JP5979565B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体チップを積層して互いに接続するチップ・オン・チップ(CoC)技術を用いた半導体装置に関する。
デジタルテレビやレコーダー等のシステムでは、高機能化に伴い、扱うデータ量が飛躍的に増加している。このため、システムに搭載される半導体メモリについて、容量の増加やデータ転送レートの向上が要求されている。
このようなシステムに搭載する半導体装置として、メモリコントローラを実装した論理回路チップおよびメモリを1つのチップに集積するシステム・オン・チップ(SoC)と、メモリコントローラを実装した論理回路チップおよびメモリチップを積層して1つのパッケージに収納するシステム・イン・パッケージ(SiP)がある。
現在では比較的製造コストが低いSiPを用いたシステムが増える傾向にある。SiPにはメモリチップと論理回路チップ間のデータ転送レートを高くするために、チップ同士をマイクロバンプなどを介して直接フリップチップ接続するチップ・オン・チップ(CoC)技術がある。このようなCoC技術の一例として、ファンアウト型のCoC技術がある(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1では、図13に示すように、下段に配置された半導体チップ201の周囲に拡張部202を設け、上段に半導体チップ203を積層している。一方で、特許文献2の集積回路パッケージ300では、図14に示すように、基板302上において集積回路ダイ304、306、308、310を積層化するとともに、集積回路ダイ304、306、308、310の上面から基板302の上面まで、ワイヤ312、314、316、318をそれぞれ接続している。特許文献2では、同じサイズの集積回路ダイ304、306、308、310が用いられる。また、特許文献2では、図15に示すように、1つの集積回路ダイ420の上面402において、一方の側部410に設けられた各ボンディングパット414を、金属配線416を介して、反対方向の側部408のボンディングパット412の間にある各ボンディングパッド418にそれぞれ再配分している。
特開2010−141080号 特表2008−543059号
しかしながら、特許文献1の方法によれば、図13に示すように、下段の半導体チップ201の端子204と、拡張部202に設けられたワイヤボンディング接続端子205とを電気的に接続するための再配線部206において、周囲の材質が半導体チップ201と拡張部202とで異なるため、半導体チップ201と拡張部202の材料特性の違いに起因してインピーダンス特性の不連続が生じる。このインピーダンス特性の不連続によって、半導体チップ201の再配線部206に流れる高速信号の通信が妨げられてしまう。よって、高いデータ転送レートを実現することができなかった。
また、特許文献2の方法は、図14に示すように同じサイズの集積回路ダイ304、306、308、310を積層化する技術であって、チップオンチップ接続等と異なり、障害物がない下側の集積回路ダイの上面を横断する配線を行う技術である。よって、チップオンチップ接続を行う場合に適用できない。
従って、本発明の目的は、上記課題を解決することにあって、高いデータ転送レートを有する半導体装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の一態様は以下のように構成する。
本発明の一態様によれば、第1半導体チップと、前記第1半導体チップ上にチップ・オン・チップ接続された第2半導体チップとを備え、前記第2半導体チップの上面に垂直な方向から見た場合、前記第2半導体チップの外形は、前記第1半導体チップの外形よりも大きく、前記第1半導体チップの上面には複数の第1半導体チップ電極端子が設けられており、前記複数の第1半導体チップ電極端子は、第2半導体チップで覆われた1又は複数の 第1 遮蔽端子と、第2半導体チップで覆われていない1又は複数の第1開放端子とを含む、半導体装置を提供する。
これらの概括的かつ特定の態様は、システム、方法、コンピュータプログラム並びにシステム、方法及びコンピュータプログラムの任意の組み合わせにより実現してもよい。
本発明の一態様によれば、下段に設けられた第1半導体チップに形成される第1半導体チップ電極端子は、上段の第2半導体チップで覆われる遮蔽端子と覆われていない開放端子とを備える。このように遮蔽端子と開放端子とを備えることにより、高いデータ転送レートを有する半導体装置を実現することができる。
本発明のこれらの態様と特徴は、添付された図面についての好ましい実施の形態に関連した次の記述から明らかになる。
実施の形態1に係る半導体装置の断面図 実施の形態1に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの上面図 実施の形態1に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの斜視図 実施の形態2に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの一部を拡大した上面図 実施の形態3に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの一部を拡大した上面図 実施の形態4に係る半導体装置の断面図 実施の形態5に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの上面図 実施の形態6に係る半導体装置において再配線を拡大した半導体装置の構成を示す断面図 実施の形態7に係る半導体装置においてメモリチップを取り外したときの上面図 実施の形態8に係るデジタルテレビおよびレコーダの外観図 実施の形態8に係るデジタルテレビのブロック図 実施の形態8に係るレコーダのブロック図 特許文献1の従来例に係る半導体装置の断面図 特許文献2の従来例に係る集積回路パッケージの断面図 特許文献2の従来例に係る集積回路パッケージの上面図
本発明の第1態様によれば、第1半導体チップと、
前記第1半導体チップ上にチップ・オン・チップ接続された第2半導体チップとを備え、
前記第2半導体チップの上面に垂直な方向から見た場合、前記第2半導体チップの外形は、前記第1半導体チップの外形よりも大きく、
前記第1半導体チップの上面には複数の第1半導体チップ電極端子が設けられており、
前記複数の第1半導体チップ電極端子は、前記第2半導体チップで覆われた1又は複数の 第1 遮蔽端子と、第2半導体チップで覆われていない1又は複数の第1開放端子とを含む、半導体装置を提供する。
これにより、遮蔽端子と開放端子とを備えることにより、高いデータ転送レートを有する半導体装置を実現することができる。
本発明の第2態様によれば、前記第1半導体チップの周辺又は側方に形成されるとともに前記第2半導体チップを支持する第1拡張部をさらに備え、
前記第1拡張部の上面には1又は複数の拡張部端子が設けられており、少なくとも一つの前記拡張部端子と少なくとも一つの前記第1遮蔽端子とが再配線によって接続される、第1態様に記載の半導体装置を提供する。
これにより、再配線を介する拡張部端子と、再配線を介さない第1開放端子とを利用でき、信号を安定的に流すことができる。
本発明の第3態様によれば、前記1又は複数の拡張部端子および前記1又は複数の第1開放端子はワイヤボンディング用の端子として用いられる、第2態様に記載の半導体装置を提供する。
これにより、再配線を介する拡張部端子と、再配線を介さない第1開放端子とをワイヤボンディング用の端子として利用でき、信号を安定的に流すことができる。
本発明の第4態様によれば、少なくとも一つの前記第1開放端子はアンテナとして機能する、若しくは少なくとも一つの前記第1開放端子にアンテナが接続される、第2態様に記載の半導体装置を提供する。
これにより、再配線を介さない少なくとも1つの第1開放端子をアンテナ用の端子として利用でき、信号を安定的に流すことができる。
本発明の第5態様によれば、配線層を有する配線基板をさらに備え、
前記再配線は、前記配線層によって構成される、第2態様から第4態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、配線基板の使用により配線層の数を多くすることで、再配線の配線数を多くできるため、より多くの信号を接続することができる。
本発明の第6態様によれば、前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部の下部に配置される第3半導体チップと、
前記第3半導体チップの周辺又は側方に形成される第2拡張部とをさらに備え、
前記第3半導体チップ及び前記第2拡張部は、前記第1半導体チップ及び前記第1拡張部を支持し、
前記第3半導体チップの上面には複数の第3半導体チップ電極端子が設けられており、
前記複数の第3半導体チップ電極端子は、前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部で覆われた第2遮蔽端子と、前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部で覆われていない第2開放端子とを備える、第2態様から第5態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、順番に制約を受けることなく、サイズが同等あるいは異なる複数の半導体チップを積層した積層チップオンチップ構造を有する半導体装置において、高いデータ転送レートを実現することができる。
本発明の第7態様によれば、第1開放端子と第2開放端子とが異なる側の辺に配置される、第6態様に記載の半導体装置を提供する。
これにより、例えば、高速な信号が流れる端子を開放端子に割り当てた場合、発熱性の高い部分を効率良く放熱することで高い放熱性能を実現することができる。
本発明の第8態様によれば、前記拡張部は絶縁部材である、第2態様から第7態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、拡張部内に配置された配線において安定的に信号を流すことができる。
本発明の第9態様によれば、前記複数の開放端子が前記第1半導体チップの隣り合う2辺に配置されている、第1態様から第8態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、例えば、高速な信号が流れる端子を開放端子に割り当てた場合、発熱性の高い部分を効率良く放熱することで高い放熱性能を実現することができる。
本発明の第10態様によれば、前記第2半導体チップの上面に垂直な方向から見た場合、前記第1半導体チップの一辺と前記第2半導体チップの一辺が非平行かつ非垂直となるように配置されている、第1態様から第9態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、例えば、高速な信号が流れる端子を開放端子に割り当てた場合、発熱性の高い部分を効率良く放熱することで高い放熱性能を実現することができる。
本発明の第11態様によれば、前記複数の第1遮蔽端子は複数の接続端子を備え、前記複数の接続端子は、前記第2半導体チップに接続する端子と、前記第2半導体チップに接続しない端子とを含む、第1態様から第10態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、遮蔽端子において第2半導体チップに接続しないダミーの端子を設けることにより、第2半導体チップ上に様々な接続ピン配置を有する第1半導体チップを積層することができる。
本発明の第12態様によれば、前記第1半導体チップが論理回路チップであり、前記第2半導体チップがメモリチップである、第1態様から第11態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
本発明の第13態様によれば、前記1又は複数の開放端子を優先信号が流れ、前記1又は複数の遮蔽端子を通常信号が流れる、第1態様から第12態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、優先信号を外部と直接通信させることができるため、信号を安定的に流すことができる。
本発明の第14態様によれば、前記第1半導体チップに入出力される信号のうち、最も高いデータ転送レートの信号が前記開放端子を流れる、第1態様から第13態様のいずれか1つに記載の半導体装置を提供する。
これにより、最も高いデータ転送レートの信号をより安定的に流すことができる。
本発明の第15態様によれば、外部とのインターフェースであるインターフェース部と、
前記インターフェース部からの信号に基づいてデータを出力する第1態様から第14態様のいずれか1つに記載の半導体装置と、
前記半導体装置が出力した前記データに基づいて表示を行う表示部と、
を備えたデジタルテレビを提供する。
これにより、デジタルテレビにおいて、高いデータ転送レートを有する半導体装置を用いることで、信号を安定的に流すことができる。
本発明の第16態様によれば、外部とのインターフェースであるインターフェース部と、
前記インターフェース部からの信号に基づいてデータを出力する第1態様から第14態様のいずれか1つに記載の半導体装置と、
前記半導体装置が出力した前記データを記録する記録部と、
を備えたレコーダを提供する。
これにより、レコーダにおいて、高いデータ転送レートを有する半導体装置を用いることで、信号を安定的に流すことができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
以下の図面においては、説明の簡潔化のために、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施の形態に限定されない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置11(半導体パッケージ)の概略構成を示す断面図である。図2は、本実施の形態1に係る半導体装置11において、半導体メモリチップ5を取り外したときの上面図である。図1は、図2におけるE−Eの断面に相当する。図2に示す領域Dは、半導体メモリチップ5が配置される領域に相当する。
半導体装置11は、第1半導体チップの一例である半導体論理回路チップ6(以下、論理チップ6)と、第2半導体チップの一例である、論理チップ6上に配置された半導体メモリチップ5(以下、メモリチップ5)とを備える。図1、2に示すように、論理チップ6の周辺には拡張部1が形成される。本実施の形態1における拡張部1とは、上段のメモリチップ5の少なくとも一部を支持するように、下段の論理チップ6の側面部において論理チップ6を平面方向に拡張するように形成される部分のことであり、樹脂あるいはセラミックなどの絶縁性材料で構成されている(すなわち、絶縁部材である)。論理チップ6および拡張部1によりメモリチップ5全体が支持される。
メモリチップ5の下面には半導体メモリバンプ8d(以下、メモリバンプ8d)が形成される。論理チップ6の上面にはメモリ用接続端子8c(以下、接続端子8c)が形成される。メモリバンプ8dと接続端子8cが金属接合されることにより、メモリチップ5と論理チップ6が電気的に接続(CoC接続)される。メモリチップ5と、論理チップ6および拡張部1との間にはアンダーフィルが注入され、接合部9dが形成される。接合部9dにより、メモリチップ5と論理チップ6が強固に接合される。
論理チップ6および拡張部1の下には、半導体パッケージ樹脂基板7が配置される。半導体パッケージ樹脂基板7と、論理チップ6および拡張部1との間にはダイスボンドにより接合部9cが形成されており、接合部9cによって強固な接合がされている。また、半導体パッケージ樹脂基板7の下面には、外部との電気的な接続を行うための半導体パッケージボール12が形成される。メモリチップ5、論理チップ6および拡張部1を覆うように半導体パッケージ樹脂基板7の上面には樹脂封止部10が形成される。樹脂でできた樹脂封止部10がメモリチップ5、論理チップ6および拡張部1を覆うことにより、内部にチップ、配線および端子を有する半導体パッケージとして半導体装置11が構成される。
このように構成された半導体装置11において、樹脂封止部10により内部に封止された配線および端子について、図2、3を用いて説明する。
図2に示すように、論理チップ6の上面中央やや左上部分には、メモリチップ5と接続するための接続端子8cが配置されている。さらに論理チップ6の上面外周部分には、複数の論理チップ電極端子31a、31b(第1半導体チップ電極端子31a、31b)が形成される。論理チップ電極端子31a、31bは、論理チップ6の周囲4辺において等間隔に密に配置されている。また、論理チップ6の周辺に形成された拡張部1の上面にも複数の拡張部端子21が形成されている。拡張部端子21は、拡張部1の周囲2辺において等間隔に密に配置されている。
ここで、前述したように論理チップ6上面の領域のうち領域Dはメモリチップ5により覆われる領域であるが、本実施の形態1では図2に示すように、論理チップ6がメモリチップ5に対して偏心した位置(上方視において右下の位置)に配置されている。したがって、論理チップ6上面の領域には、メモリチップ5で覆われた領域Bと覆われていない領域Cが存在することとなる。
図3は、論理チップ6および拡張部1の斜視図であり、前述した領域B、C、Dの関係を示している。また、図3に示すように、半導体装置11を基準として左右方向をX方向、前後方向をY方向、上下方向をZ方向としている。
図2に戻ると、論理チップ電極端子31a、31bは、メモリチップ5で覆われた(領域Bに配置された)第1遮蔽端子31aと、メモリチップ5で覆われていない(領域Cに配置された)第1開放端子31bとを備える。第1遮蔽端子31aは、例えば銅によって形成された再配線2によって拡張部1の拡張部端子21に接続されている。拡張部端子21および第1開放端子31bはワイヤ4aおよび4bによって、半導体パッケージ樹脂基板7上面に形成された複数のパッド3aおよび3bにそれぞれ接続(ワイヤボンディング接続)される。パッド3a、3bは、半導体パッケージ樹脂基板7の内部に配置された配線によって半導体パッケージボール12に接続されている。半導体装置11においてこのような配置・構成が採用されることにより、メモリチップ5および論理チップ6は半導体パッケージボール12を介して外部との電気的な信号のやり取りを行うことができる。
なお、接続端子8cもメモリチップ5で覆われるため、遮蔽端子の一種である。
なお、図2に示すように本実施の形態1では、拡張部1が論理チップ6の周囲を全て覆う配置について説明しているが、このような場合に限らず、例えば拡張部1が論理チップ6の一部の辺のみ(側方)を覆うような場合であっても良い。本実施の形態1では、図2の右側および下側の論理チップ6の辺を覆う拡張部1の幅については、第1開放端子31bとパッド3bとを予め定めた長さのワイヤ4bで接続できるように適切な幅に設定されている。
上述した半導体装置11では、第1遮蔽端子31aを流れる信号は、再配線2を介して外部と通信するのに対して、第1開放端子31bを流れる信号は、インピーダンスの不整合が生じる再配線2を介さずに外部と直接通信する。さらに本実施の形態1では、論理チップ6の設計段階で、高周波成分を含む信号の流れる端子を第1開放端子31bに割り当てており、それ以外の信号の流れる端子を第1遮蔽端子31a(および拡張部端子21)に割り当てている。すなわち、高周波成分を含むような優先的な信号(優先信号)を再配線2を介さずに外部と直接通信させるとともに、優先信号以外の信号(通常信号)を再配線2を介して外部と通信させることにより、信号を安定的に流すことが可能となる。したがって、高いデータ転送レートを有する半導体装置11を実現することができる。すなわち、論理チップ6に入出力される信号のうち、最も高いデータ転送レートの信号が何れかの第1開放端子31bを流れることになる。これに対し、特許文献2には、再配分をするボンディングパットおよび再配分をしないボンディングパットの信号の割当てと、データ転送レートとの関係について、開示も示唆もされていない。
本実施の形態1では、第1開放端子31bに割り当てる端子として、高周波成分を含む信号の流れる端子としているが、第1開放端子31bに割り当てる端子はこれに限らない。例えば、電源端子を第1開放端子31bに割り当てておくことにより、電源電位の安定化を図ることができる。また、グラウンド端子を第1開放端子31bに割り当てておくことにより、グラウンド電位の安定化を図ることができる。また、端子の属性を読み取って第1開放端子31bへの端子の割り当てを自動的に行うことができる設計支援装置を用いることで、第1開放端子31bへの端子の割り当ての効率を高めることができる。
また、高周波成分を含む信号などの高速な信号が流れる領域は発熱量が大きくなるが、第1開放端子31bは熱の逃げやすい開放領域Cに存在する。本実施の形態1のように、高速な信号が流れる端子を第1開放端子31bに割り当てておくことにより、発熱性の高い部分を効率良く放熱することで高い放熱性能を実現することができる。
なお、図2では開放領域Cを論理チップ6の隣り合う2つの辺に設定しているが、開放領域Cに含める論理チップ6の辺の数は適宜設定可能である(例えば1つや3つ)。また、取り扱う信号や端子の数などに合わせて開放領域Cに含める論理チップ6の辺の数を設定し、第1開放端子31bの数を適宜増減させることにより、設計の自由度を高めることができると共に、放熱性能の更なる向上を図ることができる。
また、本実施の形態1によれば、積層する複数の半導体チップの中心位置や角度を意図的にずらすことにより、下段の半導体チップ(論理チップ6)の一部を上段の半導体チップ(メモリチップ5)で覆わない開放領域としている。これにより、下段の半導体チップに設けられた端子(第1開放端子31b)からワイヤを通じて直接外部に信号を流すことができる。
さらに、本実施の形態1によれば、下段の半導体チップの一部を開放領域とすることにより、下段の半導体チップに設けられた端子から直接外部に信号を流すことでインピーダンス特性の不連続をなくことができ、高速な信号を流すことができる。
なお、本実施の形態1ではメモリチップ5を上段に配置して、論理チップ6を下段に配置する場合について説明したが、メモリチップ5を下段に配置して、論理チップ6を上段に配置するようにしても良い。
また、下段のメモリチップ5と上段の論理チップ6が略同じ大きさ・形状を有していてもよいが、チップの大きさや形状はこれに限らない。例えば、下段のチップが小さく上段のチップが大きい場合であっても良い。すなわち、上段のチップの上面に垂直な方向から見た場合に、上段のチップの外形が、下段のチップの外形よりも大きい場合であっても良い。ここでいうチップの外形とは例えば、チップの面積である。
また、本実施の形態1では拡張部端子21および第1開放端子31bをワイヤボンディングによりパッド3aおよびパッド3bにそれぞれ接続する場合について説明したが、拡張部端子21および第1開放端子31bの接続方法はこれに限らない。例えば、拡張部端子21および第1開放端子31bをアンテナに接続したり、拡張部端子21および第1開放端子31b自体をアンテナとして機能させるようにしても良い。あるいは、拡張部端子21および第1開放端子31bをフレキ基板に接続するようにしても良い。
また、本実施の形態1では、複数の拡張部端子21と複数の第1遮蔽端子31bとが、それぞれ再配線によって接続される場合について説明したが、このような場合に限らず、少なくとも1つの拡張部端子21と少なくとも1つの第1遮蔽端子31bとが、それぞれ再配線によって接続されれば良い。
次に、実施の形態2−7について図4−9を用いてそれぞれ説明する。
(実施の形態2)
図4は、実施の形態2に係る半導体装置41においてメモリチップ5を取り外したときの一部(図2の右上部分)を拡大した上面図である。第1開放端子31bのピッチが拡張部端子21のピッチより著しく狭い場合、半導体パッケージ樹脂基板7の設計ルールの制約によって、第1開放端子31bに接続する全てのパッド3bを配置することができない場合がある。このような場合、図4に示すように、拡張部端子21とパッド3aまでの距離よりも、第1開放端子31bとパッド3bまでの距離を離して配置することにより全てのパッド3bを配置することができる。
(実施の形態3)
図5は、実施の形態3に係る半導体装置51においてメモリチップ5を取り外したときの一部を拡大した上面図である。信号の伝送特性を向上させるためにはワイヤ4の長さを短くすることが有効であり、第1開放端子31bに接続されるワイヤ4bの長さを短くすれば、優先的な信号についての伝送特性を特に向上させることができる。このように第1開放端子31bに接続するワイヤ4bの長さを短くしたい場合、図5に示すように第1開放端子31bを間引いて使用することによって第1開放端子31bからパッド3bまでの距離が短くなり、ワイヤ4bの長さを短くすることができる。これにより、更なるデータ転送レートの向上を図ることができる。なお、本実施の形態3では第1開放端子31bを間引いて使用したが、例えば第1開放端子31bの数をあらかじめ間引いて配置しておく(第1開放端子31bのピッチを広くする)ことにより、同様の効果を発揮することができる。
(実施の形態4)
図6は、実施の形態4に係る半導体装置61の構成を示す断面図である。半導体装置61は、図1に示すような半導体装置11における半導体樹脂パッケージ基板7と論理チップ6dおよび拡張部1dとの間に、もう1組の論理チップ6cおよび拡張部1cを加えたものである。なお、下段の論理チップ6cは第3半導体チップの一例である。
図6に示すように、下段の論理チップ6cおよび拡張部1cと、中段の論理チップ6dおよび拡張部1dとの間には、ダイスボンドにより接合部9cが形成されており、下段の論理チップ6cおよび拡張部1cは中段の論理チップ6dおよび拡張部1dの全体を支持する。また、半導体樹脂パッケージ基板7と下段の論理チップ6cおよび拡張部1cとの間にもダイスボンドにより接合部9eが形成されており、半導体樹脂パッケージ基板7は下段の論理チップ6cおよび拡張部1cの全体を支持する。
このように構成された半導体61における端子の接続について説明する。中段の拡張部1dの上面に形成された第1拡張部端子21dは、再配線2dによって中段の論理チップ6dの第1遮蔽端子31aに接続されるとともに、ワイヤ4aを介して半導体樹脂パッケージ基板7上面のパッド3aに接続される。一方で、中段の論理チップ6dの第1開放端子31bは、ワイヤ4bを介して半導体樹脂パッケージ基板7上面のパッド3bに接続される。本実施の形態4では、優先信号が流れる端子を第1開放端子31bに割り当てており、通常信号が流れる端子を第1拡張部端子21dおよび第1遮蔽端子31aに割り当てている。
また、下段の拡張部1cの上面に形成された第2拡張部端子21cは、再配線2cによって下段の論理チップ6cの第2遮蔽端子32aに接続されるとともに、ワイヤ4aを介して半導体樹脂パッケージ基板7上面のパッド3aに接続される。一方で、下段の論理チップ6cの第2開放端子32bは、ワイヤ4bを介して半導体樹脂パッケージ基板7上面のパッド3bに接続される。本実施の形態4では、優先信号が流れる端子を第2開放端子32bに割り当てており、通常信号が流れる端子を第2拡張部端子21cおよび第2遮蔽端子32aに割り当てている。
以上のような構成においても、図1に示した半導体装置11と同様の効果を得ることができる。すなわち、論理チップ6d、6cの設計段階で、高周波成分を含むような優先信号が流れる端子を第1開放端子31b、32bに割り当てておくことにより優先信号を安定的に流すことが可能となる。したがって、高いデータ転送レートを有する半導体装置61を実現することができる。また、本実施の形態4では、上段にメモリチップ5を配置し、中段および下段に論理チップ6d、6cを配置する場合について説明したが、これらのチップの数や順番については適宜設定可能である。すなわち、本実施の形態4によれば、サイズが同等あるいは異なる複数の半導体チップを順番に制約を受けることなく複数積層した積層CoC構造を実現することができる。
さらに、本実施の形態4では、中段の論理チップ6dをメモリチップ5に対して偏心した位置(上方視において右下の位置)に配置するだけでなく、下段の論理チップ6cも中段の論理チップ6dおよび拡張部1dに対して偏心した位置(上方視において左上の位置)に配置している。このような配置により、中段の論理チップ6dでは、上方視において右側の辺と下側の辺に第1開放端子31bが形成されるのに対して、下段の論理チップ6cでは、左側の辺と上側の辺に第2開放端子32bが形成される。図6においても、中段の論理チップ6dでは右側に第1開放端子31bが形成されるのに対して、下段の論理チップ6cでは左側に第2開放端子32bが形成されていることがわかる。このように、各段における開放端子31b、32bの位置を異ならせることにより、発熱量が高くなりやすい開放端子31b、32bを分散させて、放熱性能の更なる向上を図ることができる。
なお、本実施の形態4では、中段の第1拡張部端子21dおよび第1開放端子31bを、半導体パッケージ樹脂基板7のパッド3aおよび3bにそれぞれ直接接続する場合について説明したが、接続先はこれに限らず適宜設定することができる。例えば、中段の第1拡張部端子21dおよび第1開放端子31bを下段の第2拡張部端子21cや第2開放端子32bに接続しても良い。これにより設計の自由度を高めることができる。
(実施の形態5)
図7は、実施の形態5に係る半導体装置71の構成を示すメモリチップ5を取り外したときの上面図である。
図7に示すように半導体装置71の上方視において、論理チップ6とメモリチップ5はともに略同じ大きさの略正方形状を有する。さらに、論理チップ6およびメモリチップ5の中心位置は略一致しているが、それぞれのチップの各辺が0度より大きく90度より小さい角度で傾斜するように配置されている。すなわち、メモリチップ5の上面に垂直な方向から見た場合、論理チップ6の一辺とメモリチップ5の一辺は、非平行かつ非垂直となるように配置されている(平行でなくかつ垂直でない)。このように、論理チップ6とメモリチップ5が上方視において異なる角度で配置されることにより、論理チップ6の4つの隅部に開放領域Cが形成され、その間の部分に遮蔽領域Bが形成される。本実施の形態5では、開放領域Cに存在する第1開放端子31bに優先信号の流れる端子を割り当てている。
以上のような構成においても、図1に示した構成と同様に、優先信号を安定的に流すことができるとともに、高いデータ転送レートを有する半導体装置71を実現することができる。さらに本実施の形態5によれば、第1開放端子31bを分散して配置することができるため、設計の自由度が高まると共に、発熱量の大きな端子を分散させることができ、放熱性能の更なる向上を図ることができる。
なお、開放領域Cに配置される論理チップ6の隅部の数は4つに限らず適宜設定可能であり、例えば1つから3つであってもよい。
(実施の形態6)
図8は、実施の形態6に係る半導体装置81において再配線を拡大した断面図である。
図1では再配線2として銅配線を用いるのに対し、本実施の形態6では、再配線としてプリント基板を用いている。具体的には、図8に示すように、論理チップ6およびその周辺に形成された拡張部1の上に、配線層82を有する配線基板80が配置される。配線基板80は、上下に配置された2つの基板によって配線層82を挟む構成が採用されており、配線基板80の上面側には、ワイヤ4aに接続される拡張部端子21が形成されている。配線層82は、配線基板80の内部において拡張部端子21に接続されるとともに、論理チップ6上面に形成された第1遮蔽端子31aにも接続されている。このような構成によれば、拡張部端子21と論理チップ6の第1遮蔽端子31aは、配線層82を介して電気的に接続される。
以上のような構成においても、積層する半導体チップのサイズ関係の制限無しに積層CoC構造を実現することができる。また、配線基板80の使用により再配線層82の数を多くして配線数を多く出来るため、多くの信号の接続が可能となる。
なお、配線基板80は2層以上の配線層82を有する多層基板であってもよい。これにより設計の自由度を高めることができる。
なお、配線基板80は、配線層82の隣接配線層にいわゆるベタパターンで形成されたシールド構造を有する多層基板であってもよい。これにより配線層82の信号伝送特性が向上し、更なるデータ転送レートの向上を図ることができる。
(実施の形態7)
図9は、実施の形態7に係る半導体装置91においてメモリチップ5を取り外したときの上面図である。図9に示す領域Dは、メモリチップ5が配置される領域に相当し、領域Fは、メモリチップ5のメモリバンプ8dが配置される領域に相当する。
本実施の形態7では、論理チップ6上面において全面に、できるだけ多くの接続端子8c1、8c2を配置している。そのため、領域Fに配置される接続端子8c1は、論理チップ6の上段に積層されるメモリチップ5と電気的に接続される。一方で、論理チップ6の領域F以外の領域に配置される接続端子8c2は、メモリチップ5と電気的に接続されない(ダミー端子8c2となる)。このように本実施の形態7によれば、できるだけ多くの接続端子8c1、8c2を配置するとともに接続端子8c2を選択的にメモリチップ5に接続させている。
以上のような構成によって、論理チップ6の接続端子にダミー端子8c2を設けることにより、様々な接続ピン配置を有するメモリチップを積層することができる。
(実施の形態8)
図10は、実施の形態8に係るデジタルテレビ110およびレコーダ112を示す概観図である。本実施の形態8のデジタルテレビ110は、映像データや制御データ等のデータに基づいて映像を表示する。本実施の形態8のレコーダ112は、映像データや制御データ等のデータを記録する。デジタルテレビ110とレコーダ112は、例えば、HDMIケーブル等の信号線で接続され、映像データや制御データ等のデータの送受信を行う。
図11は、図10に示したデジタルテレビ110の概略構成を示すブロック図である。デジタルテレビ110は、外部とのインターフェースであるインターフェース部126と、インターフェース部126からの信号に基づいてデータを出力する半導体装置124と、半導体装置124が出力したデータに基づいて表示を行う表示部122と、を備えている。
外部とのインターフェースであるインターフェース部126からの信号に基づいて半導体装置124がデータを出力し、半導体装置124が出力したデータに基づいて表示部122が表示を行う。
インターフェース部126は、例えば、HDMI規格に対応するインターフェースである。また、インターフェース部126は、他のインターフェース規格に対応するものであってもよい。半導体装置124は、例えば、上述した実施の形態1〜7の何れかの半導体装置を備えている。表示部122は、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置等である。また、表示部122は、他の方式の表示装置であってもよい。
図12は、図10に示したレコーダ112の概略構成を示すブロック図である。デジタルテレビ112は、外部とのインターフェースであるインターフェース部132と、インターフェース部132からの信号に基づいてデータを出力する半導体装置130と、半導体装置130が出力したデータを記録する記録部128と、を備えている。
外部とのインターフェースであるインターフェース部132からの信号に基づいて半導体装置130がデータを出力し、半導体装置130が出力したデータを記録部128が記録する。
インターフェース部132は、例えば、HDMI規格に対応するインターフェースである。また、インターフェース部132は、他のインターフェース規格に対応するものであってもよい。半導体装置130は、例えば、上述した実施の形態1〜7の何れかの半導体装置を備えている。記録部128は、例えば、BDレコーダ装置、ハードディスク記録装置、SDカード記録装置等である。また、記録部128は、他の方式の記録装置であってもよい。
本実施の形態8に係るデジタルテレビ110によれば、高いデータ転送レートを有する半導体装置124を用いることで、信号を安定的に流すことができる。同様に、本実施の形態8に係るレコーダ112によれば、高いデータ転送レートを有する半導体装置130を用いることで、信号を安定的に流すことができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
上述の実施形態の半導体装置は、積層する複数の半導体チップサイズの大小関係に依存せず、積層下側に置かれる半導体チップに特別な工程で配線層を付加する工程が不要であり、半導体パッケージ組立の容易性と積層する複数の半導体チップの組合せ自由度を高めることができる。また、デジタルテレビやレコーダーなどのシステムの高機能化に不可欠なデータ転送レートと放熱性能の向上を実現することができる。
本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
2012年4月11日に出願された日本国特許出願No.2012−090205号の明細書、図面、及び特許請求の範囲の開示内容は、全体として参照されて本明細書の中に取り入れられるものである。

Claims (15)

  1. 第1半導体チップと、
    前記第1半導体チップ上にチップ・オン・チップ接続された第2半導体チップとを備え、
    前記第2半導体チップの上面に垂直な方向から見た場合、前記第2半導体チップの外形は、前記第1半導体チップの外形よりも大きく、
    前記第1半導体チップの上面には複数の第1半導体チップ電極端子が設けられており、
    前記複数の第1半導体チップ電極端子は、前記第2半導体チップで覆われた1又は複数の第1遮蔽端子と、第2半導体チップで覆われていない1又は複数の第1開放端子とを含み、
    前記第1半導体チップの周辺又は側方に形成されるとともに前記第2半導体チップを支持する第1拡張部をさらに備え、
    前記第1拡張部の上面には1又は複数の拡張部端子が設けられており、少なくとも一つの前記拡張部端子と少なくとも一つの前記第1遮蔽端子とが再配線によって接続される、半導体装置。
  2. 前記1又は複数の拡張部端子および前記1又は複数の第1開放端子はワイヤボンディング用の端子として用いられる、請求項1に記載の半導体装置。
  3. 少なくとも一つの前記第1開放端子はアンテナとして機能する、若しくは少なくとも一つの前記第1開放端子にアンテナが接続される、請求項1に記載の半導体装置。
  4. 配線層を有する配線基板をさらに備え、
    前記再配線は、前記配線層によって構成される、請求項第1、3、4のいずれか1つに記載の半導体装置。
  5. 前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部の下部に配置される第3半導体チップと、
    前記第3半導体チップの周辺又は側方に形成される第2拡張部とをさらに備え、
    前記第3半導体チップ及び前記第2拡張部は、前記第1半導体チップ及び前記第1拡張部を支持し、
    前記第3半導体チップの上面には複数の第3半導体チップ電極端子が設けられており、
    前記複数の第3半導体チップ電極端子は、前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部で覆われた第2遮蔽端子と、前記第1半導体チップ又は前記第1拡張部で覆われていない第2開放端子とを備える、
    請求項1、3から5のいずれか1つに記載の半導体装置。
  6. 第1開放端子と第2開放端子とが異なる側の辺に配置される、請求項6に記載の半導体装置。
  7. 前記拡張部は絶縁部材である、請求項1、3から7のいずれか一つに記載の半導体装置。
  8. 前記複数の開放端子が前記第1半導体チップの隣り合う2辺に配置されている、請求項1、3から8のいずれか1つに記載の半導体装置。
  9. 前記第2半導体チップの上面に垂直な方向から見た場合、前記第1半導体チップの一辺と前記第2半導体チップの一辺が非平行かつ非垂直となるように配置されている、
    請求項1、3から9のいずれか1つに記載の半導体装置。
  10. 前記複数の第1遮蔽端子は複数の接続端子を備え、前記複数の接続端子は、前記第2半導体チップに接続する端子と、前記第2半導体チップに接続しない端子とを含む、請求項第1、3から10のいずれか1つに記載の半導体装置。
  11. 前記第1半導体チップが論理回路チップであり、前記第2半導体チップがメモリチップである、請求項第1、3から11のいずれか1つに記載の半導体装置。
  12. 前記1又は複数の開放端子を優先信号が流れ、前記1又は複数の遮蔽端子を通常信号が流れる、請求項第1、3から12のいずれか1つに記載の半導体装置。
  13. 前記第1半導体チップに入出力される信号のうち、最も高いデータ転送レートの信号が前記開放端子を流れる、請求項第1、3から13のいずれか1つに記載の半導体装置。
  14. 外部とのインターフェースであるインターフェース部と、
    前記インターフェース部からの信号に基づいてデータを出力する請求項1、3から14のいずれか1つに記載の半導体装置と、
    前記半導体装置が出力した前記データに基づいて表示を行う表示部と、
    を備えたデジタルテレビ。
  15. 外部とのインターフェースであるインターフェース部と、
    前記インターフェース部からの信号に基づいてデータを出力する請求項1、3から14のいずれか1つに記載の半導体装置と、
    前記半導体装置が出力した前記データを記録する記録部と、
    を備えたレコーダ。
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