JP4330676B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路に関し、特に、スタンダードセルやエンベデッドアレイ方式に用いられる半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の民生機器への利用が広範囲になるに従い、特定の用途に向けた半導体集積回路の要望が高まり、これを受けて近年、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)技術がさかんに開発されている。
【0003】
ASICには、高集積度と高い設計自由度を有するスタンダードセル方式や、これらの利点に加え、短期間での開発が可能という利点を備えたエンベデッドアレイ(EA:embedded array)方式などがあるが、いずれについても集積度をさらに高めるためは、設計の自由度を維持しながら、配線領域を狭める必要がある。
【0004】
従来、ROM、RAM等の複数のコアを有する半導体集積回路のレイアウトに電源端子と接地端子を接続するにあたり、主として2つの配線方法があった。
【0005】
以下、従来の技術における配線方法について図面を参照しながら説明する。なお、以下の各図において、同一の部分は同一の参照番号を付して適宜その説明を省略する。
【0006】
一つの方法は、コアのI/Oセルに直接接続する方法である。図9は、この方法を説明する平面図である。同図に示すように、コア1内のI/Oセルに接続する電源端子62a,62bまたは61a,61bをコア1の周辺に設け、これにVDDまたはVSSをそれぞれ接続する。この方法によれば、電源端子の位置が固定されているので、設計の自由度が著しく減少するという欠点がある。
【0007】
もう一つの方法は、コアの周辺に2つのリング状の配線を持たせて、これにVDDまたはVSSを接続する方法である。図10は、これを説明する平面図であり、同図に示すように、コア1の周辺に、これを周回する配線71とこの配線71を周回する配線72を設け、これらにVDDまたはVSSを接続する。配線71,72は、相互に隣接する辺が異なる配線層に属するように形成され、例えば、同図の実線に示す辺72a,72cは、第1層の配線層に形成され、この一方、同図の破線に示す辺71a,71cは、第2層の配線層に形成されている。このように、配線をリング上にすることにより、コア回路1は、各辺のいずれの箇所においても電源端子との接続が可能になるとともに、複数の配線層にわたって電源配線を設けることにより、互いに直交する辺ごとにVDDとVSSとの接続が可能になり、設計の自由度が向上する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法によれば、図9に示す方法と比べ、設計の自由度は向上するが、配線71,72を配設する領域が必要となり、その分半導体装置の集積度が低下することになる。一般に、チップ上には2以上のコアを搭載するため、このコアの数量分の配線領域が電源との接続のために使用されることになり、装置全体の集積度が著しく低下することになる。
【0009】
図11は、図10に示す方法を複数のコアについて適用した半導体集積回路80を示す平面図である。同図に示すように、2つのコア1,2のそれぞれについて、各コアを周回する配線71が設けられ、さらにこの配線71を周回する配線72が設けられている。従って、コア1,2の間には、4本の配線のための領域が必要となり、半導体装置全体の集積度がこの分だけ低下することになる。
【0010】
また、上記方法をサイズの異なるコア回路を備えた半導体集積回路に適用した場合を図12に示す。同図に示す半導体集積回路90においても、コア回路1,12間に4本の配線71b,72b,92d,91dのための領域が必要になる。
【0011】
さらに、図13に示すように、マトリックスをなすように3個以上のコア回路1,2,3が配設されている場合は、X方向およびY方向のいずれについてもコア回路間に4本の配線のための領域が必要となり、半導体装置全体の集積度が著しく低下することになる。
【0012】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は設計の自由度を高めつつ、狭い領域に電源配線を設けることができる半導体集積回路を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下の手段により上記課題の解決を図る。
【0014】
本発明によれば、
それぞれ矩形の平面形状を有する複数のコア回路と、
電源配線および接地配線のいずれか一方であり、前記コア回路の各辺に平行に形成され、外部の第1の端子と前記コア回路とを接続する第1の配線と、
前記電源配線および前記接地配線のいずれか他方であり、前記第1の配線に平行に形成され、外部の第2の端子と前記コア回路とを接続する第2の配線とを備え、
前記第1の配線および前記第2の配線のX方向の部分は半導体装置の一の配線層に形成され、
前記第1の配線および前記第2の配線のY方向の部分は前記一の配線層と層位置を異にする前記半導体装置の他の配線層に形成され、
前記第1の配線と前記第2の配線は、それぞれX方向の部分の端部とこれに対応するY方向の部分の端部とが層間配線により相互に接続され、
前記第1の配線と前記第2の配線は、いずれも隣接する前記コア回路間の1辺の少なくとも1部を共有する、
半導体集積回路が提供される。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態のいくつかについて図面を参照しながら説明する。
【0026】
本発明は、半導体基板上の多数の配線層にわたって電源配線を設け、これにより配線の自由度を高めるとともに、隣接するコアの間において電源配線を共有することにより、配線領域の占有面積を縮小して半導体装置の集積度の向上を図るものである。
【0027】
まず、本発明に係る半導体集積回路の第1の実施の形態について図1を参照しながら説明する。本実施形態は、本発明を単一のコアの電源配線に適用した形態であり、後述する他の実施形態の基本となる形態である。
【0028】
図1は、本実施形態に係る半導体集積回路10の平面図である。同図には、矩形の平面形状を有するコア1を周回する2本の電源配線4,5が示されている。電源配線4,5は、いずれも平面視においてコア1と相似形の矩形をなしているが、いずれも半導体基板上で複数の配線層にわたって形成され、これらの配線層の間で形成された層間配線により、矩形の各辺の配線が接続されている。本実施形態においては、X方向の辺4a,5a、4c,5cが第1層の配線層に形成され、Y方向の辺、4b,5b、4d,5dが第2層の配線層に形成されている。また、上面視における各辺の接点部分4e〜4h、5e〜5hは、層間配線となって上述の各辺を接続している。
【0029】
図3は、図1に示す半導体集積回路10を具体的に半導体基板上に形成した場合の略示断面図であり、図1のA−A切断面における断面図である。同図において実線で示す領域は、配線4の形状を示し、破線で示す領域は、配線5の形状を示す。
【0030】
同図に示すように、半導体基板上の一点鎖線に示す領域にはコア回路1が形成され、このコア回路1の手前側に配線4の一辺4aが半導体基板の配線層L1に形成されている。配線4aの端部の上方の配線層L2には、辺4b,4dの断面が示されており、紙面垂直方向の裏面方向に延在して形成されている。辺4aの端部からは、層間配線4e,4hが形成され、それぞれ配線層L2の辺4b,4dに接続されている。
【0031】
配線4の辺4aの紙面左側の破線領域には、配線5の辺5aの一部が示されており、配線4と同様にして層間配線5e,5hを介して配線層L2に形成された辺5b,5dに接続されている。
【0032】
本実施形態では、配線4,5の図1のX方向を配線層L1、Y方向を配線層L2として形成したが、Y方向を配線層L1、X方向を配線層L2で形成しても良い。また、隣接する2つの配線層にわたって配線4,5を形成したが、3層以上の多層配線を備えた半導体装置において、他の配線層を介して形成することもできる。例えば、3層の配線層を有する半導体装置において、図1に示す配線4,5のX方向の辺を第1層に形成し、Y方向を第3層に形成したものでも良い。
【0033】
次に、本発明に係る半導体集積回路の第2の実施の形態について図面を参照しながら説明する。本実施形態は、上述の第1の実施の形態を2つのコア回路を有する半導体集積回路に適用したものである。
【0034】
図2は、本実施形態に係る半導体集積回路20の平面図である。
【0035】
同図に示すように、半導体集積回路20は、2つのコア回路1,2を備えている。コア回路1,2は、いずれも同一の矩形平面形状と同一の占有面積を有し、X方向の対応する2辺が同一の線上になるように配置されている。
【0036】
コア回路1,2の周辺には、図1に示す配線4,5と同一形状の配線がそれぞれ設けられ、コア回路1,2間の領域でそれぞれ1辺(14Z,15Z)を共有して配線4のパターン同士、配線5のパターン同士が相互に接続され、各枠内にコア回路1,2を含む格子形状の配線14,15となっている。
【0037】
これらの配線14,15は、図1に示す配線4,5と同様に、いずれか一方の配線の平面形状をコア回路1または2の矩形状の対向する2点を接続する対角線に沿って移動させた位置に形成されている。本実施形態においては、配線14は接地端子VSSに接続され、また、配線15は、電源端子VDDに接続されている。
【0038】
このように共有配線14Z,15Zを介して、コア回路1,2の電源配線が相互に接続されているので、図11に示す従来技術の半導体集積集積回路80との比較において明らかなように、2つのコア回路1,2間の配線領域が大幅に削減されるため、設計の自由度を高めつつ、半導体装置の集積度を高めることができる。
【0039】
図4は、図2に示す半導体集積回路20を具体的に半導体基板上に形成した場合の略示断面図であり、図2のB−B切断面における断面図である。同図においても、図3と同様に、実線で示す領域は、配線14の形状を示し、破線で示す領域は、配線15の形状を示し、一点鎖線で示す領域は、コア回路1,2を示す。
【0040】
同図に示すように、半導体基板上に形成されたコア回路1,2の手前側に配線14の一辺14aが配線層L1に形成されている。一辺14aの2つの端部の上方の配線層L2には、辺14b,14eの断面が示されており、紙面垂直方向の裏面方向に延在して形成されている。辺14aの端部からは、層間配線14j,14pが形成され、それぞれ配線層L2の辺14b,14eに接続されている。
【0041】
配線4の辺4aの紙面左側の破線領域には、配線15の辺15aの一部が示されており、配線14と同様にして層間配線15j,15pを介して配線層L2に形成された辺15b,15eに接続されている。
【0042】
さらに、コア回路1,2間の配線層L2には、本発明において特徴的な共有配線である辺14Z,15Zの断面が示されており、それぞれ層間配線14q,15qにより配線14a,15aに接続されている。
【0043】
従って、例えば、配線14を接地端子、配線15を電源端子に接続した場合、コア回路1,2は、いずれも配線層L1において前面の任意の位置で電源端子から接続することができ、また、背面の任意の位置で接地端子と接続することができる。
【0044】
また、配線層L2においては、コア回路1,2はいずれも右側面の任意の位置で電源端子と接続でき、また、左側面の任意の位置で接地端子と接続することができる。
【0045】
次に、本発明にかかる半導体集積回路の第2の実施形態の変形例について図面を参照しながら説明する。
【0046】
本例は互いにサイズが異なるコアセルに本発明を適用した例である。
【0047】
図5は、本変形例である半導体集積回路30の平面図である。同図に示す半導体集積回路30は、占有面積が異なる2つのコア回路1,12を備えている。コア回路1の周辺には、図1に示す半導体集積回路10と同一形状の配線4’,5’が形成されている。この一方、コア回路12の周辺には、上記配線4’,5’と相似の平面形状を有する配線16,17が形成されている。
【0048】
コア回路1および12は、ともに相似の平面形状を有している。従って、同図に示すように、矩形状の各辺のうち、相互に対応する辺1a,12aが同一線上に重なるように2つのコア回路1,12を配設すれば、配線パターンのうち、この同一線上にある辺に平行に形成される辺を相互に接続することができ、さらに、コア回路1,12間の領域に形成される線を相互に共有することができる。
【0049】
本例においては、コア回路1の紙面上方の辺1aと、コア回路12の紙面上方の辺12aとを同一線上に重なるようにコア回路1,12を配設しているので、コア回路1の配線4’,5’の辺4c’,5c’をそれぞれコア回路12の配線の辺16c,17cと接続することができる。さらに、配線4’,5’の辺4b’,5b’を配線16,17の辺16d,17dの一部として共有することができる。
【0050】
従って、図12との対比において明らかなように、コア回路1,12間において配線2本分の領域を用いるだけで2つの回路の電源配線を形成することができる。これにより、異なるサイズのコア回路を半導体装置内に配設する場合であっても、設計の自由度を維持しながら回路の集積度を高める電源配線を備えた半導体集積回路が提供される。
【0051】
次に、本発明に係る半導体集積回路の第3の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0052】
図6は、本実施形態に係る半導体集積回路40を示す平面図である。同図に示すように、半導体集積回路40は、マトリックスをなすように配設されたコア回路1〜3を備えている。各コア回路の周辺には、図1に示す配線が各コア回路を周回するとともに、各矩形の端点で相互に接続されるように形成され、さらに、これらの配線は、各コア回路間の領域で配線の一部を共有し、全体として2本の配線24,25として形成される。また、これらの配線の断面図は図示しないが、具体的に半導体装置として形成される場合は、図1に示す半導体集積回路10と同様に、複数の配線層にわたって形成され、例えば、X方向の辺は第1層、Y方向の辺は第2層に形成される。これにより、各コア回路はそれぞれの配線層のいずれかの辺で電源端子および接地端子と接続することができる。例えば、配線24をVDDに接続し、配線25をVSSに接続することとすると、コア回路1〜3は第1配線層において前面のいずれかの領域でVSS、背面のいずれかの領域でVDDと接続され、第2層においては、左側面のいずれかの領域でVDD、右側面のいずれかの領域でVSSと接続される。
【0053】
このように、本実施形態の半導体集積回路40は、複数の配線層にわたって形成され、各配線層においてコア回路の周辺形状のうち、対向する側面で電源端子と接地端子にそれぞれ接続することができるので、設計の自由度を高めることができる。また、コア回路間の領域においては、相互に配線を共有するので、半導体装置全体の集積度を高めることができる。これにより、設計の自由度および集積度のいずれも高い半導体集積回路を提供することができる。
【0054】
次に、本発明に係る半導体集積回路の第4の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0055】
図7は、本実施形態の半導体集積回路55を示す平面図である。同図に示すように、半導体集積回路55においては、図1に示す半導体集積回路10が素子形成領域9のコーナー部に設けられ、この半導体集積回路10に近接してゲートアレイ等を含むロジック回路6が形成されている。本実施形態の特徴は、それぞれVDD,VSSに接続された電源配線4,5に、コア回路1のみならず、ロジック回路も補強配線31〜34、41〜44をそれぞれを介して接続され、これによりロジック回路への電源供給が補強されている点にある。このような配置を採用することにより、コア回路1とロジック回路6は、共有配線4a,4bおよび5a,5bを介してそれぞれVDD,VSSに接続されるので、ロジック回路6とコア回路1との間の配線領域が削減され、設計の自由度を高めつつ、半導体装置全体の集積度を高めることができる。なお、本実施形態では、素子形成領域9のコーナー部での集積度向上を図るため、配線4,5の幅を補強配線が接続されないために流れる電流量が少ない部分、則ち、4c,4d、5c,5dの細い幅に合致させている。このため、流れる電流量が大きい共有配線4a,4bおよび5a,5bの部分で電圧降下やEM(Electro-Magnetic)等の問題が生ずるおそれがあるので、共有配線4c,4d、5c,5dに加え、これらに平行して第3および第4の配線56,57を設け、それぞれ電極コンタクト56j,56kおよび57l,57mを介して共有配線5b,5aに接続されることによりよりそれぞれVDD,VSSへの接続を補強している。
【0056】
次に、本発明に係る半導体集積回路の第5の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0057】
図8は、本実施形態の半導体集積回路60を示す平面図である。同図に示すように、本実施形態は、上述の第1ないし4の実施の形態と異なり、電源配線の幅を異にする点に特徴がある。
【0058】
則ち、図7に示す半導体集積回路55と略同様に配置されたコア回路1とロジック回路6をVDD,VSSに接続する配線18,19のうち、コア回路1とロジック回路6の双方に電源を供給する共有配線18a,18bおよび19a,19bの幅が、コア回路1のみに電源を供給する配線部分18c,18dおよび19c,19dの幅よりも太く形成されている点である。このように、大量の電流が流れる、コア回路1とロジック回路6との共有配線の部分を電流量が比較的少ない他の部分よりも太い幅で形成することにより、電圧降下およびEMの問題が解消されるので、図7に示す第3および第4の配線56,57を設ける必要がなくなる。これにより、電源配線の幅を統一した場合と同等またはこれ以下の面積で補強配線31〜34,41〜44にも対応した電源配線を形成することができる。この結果、設計の自由度および集積度がさらに向上した半導体集積回路装置が提供される。
【0059】
なお、本実施形態においては、共有配線部分18a,18b,19a,19b同士、コア回路1のみに電源を供給する配線部分18c,18d,19c,19d同士でそれぞれ配線の幅を同一としたが、これに限ることなく、回路の配置に対応して配線部分の各辺で異なる幅を有するように形成しても良い。
【0060】
【発明の効果】
以上詳述したとおり、本発明は、以下の効果を奏する。
【0061】
即ち、本発明に係る半導体集積回路によれば、コア回路の各辺に沿って互いに平行に形成され、配線方向ごとに層位置が変化する複数の配線を備えているので、各層位置において電源端子と接地端子とをコア回路に接続することができる。これにより、設計の自由度の高い半導体集積回路を提供することができる。
【0062】
また、本発明にかかる半導体集積回路を矩形の平面形状を有する複数のコア回路について適用した場合は、隣接するコア回路間の半導体領域で配線を共有することができる。これにより、設計の自由度を高めつつ、集積度の高い半導体集積回路を提供することができる。
【0063】
また、矩形の平面形状の同一方向において対応する辺同士が同一の線上になるようにコア回路を配設した場合は、隣接するコア回路間の半導体領域において、配線の少なくとも一部を共有することができる。これにより、設計の自由度および集積度のいずれもが高い半導体集積回路を提供することができる。
【0064】
さらに、第1の配線および第2の配線について各辺の幅が異なるように形成した場合は、回路構成要素の配置に対応して変化する電流量の大きさに対応した配線幅を実現できるので、電圧降下・EM等を防止しつつ、設計の自由度および集積度がさらに向上した半導体集積回路装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体集積回路の第1の実施の形態を示す平面図である。
【図2】本発明に係る半導体集積回路の第2の実施の形態を示す平面図である。
【図3】図1に示す半導体集積回路を具体的に半導体基板上に形成した場合の略示断面図である。
【図4】図2に示す半導体集積回路を具体的に半導体基板上に形成した場合の略示断面図である。
【図5】本発明に係る半導体集積回路の第2の実施形態の変形例を示す平面図である。
【図6】本発明に係る半導体集積回路の第3の実施の形態を示す平面図である。
【図7】本発明に係る半導体集積回路の第4の実施の形態を示す平面図である。
【図8】本発明に係る半導体集積回路の第5の実施の形態を示す平面図である。
【図9】従来の技術による配線方法を説明するための平面図である。
【図10】従来の技術による配線方法を説明するための平面図である。
【図11】図10に示す方法を複数のコア回路について適用した半導体集積回路の平面図である。
【図12】図10に示す方法をサイズの異なる複数のコア回路について適用した半導体集積回路の平面図である。
【図13】図10に示す方法を3個以上のコア回路について適用した半導体集積回路の平面図である。
【符号の説明】
1,2,3,12 コア回路
6 ロジック回路
1a,12a 辺
4,4a〜4d,4’4c’,5,5a〜5d,5’,5c’,14,14a,14b,14e,16,16c,16d,17,17c,17d,18,18a〜18d,19,19a〜19d,24,25, 配線
4e〜4h,5e〜5h,14j,14p,14q,15j,15p,15q,層間配線
10,20,30,40,55,60,70,80,90,100 半導体集積回路
31〜34,41〜44 補強配線
56 第3の配線
57 第4の配線
L1,L2 配線層
VDD 電源端子
VSS 接地端子
Claims (8)
- それぞれ矩形の平面形状を有する複数のコア回路と、
電源配線および接地配線のいずれか一方であり、前記コア回路の各辺に平行に形成され、外部の第1の端子と前記コア回路とを接続する第1の配線と、
前記電源配線および前記接地配線のいずれか他方であり、前記第1の配線に平行に形成され、外部の第2の端子と前記コア回路とを接続する第2の配線とを備え、
前記第1の配線および前記第2の配線のX方向の部分は半導体装置の一の配線層に形成され、
前記第1の配線および前記第2の配線のY方向の部分は前記一の配線層と層位置を異にする前記半導体装置の他の配線層に形成され、
前記第1の配線と前記第2の配線は、それぞれX方向の部分の端部とこれに対応するY方向の部分の端部とが層間配線により相互に接続され、
前記第1の配線と前記第2の配線は、いずれも隣接する前記コア回路間の1辺の少なくとも1部を共有する、
半導体集積回路。 - 前記第1の配線と前記第2の配線は、略同一の配線長を有し、
前記第2の配線は、前記コア回路の矩形の平面形状の互いに対向する端点を結ぶ一の対角線に沿って前記第1の配線の平面形状を移動させた位置に形成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。 - 前記半導体装置は、第1の配線層と、前記第1の配線層の上方に形成される第2の配線層とを有し、
前記一の配線層は、前記半導体装置の第1の配線層であり、
前記他の配線層は、前記半導体装置の第2の配線層であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。 - 前記半導体装置は、第1の配線層と、前記第1の配線層の上方に形成される第2の配線層と、前記第2の配線層の上方に形成される第3の配線層と、を有し、
前記一の配線層は、前記半導体装置の第1の配線層であり、
前記他の配線層は、前記第3の配線層であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。 - 前記半導体装置は、第1の配線層と、前記第1の配線層の上方に形成される第2の配線層と、前記第2の配線層の上方に形成される第3の配線層と、を有し、
前記一の配線層は、前記第2の配線層であり、
前記他の配線層は、前記第3の配線層であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。 - 前記コア回路は、矩形の平面形状の同一方向の対応する辺同士がいずれも同一の線上になるように配設され、
前記第1の配線は、隣接する前記コア回路間の1辺の全部を共有し、
前記第2の配線は、隣接する前記コア回路間の1辺の全部を共有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体集積回路。 - 前記コア回路は、矩形の平面形状の同一方向の対応する1辺同士が同一の線上になるように配設され、
前記第1の配線は、隣接する前記コア回路間の1辺の一部を共有し、
前記第2の配線は、隣接する前記コア回路間の1辺の一部を共有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体集積回路。 - 前記第1の配線および第2の配線は、各辺の幅を異にすることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体集積回路。
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