JP2010165984A - 半導体デバイス - Google Patents
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P80/00—Climate change mitigation technologies for sector-wide applications
- Y02P80/30—Reducing waste in manufacturing processes; Calculations of released waste quantities
Abstract
【課題】複数の半導体チップを配線基板上に積層して半導体デバイスを作製するにあたって、半導体チップの歩留りロスを低減すると共に、デバイス自体の歩留りを向上させる。
【解決手段】配線基板上2にはチップユニット6A、6Bが搭載されている。チップユニット6A、6Bは、電極パッド9を有する複数の半導体チップ7A〜7Hと、表面に露出させたテストパッド10とそれから配線された電極パッド11とを有するインターポーザ8A、8Bとを備える。半導体チップ7とインターポーザ8とは電極パッド9、11を露出させると共に、インターポーザ8が最上段に位置するように階段状に積層されている。電極パッド9、11間は第1の接続部材12で電気的に接続されている。
【選択図】図1
【解決手段】配線基板上2にはチップユニット6A、6Bが搭載されている。チップユニット6A、6Bは、電極パッド9を有する複数の半導体チップ7A〜7Hと、表面に露出させたテストパッド10とそれから配線された電極パッド11とを有するインターポーザ8A、8Bとを備える。半導体チップ7とインターポーザ8とは電極パッド9、11を露出させると共に、インターポーザ8が最上段に位置するように階段状に積層されている。電極パッド9、11間は第1の接続部材12で電気的に接続されている。
【選択図】図1
Description
本発明は半導体デバイスに関する。
NAND型フラッシュメモリ等を内蔵するメモリカード(半導体メモリカード)は、急速に小型化と高容量化が進められている。小型化されたメモリカードを実現するために、メモリチップやコントローラチップ等の半導体チップは配線基板上に積層して搭載されている。また、メモリカードの高容量化を実現するために、メモリチップ自体も多段に積層されるようになってきており、さらにメモリチップの積層数は増加傾向にある。
メモリチップ等の半導体チップの電気的特性の検査は、一般的に半導体パッケージ(半導体デバイス)を組立てた後にも実施される。この場合、積層された半導体チップ全体として電気的特性の合否が判定されるため、積層された半導体チップの1つに初期不良や不具合が発生しても、半導体パッケージ全体が不良と見なされることになる。このように、半導体パッケージの組立て後の検査においては、半導体パッケージの歩留りが1チップ当たりの歩留りの(積層数)乗となるため、積層する半導体チップが増加するにつれて、半導体パッケージの歩留りが低下することになる。
そこで、半導体パッケージの組立て後の検査における半導体チップの歩留りロスを低減すると共に、半導体パッケージ自体の歩留りを高めることが望まれている。半導体チップの実装構造に関しては従来から種々の提案がなされており、例えば特許文献1には複数のメモリチップを階段状に積層し、最上段のメモリチップ上にコントローラチップと中継用配線基板とを配置した構造が記載されている。中継用配線基板はメモリチップとコントローラチップとを電気的に接続するものであり、それ以外の機能は考慮されていない。
特許文献2には、複数の半導体チップと基板とを磁力を用いて仮接合して積層体を形成し、積層体の電気的特性の合否を判定した後、電気的特性が合格と判定された積層体に加熱処理を施して半導体チップと基板とを本接合することによって、半導体モジュールを作製することが記載されている。ここでは半導体チップと基板との接続に半田バンプを適用することを前提としているため、ワイヤボンディング等の汎用的な接続構造を有する半導体モジュールには応用することができない。さらに、積層体を形成するために磁力を用いていることから、強磁性体板のような特殊な装置が必要となる。
本発明の目的は、複数の半導体チップを配線基板上に積層して半導体デバイスを作製するにあたって、半導体チップの歩留りロスを低減すると共に、デバイス自体の製造歩留りを向上させることを可能にした半導体デバイスを提供することにある。
本発明の一態様に係る半導体デバイスは、接続パッドを備える配線基板と;電極パッドを有する複数の半導体チップと、表面に露出させたテストパッドと前記テストパッドから配線された電極パッドとを有するインターポーザとを備え、前記複数の半導体チップおよび前記インターポーザは前記電極パッドを露出させると共に、前記インターポーザが最上段に位置するように、前記配線基板上に階段状に積層されているチップユニットと;前記複数の半導体チップおよび前記インターポーザの前記電極パッド間を電気的に接続する第1の接続部材と;前記配線基板の前記接続パッドと前記半導体チップまたは前記インターポーザの前記電極パッドとの間を電気的に接続する第2の接続部材と;前記チップユニットを前記第1および第2の接続部材と共に封止するように、前記配線基板上に形成された封止樹脂層と;を具備することを特徴としている。
本発明の他の態様に係る半導体デバイスは、接続パッドを備える配線基板と;電極パッドを有する複数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップは前記電極パッドを露出させるように、前記配線基板上に階段状に積層されているチップユニットであって、少なくとも最上段に位置する半導体チップは前記電極パッドから再配線され、かつ表面に露出させたテストパッドを有するチップユニットと;前記複数の半導体チップの前記電極パッド間を電気的に接続する第1の接続部材と;前記配線基板の前記接続パッドと前記半導体チップの前記電極パッドとの間を電気的に接続する第2の接続部材と;前記チップユニットを前記第1および第2の接続部材と共に封止するように、前記配線基板上に形成された封止樹脂層と;を具備することを特徴としている。
本発明の態様に係る半導体デバイスにおいては、チップユニットの最上段に位置するインターポーザまたは半導体チップのテストパッドを用いて、複数の半導体チップの電気的特性の合否がチップユニットとして判定される。従って、電気的特性が合格と判定されたチップユニットを配線基板上に搭載することによって、半導体チップの歩留りロスを低減することができると共に、半導体デバイス自体の製造歩留りを高めることが可能となる。
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施形態による半導体デバイスの構成を示す図である。半導体デバイス1は配線基板2を具備している。配線基板2は、例えば絶縁性樹脂基板の内部や表面に配線網を設けたものであり、具体的にはガラス−エポキシ樹脂やBT樹脂(ビスマレイミド・トリアジン樹脂)等を使用したプリント配線板が適用される。配線基板2は、端子形成面となる第1の面2aと、チップ実装面となる第2の面2bとを有している。
配線基板2の第1の面2aには外部接続端子3が形成される。半導体デバイス1でBGAパッケージを構成する場合、外部接続端子3は半田ボール等による突起状端子で構成される。半導体デバイス1でLGAパッケージを構成する場合には、外部接続端子として金属ランドが設けられる。半導体デバイス1はBGAパッケージやLGAパッケージ等に限られるものではなく、半導体メモリカード等に適用することも可能である。このような場合、配線基板2の第1の面2aには半導体メモリカードの入出力端子が形成される。
配線基板2の第2の面2bには、チップ搭載部4と内部接続端子5とが設けられている。内部接続端子5は配線基板2と半導体チップとの接続時(例えばワイヤボンディング時)に接続部として機能する接続パッドである。内部接続端子5は配線基板2の図示を省略した配線網を介して外部接続端子3と電気的に接続されている。配線基板2のチップ搭載部4にはチップユニット6が搭載されている。図1は2組のチップユニット6A、6Bを配線基板2の第2の面2bに積み重ねた状態を示している。
第1のチップユニット6Aは、チップ搭載部4上に積層された複数の半導体チップ7A〜7Dと、その最上段に積層されたインターポーザ8Aとを有している。第2のチップユニット6Bは、第1のチップユニット6A上に積層された複数の半導体チップ7E〜7Hと、その最上段に積層されたインターポーザ8Bとを有している。半導体チップ7(7A〜7H)は、外形辺(例えば一方の長辺)に沿って配列された電極パッド9を有している。インターポーザ8(8A、8B)は、表面に露出させたテストパッド10と、テストパッド10から配線された電極パッド11とを有している。インターポーザ8の電極パッド11は、半導体チップ7と同様に外形辺に沿って配列されている。
第1のチップユニット6Aにおいて、複数の半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aは、それらの電極パッド9、11を露出させるように階段状に積層されている。第2のチップユニット6Bも同様であり、複数の半導体チップ7E〜7Hおよびインターポーザ8Bは電極パッド9、11を露出させるように階段状に積層されている。第2のチップユニット6Bは、複数の半導体チップ7E〜7Hおよびインターポーザ8Bの階段方向が第1のチップユニット6Aの階段方向とは逆方向とされている。
図1に示す半導体デバイス1は、それぞれ4個の半導体チップ7A〜7D、7E〜7Hとインターポーザ8A、8Bとで構成されたチップユニット6A、6Bを具備している。チップユニット6A、6Bを構成する半導体チップ7の数は4個に限定されるものではなく、半導体デバイス1の種類や機能に応じて適宜に設定される。チップユニット6A、6Bは、例えば4〜8個の半導体チップ7で構成される。チップユニット6の積層数も2個に限定されるものではなく、1個もしくは複数個のいずれであってもよい。
第1のチップユニット6Aを構成する半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aの電極パッド9、11間は、第1の接続部材12で電気的に接続されている。同様に、第2のチップユニット6Bを構成する半導体チップ7E〜7Hおよびインターポーザ8Bの電極パッド9、11間も、第1の接続部材12で電気的に接続されている。第1の接続部材12には、導電性ペーストの塗布層等からなる導電層、あるいはワイヤボンディングにより形成される金属ワイヤが適用される。第1の接続部材12としての導電層は、インクジェット法、スクリーン印刷法等のマスクを用いた印刷法を適用して、例えば導電性ペーストを所望の配線パターンに応じて塗布することにより形成することができる。
図1は半導体チップ7およびインターポーザ8の電極パッド9、11間を接続する第1の接続部材12として導電層を適用した状態を示している。導電層は階段状に積層された半導体チップ7およびインターポーザ8の階段部分に沿って形成される。第1の接続部材12として金属ワイヤを適用する場合には、図2に示すように階段状に積層された半導体チップ7およびインターポーザ8の電極パッド9、11間を金属ワイヤで順に接続する。導電層や金属ワイヤからなる第1の接続部材12によって、半導体チップ7およびインターポーザ8の電極パッド9、11間は電気的に接続されている。
半導体チップ7A〜7Hの具体例としては、NAND型フラッシュメモリのような半導体メモリチップが挙げられる。半導体メモリチップの積層体上には、必要に応じてコントローラチップを配置してもよい。半導体チップ7A〜7Hとして半導体メモリチップを備える半導体デバイス1は、半導体記憶装置を構成するものである。インターポーザ8A、8Bはテストパッド10による機能とそれに接続された電極パッド11とを有するものであればよく、例えば素子構造を持たない中継用半導体チップ(Siインターボーザ)で構成される。インターポーザ8A、8Bはプリント配線板等の配線基板で構成してもよい。
第1および第2のチップユニット6A、6Bは、金属ワイヤ等からなる第2の接続部材13を介して配線基板2と電気的に接続されている。図1はインターポーザ8A、8Bの電極パッド11と配線基板2の接続パッド5とを、金属ワイヤを介して電気的に接続した状態を示している。第1のチップユニット6Aにおいて、インターポーザ8Aの電極パッド11は第1の接続部材12を介して半導体チップ7A〜7Dの電極パット9と接続されている。従って、半導体チップ7A〜7Dはインターポーザ8Aを介して配線基板2と電気的に接続される。第2のチップユニット6Bに関しても同様である。
図1に示す半導体デバイス1は第1の接続部材12として導電層を適用しており、導電層で覆われた電極パッド9にワイヤボンディングを実施することが困難であるため、インターポーザ8A、8Bの電極パッド11と配線基板2の接続パッド5とを金属ワイヤで接続している。図2に示す半導体デバイス1のように、第1の接続部材12として金属ワイヤを使用した場合には、半導体チップ7の電極パッド9と配線基板2の接続パッド5とを金属ワイヤで接続することができる。いずれの場合にも、チップユニット6A、6Bを構成する半導体チップ7は第2の接続部材13を介して配線基板2と電気的に接続される。
第1および第2のチップユニット6A、6Bが搭載された配線基板2の第2の面2bには、例えばエポキシ樹脂からなる封止樹脂層14がモールド成形されている。すなわち、第1および第2のチップユニット6A、6Bを構成する半導体チップ7A〜7Hおよびインターポーザ8A、8Bは、第1および第2の接続部材12、13と共に封止樹脂層14で一体的に樹脂封止されている。これらによって、例えば半導体記憶装置として用いられる半導体デバイス1が構成されている。
第1および第2のチップユニット6A、6Bは、予めインターポーザ8A、8Bのテストパッド10を用いて、複数の半導体チップ7A〜7D、7E〜7Hの電気的特性を検査し、チップユニット6A、6Bとして電気的特性の合否が判定されたものである。配線基板2上には、インターポーザ8A、8Bのテストパッド10を用いた検査で、電気的特性が合格と判定されたチップユニット6のみが搭載される。このように、電気的特性が合格と判定されたチップユニット6A、6Bを配線基板2上に搭載して半導体デバイス1を作製することによって、半導体チップ7の歩留りロスを低減することができると共に、半導体デバイス1自体の製造歩留りを向上させることが可能となる。
第1および第2のチップユニット6A、6Bの具体的な製造工程について、図3および図4を参照して説明する。第1および第2のチップユニット6A、6Bは同一の製造工程で作製されるものである。図3および図4は第1のチップユニット6Aの製造工程を示している。まず、サポート板15上で複数の半導体チップ7A〜7Dを積層し、さらに最上段にインターポーザ8Aを積層する。複数の半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aは、それらの電極パッド9、11が露出するように階段状に積層される。複数の半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aは接着層を介して接着される。
サポート板15としては、チップユニット6Aを脱着することが可能な粘着テープや粘着シートが用いられる。チップユニット6Aの検査をサポート板15上に載置した状態で実施する場合には、パッケージ用テスタ等の検査装置にセットすることが可能な構造を有するサポート板15が用いられる。例えば、金属枠の下面側に粘着テープや粘着シートを貼り付けて構成したサポート板15が用いられる。チップユニット6Aは粘着テープや粘着シートの上面側に接着される。チップユニット6Aの剥離は、例えば粘着テープや粘着シートの下面側から紫外線等を照射して粘着性を取り除くことで実施される。
次いで、サポート板15上に積層された半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aに例えば導電層を形成し、半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aの電極パッド9、11間を、導電層からなる第1の接続部材12で電気的に接続する。このようにして、半導体チップ7A〜7Dおよびインターポーザ8Aを有するチップユニット6Aを作製する。インターポーザ8Aの電極パッド11はテストパッド10から配線されているため、複数の半導体チップ7A〜7Dの電極パッド9は第1の接続部材12およびインターポーザ8Aを介してテストパッド10と電気的に接続された状態とされている。
さらに、インターポーザ8Aはチップユニット6Aの最上段に積層されているため、その表面に形成されたテストパッド10はチップユニット6Aの最上面に露出した状態となる。従って、テストパッド10に検査装置のテスト端子を接触させることによって、複数の半導体チップ7A〜7Dの電気的特性の合否をチップユニット6Aとして判定することができる。チップユニット6Aの検査はサポート板15上で実施してもよいし、あるいはサポート板15からチップユニット6Aを剥離した後に実施してもよい。
この後、インターポーザ8Aのテストパッド10を用いた検査で、電気的特性が合格と判定されたチップユニット6Aをサポート板15から剥離して実装工程に移送する。もしくは、予めサポート板15から剥離した後に検査を実施し、電気的特性が合格と判定されたチップユニット6Aを実装工程に移送する。このようなチップユニット6Aを配線基板2上に搭載した後、第2の接続部材13によるチップユニット6Aと配線基板2との接続工程、樹脂封止工程等を経ることによって、目的とする半導体デバイス1が作製される。配線基板2上に複数のチップユニット6A、6Bを積み重ねる場合も同様であり、良品と判定されたチップユニット6A、6Bのみを用いて半導体デバイス1を作製する。
上述したように、テストパッド10を有するインターポーザ8をチップユニット6の最上段に積層することによって、半導体チップ7の検査をチップユニット6の段階で実施することができる。また、チップユニット6の段階で半導体チップ7およびインターポーザ8の電極パッド9、11間が電気的に接続されているため、インターポーザ8のテストパッド10を用いて半導体チップ7の検査を実施することができる。そして、電気的特性が合格と判定されたチップユニット6のみを配線基板2上に搭載して半導体デバイス1を作製することによって、半導体チップ7の歩留りロスを低減することができると共に、半導体デバイス1自体の製造歩留りを向上させることが可能となる。
次に、本発明の第2の実施形態による半導体デバイスについて、図5を参照して説明する。図5に示す半導体デバイス21は、第1の実施形態の半導体デバイス1におけるインターポーザ8に代えて、テストパッド10を有する半導体チップ22(22A、22B)をチップユニット23A、23Bの最上段に積層したことを除いて、第1の実施形態の半導体デバイス1と同様な構成を有している。図5に示す半導体デバイス21において、配線基板2上には第1および第2のチップユニット23A、23Bが積み重ねられている。
第1のチップユニット23Aは配線基板2上に階段状に積層された複数の半導体チップ7A、7B、7C、22Aを有している。第2のチップユニット23Bは第1のチップユニット23A上に階段状に積層された複数の半導体チップ7D、7E、7F、22Bを有している。チップユニット23A、23Bを構成する半導体チップのうち、最上段に位置する半導体チップ22A、22Bは電極パッド9から再配線され、かつ表面に露出させたテストパッド10を有している。テストパッド10を有する半導体チップ22A、22Bは、第1の実施形態におけるインターポーザ8と同様な機能を果たすものである。
第2の実施形態の半導体デバイス21は、基本的には第1の実施形態と同様な構成を有するものである。例えば、半導体デバイス21はBGAパッケージやLGAパッケージ、あるいは半導体メモリカード等を構成するものである。また、半導体チップ7、22はNAND型フラッシュメモリのような半導体メモリチップを構成するものである。テストパッド10を有する半導体チップ22A、22Bは、通常の半導体チップと同様な工程で作製した後、表面部にテストパッド10を形成すると同時に、テストパッド10から電極パッド9まで再配線する配線層を形成することにより作製される。
第1のチップユニット23Aを構成する半導体チップ7A、7B、7C、22Aの電極パッド9間は、第1の接続部材12で電気的に接続されている。同様に、第2のチップユニット23Bを構成する半導体チップ7D、7E、7F、22Bの電極パッド9間も、第1の接続部材12で電気的に接続されている。図5は第1の接続部材12として金属ワイヤを適用した半導体デバイス21を示している。第1の接続部材12は図1に示した半導体デバイス1と同様に導電層で構成してもよい。
第1および第2のチップユニット23A、23Bは、第2の接続部材13を介して配線基板2と電気的に接続されている。図5に示す半導体デバイス21において、各チップユニット23A、23Bの最下段に位置する半導体チップ7A、7Dの電極パッド9は、第2の接続部材13としての金属ワイヤを介して、配線基板2の接続パッド5と電気的に接続されている。なお、図5ではチップユニット23A、23Bの最上段に位置する半導体チップ22A、22Bのみがテストパット10を有する構造を示したが、半導体デバイス21の構成はこれに限られるものではない。図6に示すように、チップユニット23A、23Bを構成する全ての半導体チップ22がテストパット10を有していてもよい。
第1および第2のチップユニット23A、23Bは、予め最上段に位置する半導体チップ22A、22Bのテストパッド10を用いて電気的特性を検査することによって、チップユニット23A、23Bとして電気的特性の合否が判定されたものである。配線基板2上には半導体チップ22A、22Bのテストパッド10を用いた検査で、電気的特性が合格と判定されたチップユニット23A、23Bのみが搭載される。このように、電気的特性が合格と判定されたチップユニット23A、23Bを配線基板2上に搭載して半導体デバイス21を作製することによって、半導体チップ7、22の歩留りロスを低減することができると共に、半導体デバイス21自体の製造歩留りを向上させることが可能となる。
第1および第2のチップユニット23A、23Bの具体的な製造工程について、図7および図8を参照して説明する。第1および第2のチップユニット23A、23Bは同一の製造工程で作製されるものである。図7および図8は第1のチップユニット23Aの製造工程を示している。まず、サポート板15上で複数の半導体チップ7A、7B、7C、22Aを積層する。半導体チップ7A、7B、7C、22Aは、それらの電極パッド9が露出するように階段状に積層される。チップユニット23Aの少なくとも最上段については、テストパッド10を有する半導体チップ22Aが使用される。
次いで、サポート板15上に積層された半導体チップ7A、7B、7C、22Aの電極パッド9間を金属ワイヤ12で電気的に接続する。最上段に位置される半導体チップ22Aの電極パッド9はテストパッド10から再配線されているため、複数の半導体チップ7A、7B、7C、22Aの電極パッド9は第1の接続部材12を介してテストパッド10と電気的に接続された状態とされている。
テストパッド10を有する半導体チップ22Aはチップユニット6Aの最上段に積層されているため、テストパッド10はチップユニット23Aの最上面に露出した状態となる。従って、テストパッド10に検査装置のテスト端子を接触させることによって、複数の半導体チップ7A、7B、7C、22Aの電気的特性の合否をチップユニット23Aとして判定することができる。チップユニット23Aの検査はサポート板15上で実施してもよいし、サポート板15からチップユニット23Aを剥離した後に実施してもよい。
この後、半導体チップ22Aのテストパッド10を用いた検査で、電気的特性が合格と判定されたチップユニット23Aをサポート板15から剥離して実装工程に移送する。もしくは、予めサポート板15から剥離した後に検査を実施し、電気的特性が合格と判定されたチップユニット23Aを実装工程に移送する。このようなチップユニット23Aを配線基板2上に搭載した後、第2の接続部材13によるチップユニット23Aと配線基板2との接続工程、樹脂封止工程等を経ることによって、半導体デバイス21が作製される。配線基板2上に複数のチップユニット23A、23Bを積み重ねる場合も同様であり、良品と判定されたチップユニット23A、23Bを用いて半導体デバイス1を作製する。
上述したように、テストパッド10を有する半導体チップ22をチップユニット23の最上段に積層することによって、半導体チップ7、22の検査をチップユニット23の段階で実施することができる。また、チップユニット23の段階で半導体チップ7、22の電極パッド9間が電気的に接続されているため、半導体チップ22のテストパッド10を用いて半導体チップ7、22の検査を実施することができる。そして、電気的特性が合格と判定されたチップユニット23のみを配線基板2上に搭載して半導体デバイス1を作製することによって、半導体チップ7、22の歩留りロスを低減することができると共に、半導体デバイス21自体の製造歩留りを向上させることが可能となる。
本発明の半導体デバイスは上記実施形態に限定されるものではなく、配線基板上に複数の半導体チップを積層して搭載した各種構造に適用可能である。本発明の半導体デバイスの具体的な構造は、本発明の基本構成を満足するものであれば種々に変形が可能である。さらに、実施形態は本発明の技術的思想の範囲内で拡張もしくは変更することができ、拡張、変更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれるものである。
1…半導体デバイス、2…配線基板、3…外部接続端子、5…内部接続端子、6A,6B,23A,23B…チップユニット、7A〜7H…半導体チップ、8A,8B…インターポーザ、9,11…電極パッド、10…テストパッド、12…第1の接続部材、13…第2の接続部材、14…封止樹脂層、22,22A,22B…テストパッドを有する半導体チップ。
Claims (5)
- 接続パッドを備える配線基板と;
電極パッドを有する複数の半導体チップと、表面に露出させたテストパッドと前記テストパッドから配線された電極パッドとを有するインターポーザとを備え、前記複数の半導体チップおよび前記インターポーザは前記電極パッドを露出させると共に、前記インターポーザが最上段に位置するように、前記配線基板上に階段状に積層されているチップユニットと;
前記複数の半導体チップおよび前記インターポーザの前記電極パッド間を電気的に接続する第1の接続部材と;
前記配線基板の前記接続パッドと前記半導体チップまたは前記インターポーザの前記電極パッドとの間を電気的に接続する第2の接続部材と;
前記チップユニットを前記第1および第2の接続部材と共に封止するように、前記配線基板上に形成された封止樹脂層と;
を具備することを特徴とする半導体デバイス。 - 請求項1記載の半導体デバイスにおいて、
前記複数の半導体チップは前記インターポーザの前記テストパッドを用いて、前記チップユニットとして電気的特性の合否が判定されていることを特徴とする半導体デバイス。 - 接続パッドを備える配線基板と;
電極パッドを有する複数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップは前記電極パッドを露出させるように、前記配線基板上に階段状に積層されているチップユニットであって、少なくとも最上段に位置する半導体チップは前記電極パッドから再配線され、かつ表面に露出させたテストパッドを有するチップユニットと;
前記複数の半導体チップの前記電極パッド間を電気的に接続する第1の接続部材と;
前記配線基板の前記接続パッドと前記半導体チップの前記電極パッドとの間を電気的に接続する第2の接続部材と;
前記チップユニットを前記第1および第2の接続部材と共に封止するように、前記配線基板上に形成された封止樹脂層と;
を具備することを特徴とする半導体デバイス。 - 請求項3記載の半導体デバイスにおいて、
前記複数の半導体チップは前記最上段に位置する半導体チップの前記テストパッドを用いて、前記チップユニットとして電気的特性の合否が判定されていることを特徴とする半導体デバイス。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか1項記載の半導体デバイスにおいて、
前記チップユニットは、前記配線基板上に階段状に積層された複数の半導体チップを有する第1のチップユニットと、前記第1のチップユニットの階段方向とは逆方向に向けて前記第1のチップユニット上に階段状に積層された複数の半導体チップを有する第2のチップユニットとを備えることを特徴とする半導体デバイス。
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