JP5973456B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5973456B2
JP5973456B2 JP2013539502A JP2013539502A JP5973456B2 JP 5973456 B2 JP5973456 B2 JP 5973456B2 JP 2013539502 A JP2013539502 A JP 2013539502A JP 2013539502 A JP2013539502 A JP 2013539502A JP 5973456 B2 JP5973456 B2 JP 5973456B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor chip
semiconductor
base
main body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013539502A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2013057861A1 (ja
Inventor
横山 賢司
賢司 横山
毅 川端
毅 川端
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Publication of JPWO2013057861A1 publication Critical patent/JPWO2013057861A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5973456B2 publication Critical patent/JP5973456B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • H01L2224/1401Structure
    • H01L2224/1403Bump connectors having different sizes, e.g. different diameters, heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06506Wire or wire-like electrical connections between devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0651Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06513Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06517Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3114Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the device being a chip scale package, e.g. CSP
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、チップオンチップ構造を有する半導体装置に関する。
近年の半導体製造技術の微細化に伴い、大規模集積回路(Large Scale Integration:LSI)を構成するトランジスタの数は増加の一途をたどっている。また、LSIを構成する、特にシステムが複雑且つ大規模になるにつれて、いわゆるシステムLSIが必要とするメモリ容量の増大が懸念されている。例えば、大規模メモリ回路を搭載したシステムLSIにおける高効率な実装方法が、コスト面から最も重要な課題の1つとなっている。
一方、LSIとパッケージとの接続方式として、一般にワイヤボンディング方式及びフリップチップ方式が用いられている。これらの実装形態を用いた場合は、システムLSI自体のチップ内にメモリ回路を組み込むか、又はLSIチップを搭載する搭載基板若しくは実装基板にメモリ回路を搭載する必要がある。チップ内にメモリ回路を組み込む場合には、メモリ容量の制約を受ける。また、基板にメモリ回路を搭載する場合には、基板自体の面積の拡大及び搭載コストの増大等が課題となる。
以上に述べた課題の解決策として、チップオンチップ(Chip on Chip:COC)構造がある。図16は、例えば特許文献1にあるような、従来の一般的なCOC構造の断面構成を示している。図16に示すように、互いの素子形成面に複数のパッドが形成された第1のチップ11及び第2のチップ12が各パッドの上にそれぞれ形成されたバンプ14を介して電気的に接続され、また、アンダーフィル樹脂材15によって互いに固着されている。
第1のチップ11は、その第2のチップ12と反対側の面が配線基板等の基板13の上に接着材により固着されている。また、第1のチップ11の上面(素子形成面)には、ワイヤボンド用のパッドが設けられており、ワイヤ16によって基板13と電気的に接続されている。ワイヤ16を含め第1のチップ11及び第2のチップ12は、モールド樹脂材17(外形の輪郭のみ図示)によって覆われている。
このように、COC構造を用いることにより、複数のチップ11、12を基板13の上に搭載できるため、通常のワイヤボンディング方式及びフリップチップ方式と比べて、複数のチップを効率的に且つ小面積で接合することができる。
また、特許文献2及び特許文献3には、第1の半導体チップの上に配置される第2の半導体チップの配置位置をずらす構成が記載されている。
特開2010−141080号公報 特開2007−207805号公報 特開2005−183934号公報
しかしながら、特許文献1に記載された方法は、上層に搭載されるチップが下層に搭載されるチップと比べて小型であることが前提であり、下層のチップが上層のチップと同等か又はそれより小型である場合には、下層のチップにワイヤボンド領域を確保することができない。このような場合、下層のチップのサイズを大きくし、チップ上で再配線領域を確保して対応していたが、配線抵抗が増大すると共にコストが増大するという課題があった。
また、特許文献2及び特許文献3に記載された方法は、第1の半導体チップがその上に搭載される第2の半導体チップと同等か又はそれよりも小さいサイズの場合には、上下のチップの配置位置を互いにずらしても、必要とされる端子数を確保することができず、また、ワイヤボンディング端子が、チップの片側に偏るため、実装基板の配線が複雑となって、コストが増大するという問題があった。さらには、第2の半導体チップの下側の一部に第1の半導体チップが存在しない領域が生じ、組み立て後の品質の信頼性に課題が発生するという問題もあった。
本発明は、前記の問題に鑑み、上層及び下層のチップのサイズによらず、チップの主面と基板とのボンディングを可能とし、チップの主面から基板への配線抵抗を低減することにより、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作を防止できるようにすることを目的とする。
また、上層及び下層のチップのサイズによらず、上下のチップの配置をずらした場合にも、COC実装時の接合端子数を増大できるようにし、端子数の増大による高機能化を低コストで実現できるようにすることを目的とする。
さらには、上層の半導体チップと基板との間に空隙が生じる構成を防止して、組み立て後の品質の信頼性を確保することを目的とする。
なお、本発明においては、上記の複数の目的のうち少なくとも1つを達成できればよい。
前記の目的を達成するため、本発明は、COC構造を持つ半導体装置を、一方のチップに拡張部を設けると共に、該一方のチップの半導体領域の一部を覆わないように他のチップを配置して、半導体領域に形成された端子から基板に導電性部材によって接続が可能な構成とする。
本願発明者らは、COC構造を有するチップの実装において、例えば下層のチップを樹脂材等により拡張した場合に、拡張された下層のチップの引き出し配線(再配線)による抵抗の増大により生じる配線遅延によるチップの誤動作の影響を受けにくくする方法を種々検討した結果、以下のような発明に想到した。すなわち、上層及び下層のチップの大小関係に依存せず、チップからの引き出し配線の抵抗を下げる方策として、下層のチップの半導体領域上の接合端子(チップ上端子)の一部を覆わないように上層のチップを配置して、チップ上端子から基板へ直接に接続(ボンディング)できる構成とする。これにより、配線抵抗を低減でき、且つ接合端子の数を増加することができ、チップの動作速度のばらつき等に起因するLSIの動作不具合の発生を防止することができる。
具体的に、本発明に係る第1の半導体装置は、基台と、基台の上に保持され、本体部の側面から外方に拡張された拡張部を有する第1の半導体チップと、第1の半導体チップの拡張部と基台とを接続する第1の導電性部材と、第1の半導体チップの本体部と基台とを接続する第2の導電性部材とを備えている。
第1の半導体装置によると、下層のチップである第1の半導体チップに拡張部を設けることにより、下層のチップが上層チップと比べて同等又は小型の場合でも上層のチップの搭載の自由度及び基台との接合の自由度が高くなる。その上、拡張部だけでなくチップの本体部と基台とを第2の導電性部材によりボンディングすることにより、高速動作が必要な回路構成に対しても、低抵抗で配線することが可能となる。また、組み立てコストを上昇させることなく、端子数を増やすことが可能となる。その上、第2の半導体チップと基台との間に空隙が生じないため、組み立て後の品質の信頼性が向上する。
第1の半導体装置において、第1の半導体チップの上に固着され、且つバンプを介して接続された第2の半導体チップをさらに備えていることが好ましい。
この場合に、第1の半導体装置において、第2の半導体チップは、複数の半導体チップであってもよい。
このように、上層のチップである第2の半導体チップを複数個搭載することにより、大規模回路に対する対応が可能となる。
第1の半導体装置において、第1の半導体チップにおける拡張部は、本体部の一辺にのみ設けられていてもよい。
また、第1の半導体装置において、第1の半導体チップにおける拡張部は、本体部の二辺にのみ設けられていてもよい。
また、第1の半導体装置において、第1の半導体チップにおける拡張部は、本体部の三辺に設けられていてもよい。
このように、第1の半導体チップに設ける拡張部は、第1の半導体チップのサイズと第2の半導体チップのサイズとの大小関係、及び各半導体チップの高速動作の必要性等を勘案して、必要に応じて設ければよい。
第1の半導体装置が第2の半導体チップを備えている場合に、第1の半導体チップにおける本体部の側面と第2の半導体チップの側面とは、平面視で少なくとも三方向の側面がずれるように配置されていてもよい。
このようにすると、第1の半導体チップにおける拡張部と本体部との境界領域を、第2の半導体チップの周縁部と重ならない位置で配置することにより、高速動作が必要な回路構成に対しても、低抵抗で配線することが可能となる。その上、第1の半導体チップにおける拡張部との境界領域に組み立て応力が集中することを回避できるので、組み立てコストを抑えることができる。
本発明に係る第2の半導体装置は、基台と、基台の上に固着され、本体部の側面から外方に拡張された拡張部を有する第1の半導体チップと、第1の半導体チップの上にそれぞれ固着され且つバンプを介して接続された複数の第2の半導体チップと、第1の半導体チップの拡張部と基台とを接続する第1の導電性部材とを備えている。
第2の半導体装置によると、第1の半導体装置の効果を得られる上に、上層のチップである第2の半導体チップを複数個搭載することにより、大規模回路に対する対応が可能となる。従って、複数のチップ数の端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。
第2の半導体装置において、第1の半導体チップの本体部と基台とを接続する第2の導電性部材をさらに備えていることが好ましい。
また、第2の半導体装置において、第1の半導体チップと基台とは、第1の半導体チップの拡張部に設けられた第1の導電性部材でのみ接続されていてもよい。
第1の半導体装置は、第1の半導体チップの上に、素子形成面の反対側の面を第1の半導体チップと対向させて保持された第2の半導体チップと、第2の半導体チップと第1の半導体チップとを、第1の半導体チップの本体部及び拡張部のうち少なくとも本体部において接続する第3の導電性部材とをさらに備えていてもよい。
このようにすると、上層のチップである第2の半導体チップを第1の半導体チップの上にフリップチップ実装せずに、第3の導電性部材としてワイヤによりボンディングを行う構成を採ることができる。
この場合に、第1の半導体装置は、第2の半導体チップと第1の半導体チップの拡張部とを接続する第4の導電性部材をさらに備えていてもよい。
また、第1の半導体装置は、第1の半導体チップと基台との間に保持され、且つ第1の半導体チップと第1のバンプを介して接続された第2の半導体チップをさらに備え、第1の導電性部材は第2のバンプであり、且つ第2の導電性部材は第3のバンプであってもよい。
このように、上層のチップである第1の半導体チップに拡張部を設けることにより、下層の第2の半導体チップが第1の半導体チップよりも大型の場合であっても、単数又は複数の第2の半導体チップの搭載の自由度及び基台との接合の自由度が高くなる。その上、第1の半導体チップの拡張部に第2のバンプを設けることにより、端子数を増やすことが可能となる。
第1又は第2の半導体装置において、第1の半導体チップの拡張部には、第1の導電性部材と本体部とを接続する再配線が設けられていてもよい。
第1又は第2の半導体装置において、第1の半導体チップにおける拡張部の側面は、第2の半導体チップにおける最も外側の側面の位置よりも、平面視で外側に位置することが好ましい。
第1又は第2の半導体装置において、基台は、配線基板であってもよい。
また、第1又は第2の半導体装置において、基台は、リードフレームであってもよい。
本発明に係る半導体装置によると、COC実装時の接合端子数をチップサイズによらずに増大でき、且つチップの主面から基台への配線抵抗を低減することが可能となる。また、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作が防止されると共に、端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。また、上層の半導体チップと基台との間に空隙が生じないため、組み立て後の品質の信頼性が向上する。
図1は第1の実施形態に係る半導体集積回路装置を示し、図2、図3、図4及び図5のI−I線における断面図である。 図2は第1の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図3は第1の実施形態の第1変形例に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図4は第1の実施形態の第2変形例に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図5は第1の実施形態の第3変形例に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図6は第2の実施形態に係る半導体集積回路装置を示し、図7のVI−VI線における断面図である。 図7は第2の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図8は第2の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置を示し、図9のVIII−VIII線における断面図である。 図9は第2の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図10は第3の実施形態に係る半導体集積回路装置を示し、図11のX−X線における断面図である。 図11は第3の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図12は第3の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置を示し、図13のXII−XII線における断面図である。 図13は第3の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図14は第4の実施形態に係る半導体集積回路装置を示し、図15のXIV−XIV線における断面図である。 図15は第4の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。 図16は従来のCOC構造を持つ半導体集積回路装置を示す断面図である。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路装置について図1及び図2を参照しながら説明する。
図1及び図2に示すように、第1の実施形態に係る半導体集積回路装置100は、第1の半導体チップ101(以下、単に第1のチップ101と呼ぶ。)と、その上にアンダーフィル材105により固着された第2のチップ102(以下、単に第2のチップ102と呼ぶ。)とが、積層された複数の配線層を含む基板103の主面上に、第1のチップ101を下にして固着されている。
第1のチップ101は、例えばシリコン(Si)からなる本体部101Aと、該本体部101Aの二方の側面からそれぞれ外側に主面(素子形成面)に平行に延びる、例えば樹脂材からなる拡張部101Bとから構成されている。本体部101Aの主面には、複数のパッド(図示せず)が形成され、本体部101Aと拡張部101Bとは、各パッドと接続された再配線108を介して電気的に接続されている。
再配線108は、拡張部101Bの上でワイヤボンド用のパッドと接続され、第1の導電性部材としての第1のワイヤ106aを介して基板103と電気的に接続されている。さらに、本体部101Aに形成されたパッドは、第2の導電性部材としての第2のワイヤ106bを介して基板103と電気的に接続されている。
第2のチップ102は、その素子形成面(下面)に複数のパッドが形成されている。各パッドは、第1のチップ101の素子形成面(上面)に形成された複数のパッドと対向し、且つそれぞれバンプ104を介して、又は再配線108と拡張部101Bの上のバンプ104Bとを介して、電気的に接続されている。
基板103の主面上に形成されたモールド樹脂材107(外形の輪郭のみ図示)により、拡張部101B及びその上の再配線108を含む第1のチップ101と、第2のチップ102と、第1のワイヤ106a及び第2のワイヤ106bとが覆われている。
また、基板103のモールド樹脂材107と反対側の面(下面)には、基板103の内部に設けられた積層配線及びビア(via)と電気的に接続される複数のバンプ150が形成されている。
このように、第1の実施形態に係る半導体集積回路装置100は、第2のチップ102が第1のチップ101に対してフリップチップ接続されたチップオンチップ(COC)構造を採る。
この構成により、下層のチップである第1のチップ101のサイズの大小関係によらず、特に、第1のチップ101のチップサイズが上層の第2のチップ102のチップサイズと同等か又は第2のチップ102よりも小さい場合に、第1のチップ101に拡張部101Bを設けることにより、第1のチップ101の接合端子数を増加することができる。
さらに、第1の実施形態においては、拡張部101Bだけでなく、第1のチップ101の本体部101Aに形成されたパッドが、第2のワイヤ106bを介して基板103と電気的に接続される。その結果、半導体集積回路装置100が高速動作を必要とする回路構成であっても、低抵抗で配線することが可能となる。また、拡張部101Bに用いる第1のワイヤ106aと、本体部101Aに用いる第2のワイヤ106bとによって、基板103の主面上における第1のチップ101の周辺部に、必要な接合端子を設けることができる。また、拡張部101Bに用いる第1のワイヤ106aと第2のチップ102とが、再配線108とバンプ104Bとを介して電気的に接続されることにより、第2のチップ102と接続される端子の数を増やすことが可能となるだけでなく、低抵抗で配線することが可能となる。その結果、組み立てコストを上昇させることなく、端子数を増やすことが可能となる。
これにより、第1のチップ101の主面から基板103への配線抵抗を低減することができるため、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作が防止されて、端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。
さらには、第2のチップ102と基板103との間に空隙が生じないため、組み立て後の本集積回路装置における信頼性を確保することができる。
なお、第1のチップ101の拡張部101Bの構成材料である樹脂材には、例えば、エポキシ樹脂等を用いることができる。また、拡張部101Bの構成材料は、樹脂材に限られず、金属、例えばFe−Ni系合金又はCu系合金等の他の材料を用いてもよい。なお、拡張部101Bに金属等の導電性材料を用いる場合は、該拡張部101Bに再配線108を設ける際に、拡張部101Bと再配線108との間に絶縁性材料を介在させる必要がある。拡張部101Bの樹脂材以外の構成材料は、以下の各実施形態及びその変形例に対しても適用可能である。
本実施形態においては、第2のチップ102の第1のチップ101への搭載位置として、第1のチップ101における本体部101Aの残りの二辺の周縁部のうち、少なくとも一周縁部が、第2のチップの対応する辺の外側の領域から露出する必要がある。なお、露出する領域が複数の領域であっても、第2のワイヤ106bは複数の周縁部のうちの少なくとも1つの周縁部に設ければよい。
また、本実施形態においては、第1のチップ101及び第2のチップ102の各平面形状を四辺形状としているが、本発明は、必ずしも四辺形状に限られない。例えば、三角形状又は五角形以上の多角形状であっても、本発明は適用可能である。これは、以下の各実施形態及びその変形例に対しても適用可能である。
(第1の実施形態の第1変形例)
図3に示すように、第1の実施形態の第1変形例に係る半導体集積回路装置100は、それを構成する第1のチップ101に設ける拡張部101Bが、第1のチップ101の本体部101Aの一辺にのみ形成されている。
第1変形例においては、第2のチップ102の第1のチップ101への搭載位置として、第1のチップ101における本体部101Aの残りの三辺の周縁部のうち、少なくとも一周縁部が、第2のチップの対応する辺の外側の領域から露出する必要がある。なお、露出する領域が複数の領域であっても、第2のワイヤ106bは複数の周縁部のうちの少なくとも1つの周縁部に設ければよい。
(第1の実施形態の第2変形例)
図4に示すように、第1の実施形態の第2変形例に係る半導体集積回路装置100は、それを構成する第1のチップ101に設ける拡張部101Bが、第1のチップ101の本体部101Aの三辺に形成されている。
第2変形例においては、第2のチップ102の第1のチップ101への搭載位置として、第1のチップ101における本体部101Aの残りの一辺の周縁部が、第2のチップの対応する辺の外側の領域から露出する必要がある。
第1の実施形態及びその変形例に示すように、第1のチップ101に設ける拡張部101Bは、第1のチップ101のサイズと第2のチップ102のサイズとの大小関係、及び各チップ101、102の高速動作の必要性等を考慮して、必要に応じて設けることができる。
(第1の実施形態の第3変形例)
図5に示すように、第1の実施形態の第3変形例に係る半導体集積回路装置100は、第1のチップ101における本体部101Aの側面と第2のチップ102の側面とが、少なくとも三辺において平面視でずれるように配置されている。
このように、第1のチップ101と第2のチップ102との双方のチップの側面を互いにずらすことにより、第1のチップ101における本体部101Aとその拡張部101Bとの境界部分への応力の集中を回避することができる。
(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態に係る半導体集積回路装置について図6及び図7を参照しながら説明する。図6及び図7において、図1及び図2に示した構成部材と同一の構成部材には同一の符号を付している。
図6及び図7に示すように、第2の実施形態に係る半導体集積回路装置100Aは、COC構造における上層のチップとして、複数の第2のチップ102を搭載している。
本実施形態においては、例えば、4個の第2のチップ102を用いており、各チップ102の機能は全てが異なってもいてもよく、また、少なくとも2つが同一の機能を有していてもよい。
また、4個の第2のチップ102は、それぞれの外側の側面が第1のチップ101の三辺の外側に位置するように配置される。このため、第1のチップ101の拡張部101Bは、第2のチップ102の側面が本体部101Aよりも外側に位置する三辺に設けられる。
なお、第1の実施形態と同様に、第1のチップ101の残りの一辺の本体部101Aの主面は、第2のワイヤ106bを設ける領域が確保されるように、第2のチップ102の側方から露出している必要がある。
また、第1のチップ101と複数の第2のチップ102とのチップサイズの大小関係によっては、第1のチップ101の拡張部101Bを、図2のように、二辺にのみ設けてもよく、また、図3のように、一辺にのみ設けてもよい。
第2の実施形態によると、下層のチップである第1のチップ101のサイズの大小関係によらず、特に、第1のチップ101のチップサイズが上層の複数の第2のチップ102を搭載するのに必要な面積と同等又はそれよりも小さい場合に、第1のチップ101に少なくとも1つの拡張部101Bを設けることにより、第1のチップ101の接合端子数を増加することができる。
さらに、第2の実施形態においては、拡張部101Bだけでなく、第1のチップ101の本体部101Aに形成されたパッドが、第2のワイヤ106bを介して基板103と直接に接続される。その結果、半導体集積回路装置100Aが高速動作を必要とする回路構成であっても、低抵抗で配線することが可能となる。また、拡張部101Bと接続される第1のワイヤ106aと、本体部101Aと接続される第2のワイヤ106bとによって、基板103の主面上における第1のチップ101の周辺部に、必要な接合端子を設けることができる。その結果、組み立てコストを上昇させることなく、端子数を増やすことが可能となる。
これにより、第1のチップ101の主面から基板103への配線抵抗を低減することができるため、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作が防止されて、端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。
また、複数の第2のチップ102と基板103との間に空隙が生じないため、組み立て後の本集積回路装置における信頼性を確保することができる。
その上、第2の実施形態においては、複数の第2のチップ102を搭載することにより、第1のチップ101に対して、より高い機能を付与することが可能となる。
なお、第2の実施形態においては、第2のチップ102が4個の場合を説明したが、4個に限られず、2個以上であれば、本実施形態と同等の効果を得ることができる。
(第2の実施形態の一変形例)
図8及び図9に示すように、第2の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置100Aは、第1のチップ101の本体部101Aと基板103とが第2のワイヤによって接続されていない。
例えば、第1のチップ101及び複数の第2のチップ102のいずれもが高速動作が不要な構成である場合には、第1のチップ101の本体部101Aと基板103とを第2のワイヤによって直接に接続しなくてもよい場合がある。
このようにすると、本変形例に係る半導体集積回路装置100Aの外形を小さくすることが可能となる。
また、第1のチップ101と複数の第2のチップ102との双方のチップの側面を互いにずらすことにより、第1のチップ101における本体部101Aとその拡張部101Bとの境界部分への応力の集中を回避することができる。
(第3の実施形態)
以下、本発明の第3の実施形態に係る半導体集積回路装置について図10及び図11を参照しながら説明する。図10及び図11において、図1及び図2に示した構成部材と同一の構成部材には同一の符号を付している。
図10及び図11に示すように、第3の実施形態に係る半導体集積回路装置100Bは、上層の第2のチップ102が下層の第1のチップ101の主面上に、バンプを介したフリップチップ実装ではなく、第2のチップ102の素子形成面を上にして実装されたCOC構造を採る。ここで、第2のチップ102と第1のチップ101の本体部101Aとの電気的な接続は、第3の導電性部材としての第3のワイヤ106cによって行われる。
第2のチップ102は、側面が第1のチップ101の二辺の外側に位置するように配置される。このため、第1のチップ101の拡張部101Bは、第2のチップ102の側面が本体部101Aよりも外側に位置する二辺に設けられる。
なお、第1の実施形態と同様に、第1のチップ101の残りの二辺の本体部101Aの主面は、第2のワイヤ106b及び第3のワイヤ106cを設ける領域が確保されるように、第2のチップ102の側方から露出している必要がある。
また、第1のチップ101と第2のチップ102とのチップサイズの大小関係によっては、第1のチップ101の拡張部101Bを、図3のように、一辺にのみ設けてもよく、また、図4のように、三辺に設けてもよい。
第3の実施形態によると、下層のチップである第1のチップ101のサイズの大小関係によらず、特に、第1のチップ101のチップサイズが上層の第2のチップ102の面積と同等又はそれよりも小さい場合に、第1のチップ101に少なくとも1つの拡張部101Bを設けることにより、第1のチップ101の接合端子数を増加することができる。
さらに、第3の実施形態においては、拡張部101Bだけでなく、第1のチップ101の本体部101Aに形成されたパッドが、第2のワイヤ106bを介して基板103と電気的に接続される。その結果、半導体集積回路装置100Bが高速動作を必要とする回路構成であっても、低抵抗で配線することが可能となる。また、拡張部101Bに用いる第1のワイヤ106aと、本体部101Aに用いる第2のワイヤ106bとによって、基板103の主面上における第1のチップ101の周辺部に、必要な接合端子を設けることができる。その結果、組み立てコストを上昇させることなく、端子数を増やすことが可能となる。
これにより、第1のチップ101の主面から基板103への配線抵抗を低減することができるため、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作が防止されて、端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。
なお、第3の実施形態においても、下層の第1のチップ101の上に、複数の第2のチップ102を搭載してもよい。
(第3の実施形態の一変形例)
図12及び図13に示すように、第3の実施形態の一変形例に係る半導体集積回路装置100Bは、第2のチップ102の素子形成面と第1のチップ101の拡張部101Bとの電気的な接続に、第4の導電性部材である第4のワイヤ106dを用いている。
これにより、第2のチップ102と基板103との接続、又は第2のチップ102と第1のチップ101との接続の自由度を増すことができる。
なお、第1のチップ101の拡張部101Bにおける第4のワイヤ106dとの接続部には、図示はしていないが、パッド及び再配線が形成されている。
また、本変形例においても、下層の第1のチップ101の上に、複数の第2のチップ102を搭載してもよい。
(第4の実施形態)
以下、本発明の第4の実施形態に係る半導体集積回路装置について図14及び図15を参照しながら説明する。図14及び図15において、図1及び図2に示した構成部材と同一の構成部材には同一の符号を付している。
図14及び図15に示すように、第4の実施形態に係る半導体集積回路装置100Cは、複数の第2のチップ102がその素子形成面を上にして基板103の主面上に直接に固着されている。第2のチップ102は、その素子形成面(上面)に複数のパッドが形成されている。
第1のチップ101は、半導体からなる本体部101Aと、該本体部101Aの二辺の側面からそれぞれ外側に素子形成面(下面)に平行に延びる拡張部101Bとから構成されている。本体部101Aの素子形成面には、複数のパッドが形成され、本体部101Aと拡張部101Bとは、各パッドと接続された再配線108を介して電気的に接続されている。
再配線108は、拡張部101Bの上でバンプ用のパッドと接続され、第2の導電性部材としての第2のバンプ104bを介して基板103と電気的に接続されている。さらに、本体部101Aに形成されたパッドは、第3のバンプ104cを介して基板103と電気的に接続されている。
第2のチップ102の各パッドは、第1のチップ101の素子形成面に形成された複数のパッドと対向し且つそれぞれ第1の導電性部材である第1のバンプ104aを介して電気的に接続されている。
第1のチップ101と、複数の第2のチップ102、第2のバンプ104b及び第3のバンプ104cとの間には、アンダーフィル材105が充填されている。
このように、第4の実施形態に係る半導体集積回路装置100Cは、第1のチップ101が複数の第2のチップ102に対してフリップチップ接続されたチップオンチップ(COC)構造を採る。
なお、拡張部101Bを含む第1のチップ101とアンダーフィル材とは、モールド樹脂材により覆われていてもよい。
この構成により、上層のチップである第1のチップ101のサイズの大小関係によらず、特に、第1のチップ101のチップサイズが下層の複数の第2のチップ102を搭載するのに必要な面積と同等又はそれよりも小さい場合に、第1のチップ101に拡張部101Bを設けることにより、第1のチップ101の接合端子数を増加することができる。
さらに、第1の実施形態においては、拡張部101Bだけでなく、第1のチップ101の本体部101Aに形成されたパッドが、第3のバンプ104cを介して基板103と直接に接続される。その結果、半導体集積回路装置100Cが高速動作を必要とする回路構成であっても、低抵抗で配線することが可能となる。また、拡張部101Bに設ける第2のバンプ104bと、本体部101Aに設ける第3のバンプ104cとによって、基板103の主面上における第1のチップ101の周辺部に、必要な接合端子を設けることができる。その結果、組み立てコストを上昇させることなく、端子数を増やすことが可能となる。
これにより、第1のチップ101の主面から基板103への配線抵抗を低減するができるため、動作速度のばらつき等に起因するタイミング性能及び機能の誤動作が防止されて、端子数の増大による高機能化を低コストで実現することができる。
その上、第4の実施形態においては、複数の第2のチップ102を搭載することにより、第1のチップ101に対して、より高い機能を付与することが可能となる。
また、第1のチップ101の本体部101A及び拡張部101Bに第3のバンプ104c及び第2のバンプ104bをそれぞれ配置することにより、さらには、第3のバンプ104cを第1のチップ102の中央部に配置することにより、端子数を増加できる上に、高速動作に適したバンプ接合を行うことが可能となる。
なお、上記の各実施形態及びその変形例においては、基板103として、積層された複数の配線層を含む配線基板を用いたが、これに限られず、導電部を有する基台であればよい。例えば、そのような基台として、リードフレームを用いることができる。
また、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、以上に述べた第1〜第4の各実施形態(変形例を含む)における各構成要素を任意に組み合わせてもよいことはいうまでもない。
例えば、図1に示した第1の実施形態に係る半導体集積回路装置の拡張部101Bの上に設けられたバンプ104Bは、第3の実施形態及びその変形例を除く構成において、適用が可能である。
本発明に係る半導体装置は、端子数の増大による高機能化を低コストで実現でき、チップオンチップ構造を有する半導体集積回路装置等に有用である。
100 半導体集積回路装置
100A 半導体集積回路装置
100B 半導体集積回路装置
100C 半導体集積回路装置
101 第1のチップ
101A 本体部
101B 拡張部
102 第2のチップ
103 基板
104 バンプ
104B バンプ
104a 第1のバンプ
104b 第2のバンプ
104c 第3のバンプ
105 アンダーフィル材
106a 第1のワイヤ(第1の導電性部材)
106b 第2のワイヤ(第2の導電性部材)
106c 第3のワイヤ(第3の導電性部材)
106d 第4のワイヤ(第4の導電性部材)
107 モールド樹脂材
108 再配線
150 バンプ

Claims (16)

  1. 基台と、
    前記基台の上に素子形成面を前記基台と反対側に向けて搭載され、本体部の側面から外方に拡張された拡張部を有する第1の半導体チップと
    前記第1の半導体チップの上に素子形成面を前記基台側に向けて搭載され、且つ前記第1の半導体チップとバンプを介して接続された第2の半導体チップとを備え、
    前記第1の半導体チップの前記拡張部と前記基台とは、第1の導電性部材でボンディング接続され、
    前記第1の半導体チップの前記本体部と前記基台とは、第2の導電性部材でボンディング接続されている半導体装置。
  2. 請求項において、
    前記バンプは、前記第1の半導体チップの前記拡張部を除いて形成されている半導体装置。
  3. 請求項1又は2において、
    前記第2の半導体チップは、複数の半導体チップである半導体装置。
  4. 基台と、
    前記基台の上に素子形成面を前記基台と反対側に向けて搭載され、本体部の側面から外方に拡張された拡張部を有する第1の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップの上に素子形成面を前記基台と反対側に向けて搭載され、第3の導電性部材で前記第1の半導体チップとボンディング接続された第2の半導体チップとを備え、
    前記第1の半導体チップの前記拡張部と前記基台とは、第1の導電性部材でボンディング接続され、
    前記第1の半導体チップの前記本体部と前記基台とは、第2の導電性部材でボンディング接続されている半導体装置。
  5. 請求項において、
    前記第3の導電性部材は、前記第1の半導体チップの本体部と前記第2の半導体チップとを接続する半導体装置。
  6. 請求項4又は5において、
    前記第3の導電性部材は、前記第1の半導体チップと拡張部と前記第2の半導体チップとを接続する半導体装置。
  7. 基台と、
    前記基台の上に素子形成面を前記基台と反対側に向けて搭載された第1の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップの上に搭載され、本体部の側面から外方に拡張された拡張部を有する第2の半導体チップとを備え、
    前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとは、バンプを介して接続され、
    前記第2の半導体チップの前記拡張部と前記基台とは、第1の導電性部材で接続され、
    前記第2の半導体チップの本体部と前記基台とは、第2の導電性部材で接続されている半導体装置。
  8. 請求項において、
    前記第1の半導体チップと前記基台とは、前記第1の導電性部材及び前記第2の導電性部材でのみ接続されている半導体装置。
  9. 請求項1〜のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップにおける前記拡張部は、前記本体部の一辺にのみ設けられている半導体装置。
  10. 請求項1〜のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップにおける前記拡張部は、前記本体部の隣接する二辺にのみ設けられている半導体装置。
  11. 請求項1〜のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップにおける前記拡張部は、前記本体部の三辺に設けられている半導体装置。
  12. 請求項1〜8のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップにおける前記本体部の側面と前記第2の半導体チップの最も外側の側面とは、平面視で少なくとも三方向の側面がずれるように配置されている半導体装置。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップの前記素子形成面には、前記本体部から前記拡張部に亘って、前記第1の導電性部材と前記本体部とを電気的に接続する再配線が設けられている半導体装置。
  14. 請求項1〜13のいずれか1項において、
    前記第1の半導体チップにおける前記拡張部の側面は、前記第2の半導体チップにおける最も外側の側面の位置よりも、平面視で外側に位置する半導体装置。
  15. 請求項1〜14のいずれか1項において、
    前記基台は、配線基板である半導体装置。
  16. 請求項1〜14のいずれか1項において、
    前記基台は、リードフレームである半導体装置。
JP2013539502A 2011-10-20 2012-08-24 半導体装置 Active JP5973456B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011230470 2011-10-20
JP2011230470 2011-10-20
PCT/JP2012/005300 WO2013057861A1 (ja) 2011-10-20 2012-08-24 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013057861A1 JPWO2013057861A1 (ja) 2015-04-02
JP5973456B2 true JP5973456B2 (ja) 2016-08-23

Family

ID=48140532

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013539502A Active JP5973456B2 (ja) 2011-10-20 2012-08-24 半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9093338B2 (ja)
JP (1) JP5973456B2 (ja)
CN (1) CN103650134B (ja)
WO (1) WO2013057861A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013073082A1 (ja) * 2011-11-16 2013-05-23 パナソニック株式会社 拡張型半導体チップ及び半導体装置
JP5979565B2 (ja) * 2012-04-11 2016-08-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体装置
CN107342265B (zh) * 2017-07-21 2019-08-30 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 扇出型封装结构及其制造方法
CN107275302B (zh) * 2017-07-21 2019-08-30 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 扇出型封装结构及其制造方法
CN107342264B (zh) * 2017-07-21 2019-09-17 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 扇出型封装结构及其制造方法
JP7524632B2 (ja) * 2020-06-29 2024-07-30 日本電気株式会社 量子デバイス

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5012323A (en) * 1989-11-20 1991-04-30 Micron Technology, Inc. Double-die semiconductor package having a back-bonded die and a face-bonded die interconnected on a single leadframe
JPH0513666A (ja) * 1991-06-29 1993-01-22 Sony Corp 複合半導体装置
JPH11177020A (ja) * 1997-12-11 1999-07-02 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体実装構造およびその実装方法
JP4330676B2 (ja) * 1998-08-17 2009-09-16 株式会社東芝 半導体集積回路
JP4361670B2 (ja) * 2000-08-02 2009-11-11 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体素子積層体、半導体素子積層体の製造方法、及び半導体装置
US7166912B2 (en) * 2001-04-05 2007-01-23 Advanced Energy Technology Inc. Isolated thermal interface
JP3602118B2 (ja) * 2002-11-08 2004-12-15 沖電気工業株式会社 半導体装置
JP4580730B2 (ja) 2003-11-28 2010-11-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 オフセット接合型マルチチップ半導体装置
JP2005051261A (ja) * 2004-09-06 2005-02-24 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2006203079A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Sharp Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP4674113B2 (ja) * 2005-05-06 2011-04-20 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP2007036035A (ja) * 2005-07-28 2007-02-08 Toshiba Corp 半導体装置
US7759167B2 (en) * 2005-11-23 2010-07-20 Imec Method for embedding dies
JP2007158279A (ja) * 2005-12-09 2007-06-21 Hitachi Ltd 半導体装置及びそれを用いた電子制御装置
KR100697553B1 (ko) * 2005-12-19 2007-03-21 삼성전자주식회사 멀티 스택 패키지 및 이의 제조 방법
WO2007086481A1 (ja) * 2006-01-25 2007-08-02 Nec Corporation 電子デバイスパッケージ、モジュール、および電子機器
JP4910408B2 (ja) 2006-01-31 2012-04-04 ソニー株式会社 半導体装置
US7429792B2 (en) * 2006-06-29 2008-09-30 Hynix Semiconductor Inc. Stack package with vertically formed heat sink
JP5183949B2 (ja) * 2007-03-30 2013-04-17 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
JP2010092931A (ja) * 2008-10-03 2010-04-22 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
JP2010141080A (ja) 2008-12-11 2010-06-24 Toshiba Corp 半導体装置
JP2010278318A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Renesas Electronics Corp 半導体装置
US20120133381A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Electro Scientific Industries, Inc. Stackable semiconductor chip with edge features and methods of fabricating and processing same
CN103283019A (zh) * 2011-02-10 2013-09-04 松下电器产业株式会社 半导体装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013057861A1 (ja) 2013-04-25
CN103650134B (zh) 2017-08-25
CN103650134A (zh) 2014-03-19
US20140103502A1 (en) 2014-04-17
JPWO2013057861A1 (ja) 2015-04-02
US9093338B2 (en) 2015-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9806017B2 (en) Flip-chip, face-up and face-down centerbond memory wirebond assemblies
JP5514560B2 (ja) 半導体装置
US8143716B2 (en) Semiconductor device with plate-shaped component
JP5973456B2 (ja) 半導体装置
EP2630657A1 (en) Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and improved thermal characteristics
JP4395166B2 (ja) コンデンサを内蔵した半導体装置及びその製造方法
US8890335B2 (en) Semiconductor device
JP5358089B2 (ja) 半導体装置
JP2005260053A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2014072487A (ja) 半導体装置およびその製造方法
WO2014136156A1 (ja) 半導体装置
JP2006086149A (ja) 半導体装置
KR101227078B1 (ko) 반도체 패키지 및 그 형성방법
JPWO2013105153A1 (ja) 半導体装置
JP2010206021A (ja) 電子部品実装構造体、およびその製造方法
JP5973470B2 (ja) 半導体装置
JP2005286126A (ja) 半導体装置
US20080164620A1 (en) Multi-chip package and method of fabricating the same
US10008441B2 (en) Semiconductor package
WO2012005352A1 (ja) 半導体装置
JP4854148B2 (ja) 半導体装置
KR20120126365A (ko) 유닛 패키지 및 이를 갖는 스택 패키지
TWI762058B (zh) 半導體封裝件
JP2002170920A (ja) フリップチップ装置
JP2024027289A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160119

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160224

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160621

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160714

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5973456

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151