、導体層6が形成される部分に対応して形成されている。具体的には、ベース絶縁層7は、本体部3において、金属支持基板5の上に形成される一方、ジンバル部4の基板開口部11内と、中央部16の上とにも、配線9に沿って形成されている。さらに、ベース絶縁層7は、ステージ17の金属支持基板5から後方に突出し、ピエゾ先側端子24の周端部に、平面視略矩形枠形状に形成されている。また、ベース絶縁層7は、基部15の金属支持基板5から先方に突出し、ピエゾ後側端子25の周端部に、平面視略矩形枠形状に形成されている。また、ベース絶縁層7は、図2に示すように、第2連結部20を形成する。ベース絶縁層7は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂などの絶縁材料から形成されている。好ましくは、ポリイミド樹脂から形成されている。ベース絶縁層7の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、また、例えば、35μm以下、好ましくは、15μm以下である。
導体層6は、上記したように、外部側端子10(図1)、ヘッド側端子18、ピエゾ先側端子24、ピエゾ後側端子25および配線9を備える導体パターンとして形成されている。ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25は、図3が参照されるように、平面視略枠状に形成されるベース絶縁層7の内側に落ち込むように形成され、それにより、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の下面がベース絶縁層7から下方に露出している。また、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25のそれぞれの下面は、その周端部に形成されるベース絶縁層7の下面と、幅方向および先後方向において面一に形成されている。
導体層6は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだまたはこれらの合金などの導体材料から形成されている。導体層6の厚みは、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上であり、また、例えば、100μm以下、好ましくは、80μm以下である。配線9の幅は、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上であり、また、例えば、200μm以下、好ましくは、100μm以下である。また、外部側端子10、ヘッド側端子18、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の幅および長さ(先後方向長さ)は、例えば、20μm以上、好ましくは、30μm以上であり、また、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。2つのピエゾ後側端子25の幅方向の間隔L7は、例えば、100μm以上、好ましくは、200μm以上であり、また、例えば、3000μm以下、好ましくは、2500μm以下である。2つのピエゾ先側端子24の左右方向の間隔L9は、2つのピエゾ後側端子25の幅方向の間隔L7に比べて小さく、L7に対して、例えば、100%未満であり、また、例えば、10%以上であり、具体的には、例えば、100μm以上、好ましくは、200μm以上であり、また、例えば、3000μm以下、好ましくは、2500μm以下である。
カバー絶縁層8は、図1が参照されるように、本体部3およびジンバル部4にわたって形成され、図3に示すように、平面視において導体層6を含むパターンに形成されている。具体的には、カバー絶縁層8は、配線9、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の上面を被覆し、外部側端子10(図1参照)およびヘッド側端子18の上面を露出するパターンに形成されている。カバー絶縁層8は、ベース絶縁層7を形成する絶縁材料と同様の絶縁材料から形成されている。カバー絶縁層8の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、2μm以上であり、また、例えば、40μm以下、好ましくは、20μm以下である。
この回路付サスペンション基板2は、金属支持基板5を用意し、次いで、ベース絶縁層7、導体層6およびカバー絶縁層8を順次設け、その後、基板開口部11を金属支持基板5に形成する公知の方法によって、製造される。
図2に示すように、ピエゾ素子23は、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を介して電気が供給され、その電圧が制御されることによって、伸縮できるように、例えば、鉛、亜鉛、チタン、ジルコニウム、または、それらの合金(チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zr,Ti)Oなどの複合酸化物)などから形成されている。
また、1対のピエゾ素子23のそれぞれは、長手方向に延びる平面視略矩形板状をなし、その長手方向が先側に向かうに従って幅方向内側に傾斜するように、配置されている。
1つのピエゾ素子23のそれぞれは、中央部16の幅方向両側にそれぞれ設けられている。具体的には、1対のピエゾ素子23は、中央部16の右側に設けられる一方のピエゾ素子としての右ピエゾ素子23A、および、中央部16の左側に設けられる他方のピエゾ素子としての左ピエゾ素子23Bからなる。右ピエゾ素子23Aは、中央部16の右側に設けられる、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を架設するように実装される。左ピエゾ素子23Bは、中央部16の左側に設けられる、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を架設するように実装される。詳しくは、1対のピエゾ素子23のそれぞれの先端部および後端部は、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25に電気的に接続されるとともに、それらにそれぞれ固定される。これによって、1対のピエゾ素子23は、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を架設して、後側に向かって開く略ハ字形状をなすように配置されている。
さらに、1対のピエゾ素子23のそれぞれは、伸縮方向に沿う第1仮想線L1および第2仮想線L2のそれぞれが、先後方向に対して傾斜するように設けられている。つまり、第1仮想線L1および第2仮想線L2のそれぞれは、厚み方向に投影したときに、幅方向に対して交差する。詳しくは、厚み方向に投影したときに、第1仮想線L1と第2仮想線L2とが交差するように、1対のピエゾ素子23が回路付サスペンション基板2に配置されている。すなわち、第1仮想線L1は、先側に向かうに従って左側に傾斜する一方、第2仮想線L2は、先側に向かうに従って右側に傾斜する。第1仮想線L1と第2仮想線L2とは、1対のピエゾ素子23からスライダ26に向かうに従って互いに近接するように、具体的には、第1仮想線L1および第2仮想線L2の交点Xから後側に向かうに従って互いに離間するように、傾斜する。つまり、第1仮想線L1と第2仮想線L2とは、第1仮想線L1および第2仮想線L2において、第1仮想線L1および第2仮想線L2の交点Xから右ピエゾ素子23Aまでの第1線分S1と、交点Xから左ピエゾ素子23Bまでの第2線分S2とが後側に向かって開く略V字形状を形成するように、傾斜する。
第1線分S1と第2線分S2との成す角α’の二等分線BSに対して線対称となるように、1対のピエゾ素子23が配置されている。
また、上記した二等分線BS上には、中央部16およびステージ17の中央部が配置されている。
また、第1仮想線L1と第2仮想線L2との成す角度αは、例えば、0度を超え、5度以上であり、また、例えば、120度以下、好ましくは、90度(鋭角)以下、より好ましくは、60度以下、さらに好ましくは、45度以下、さらにまた好ましくは、30度以下である。上記した角度αは、右ピエゾ素子23Aまでの第1線分S1と、交点Xから左ピエゾ素子23Bまでの第2線分S2との成す角度として定義される。角度αが上記上限以下であれば、回路付サスペンション基板2がデザイン上の制約を受けにくくすることができる。一方、角度αが上記下限以上であれば、スライダ26を幅方向に十分大きく揺動させることができる。
なお、先後方向(長手方向)に沿い、中央部16を通過する基準線L3と、第1仮想線L1との成す角β1は、上記した角度αの半分(つまり、β1=α/2)である。また、基準線L3と、第2仮想線L2との成す角β2は、上記した角度αの半分(つまり、β2=α/2)である。
1対のピエゾ素子23のそれぞれの長さL10は、例えば、300μm以上、好ましくは、400μm以上であり、また、例えば、4000μm以下、好ましくは、3000μm以下である。また、ピエゾ素子23の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、30μm以上であり、また、例えば、100μm以下、好ましくは、80μm以下である。ピエゾ素子23の幅は、例えば、100μm以上、好ましくは、200μm以上であり、また、例えば、800μm以下、好ましくは、500μm以下である。
スライダ26は、図2に示すように、ステージ17より小さく、長手方向が幅方向に沿う平面視略矩形状をなし、ステージ17の幅方向中央および先後方向中央に実装されている。図2の破線および図3に示すように、スライダ26は、その中央部が、ステージ17の中央部に、公知の接着剤からなる接着剤層37を介して接着される。また、スライダ26は、二等分線BS上に配置されるとともに、第1線分S1および第2線分S2上にも配置されている。詳しくは、スライダ26は、その幅方向中央に二等分線BSが通過するように配置されている。接着剤層37の厚みは、例えば、ベース絶縁層7、導体層6およびカバー絶縁層8の総厚み以上である。また、スライダ26の先端面には、磁気ヘッド27が実装されている。
磁気ヘッド27は、スライダ26の先端面の全面に実装されており、上下方向に延びる略箱形状に形成されている。磁気ヘッド27は、複数のヘッド側端子18に沿って形成されており、具体的には、図3に示すように、ヘッド側端子18の後側に微小間隔を隔てて形成される。これにより、磁気ヘッド27は、ヘッド側端子18とはんだボール19などによって電気的に接続される。
[スライダの揺動]
次に、ピエゾ素子23の伸縮によるスライダ26の揺動について、図4を参照して説明する。
まず、右ピエゾ素子23Aに電気がピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、右ピエゾ素子23Aが伸長する。すると、右側のピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25が相対的に離間する。つまり、右側のピエゾ先側端子24が、先側斜め左側に移動する。
これと同時に、左ピエゾ素子23Bに電気がピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、左ピエゾ素子23Bが収縮する。すると、左側のピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25が相対的に近接する。つまり、左側のピエゾ先側端子24が、後側斜め左側に移動する。
つまり、左側のピエゾ先側端子24が、先側斜め左側に移動するとともに、右側のピエゾ先側端子24が、後側斜め左側に移動することによって、ステージ17が左側に揺動する。
なお、上記したステージ17の揺動とともに、中央部16の先端および先後方向途中は、左側に湾曲する。
他方、右ピエゾ素子23Aが収縮し、左ピエゾ素子23Bが伸長すれば、スライダ26は、右側に揺動する。
[第1実施形態の作用効果]
そして、このヘッド・ジンバル・アセンブリ1では、右ピエゾ素子23Aの伸縮方向に沿う第1仮想線L1と、左ピエゾ素子23Bの伸縮方向に沿う第2仮想線L2とが交差するように、1対のピエゾ素子23が回路付サスペンション基板2に配置されているので、右ピエゾ素子23Aを伸長または収縮させ、左ピエゾ素子23Bを収縮または伸長させれば、スライダ26を第1仮想線L1および第2仮想線L2に対する交差方向、つまり、幅方向に、大きく揺動させることができる。
そのため、磁気ヘッド27の幅方向における位置を大きく調整することができる。
このヘッド・ジンバル・アセンブリ1によれば、スライダ26は、第1線分S1と、第2線分S2との成す角α’の二等分線BS上に配置されているので、スライダ26を交点Xに対する第1線分S1側および第2線分S2側の両側、つまり、右側および左側の両側にバランスよく揺動させることができる。
また、このヘッド・ジンバル・アセンブリ1によれば、第1線分S1と、第2線分S2との成す角度αが特定値以下であれば、回路付サスペンション基板2のデザイン上の制約を受けにくくしながら、スライダ26を揺動させることができる。
このヘッド・ジンバル・アセンブリ1によれば、1対のピエゾ素子23が、第1線分S1と第2線分S2との成す角α’の二等分線BSに対して線対称に配置されているので、1対のピエゾ素子23のうち、右ピエゾ素子23Aを伸長させ、左ピエゾ素子23Bを収縮させるか、あるいは、右ピエゾ素子23Aを収縮させ、左ピエゾ素子23Bを伸長させれば、スライダ26を第1線分S1側および第2線分S2側の両側、つまり、右側および左側の両側にバランスよく揺動させることができる。
[第2実施形態]
第2実施形態の図5において、第1実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第1実施形態では、図2に示すように、第1仮想線L1および第2仮想線L2の両方を、先後方向に対して傾斜させるように、1対のピエゾ素子23をヘッド・ジンバル・アセンブリ1に設けている。しかし、例えば、図5に示すように、一方のみ、例えば、右ピエゾ素子23Aを、その通過線が先側に向かうに従って幅方向内側(左側)に傾斜するように配置し、これによって、第1仮想線L1のみを先後方向に対して傾斜させることもできる。他方、左ピエゾ素子23Bを、通過線が先後方向に沿うように配置し、これによって、第2仮想線L2を基準線L3に対して平行となる(具体的には、第2仮想線L2が、基準線L3に対して交わらない)ように、左ピエゾ素子23Bを配置することもできる。
この第2実施形態は、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
[第3実施形態]
第3実施形態の図6および図7において、第1実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第1実施形態では、図2に示すように、第1仮想線L1と第2仮想線L2とは、1対のピエゾ素子23からスライダ26に向かうに従って互いに近接するように、傾斜しているが、例えば、図6に示すように、第1仮想線L1と第2仮想線L2とを、1対のピエゾ素子23からスライダ26に向かうに従って互いに離間するように、傾斜させることもできる。
具体的には、第1仮想線L1および第2仮想線L2は、交点Xから先側に向かうに従って互いに離間するように、傾斜する。つまり、第1線分S1と第2線分S2とは、交点Xから先側に向かって開く略V字形状を形成する。
第3実施形態に比べると、第1実施形態は、ステージ17を大きく揺動させることができる。図2に示すように、第1実施形態によれば、第1仮想線L1と第2仮想線L2とは、1対のピエゾ素子23からスライダ26に向かうに従って、互いに近接するので、図6に示す第1仮想線L1と第2仮想線L2とが互いに離間する第3実施形態に比べて、1対のピエゾ素子23の先端部(スライダ側端部)38の間の長さを短くすることができる。そのため、図7Aに示すように、1対のピエゾ素子23のうち、右ピエゾ素子23Aを伸長させ、左ピエゾ素子23Bを収縮させたとき、図7Bに示す第1実施形態と同じ分だけ第3実施形態の1対のピエゾ素子23を伸縮させたときに比べて、スライダ26を左側への大きく揺動させることができる。
また、スライダ26の右側への揺動も、スライダ26の左側への揺動と同様であり、第1実施形態は、第3実施形態に比べて、スライダ26を大きく揺動させることができる。
一方、第3実施形態は、第1実施形態に比べて、スライダ26を小さく揺動させることできるので、スライダ26をより精密に揺動させることができる。そのため、磁気ヘッド27の精確に調整(微調整)することができる。
以下に示す実施例の数値は、上記の実施形態において記載される数値(すなわち、上限値または下限値)に代替することができる。
実施例1
図1〜図3に示すように、下記の金属支持基板5、ベース絶縁層7、導体層6およびカバー絶縁層8を備える回路付サスペンション基板2を用意した。
金属支持基板5:
材料:ステンレス
厚み18μm
基部15の幅L6:3800μm
ステージ17の幅L8:800μm
ベース絶縁層7:
材料:ポリイミド
厚み10μm
導体層6:
2つのピエゾ後側端子25の間隔L7:1800μm
2つのピエゾ先側端子24の間隔L9:1000μm
材料:銅
厚み9μm
カバー絶縁層8:
材料:ポリイミド
厚み4μm
次に、下記寸法を有する1対のピエゾ素子23を、第1仮想線L1および第2仮想線L2が交差するように、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25に電気的に接続した。
ピエゾ素子23
長さL10:1155μm
厚み:50μm
幅:330μm
角度α:30度
角度β1:15度
角度β2:15度
その後、磁気ヘッド27が実装されたスライダ26を、ステージ17の中央部に、接着剤層37を介して固定した。
これによって、回路付サスペンション基板2、ピエゾ素子23およびスライダ26を備えるヘッド・ジンバル・アセンブリ1を作製した。
そして、1対のピエゾ素子23において、電気をピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25を介して供給して、電気の電圧を制御して、右ピエゾ素子23Aを伸長させる一方、左ピエゾ素子23Bを収縮させた。これによって、スライダ26を左側に揺動させた。その際、磁気ヘッド27の変位量を測定した。その結果を、表1に示す。
Figure 0006210875
実施例2、3および比較例1
上記した角度αを、表1に記載の通りに変更した以外は、実施例1と同様に処理して、ヘッド・ジンバル・アセンブリ1を作製し、続いて、スライダ26を左側に揺動させて、磁気ヘッド27の変位量を測定した。その結果を、表1に示す。
1 ヘッド・ジンバル・アセンブリ
2 回路付サスペンション基板
23 ピエゾ素子
23A 右ピエゾ素子
23B 左ピエゾ素子
26 スライダ
27 磁気ヘッド
L1 第1仮想線
L2 第2仮想線
BS 二等分線
S1 第1線分
S2 第2線分
α 角度
α’ 角

Claims (5)

  1. 回路付サスペンション基板と、
    前記回路付サスペンション基板に、伸縮可能に搭載される1対の圧電素子と、
    前記回路付サスペンション基板に搭載され、前記1対の圧電素子の伸縮によって揺動可能に構成され、磁気ヘッドを実装するスライダとを備え、
    一方の前記圧電素子の伸縮方向に沿う第1仮想線と、他方の前記圧電素子の伸縮方向に沿う第2仮想線とが交差するように、前記1対の圧電素子が前記回路付サスペンション基板に配置され、
    前記回路付サスペンション基板は、金属支持基板を備え、
    前記金属支持基板は、基部と、前記回路付サスペンション基板の長手方向において、前記基部に対して、間隔を隔てて配置されるステージとを備え、
    前記1対の圧電素子のそれぞれは、前記基部および前記ステージの間に架設されていることを特徴とする、ヘッド・ジンバル・アセンブリ。
  2. 前記スライダは、前記第1仮想線および前記第2仮想線の交点から一方の前記圧電素子までの第1線分と、前記交点から他方の前記圧電素子までの第2線分との成す角の二等分線上に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
  3. 前記第1線分と前記第2線分との成す角度が、90度以下であることを特徴とする、請求項2に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
  4. 前記第1仮想線と前記第2仮想線とは、前記1対の圧電素子から前記スライダに向かうに従って、互いに近接するように、傾斜することを特徴とする、請求項2または3に記載のヘッド・ジンバル・アッセンブリ。
  5. 前記1対の圧電素子は、前記第1線分と前記第2線分との成す角の二等分線に対して線対称に配置されていることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか一項に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9190086B1 (en) * 2011-11-30 2015-11-17 Magnecomp Corporation GSA suspension having slider clearance for shock performance
US10373634B2 (en) 2016-06-30 2019-08-06 Hutchinson Technology Incorporated Co-located gimbal-based dual stage actuation disk drive head suspension with non-parallel motors
JP6788442B2 (ja) * 2016-09-07 2020-11-25 日東電工株式会社 回路付サスペンション基板および回路付サスペンション基板の製造方法
JP6687490B2 (ja) * 2016-09-07 2020-04-22 日東電工株式会社 回路付サスペンション基板および回路付サスペンション基板の製造方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6157522A (en) * 1998-04-07 2000-12-05 Seagate Technology Llc Suspension-level microactuator
WO2000016318A1 (fr) * 1998-09-16 2000-03-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Mecanisme de support de tete, appareil d'enregistrement / reproduction d'informations et procede de fabrication d'un mecanisme de support de tete
JP2001052456A (ja) * 1999-08-06 2001-02-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd サスペンションとそれを用いた情報記録再生装置および情報記録再生装置の駆動方法
JP4101492B2 (ja) * 2000-10-23 2008-06-18 松下電器産業株式会社 ヘッド支持機構
US6376964B1 (en) * 2001-05-16 2002-04-23 Read-Rite Corporation Collocated rotating flexure microactuator for dual-stage servo in disk drives
JP2003272324A (ja) * 2002-03-15 2003-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜圧電体素子およびその製造方法並びにアクチュエータ
US7141911B2 (en) * 2002-11-15 2006-11-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Driving method of piezoelectric actuator, piezoelectric actuator, and disk recording and reproducing apparatus using the same
US7068474B2 (en) * 2002-12-03 2006-06-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thin film piezoelectric element; actuator, head support mechanism, and disc recording and reproducing device using the thin film piezoelectric element; and method of manufacturing the thin film piezoelectric element
JP4433727B2 (ja) * 2003-09-02 2010-03-17 Tdk株式会社 フレクシャ、サスペンションおよびヘッドジンバルアセンブリ
US7375911B1 (en) * 2003-11-25 2008-05-20 Maxtor Corporation Piezoelectric actuator and sensor for disk drive dual-stage servo systems
JP4146811B2 (ja) * 2004-03-03 2008-09-10 Tdk株式会社 サスペンション、及びハードディスク装置
JP4840788B2 (ja) * 2007-10-05 2011-12-21 東芝ストレージデバイス株式会社 マイクロアクチュエータ装置並びにヘッドサスペンションアセンブリおよび記憶媒体駆動装置
CN101499287B (zh) * 2008-02-02 2012-11-14 新科实业有限公司 压电元件、压电微致动器、磁头折片组合及磁盘驱动单元
CN101582267B (zh) * 2008-05-13 2012-12-26 新科实业有限公司 磁头折片组合及其制造方法以及磁盘驱动单元
JP5570111B2 (ja) * 2008-12-18 2014-08-13 エイチジーエスティーネザーランドビーブイ ヘッド・ジンバル・アセンブリ及びディスク・ドライブ
JP4993625B2 (ja) * 2009-02-04 2012-08-08 日本発條株式会社 圧電素子の電極構造、圧電素子の電極形成方法、圧電アクチュエータ及びヘッドサスペンション
JP5869200B2 (ja) * 2009-12-21 2016-02-24 エイチジーエスティーネザーランドビーブイ ヘッド・ジンバル・アセンブリ及びディスク・ドライブ
JP4962878B2 (ja) * 2010-07-05 2012-06-27 大日本印刷株式会社 サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びに、サスペンションの製造方法
US8854826B2 (en) * 2010-10-07 2014-10-07 Nitto Denko Corporation Suspension board with circuit
US8526142B1 (en) * 2010-12-30 2013-09-03 Magnecomp Corporation Hard disk drive DSA suspension having PZT encapsulation dam
JP5801085B2 (ja) * 2011-03-31 2015-10-28 日東電工株式会社 回路付サスペンション基板
JP5989370B2 (ja) * 2012-03-23 2016-09-07 日東電工株式会社 配線回路基板
JP5896845B2 (ja) 2011-08-22 2016-03-30 日東電工株式会社 配線回路基板
JP5084944B1 (ja) * 2011-11-28 2012-11-28 日東電工株式会社 配線回路基板
JP2013137852A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Dainippon Printing Co Ltd サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブ
JP5131614B2 (ja) * 2012-03-19 2013-01-30 大日本印刷株式会社 サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びに、サスペンションの製造方法
JP2013251291A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Nitto Denko Corp 配線回路基板およびその製造方法

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