JP5833459B2 - リードフレーム及びその製造方法と半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

リードフレーム及びその製造方法と半導体装置及びその製造方法に関する。
従来、リードフレームを用いた半導体パッケージにおいて、ダイパッドの上に半導体素子が実装され、半導体素子と複数のリードとがワイヤで接続され、ダイパッドの両面、半導体素子及びワイヤが封止樹脂によって封止されたものがある。
そのような半導体パッケージでは、ダイパッドの裏面の封止樹脂の密着性を向上させるために、ダイパッドの裏面に多数のディンプルが設けられている。ダイパッドの裏面に設けられるディンプルはプレス加工によって四角錐などの形状で形成されるため、ダイパッドの裏面の封止樹脂の密着性は必ずしも十分ではない。
特開平7−161896号公報 特開平7−273270号公報 特開2009−260282号公報
ダイパッドの裏面に設けられる封止樹脂の密着性を向上させることができるリードフレーム及びその製造方法と半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
以下の開示の一観点によれば、第1のプレス加工により、ダイパッドの裏面に、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面を備え、他方の対向する2辺に深さ方向に起立する起立側面を備えた矩形状の第1ディンプルを形成する工程と、第2のプレス加工により、前記第1ディンプルの前記起立側面の横領域に、深さ方向に傾斜する第2傾斜側面を備えた第2ディンプルの前記第2傾斜側面が配置されるように、前記ダイパッドの裏面に前記第2ディンプルを形成することにより、前記第1ディンプルの前記起立側面を前記第1傾斜側面と逆方向に傾斜する逆傾斜側面とする工程とを有し、前記ダイパッドの表面が半導体素子搭載面であるリードフレームの製造方法が提供される。
また、その開示の他の観点によれば、ダイパッドと、前記ダイパッドの裏面に形成された第1ディンプルと、前記第1ディンプルの横領域の前記ダイパッドの裏面に形成された第2ディンプルとを備えたリードフレームであって、前記第1ディンプルは、一方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に傾斜する第1傾斜側面と、他方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に垂直に起立する側面が前記第2ディンプルによって変形されて形成された、前記第1傾斜側面と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面とを有する横置き台形柱形状で形成され、前記第2ディンプルは、前記第1ディンプルの逆傾斜側面と対向して配置された第2傾斜側面を有し、前記ダイパッドの表面が半導体素子搭載面であるリードフレームが提供される。
以下の開示によれば、リードフレームの製造方法では、第1のプレス加工により、ダイパッドの裏面に、一方の対向する2辺に第1傾斜側面を備え、他方の対向する2辺に起立側面を備えた矩形状の第1ディンプルを形成する。
次いで、第2のプレス加工により、第1ディンプルの起立側面の横領域に、第2傾斜側面を備えた第2ディンプルの第2傾斜側面が配置されるように、第2ディンプルを形成する。これにより、第1ディンプルの起立側面が第1傾斜側面と逆方向に傾斜する逆傾斜側面となる。
そして、ダイパッドの表面に半導体素子が実装され、ダイパッドの両面側に樹脂部が形成されて、半導体素子が封止される。
このとき、ダイパッドの裏面には逆傾斜側面を備えた第1ディンプルが設けられているので、アンカー効果が大きくなり、ダイパッドの裏面側の樹脂部の密着性を向上させることができる
さらに、第1ディンプルは矩形状の長手方向に傾斜側面を備えているので、第1ディンプルの長手方向から封止樹脂を流入することにより、封止樹脂をスムーズに第1ディンプルに充填することができる。
図1(a)及び(b)は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す平面図及び断面図(その1)である。 図2は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す断面図及び斜視図(その2)である。 図3(a)〜(c)は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す平面図及び断面図(その3)である。 図4は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す断面図及び斜視図(その4)である。 図5(a)〜(c)は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す平面図及び断面図(その5)である。 図6は第1実施形態のリードフレームを示す平面図である。 図7は第1実施形態の変形例のリードフレームを示す平面図である。 図8(a)及び(b)は図6のリードフレームを使用して半導体装置を製造する方法を示す平面図及び断面図(その1)である。 図9(a)及び(b)は図6のリードフレームを使用して半導体装置を製造する方法を示す平面図及び断面図(その2)である。 図10は第1実施形態の半導体装置を示す断面図である。 図11は第2実施形態のリードフレームの製造方法を示す断面図及び斜視図(その1)である。 図12(a)〜(c)は第2実施形態のリードフレームの製造方法を示す平面図及び断面図(その2)である。 図13は第2実施形態のリードフレームの製造方法を示す断面図(その3)である。 図14(a)〜(c)は第2実施形態のリードフレームの製造方法を示す平面図及び断面図(その4)である。 図15は第2実施形態のリードフレームを示す平面図である。 図16は第実施形態の変形例のリードフレームを示す平面図である。
以下、実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
(第1実施形態)
図1〜図5は第1実施形態のリードフレームの製造方法を示す図、図6は第1実施形態のリードフレームを示す図である。
第1実施形態のリードフレームの製造方法では、まず、図1(a)の平面図に示すようなリードフレーム部材1xを用意する。リードフレーム部材1xは、平行に延在する一対の外枠8と、この一対の外枠8に直交して連結する一対の内枠9とによって形成された枠構造を有する。
この枠構造の中央部には四角状のダイパッド10が配置されている。さらに、ダイパッド10の四隅にはそれに繋がって外側に延在するサポートバー12が形成されており、サポートバー12は外枠8に繋がっている。
このようにして、ダイパッド10は、サポートバー12によって外枠8に繋がって支持された状態となっている。
また、ダイパッド10の外側には、それから分離した状態で複数のインナーリード16が外側に延在して形成されている。複数のインナーリード16はダムバー18で連結されており、各インナーリード16には、外側に延在するアウターリード20がそれぞれ繋がって形成されている。ダムバー18は外枠8に繋がって支持されており、アウターリード20は内枠9に繋がって支持されている。
このようにして、インナーリード16は、ダムバー18及びアウターリード20を介して外枠8及び内枠9に支持されている。
ダイパッド10と外枠8とを連結するサポートバー12はダイパッド10との連結部で屈曲して傾斜している。これにより、図1(b)に示すように、ダイパッド10はインナーリード16及びアウターリード20より下側の位置に配置されている。図1(b)は図1(a)のA−A’に沿った断面図である。
図1(a)のリードフレーム部材1xは、銅(Cu)合金板などの金属板を金型によるプレス加工で打ち抜き加工することにより製造される。あるいは、金属板をフォトリソグラフィ及びウェットエッチングでパターニングすることにより製造することも可能である。
リードフレーム部材1xの厚みは、例えば、0.125mm〜0.25mmである。
次に説明する図2〜図5では、リードフレーム部材1xのダイパッド10を部分的に示して説明する。
図2に示すように、押え部材32と第1ポンチ34を備えた金型30を用意する。図2の斜視図を加えて参照すると、金型30の第1ポンチ34の形状は台形柱を横置きにした形状であり、台形柱の幅方向Wの両側の面が内部に傾斜する傾斜側面34aとなっており、台形柱の高さ方向Hの両側の面が起立側面34bとなっている。
そして、図1(a)のリードフレーム部材1xの表裏を反転させてダイパッド10の裏面を上側にした状態で、ダイパッド10を金型30の押え部材32の上に配置する。さらに、ダイパッド10の裏面を第1ポンチ34で下側に押圧して第1のプレス加工を行う。
これより、図3(a)の平面図に示すように、ダイパッド10の裏面に第1ポンチ34の形状に対応する第1ディンプルD1が形成される。第1ディンプルD1は平面視して矩形状で形成される。また、第1ディンプルD1は台形柱を横置きにした形状の凹部として形成される。
図3(b)は図3(a)のB−B’に沿った断面図である。図3(b)を加えて参照すると、第1ディンプルD1は、幅方向の対向する2辺に第1ポンチ34の起立側面34bに対応して深さ方向に起立する起立側面VSを備えて形成される。
起立側面VSは、第1ディンプルD1の深部側から表面側まで幅方向の幅W1がほぼ同一になるように立設している。第1ディンプルD1の起立側面VSは垂直面であることが好ましいが、多少傾いていてもよい。
図3(c)は図3(a)のC−C’に沿った断面図である。図3(c)を加えて参照すると、第1ディンプルD1は、長手方向の対向する2辺に第1ポンチ34の傾斜側面34aに対応して深さ方向に傾斜する第1傾斜側面S1を備えて形成される。第1傾斜側面S1は、第1ディンプルD1の深部側から表面側になるにつれて長手方向の幅W2が広くなるように傾斜して配置される。
このようにして、第1ディンプルD1は、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面S1を備え、他方の対向する2辺に深さ方向に起立する起立側面VSとを備えて形成される。
図3(a)の矩形状の第1ディンプルD1では、対向する2つの第1傾斜側面S1を結ぶ方向が長手方向となっており、対向する2つの起立側面VSを結ぶ方向が幅方向となっている。
例えば、図3(a)において、第1ディンプルD1の長手方向の長さxが90μm程度であり、幅yが50μm程度であり、図3(b)において、深さdは25μm程度である。
なお、図3(a)の例では、第1ディンプルD1の形状として、平面視して矩形状としているが、平面視して正方形で形成してもよい。
次いで、図4に示すように、金型30の第2ポンチ36を用意する。図4の斜視図を加えて参照すると、第2ポンチ36の形状は四角錐を上下反転させた形状であり、下面側に4つの傾斜側面36aを備えている。そして、ダイパッド10の裏面において第1ディンプルD1の起立側面VSの横領域を第2ポンチ36で下側に押圧して第2のプレス加工を行う。
これにより、図5(a)の平面図に示すように、ダイパッド10の裏面において、第1ディンプルD1の幅方向の両側の起立側面VS(図4)の横領域に第2ディンプルD2がそれぞれ形成される。第2ディンプルD2は、第2ポンチ36の傾斜側面36aに対応する第2傾斜側面S2を備え、四角錐を上下反転させた形状の凹部として形成される。第2ディンプルD2の開口寸法は、例えば、50μm□で形成される。
図5(b)は図5(a)のD−D’に沿った断面図である。図5(b)を加えて参照すると、第1ディンプルD1の起立側面VS(図4)は、第2ディンプルD2の第2傾斜側面S2が形成される際に、第1ディンプルD1の内側に押されて変形して、第1傾斜側面S1と逆方向に傾斜する逆傾斜側面Sxとなる。
第1ディンプルD1の起立側面VS(図4)は、第2ディンプルD2が形成される際に、第2ポンチ36の傾斜側面36aによって深部側から表面側になるにつれて内側に大きく押されるため、逆傾斜側面Sxとなる。
図5(c)は図5(a)のE−E’に沿った断面図である。図5(c)を加えて参照すると、第1ディンプルD1の幅方向の両側に第2ディンプルD2が形成されるため、第1ディンプルD1の長手方向の第1傾斜側面S1は変形せずにそのままの状態で残される。
このようにして、第1ディンプルD1の起立側面VSの横領域に、第2ディンプルD2の第2傾斜側面S2が配置されるように、ダイパッド10の裏面に第2ディンプルD2を形成する。これにより、第1ディンプルD1の起立側面VSを第1傾斜側面S1と逆方向に傾斜する逆傾斜側面Sxに容易に変形させることができる。
以上により、第1ディンプルD1は表面側の幅W1が深部側の幅W2より狭い形状にとなり、ダイパッド10を封止樹脂で封止する際に大きなアンカー効果が得られるようになる。
図5(a)の例のように第1ディンプルD1の起立側面VSの一部を逆傾斜側面Sxとしてもよいし、あるいは、起立側面VSの全体を逆傾斜側面Sxとしてもよい。
図5(a)の例のように、第1ディンプルD1の起立側面VSの中央部を逆傾斜側面Sxとする場合は、両側の第1傾斜側面S1の端部側に起立側面が残った状態となる。この場合は、第1ディンプルD1内に封止樹脂を充填する際に樹脂の流入口を広く確保できるという観点で有利になる。
また、第2ディンプルD2の形状は、第1ディンプルD1の起立側面VSを逆傾斜側面Sxとすることができる形状であればよく、各種の形状を採用することができる。前述した形態のように、第2傾斜側面S2を備えた第2ディンプルD2を形成することが好ましい。
以上のプレス加工の方法に基づいて、図6に示すように、まず、ダイパッド10の裏面全体に多数の第1ディンプルD1が形成される、その後に、各第1ディンプルD1の横領域のダイパッド10に第2ディンプルD2が形成されて、各第1ディンプルD1に逆傾斜側面Sxが形成される。
これにより、第1実施形態のリードフレーム1が得られる。図5(a)及び図6に示すように、第1実施形態のリードフレーム1では、ダイパッド10の裏面に矩形状の第1ディンプルD1が形成されている。
第1ディンプルD1は、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面S1を備え、他方の対向する2辺に第1傾斜側面S1と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面Sxを備えている。
さらに、第1ディンプルD1の横領域のダイパッド10に第2ディンプルD2が形成されている。第2ディンプルD2は、深さ方向に傾斜した第2傾斜側面S2を備え、その第2傾斜側面S2が第1ディンプルD1の逆傾斜側面Sxと対向して配置されている。そして、ダイパッド10の表面が半導体素子搭載面となっている。
図6において、第1ディンプルD1の配置角度に注目すると、A部に配置された第1ディンプルD1は、その長手方向が横方向Hから45°傾斜して、斜め右上を向いて配置されている。一方、B部に配置された第1ディンプルD1は、その長手方向が横方向Hから45°傾斜して、斜め左上を向いて配置されている。
このように、隣り合う第1ディンプルD1は、傾斜する向きが相互に90°ずれており、それらの長手方向の向きが直交するように配置されている。
本実施形態では、ダイパッド10をプレス加工で潰して第1、第2ディンプルD1,D2を形成するため、特にプレス加工する面積が大きい場合に、ダイパッド10にひずみが生じてダイパッド10が反ってしまうことがある。
図6のように、隣り合う第1ディンプルD1の配置角度を90°ずらして設定することにより、プレス加工時に発生するひずみが相殺されてダイパッド10の反りの発生を軽減することができる。
図6では、好適な例として、各第1ディンプルD1の配置方向を横方向Hから45°傾け、かつ隣り合う第1ディンプルD1の配置方向が直交するように配置されているが、複数の第1ディンプルD1の間で配置角度が異なるようにすればよい。
図7には、第1実施形態の変形例のリードフレーム1aが示されている。図7の変形例のリードフレーム1aのように、プレス加工によるひずみの発生が問題にならない場合は、第1ディンプルD1の長手方向を同一方向に向けて配置してもよい。
図7の例では、全ての第1ディンプルD1の長手方向が横方向Hから45°傾斜して斜め右上を向いて配置されている。変形例のリードフレーム1aでは、全ての第1ディンプルD1の長手方向の配置方向が同一方向を向いていればよく、任意の方向に配置することができる。
次に、第1実施形態の図6のリードフレーム1を使用して半導体装置を製造する方法について説明する。
図8(a)及び(b)に示すように、まず、前述した図6のように、ダイパッド10の裏面に第1、第2ディンプルD1,D2が形成されたリードフレーム1を用意する。
リードフレーム1では、第1、第2ディンプルD1,D2が形成された面と反対面(表面)が半導体素子搭載面となっている。そして、ダイパッド10の部品搭載面に、半導体素子40の接続電極40aを上側にして接着剤によって半導体素子40を固着して実装する。
その後に、半導体素子40の接続電極40aとインナーリード16とをワイヤボンディングによるワイヤ42によってそれぞれ接続する。図8(b)は図8(a)のA−A’に沿った断面図である。
次いで、図9(a)に示すように、半導体素子40が実装されたリードフレーム1をモールド型の下型及び上側(不図示)で挟み込み、モールドゲート部から封止樹脂をモールド型の中に流入する。これにより、ダイパッド10の両面、半導体素子40、ワイヤ42、インナーリード16を封止する樹脂部50が形成される。
図9(a)では、樹脂部50は透視的に描かれており、太線で囲まれた四角領域に形成される。樹脂部50は、その外側にダムバー18及びアウターリード20が露出するようにして形成される。
図9(b)は図9(a)のダイパッド10の裏面の様子を示す拡大断面図である。図9(b)に示すように、第1実施形態のリードフレーム1では、前述したようにダイパッド10の裏面に設けられた第1ディンプルD1が逆傾斜側面Sxを備えている。これにより、樹脂部50は第1ディンプルD1の逆傾斜側面Sxに沿って側壁に食い込むように充填される。
このようにして、樹脂部50は第1ディンプルD1内から抜け落ちないように固定されるので、アンカー効果が大きくなり、樹脂部50がダイパッド10の裏面に密着性よく形成される。
また、第1実施形態の図6のリードフレーム1では、第1ディンプルD1はその長手方向の側面が順テーパーの第1傾斜側面S1(図5(a)及び(c))となっている。このため、ダイパッド10の両面側を樹脂部50で封止する際に、第1ディンプルD1の長手方向と同一の方向から封止樹脂を流入することにより、第1ディンプルD1内に封止樹脂をスムーズに流入させることができる。
図6のリードフレーム1では、隣り合う第1ディンプルD1は、それらの長手方向が直交するように配置されて、傾斜する向きが90°ずれている。しかし、封止樹脂はモールド型内で端部に回り込んだ後に内部に流入する傾向があるため、90°ずれて配置された第1ディンプルD1においても第1傾斜側面S1から封止樹脂をスムーズに流入させることができる。
以上のように、図6のリードフレーム1では、複数の長手状の第1ディンプルD1の間で配置方向を変えているため、プレス加工時のダイパッド10の反りの発生を軽減することができる。
これに加えて、第1ディンプルD1は、封止樹脂の流入をスムーズにするための第1傾斜側面S1と、アンカー効果を大きくするための逆傾斜側面Sxと備えている。これにより、第1ディンプルD1内に封止樹脂を信頼性よく安定して充填することができるため、十分なアンカー効果を得ることができ、樹脂部50の密着性を向上させることができる。
次いで、リードフレーム1から外枠8及び内枠9を切り離すと共に、ダムバー18を切断することにより、複数の分離されたインナーリード16及びアウターリード20を得る。
以上により、図10に示すように、第1実施形態の半導体装置5が得られる。
図10に示すように、第1実施形態の半導体装置5では、図6のリードフレーム1から得られるダイパッド10、インナーリード16及びアウターリード20を備えている。ダイパッド10の上には半導体素子40が実装され、半導体素子40の接続電極40aがワイヤ42を介してインナーリード16にそれぞれ接続されている。さらに、ダイパッド10の両面、半導体素子40、ワイヤ42及びインナーリード16が樹脂部50によって封止されている。
第1実施形態の半導体装置5では、前述したように、ダイパッド10の裏面に逆傾斜側面Sxを備えた第1ディンプルD1が設けられている。このため、アンカー効果が大きくなって、ダイパッド10の裏面の樹脂部50の密着性が向上し、高い信頼性が得られる。
(第2実施形態)
図11〜図14は第2実施形態のリードフレームの製造方法を示す図、図15は第2実施形態のリードフレームを示す図である。第2実施形態が第1実施形態と異なる点は、ダイパッドの裏面に形成する第1ディンプルの形状を横置き台形柱形状の代わりに横置き三角柱形状とすることである。
第2実施形態では、第1実施形態と同一要素及び同一工程については、同一符号を付してその詳しい説明を省略する。
第2実施形態のリードフレームの製造方法では、まず、図11に示すように、押え部材32と第3ポンチ38を備えた金型30を用意する。図11の斜視図に示すように、金型30の第3ポンチ38の形状は、三角柱を横置きにした形状である。
第3ポンチ38では、三角柱の2つの側面が下側を向いて2つの傾斜側面38aとなっている。また、第3ポンチ38では、三角柱の高さ方向Hの両面が起立側面38bとなっている。
そして、第1実施形態と同様に、図1(a)のリードフレーム部材1xのダイパッド10の裏面を上側にした状態で、ダイパッド10を金型30の押え部材32の上に配置する。続いて、ダイパッド10の裏面を第3ポンチ38で下側に押圧して第1のプレス加工を行う。
これにより、図12(a)の平面図に示すように、ダイパッド10の裏面に第3ポンチ38の形状に対応する第1ディンプルD1xが形成される。第1ディンプルD1xは平面視して矩形状で形成される。また、第1ディンプルD1xは三角柱を横置きにした形状の凹部として形成される。
図12(b)は図12(a)のF−F’に沿った断面図である。図12(b)を加えて参照すると、第1ディンプルD1xは、幅方向の対向する2辺に第3ポンチ38の起立側面38bに対応する起立側面VSを備えて形成される。
図12(c)は図12(a)のG−G’に沿った断面図である。図12(c)を加えて参照すると、第1ディンプルD1xは、長手方向の対向する2辺に第3ポンチ38の傾斜側面38aに対応する第1傾斜側面S1を備えて形成される。
このようにして、第1ディンプルD1xは、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面S1を備え、他方の対向する2辺に深さ方向に起立する起立側面VSとを備えて形成される。
第2実施形態においても、第1ディンプルD1xの形状として、平面視して矩形状の他に、平面視して正方形であってもよい。
次いで、図13に示すように、第1実施形態の図4の工程と同様に、金型30の第2ポンチ36により、ダイパッド10の裏面において第1ディンプルD1xの起立側面VSの横領域のダイパッド10を下側に押圧して第2のプレス加工を行う。
これにより、図14(a)の平面図に示すように、ダイパッド10の裏面において第1ディンプルD1xの両側の起立側面VS(図13)の横領域に第2ディンプルD2がそれぞれ形成される。第2ディンプルD2は、第2ポンチ36の形状に対応して四角錐を上下反転させた形状の凹部として形成される。
図14(b)は図14(a)のH−H’に沿った断面図である。図14(b)を加えて参照すると、第1実施形態の図5(b)と同様に、第1ディンプルD1xの起立側面VS(図13)は、第2ディンプルD2の第2傾斜側面S2が形成される際に、第1ディンプルD1xの内側に押されて変形して逆傾斜側面Sxとなる。
このようにして、第1実施形態と同様に、第1ディンプルD1xの起立側面VSの横領域に、第2ディンプルD2の第2傾斜側面S2が配置されるように、ダイパッド10の裏面に第2ディンプルD2を形成する。これにより、第1ディンプルD1xの起立側面VSを第1傾斜側面S1と逆方向に傾斜する逆傾斜側面Sxに容易に変形させることができる。
以上により、第1実施形態と同様に、第1ディンプルD1xの幅方向の横領域に第2ディンプルD2を形成することにより、第1ディンプルD1xの表面側の幅W1が深部側の幅W2より狭くなるようにする。
図14(c)は図14(a)のI−I’に沿った断面図である。図14(c)を加えて参照すると、第1ディンプルD1xの幅方向の両側に第2ディンプルD2が形成されるため、第1ディンプルD1xの長手方向の第1傾斜側面S1は変形せずにそのままの状態で残される。
このようにして、第1実施形態と同様に、横置き三角柱形状の第1ディンプルD1xの幅方向の両側面の一部に逆傾斜側面Sxを容易に形成することができる。
第1実施形態と同様に、以上のプレス加工の方法に基づいて、図15に示すように、ダイパッド10の裏面全体に多数の第1ディンプルD1xが形成される、その後に、各第1ディンプルD1xの横領域のダイパッド10に第2ディンプルD2が形成されて、各第1ディンプルD1xに逆傾斜側面Sxが形成される。
これにより、図15に示すように、第2実施形態のリードフレーム2が得られる。図14(a)及び図15に示すように、第2実施形態のリードフレーム2では、ダイパッド10の裏面に矩形状の第1ディンプルD1xが形成されている。
第1ディンプルD1xは、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面S1を備え、他方の対向する2辺に第1傾斜側面S1と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面Sxを備えている。
さらに、第1ディンプルD1xの横領域のダイパッド10に第2ディンプルD2が形成されている。第2ディンプルD2は、深さ方向に傾斜した第2傾斜側面S2を備え、その第2傾斜側面S2が第1ディンプルD1xの逆傾斜側面Sxと対向して配置されている。そして、ダイパッド10の表面が半導体素子搭載面となっている。
図15のリードフレーム2は、第1実施形態の図6のリードフレーム1と同様に、隣り合う第1ディンプルD1xは、それらの長手方向が直交するように配置されて傾斜する向きが90°ずれている。
第2実施形態のリードフレーム2は第1実施形態と同様な効果を奏する。
図16には、第2実施形態の変形例のリードフレーム2aが示されている。図16の変形例のリードフレーム2aのように、第1実施形態の図7と同様に、プレス加工によるひずみの発生が問題にならない場合は、第1ディンプルD1xの長手方向を同一方向に向けて配置してもよい。
第2実施形態のリードフレーム2,2aにおいても、第1実施形態の図8〜図9の工程を遂行することにより、同様な半導体装置を製造することができる。
1x…リードフレーム部材、1,1a,2,2a…リードフレーム、5…半導体装置、8…外枠、9…内枠、10…ダイパッド、12…サポートバー、16…インナーリード、18…ダムバー、20…アウターリード、30…金型、32…押え部材、34…第1ポンチ、34a,36a,38a…傾斜側面、34b,38b,VS…起立側面、36…第2ポンチ、38…第3ポンチ、40…半導体素子、40a…接続電極、42…ワイヤ、50…樹脂部、D1,D1x…第1ディンプル、D2…第2ディンプル、S1…第1傾斜側面、S2…第2傾斜側面、Sx…逆傾斜側面。

Claims (10)

  1. ダイパッドと、
    前記ダイパッドの裏面に形成された第1ディンプルと、
    前記第1ディンプルの横領域の前記ダイパッドの裏面に形成された第2ディンプルと
    を備えたリードフレームであって、
    前記第1ディンプルは、
    一方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に傾斜する第1傾斜側面と、
    他方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に垂直に起立する側面が前記第2ディンプルによって変形されて形成された、前記第1傾斜側面と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面とを有する横置き台形柱形状で形成され、
    前記第2ディンプルは、前記第1ディンプルの逆傾斜側面と対向して配置された第2傾斜側面を有し、
    前記ダイパッドの表面が半導体素子搭載面であることを特徴とするリードフレーム。
  2. 隣り合う複数の前記第1ディンプルの長手方向が同一方向を向いて配置されていることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。
  3. 前記ダイパッドに形成された複数の前記第1ディンプルにおいて、前記第1ディンプルの配置角度が異なっており、隣り合う前記第1ディンプルは、それらの長手方向の向きが直交するように配置されており、
    前記長手方向は、前記一方の対向する2辺を結ぶ方向であることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。
  4. 前記第1ディンプルの前記逆傾斜側面は前記他方の対向する2辺の一部に配置され、前記他方の対向する2辺の端部側に起立側面が配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のリードフレーム。
  5. ダイパッドと、
    前記ダイパッドの裏面に形成された第1ディンプルと、
    前記第1ディンプルの横領域の前記ダイパッドの裏面に形成された第2ディンプルと
    を備えたリードフレームであって、
    前記第1ディンプルは、
    一方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に傾斜する第1傾斜側面と、
    他方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に垂直に起立する側面が前記第2ディンプルによって変形されて形成された、前記第1傾斜側面と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面とを有する横置き台形柱形状で形成され、
    前記第2ディンプルは、前記第1ディンプルの逆傾斜側面と対向して配置された第2傾斜側面を有する前記リードフレームと、
    前記ダイパッドの表面の半導体素子搭載面に実装された半導体素子と、
    前記ダイパッドの外側に並んで配置された複数のリードと、
    前記半導体素子と前記リードとを接続するワイヤと、
    前記リードが露出するように、前記ダイパッドの両面、前記半導体素子及び前記ワイヤを封止する樹脂部とを有することを特徴とする半導体装置。
  6. 第1のプレス加工により、ダイパッドの裏面に、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面を備え、他方の対向する2辺に深さ方向に起立する起立側面を備えた矩形状の第1ディンプルを形成する工程と、
    第2のプレス加工により、前記第1ディンプルの前記起立側面の横領域に、深さ方向に傾斜する第2傾斜側面を備えた第2ディンプルの前記第2傾斜側面が配置されるように、前記ダイパッドの裏面に前記第2ディンプルを形成することにより、前記第1ディンプルの前記起立側面を前記第1傾斜側面と逆方向に傾斜する逆傾斜側面とする工程とを有し、
    前記ダイパッドの表面が半導体素子搭載面であることを特徴とするリードフレームの製造方法。
  7. 前記第1ディンプルの形状は、横置き台形柱形状又は横置き三角柱形状であり、
    前記第2ディンプルの形状は、四角錐を上下反転させた形状であることを特徴とする請求項6に記載のリードフレームの製造方法。
  8. 前記ダイパッドに形成される複数の前記第1ディンプルにおいて、前記第1ディンプルの配置角度が異なっており、隣り合う前記第1ディンプルは、それらの長手方向の向きが直交するように配置されており、
    前記長手方向は、前記一方の対向する2辺を結ぶ方向であることを特徴とする請求項7に記載のリードフレームの製造方法。
  9. 前記逆傾斜側面は、前記起立側面の一部が変形して形成され、前記他方の対向する2辺の中央部に形成されることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
  10. 第1のプレス加工により、ダイパッドの裏面に、一方の対向する2辺に深さ方向に傾斜する第1傾斜側面を備え、他方の対向する2辺に深さ方向に起立する起立側面を備えた矩形状の第1ディンプルを形成する工程と、
    第2のプレス加工により、前記第1ディンプルの前記起立側面の横領域に、深さ方向に傾斜する第2傾斜側面を備えた第2ディンプルの前記第2傾斜側面が配置されるように、前記ダイパッドの裏面に前記第2ディンプルを形成することにより、前記第1ディンプルの前記起立側面を前記第1傾斜側面と逆方向に傾斜する逆傾斜側面とする工程と
    を有する方法でリードフレームを得る工程と、
    前記ダイパッドの表面の半導体素子搭載面に半導体素子を実装する工程と、
    前記半導体素子と前記リードフレームのリードとをワイヤで接続する工程と、
    前記リードが露出するように、前記ダイパッドの両面、前記半導体素子及び前記ワイヤを樹脂部で封止する工程と、
    前記リードフレームの枠部から前記ダイパッド及び前記リードを切り離す工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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CN201310031813.2A CN103227115B (zh) 2012-01-31 2013-01-28 引线框及其制造方法和半导体装置及其制造方法
US13/751,609 US8778739B2 (en) 2012-01-31 2013-01-28 Lead frame and method of manufacturing the same, and semiconductor device and method of manufacturing the same
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015125352A1 (ja) * 2014-02-24 2015-08-27 三菱電機株式会社 パワー半導体モジュールおよびパワーユニット
JP6408431B2 (ja) * 2015-06-11 2018-10-17 Shプレシジョン株式会社 リードフレーム、リードフレームの製造方法、および半導体装置
JP2017208486A (ja) * 2016-05-19 2017-11-24 株式会社ミスズ工業 表面に凹凸を有する金属部材、ヒートスプレッダ、半導体パッケージ及びそれらの製造方法
TWI623076B (zh) * 2016-11-02 2018-05-01 復盛精密工業股份有限公司 導線架製作方法
US10998255B2 (en) * 2018-07-12 2021-05-04 Nxp Usa, Inc. Overmolded microelectronic packages containing knurled flanges and methods for the production thereof
TWI690045B (zh) * 2018-08-03 2020-04-01 欣興電子股份有限公司 構裝結構、其接合方法及用於其的線路板
CN113169074A (zh) * 2018-09-11 2021-07-23 Rjr技术公司 具有改善的部件之间连接的气腔封装
JP2021034705A (ja) * 2019-08-29 2021-03-01 Jx金属株式会社 金属板、金属樹脂複合体、半導体デバイス及び、金属板の製造方法
WO2024090029A1 (ja) * 2022-10-25 2024-05-02 富士電機株式会社 半導体モジュール、半導体装置、及び車両

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6378558A (ja) * 1986-09-22 1988-04-08 Hitachi Ltd 電子装置
JPS6442847A (en) * 1987-08-10 1989-02-15 Toshiba Corp Lead frame
JP2552887Y2 (ja) * 1991-03-29 1997-10-29 サンケン電気株式会社 絶縁物被覆電子部品
JPH077122A (ja) * 1993-06-17 1995-01-10 Fujitsu Ltd Icパッケージ
JPH07161896A (ja) 1993-12-02 1995-06-23 Hitachi Cable Ltd リードフレームとその製造方法
JP3339173B2 (ja) 1994-04-01 2002-10-28 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びその製造方法及びそれを用いた半導体装置
JPH0864739A (ja) * 1994-08-24 1996-03-08 Hitachi Cable Ltd ディンプル加工を施したリードフレームの製造方法及びそのディンプル加工金型
JPH0864749A (ja) * 1994-08-25 1996-03-08 Hitachi Cable Ltd リードフレーム
US6294409B1 (en) * 2000-01-27 2001-09-25 Siliconware Precisionware Industries Co., Ltd. Method of forming a constricted-mouth dimple structure on a leadframe die pad
US7091602B2 (en) * 2002-12-13 2006-08-15 Freescale Semiconductor, Inc. Miniature moldlocks for heatsink or flag for an overmolded plastic package
US7109570B2 (en) * 2003-09-08 2006-09-19 United Test And Assembly Test Center Ltd. Integrated circuit package with leadframe enhancement and method of manufacturing the same
US7476602B2 (en) * 2005-01-31 2009-01-13 Texas Instruments Incorporated N2 based plasma treatment for enhanced sidewall smoothing and pore sealing porous low-k dielectric films
JP2009260282A (ja) 2008-03-18 2009-11-05 Panasonic Corp パッケージ用リードフレーム
US7955954B2 (en) * 2008-04-14 2011-06-07 Infineon Technologies Ag Method of making semiconductor devices employing first and second carriers

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