JP6102918B2 - 導電性ポリイミドフィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)導電付与剤を分散させたポリアミド酸溶液を支持体上に流延し、塗膜を形成する工程、
(2)溶媒の揮散・除去及びイミド化転化を行う工程。
(A)3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4'−オキシジアニリン、並びに、
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および/またはp−フェニレンジアミンを含む、
テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物を反応させてなるポリアミド酸、
(B)導電付与剤、および、
(C)ジアルキルピリジンと、ポリアミド酸中のアミド酸1モルに対し0.1〜1.6モル当量の無水酢酸とを含むイミド化促進剤
を含有する塗膜を乾燥およびイミド化することを特徴とする、導電性ポリイミドフィルムの製造方法に関する。
ジアミン化合物100モル%において、4,4'−オキシジアニリンが50〜100モル%、および、p−フェニレンジアミンが0〜50モル%含有されることが好ましい。
1)ジアミン化合物を有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルのテトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量のジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程においてテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物が実質的に等モルとなるようにジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量のジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここにジアミン化合物を追加添加後、全工程においてテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物が実質的に等モルとなるようにテトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるようにジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルのテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。これら方法を単独で用いても良いし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
1.重合前または途中に重合反応液に導電付与剤を添加する方法、
2.重合完了後、3本ロールなどを用いて導電付与剤を混錬する方法、
3.導電付与剤を含む分散液を用意し、これをポリアミド酸溶液に混合する方法、
などが挙げられ、いかなる方法を用いてもよい。導電付与剤による製造ラインの汚染を最も小さく抑えられる点から、導電付与剤を含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法、特に塗膜を製造する直前に混合する方法が好ましい。導電付与剤を含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。導電付与剤を良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いてもよい。導電付与剤が凝集を伴わずに安定的に分散させやすい点から、分散剤としてポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を少量添加することが好ましい。
乾燥時にピン枠に固定したフィルムの端部分を手で引き伸ばした。その端部の強度を耳強度とした。
○:参考例2のフィルム端部と比較して同等以上の強度を有する。
×:参考例2のフィルム端部と比較して脆く、容易に切断する。
得られた導電性ポリイミドフィルムを15mm□のサイズに切り抜き、両面の中央部10mm□の領域に金薄膜をスパッタ法により形成させた。金薄膜にそれぞれ銅箔を1MPaの加圧により密着させ、2つの銅箔の間に電流Iを流したときの、電位Vを測定し、測定値V/Iを体積抵抗率とした。抵抗値の測定にはLCR HiTESTER(3522−50、日置電機社製)を用いた。
測定にはLORESTA−GP(MCP−T610、三菱アナリテック社製)を用い、4探針プローブを得られた導電性ポリイミドフィルム表面に押し当てて表面抵抗率を測定した。
得られた導電性ポリイミドフィルムの引裂伝播抵抗はJIS K 7128 トラウザー引裂法に準じて測定した。
製造したフィルムの背面から光源を照射し、フィルムを貫通する光があればピンホールと見なしてカウントした。フィルム0.12m2においてカウントされた個数から1m2あたりのピンホールの平均発生率を算出した。光源にはキセノンライト(ULTRA STINGER、ストリーム社製)を用いた。発生するピンホールの個数が1m2あたり10個以下であれば、ピンホールの発生が抑制されていると判断した。
重合用の有機溶媒として、N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)を用い、テトラカルボン酸二無水物として3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)50モル%および3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)50モル%を、ジアミン化合物として4,4'−オキシジアニリン(ODA)85モル%およびp−フェニレンジアミン(p−PDA)15モル%を使用し、実質的にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物が等モル%になるよう反応槽に添加して攪拌、重合することによりポリアミド酸溶液を合成した。このとき、得られるポリアミド酸溶液の固形分濃度は15重量%、粘度は300〜400Pa・s(東機産業社製E型粘度形;TVE−22H、測定温度:23℃、ローター:3°×R14、回転数:1rpm、測定時間:120s)となるように合成を行った。
重合用の有機溶媒として、N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)を用い、テトラカルボン酸二無水物として3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)100モル%を、ジアミン化合物として4,4'−オキシジアニリン(ODA)100モル%を使用し、実質的にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物が等モル%になるよう反応槽に添加して攪拌、重合することによりポリアミド酸溶液を合成した。このとき、得られるポリアミド酸溶液の固形分濃度は15重量%、粘度は300〜400Pa・s(東機産業社製E型粘度形;TVE−22H、測定温度:23℃、ローター:3°×R14、回転数:1rpm、測定時間:120s)となるように合成を行った。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジエチルピリジン8.7g(64.3ミリモル)、無水酢酸4.2g(41.1ミリモル、アミド酸1モルに対し0.9モル当量)およびDMF6.7gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行って、導電性ポリイミドフィルムを得た。得られた導電性ポリイミドフィルムの耳強度、体積抵抗率、表面抵抗率、引裂伝播抵抗およびピンホールの発生率を測定した。その結果を表1に示す。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジエチルピリジン8.7g(64.3ミリモル)、無水酢酸2.4g(23.0ミリモル、アミド酸1モルに対し0.5モル当量)およびDMF8.5gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行って、導電性ポリイミドフィルムを得た。得られた導電性ポリイミドフィルムの耳強度、体積抵抗率、表面抵抗率、引裂伝播抵抗およびピンホールの発生率を測定した。その結果を表1に示す。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジメチルピリジン8.7g(81.2ミリモル)、無水酢酸4.2g(41.1ミリモル、アミド酸1モルに対し0.9モル当量)およびDMF6.7gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行って、導電性ポリイミドフィルムを得た。得られた導電性ポリイミドフィルムの耳強度、体積抵抗率、表面抵抗率、引裂伝播抵抗およびピンホールの発生率を測定した。その結果を表1に示す。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジエチルピリジン8.7g(64.3ミリモル)、無水酢酸8.7g(85.2ミリモル、アミド酸1モルに対し1.8モル当量)およびDMF6.7gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行った。ピンに固定した部分のフィルムが一部破断した。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジメチルピリジン8.7g(81.2ミリモル)、無水酢酸9.6g(94.0ミリモル、アミド酸1モルに対し2.0モル当量)およびDMF5.0gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行った。ピンに固定した部分のフィルムが一部破断した。
比較合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、3,5−ジエチルピリジン12.4g(91.6ミリモル)、無水酢酸9.3g(91.3ミリモル、アミド酸1モルに対し2.0モル当量)およびDMF7.3gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが12.5μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で70秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、300℃で11秒間乾燥し、続けて450℃で60秒間乾燥を行った。ピンに固定した部分のフィルムが一部破断した。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、イソキノリン8.3g(64.3ミリモル)、無水酢酸2.4g(23.0ミリモル、アミド酸1モルに対し0.5モル当量)およびDMF8.7gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離できなかったため、導電性ポリイミドフィルムを得ることができなかった。
合成例1で得たカーボン分散ポリアミド酸溶液100g(アミド酸を46.1ミリモル含む)に対し、イソキノリン8.3g(64.3ミリモル)、無水酢酸8.3g(81.3ミリモル、アミド酸1モルに対し1.8モル当量)およびDMF5.5gからなるイミド化促進剤を添加して均一にしたものを、アルミ箔上に最終厚みが25μmになるよう、かつ40cm幅で流延し、120℃で216秒間乾燥を行い、自己支持性フィルムを得た。自己支持性フィルムをアルミ箔から剥離した後、ピンに固定し、250℃で200秒間乾燥し、続けて400℃で64秒間乾燥を行って、導電性ポリイミドフィルムを得た。得られた導電性ポリイミドフィルムの耳強度、体積抵抗率、表面抵抗率、引裂伝播抵抗およびピンホールの発生率を測定した。その結果を表1に示す。
Claims (8)
- 導電付与剤とポリイミド樹脂を含有する導電性ポリイミドフィルムの製造方法において、
(A)3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4'−オキシジアニリン、並びに、
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および/またはp−フェニレンジアミンを含む、
テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物を反応させてなるポリアミド酸、
(B)導電付与剤、および、
(C)ジアルキルピリジンと、ポリアミド酸中のアミド酸1モルに対し0.1〜1.6モル当量の無水酢酸とを含むイミド化促進剤
を含有する塗膜を乾燥およびイミド化することを特徴とする、
導電性ポリイミドフィルムの製造方法。 - テトラカルボン酸二無水物100モル%において、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が10〜100モル%、および、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が0〜90モル%含有され、
ジアミン化合物100モル%において、4,4'−オキシジアニリンが50〜100モル%、および、p−フェニレンジアミンが0〜50モル%含有される、
請求項1に記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。 - (B)導電付与剤が炭素系導電性粒子を含む、請求項1乃至2のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
- (B)導電付与剤が(A)ポリアミド酸100重量部に対して1〜50重量部含まれる、請求項1乃至3のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
- (C)イミド化促進剤のジアルキルピリジンの使用量が、(A)ポリアミド酸中のアミド酸1モルに対し0.1〜4.0モル当量の範囲内である、請求項1乃至4のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
- 導電性ポリイミドフィルムの厚みが1〜100μmの範囲である、請求項1乃至5のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
- 導電性ポリイミドフィルムは、厚み方向の体積抵抗率が1.0×10-1〜1.0×102Ωcmの範囲内、および/または、表面抵抗率が1.0×101〜1.0×104Ω/□の範囲内である、請求項1乃至6のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
- 導電性ポリイミドフィルムは、引裂伝播抵抗が130〜250g/mmの範囲内である、請求項1乃至7のいずれかに記載の導電性ポリイミドフィルムの製造方法。
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JP2005206616A (ja) * | 2002-12-26 | 2005-08-04 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルム、半導電フィルムおよび用途 |
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