JP5728540B2 - 新規な化合物 - Google Patents

Description

本発明は、アミド誘導体を効率的に製造するのに有用な化合物に関する。

国際公開第２００５／２１４８８パンフレット、国際公開第２００５／７３１６５号パンフレット、国際公報第２００６／１３７４７６号パンフレット、国際公報第２００６／１３７３９５号パンフレットには、種々のアミド化合物が記載されている。

本発明の目的は、有害生物防除作用に卓効を示すアミド誘導体を効率的に製造するのに有用な化合物を提供することである。

本発明者等は、下記一般式（３）で表されるアミド誘導体の新規な製造方法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、課題を解決する新規な製造方法を見出し本発明を完成させた。
また、本発明にかかるアミド誘導体を製造する上での有用な中間体を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（１）

（一般式（１）中、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、ＲfはＣ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表し、Ｒ^１は水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（２）

（一般式（２）中、ＬＧは脱離基を表し、Ｔは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ^２は水素原子またはＣ_１-Ｃ_６アルキル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表し、Ａは窒素原子、または、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはニトリル基で置換されてもよいメチン基を表す。）で表される化合物と、を反応させる工程を含む下記一般式（３）

（一般式（３）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ａ、Ｔ、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲｆは、前記一般式（１）および一般式（２）におけるＸ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ａ、Ｔ、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲｆとそれぞれ同義である。）で表されるアミド誘導体の製造方法。
＜２＞ 前記一般式（２）において、ＬＧで表される脱離基がハロゲン原子である前記＜１＞に記載のアミド誘導体の製造方法。
＜３＞ 前記一般式（３）で表されるアミド誘導体が、下記一般式（４）

（一般式（４）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表し、Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。）で表される化合物である前記＜２＞に記載のアミド化合物の製造方法。
＜４＞ 下記一般式（５）

（一般式（５）中、Ｒ^２は水素原子またはＣ_１-Ｃ_６アルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１-Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３-Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２-Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２-Ｃ_６アルキニル基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（６）

（一般式（６）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表し、ＬＧは脱離基を表す。）で表される化合物、または、下記一般式（７）

（一般式（７）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表す。）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（８）

（一般式（８）中、Ｒ^２およびＲ^３は前記一般式（５）におけるＲ^２およびＲ^３とそれぞれ同義であり、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５は、前記一般式（６）または一般式（７）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５とそれぞれ同義である。）で表される化合物を製造する工程をさらに含む前記＜３＞に記載のアミド誘導体の製造方法。

＜５＞ 前記一般式（８）におけるＲ^２が水素原子である化合物を、アルキル化して下記一般式（９）

（一般式（９）中、Ｒ^２１はＣ_１-Ｃ_６アルキル基を表し、Ｒ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５は、前記一般式（８）におけるＲ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５とそれぞれ同義である。）で表される化合物を製造する工程をさらに含む前記＜４＞に記載のアミド誘導体の製造方法。
＜６＞ 前記一般式（５）におけるＲ^２が水素原子である化合物を、下記一般式（１０）

（一般式（１０）中、Ｒ^２１はＣ_１-Ｃ_６アルキル基を表し、Ｒ^３は前記一般式（８）におけるＲ^３と同義である。）で表される化合物に変換する工程をさらに含む前記＜４＞に記載のアミド誘導体の製造方法。

＜７＞ 前記一般式（８）で表される化合物のうち、Ｒ^３がＣ_１-Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３-Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２-Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２-Ｃ_６アルキニル基である化合物を、下記一般式（１１）

（一般式（１１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ²は、前記一般式（８）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ²とそれぞれ同義である。）で表される化合物に変換する工程をさらに含む前記＜４＞に記載のアミド誘導体の製造方法。
＜８＞ 前記一般式（１１）で表される化合物を、下記一般式（１２）

（一般式（１２）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ²は、前記一般式（１１）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ²とそれぞれ同義であり、Ｈａｌはフッ素原子、塩素原子、または臭素原子を表す。）で表される化合物に変換する工程をさらに含む前記＜７＞に記載のアミド誘導体の製造方法。
＜９＞ 前記一般式（３）で表されるアミド誘導体が、下記一般式（２０）

（一般式（２０）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表す。但し、Ｘ^１およびＸ^３の少なくとも一方はハロゲン原子である。Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。）で表される化合物である請求項２に記載のアミド誘導体の製造方法。
＜１０＞ 下記一般式（８）

（一般式（８）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物。
＜１１＞ 下記一般式（１２）

（一般式（１２）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｈａｌは塩素原子を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物。

本発明によれば、有害生物防除作用に卓効を示すアミド誘導体を効率的に製造するのに有用な化合物を提供することができる。

以下、本発明の一般式において使用される文言はその定義においてそれぞれ以下に説明されるような意味を有する。
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。
「Ｃ_a−Ｃ_ｂ（a、ｂは１以上の整数を表す）」との表記、例えば、「Ｃ_１−Ｃ_３」とは炭素原子数が１〜３個であることを意味し、「Ｃ_２−Ｃ_６」とは炭素原子数が２〜６個であることを意味する。
「ｎ−」とはノルマルを意味し、「ｉ−」はイソを意味し、「ｓ−」はセカンダリーを意味し、「ｔ−」はターシャリーを意味する。

「Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基」とは例えば、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、モノクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、モノブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフロオロ−ｎ−プロピル、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル、２，２−ジフルオロエチル、２，２−ジクロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、１−クロロエチル、２−クロロエチル、１−ブロモエチル、２−ブロモエチル、２−ヨードエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル、１，３−ジフルオロ−２−プロピル、１，３−ジクロロ−２−プロピル、１−クロロ−３−フルオロ−２−プロピル、１，１，１−トリフルオロ−２−プロピル、２，３，３，３−トリフルオロ−ｎ−プロピル，１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル，１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−クロロ−２−プロピル、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ブロモ−２−プロピル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−クロロ−ｎ−プロピル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ブロモ−ｎ−プロピル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−１−クロロ−ｎ−プロピル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−１−ブロモ−２−プロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−ｎ−プロピル、３−フルオロ−ｎ−プロピル、３−クロロ−ｎ−プロピル、３−ブロモ−ｎ−プロピル等の同一または異なっていてもよい１以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数が１〜３個のアルキル基を表す。

「Ｃ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基」とは例えば、トリフルオロメチルオキシ、ペンタフルオロエチルオキシ、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルオキシ、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピルオキシ、２，２−ジフルオロエチルオキシ、２，２−ジクロロエチルオキシ、２，２，２−トリフルオロエチルオキシ、２−フルオロエチルオキシ、２−クロロエチルオキシ、２−ブロモエチルオキシ、２−ヨードエチルオキシ、２，２，２−トリクロロエチルオキシ、２，２，２−トリブロモエチルオキシ、１，３−ジフルオロ−２−プロピルオキシ、１，３−ジクロロ−２−プロピルオキシ、１−クロロ−３−フルオロ−２−プロピルオキシ、１，１，１−トリフルオロ−２−プロピルオキシ、２，３，３，３−トリフルオロ−ｎ−プロピルオキシ、４，４，４−トリフルオロ−ｎ−ブチルオキシ、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピルオキシ、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−クロロ−２−プロピルオキシ、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ブロモ−２−プロピルオキシ、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ブロモ−ｎ−プロピルオキシ、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−１−ブロモ−２−プロピルオキシ、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−ｎ−プロピルオキシ、３−フルオロ−ｎ−プロピルオキシ、３−クロロ−ｎ−プロピルオキシ、３−フルオロ−ｎ−プロピルオキシ、３−クロロ−ｎ−プロピルオキシ、３−ブロモ−ｎ−プロピルオキシ、３，３，４，４，４−ペンタフルオロ−２−ブチルオキシ、ノナフルオロ−ｎ−ブチルオキシ、ノナフルオロ−２−ブチルオキシ、５，５，５−トリフルオロ−ｎ−ペンチルオキシ、４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−２−ペンチルオキシ、３−クロロ−ｎ−ペンチルオキシ、４−ブロモ−２−ペンチルオキシ等の、同一または異なってもよい１以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数が１〜６個のアルキルオキシ基を表す。

「Ｃ_１−Ｃ_４アルキル基」とは例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル等の直鎖状または分岐状の炭素原子数が１〜４のアルキル基を表す。
「Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基」とは例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ネオペンチル、４−メチル−２−ペンチル、ｎ−ヘキシル、３−メチル−ｎ−ペンチル等の直鎖状または分岐状の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表す。

「Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基」とは例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、２−メチルシクロペンチル、３−メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、２−メチルシクロヘキシル、３−メチルシクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等の環状構造を有する炭素原子数が３〜８個のアルキル基を表す。
「Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基」とは例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、１−ヘキセニル等の炭素鎖の中に二重結合を有する直鎖または分岐状の炭素原子数が２〜６個のアルケニル基を表す。
「Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基」とは例えば、エチニル、プロパルギル、２−ペンチニル、１−ブチン−３−イル、１−ブチン−３−メチル−３−イル、３−ヘキシニル等の炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖または分岐状の炭素原子数が２〜６個のアルキニル基を表す。

「Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基」とは例えば、パーフルオロ−ｎ−プロピル、パーフルオロ−ｉ−プロピル、パーフルオロ−ｎ−ブチル、パーフルオロ−ｉ−ブチル、パーフルオロ−ｓ−ブチル、パーフルオロ−ｔ−ブチル等の全ての水素原子がフッ素原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数が３〜４個のアルキル基を表す。

Ｒ^３における「Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基」、「Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基」、「Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基」、および「Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基」はそれぞれ置換基を有していてもよく、該置換基としては、無置換の直鎖状もしくは分岐状の炭素数原子数が１〜６個のアルキル基、無置換の環状の炭素原子数３〜８個のシクロアルキル基、無置換の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭素数原子数が２〜６個のアルケニル基、無置換の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭素数原子数が２〜６個のアルキニル基、ハロゲン原子、フェニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキルオキシ基、ベンジルオキシ基、アルキルチオ基、カルボキシ基、ベンジル基、複素環基、フェニルスルホニル基、フェニルカルボニル基、およびフェニルアミノ基から選択される１以上の置換基を挙げることができる。置換基が２以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていても良い。
また、これらの置換基は、可能であればさらに置換基を有していてもよく、その置換基の具体例は上記と同様である。

「Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基」、「Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基」、「Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基」、および「Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基」が置換基を有している場合の具体例としては、例えば、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェナシル基、ｐ−ブロモフェナシル基、ｐ−メトキシフェナシル基、２−（ｐ−トルエンスルホニル）エチル基、トリクロロエチル基、２−クロロエチル基、２−メチルチオエチル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、シンナミル基、ｐ−メチルチオフェニル基、ベンジル基、２，４，６−トリメチルベンジル基、シンナミル基、ｐ−ブロモベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−メチルチオフェニル基、４−ピコリル基、ピペロニル基等を例示できる。

本発明における一般式（３）等で表される化合物は、その構造式中に１個または複数個の不斉炭素原子または不斉中心を含む場合があり、２種以上の光学異性体が存在する場合もあるが、本発明は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。
また、本発明における一般式（３）等で表される化合物は、その構造式中に、炭素−炭素二重結合に由来する２種以上の幾何異性体が存在する場合もあるが、各々の幾何異性体が任意の割合で含まれる混合物をも全て包含する。

以下に本発明のアミド誘導体の製造方法、さらに、該製造方法に好適に用いることができる製造中間体となる化合物およびその製造方法を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の下記一般式（３）で表されるアミド誘導体の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（２）で表される化合物と、を反応させる工程を含む。かかる製造方法であることにより、有害生物防除作用に卓効を示すアミド誘導体を効率的に製造することができる。

一般式（１）〜一般式（３）において、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、ＲfはＣ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表し、Ｒ^１は水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。ＬＧは脱離基を表し、Ｔは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ^２は水素原子またはＣ_１-Ｃ_６アルキル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、またはニトリル基を表し、Ａは窒素原子、または、ハロゲン原子、ニトロ基、もしくはニトリル基で置換されてもよいメチン基を表す。
ＬＧで表される脱離基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基等を挙げることができ、製造効率の観点から、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アシルオキシ基であることが好ましく、ハロゲン原子であることがより好ましい。

本発明においては、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物とを反応させる条件としては、通常用いられる反応条件を特に制限なく用いることができる。
例えば、一般式（２）で表される脱離基（ＬＧ）を有する芳香族カルボン酸誘導体と、一般式（１）で表される芳香族アミン誘導体とを適当な溶媒中もしくは無溶媒で反応させることにより、一般式（３）で表されるアミド誘導体を製造することができる。また本工程では適当な塩基を用いることもできる。

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、水、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックアミド等の非プロトン性極性溶媒等の不活性溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは２種以上混合して使用することができる。

また、塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピペリジン、ピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、２，６−ルチジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアニリン、ジイソプロピルエチルアミン、３−メチルイミダゾール、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、りん酸一水素二カリウム、りん酸三ナトリウム等のリン酸塩類、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコラート類、リチウムジイソプロピルアミド等などのリチウムアミド等を例示すことができる。
これらの塩基は、一般式（２）で表される化合物に対して０．０１〜５倍モル当量の範囲で適宜選択して使用すれば良い。
反応温度は、−２０℃〜使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から９６時間の範囲でそれぞれ適宜選択すれば良い。

一般式（２）で表される化合物の中で、ＬＧがハロゲン原子である芳香族カルボン酸ハライドは、一般式（２）におけるＬＧがヒドロキシ基である芳香族カルボン酸から、等モル以上のハロゲン化剤を使用することにより製造することができる。
ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、シュウ酸ジクロリド、オキシ塩化リン、オキザリルクロリド、三塩化リン、五塩化リン等を示すことができる。
この反応は溶媒を用いてもよく、不活性な溶媒であればいずれのものでもよい。例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒等から１種又は２種以上を適宜選択することができる。
反応は、通常−２０〜１４０℃で行なうことができ、その反応時間は、通常０．１〜９６時間から適宜選択される。

一方、ハロゲン化剤を使用せずに一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物のうちＬＧがヒドロキシ基である化合物から一般式（３）で表されるアミド誘導体を製造することが可能である。その方法としては、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．７８８ページ（１９７０年）に記載の方法に従うことにより、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシスクシンイミド等などの添加剤を適宜使用し、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドを使用する縮合剤を用いる方法を示すことができる。この場合に使用される他の縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール等を示すことができる。

また、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物のうちＬＧがヒドロキシ基である化合物から、一般式（３）で表されるアミド誘導体を製造する他の方法としては、クロロギ酸エステル類を用いた混合酸無水物法を示すこともでき、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．５０１２ページ（１９６７年）に記載の方法に従うことにより、一般式（３）で表されるアミド誘導体を製造することが可能である。この場合使用されるクロロギ酸エステル類としてはクロロギ酸イソブチル、クロロギ酸イソプロピルなどを示すことができ、クロロギ酸エステル類の他には、塩化ジエチルアセチル、塩化トリメチルアセチル等を示すことができる。

さらに、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物のうちＬＧがヒドロキシ基である化合物から、一般式（３）で表されるアミド誘導体を製造する他の方法としては、脱離基としてアリールオキシ基を用いた活性エステル法も示すこともできる。一般式（２）で表される化合物のうちＬＧがヒドロキシ基である化合物とフェノール誘導体とを、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシスクシンイミド等の添加剤を適宜使用し、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール等の縮合剤を用いて製造できる。活性エステル法で使用されるアリールオキシ基としては、ｐ−ニトロフェニルオキシ基、２，４−ジニトロフェニルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基、１，３，５−トリクロロフェニルオキシ基、ペンタクロロフェニルオキシ基等を示すことができる。
縮合剤を用いる方法、混合酸無水物法、活性エステル法共に、前記文献記載の溶媒、反応温度、反応時間に限定されることは無く、適宜反応の進行を著しく阻害しない不活性溶媒を使用すればよく、反応温度、反応時間についても、反応の進行に応じて、適宜選択すれば良い。

かくして得られる本発明の一般式（３）で表されるアミド誘導体は、反応終了後、反応混合物から通常の分離生成手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の手段を用いることによって単離することができる。また、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。

前記一般式（２）で表される化合物において、ＬＧがヒドロキシ基である下記一般式（２２）で表される化合物は、以下のようにして製造することができる。
下記一般式（２１）で表される化合物のうち、Ｒ^３がＣ_１−Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基である化合物を一般的な手法を利用した加水分解や、Ｐｄ触媒を用いた方法により、下記一般式（２２）で表される化合物に変換することができる。具体的には、後述する一般式（８）で表される化合物から一般式（１１）で表される化合物を製造する方法と同様にして、一般式（２１）で表される化合物から一般式（２２）で表される化合物を得ることができる。

一般式（２１）および一般式（２２）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、Ａ、およびＲ^２は、前記一般式（３）におけるＸ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、Ａ、およびＲ^２とそれぞれ同義であり、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基を表す。

さらに前記一般式（２２）で表される化合物は、ハロゲン化剤を用いる公知の方法により、前記一般式（２）で表される化合物のうち、ＬＧがハロゲン原子である化合物に変換することができる。具体的には、後述する一般式（１１）で表される化合物から一般式（１２）で表される化合物を製造する方法等と同様にして、一般式（２２）で表される化合物から一般式（２）で表される化合物のうち、ＬＧがハロゲン原子で表される化合物を得ることができる。

また前記一般式（２１）で表される化合物は、下記一般式（２３）で表される化合物と、下記一般式（２４）または下記一般式（２５）で表される化合物とを反応させることで製造することができる。

一般式（２３）〜一般式（２５）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、Ａ、およびＲ^２は、前記一般式（３）におけるＸ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、Ａ、およびＲ^２とそれぞれ同義であり、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基を表し、ＬＧは脱離基を表す。
ＬＧで表される脱離基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アリールオキシ基等を挙げることができ、製造効率の観点から、ハロゲン原子であることが好ましい。

前記一般式（２３）で表される化合物と、前記一般式（２４）で表される化合物または前記一般式（２５）で表される化合物とを反応させる方法としては、具体的には、後述する一般式（５）で表される化合物と、一般式（６）で表される化合物または一般式（７）で表される化合物とを反応させる方法と同様にして行なうことができる。

さらに一般式（２１）で表される化合物のうち、Ｒ^２がＣ_１−Ｃ_６アルキル基である下記一般式（２６）で表される化合物は、下記一般式（２７）で表される化合物をアルキル化することで製造することができる。具体的には、後述する一般式（１３）で表される化合物から一般式（９）で表される化合物を製造する方法と同様にして、下記一般式（２６）で表される化合物を製造することができる。

一般式（２６）および一般式（２７）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、およびＡは、前記一般式（３）におけるＸ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｔ、およびＡとそれぞれ同義であり、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基を表し、Ｒ^２１はＣ_１−Ｃ₆アルキル基を表す。

また一般式（２６）で表される化合物は、前記一般式（２３）で表される化合物として下記一般式（２８）で表される化合物を用い、前記一般式（２４）で表される化合物または前記一般式（２５）で表される化合物とを反応させることによっても製造することができる。
さらに下記一般式（２８）で表される化合物は、下記一般式（２９）で表される化合物をアルキル化することで製造することができる。

一般式（２８）および一般式（２９）中、Ｒ^３およびＲ^２１は、一般式（２６）におけるＲ^３およびＲ^２１とそれぞれ同義である。

一般式（２９）で表される化合物から、一般式（２８）で表される化合物を製造する方法は、後述する一般式（１４）で表される化合物から一般式（１０）で表される化合物を製造する方法と同様にして行なうことができる。

本発明において一般式（３）で表されるアミド誘導体は、有害生物防除作用の観点から、下記一般式（４）で表される化合物、または下記一般式（２０）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（４）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表し、Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。

一般式（２０）中、Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４、およびＸ^５はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトリル基を表す。但し、Ｘ^１およびＸ^３の少なくとも一方はハロゲン原子である。Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、Ｃ_１−Ｃ_３ハロアルキル基、またはＣ_１−Ｃ_６ハロアルコキシ基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。

本発明において、前記一般式（４）で表されるアミド化合物は、前記一般式（３）で表されるアミド誘導体と同様にして製造できる。また本発明において前記一般式（４）で表されるアミド化合物の製造方法は、下記一般式（５）で表される化合物と、下記一般式（６）で表される化合物または下記一般式（７）で表される化合物とを反応させて、下記一般式（８）で表される化合物を製造する工程をさらに含むことが好ましい。

一般式（５）〜一般式（８）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２は、前記一般式（４）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２とそれぞれ同義であり、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３−Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニル基を表し、ＬＧは脱離基を表す。
ＬＧで表される脱離基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基等を挙げることができ、製造効率の観点から、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アシルオキシ基であることが好ましく、ハロゲン原子であることがより好ましい。

一般式（５）で表される化合物と、一般式（６）または一般式（７）で表される芳香族カルボン酸誘導体とを適当な溶媒中または無溶媒で反応させることにより、一般式（８）で表される化合物を製造することができる。本工程では適当な塩基もしくは溶媒を用いることが可能である。
使用する溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性非プロトン性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水等を示すことができ、これらの溶媒を単独もしくは２種以上の溶媒を混合して使用できる。

また、塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピペリジン、ピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、２，６−ルチジン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、りん酸一水素二カリウム、りん酸三ナトリウム等のリン酸塩類、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコラート類、リチウムジイソプロピルアミド等などのリチウムアミド等を例示すことができる。
これらの塩基は、一般式（５）で表される化合物に対して０．０１〜５倍モル当量の範囲で適宜選択して使用すればよい。
反応温度は、−２０℃から使用する溶媒の還流温度の範囲で適宜選択すればよい。また反応時間は、数分間から９６時間の範囲で適宜選択すれば良い。

一般式（６）で表される化合物のうち、ＬＧがハロゲン原子である芳香族カルボン酸ハライド化合物は、芳香族カルボン酸からハロゲン化剤を使用する常法により容易に製造することができる。ハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、オキザリルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、臭化チオニル、三臭化リン等のハロゲン化剤を示すことができる。
また一般式（７）で表される芳香族カルボン酸無水物は、芳香族カルボン酸を脱水剤の共存下、製造することができる。脱水剤として、塩化ホスホリル、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物のような酸無水物あるいは酸塩化物、ハロギ酸エステル、カルボジイミド、等が例示できる

一方、ハロゲン化剤を使用せずに、一般式（６）で表される化合物のうち、ＬＧがヒドロキシ基である芳香族カルボン酸と、アニリン誘導体とから、一般式（８）で表される化合物を製造することができる。その方法としては、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．７８８ページ（１９７０年）に記載の方法に従うことができる。具体的には、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシスクシンイミド等の添加剤を適宜使用し、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドを使用する縮合剤を用いる方法を示すことができる。この場合に使用される他の縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、ジフェニルリン酸アジド、シアノリン酸ジエチル等のペプチド縮合試薬を単独で用いて行うこともできる。反応温度は、通常−２０〜＋５０℃であり、好ましくは０℃〜室温である。通常用いる溶媒としては、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、塩化メチレン、テトラハイドロフラン等が挙げられ、単独もしくは混合で用いることができる。

またクロロ蟻酸エステル類を用いた混合酸無水物法を例示することができ、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．５０１２ページ（１９６７年）に記載の方法を挙げることができる。この場合使用されるクロロ蟻酸エステル類としては、クロロ蟻酸メチル、クロロ蟻酸−ｉ−プロピル、クロロ蟻酸−ｉ−ブチル等を例示することができる。クロロ蟻酸エステル類の他には、塩化ジエチルアセチル、塩化トリメチルアセチル等を示すことができる。
縮合剤を用いる方法、混合酸無水物を用いる方法共に前記文献記載の溶媒、反応温度、反応時間に限定されることは無い。溶媒としては、反応の進行を著しく阻害しない不活性溶媒を使用すればよく、反応温度、反応時間についても、反応の進行に応じて、適宜選択すればよい。

また一般式（４）で表される化合物の製造方法は、一般式（８）におけるＲ^２が水素原子である下記一般式（１３）で表される化合物を、アルキル化して下記一般式（９）で表される化合物を得る工程を更に含むことが好ましい。

一般式（９）および一般式（１３）において、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^３は、前記一般式（８）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^３とそれぞれ同義であり、Ｒ^２１はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基を表す。

一般式（１３）で表される化合物に、溶媒中で塩基を用いて、所定の反応剤（好ましくは、アルキル化剤）を反応させることで、一般式（９）で表される化合物を製造できる。
溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性非プロトン性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール等のアルコール類等を示すことができ、これらの溶媒を単独もしくは２種以上の溶媒を混合して使用できる。

塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、りん酸一水素二カリウム、りん酸三ナトリウム等のリン酸塩類、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコラート類、ｎ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、エチルマグネシウムブロミド等のグリニャール試薬類、リチウムジイソプロピルアミド等などのリチウムアミド等を例示すことができる。
これらの塩基は、一般式（１３）で表される化合物に対して０．０１から５倍モル等量の範囲で適宜選択、または溶媒として使用すればよい。

反応剤としては、例えば、ヨウ化メチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、ヨウ化トリフルオロメチル、ヨウ化ｎ−プロピル、ヨウ化２，２，２−トリフルオロエチル等のハロゲン化アルキル類、ヨウ化アリル等のハロゲン化アリル類、臭化プロパルギル等のハロゲン化プロパルギル類、塩化アセチル等のハロゲン化アシル類、トリフルオロ酢酸無水物等の酸無水物、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のアルキル硫酸類を用いることができる。
これらの反応剤は、一般式（１３）で表される化合物に対して１から５倍モル等量の範囲で適宜選択、または溶媒として使用すればよい。
反応温度は、−８０℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は数分間から９６時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。

また、一般式（４）で表される化合物の製造方法は、一般式（５）におけるＲ^２が水素原子である下記一般式（１４）で表される化合物を、アルキル化して下記一般式（１０）で表される化合物を得る工程を更に含むことが好ましい。
前記一般式（５）で表される化合物として、下記一般式（１０）で表される化合物を用い、これを一般式（６）で表される化合物または一般式（７）で表される化合物と反応させることで、前記一般式（９）で表される化合物を製造することができる。

一般式（１０）及び一般式（１４）中、Ｒ^３及びＲ^２１は一般式（９）におけるＲ^３及びＲ^２１とそれぞれ同義である。
一般式（１４）で表される化合物から、一般式（１０）で表される化合物を製造する方法としては、以下の方法Ａ〜方法Ｃを挙げることができる。

（方法Ａ）
一般式（１４）で表されるアミノ基を有する化合物を溶媒中、アルデヒド類またはケトン類と反応させ、触媒を添加し、水素雰囲気下で反応させることにより、一般式（１０）で表されるアルキル化された化合物を製造することができる。

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の極性非プロトン性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水等を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは２種以上混合して使用することができる。

触媒としてはパラジウム／炭素、水酸化パラジウム／炭素等のパラジウム触媒類、ラネーニッケル等のニッケル触媒類、コバルト触媒類、プラチナ触媒類、ルテニウム触媒類、ロジウム触媒類などを示すことができる。

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、トリフルオロアセトアルデヒド、ジフルオロアセトアルデヒド、フルオロアセトアルデヒド、クロロアセトアルデヒド、ジクロロアセトアルデヒド、トリクロロアセトアルデヒド、ブロモアセトアルデヒド等のアルデヒド類を示すことができる。
またケトン類としては、例えば、アセトン、パーフルオロアセトン、メチルエチルケトン等のケトン類を示すことができる。

反応圧力は１気圧から１００気圧の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。反応温度は−２０℃から使用する溶媒の還流温度の範囲で適宜選択すればよい。また反応時間は、数分間から９６時間の範囲で適宜選択すればよい。

（方法Ｂ）
一般式（１４）で表される化合物を溶媒中で、アルデヒド類またはケトン類と反応させて、還元剤で処理することにより、一般式（１０）で表される化合物を製造することができる。

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の極性非プロトン性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水等を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは２種以上混合して使用することができる。

還元剤としては、例えば、ソディウムボロハイドライド、ソディウムシアノボロハイドライド、ソディウムトリアセテートボロハイドライド等のボロハイドライド類等を示すことができる。

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、トリフルオロアセトアルデヒド、ジフルオロアセトアルデヒド、フルオロアセトアルデヒド、クロロアセトアルデヒド、ジクロロアセトアルデヒド、トリクロロアセトアルデヒド、ブロモアセトアルデヒド等のアルデヒド類を示すことができる。
ケトン類としては、例えば、アセトン、パーフルオロアセトン、メチルエチルケトン等のケトン類を示すことができる。

反応温度は−２０℃から使用する溶媒の還流温度の範囲で適宜選択すればよい。また反応時間は、数分間から９６時間の範囲で適宜選択すればよい。

（方法Ｃ）
一般式（１４）で表される化合物を溶媒中、または無溶媒でアルデヒド類と反応させることにより、一般式（１０）で表される化合物を製造することができる。

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、硫酸、塩酸等の無機酸類、蟻酸、酢酸等の有機酸類、水等を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは２種以上混合して使用することができる。アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等を示すことができる。

反応温度は−２０℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分間から９６時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。

さらに一般式（４）で表される化合物の製造方法は、下記一般式（８）で表される化合物のうち、Ｒ^３がＣ_１-Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３-Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２-Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２-Ｃ_６アルキニル基である化合物を、一般的な手法を利用した加水分解や、Ｐｄ触媒等を用いた方法により、下記一般式（１１）で表される化合物に変換する工程をさらに含むことが好ましい。

一般式（１１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２は、前記一般式（８）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２とそれぞれ同義である。
一般式（８）で表される化合物のうち、Ｒ^３がＣ_１-Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３-Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２-Ｃ_６アルケニル基、または、Ｃ_２-Ｃ_６アルキニル基である化合物を、一般的な手法を利用した加水分解や、Ｐｄ触媒を用いた方法により、一般式（１１）で表される化合物を得ることができる。例えば、加水分解による方法としては、メタノール、エタノールまたはテトラヒドロフラン、ジオキサンの単独または混合溶媒中、等量から５倍モルの水性またはアルコール性の水酸化リチウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを使用し塩基加水分解することにより得ることができる。またトルエン、キシレンなどの非水溶性溶媒中でも、水性の水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムなどの塩基と、テトラブチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライドまたはクラウンエーテルなどの相間移動触媒との組み合わせによって加水分解を行うこともできる。また、塩酸や硫酸等の無機酸類、酢酸やトリフルオロ酢酸等の有機酸、強酸性樹脂を使用した酸加水分解を行うこともできる。
反応温度は、−２０℃から使用する溶媒の還流温度の範囲で適宜選択すればよい。また反応時間は、数分から９６時間の範囲で適宜選択すればよい。
また、Ｐｄを用いる方法としては、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ ４３７１ページ（１９８７年）に記載されている方法を用いることができる。

さらに一般式（４）で表される化合物の製造方法は、下記一般式（１１）で表される化合物を下記一般式（１２）で表される化合物に変換する工程をさらに含むことが好ましい。

一般式（１２）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２は、前記一般式（１１）におけるＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、およびＲ^２とそれぞれ同義である。またＨａｌは、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を表す。
一般式（１２）で表される化合物は、一般式（１１）で表される化合物を等モル以上のハロゲン化剤で処理することにより製造することができる。
ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、シュウ酸ジクロリド、オキシ塩化リン、オキザリルクロリド、三塩化リン、五塩化リン等を示すことができる。
この反応は溶媒を用いてもよく、不活性な溶媒であればいずれのものでもよい。例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン等の鎖状または環状エーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒等から１種又は２種以上を適宜選択することができる。
反応は、通常−２０〜１４０℃で行なうことができ、その反応時間は、通常０．１〜９６時間から適宜選択される。

さらに前記一般式（１４）で表される化合物は、例えば、下記一般式（１５）で表される化合物から、以下のようにして製造することができる。

一般式（１５）及び一般式（１６）中、Ｒ^３は、一般式（１４）におけるＲ^３と同義である。
一般式（１５）で表される化合物と、金属フッ化物、例えば、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化ルビジウム等よりなる群から選ばれる少なくとも１種または混合物とを、適当な溶媒中で反応させることにより一般式（１６）で表される化合物を製造することができる。
金属フッ化物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウムが好ましい。金属フッ化物の形状、製法に特に制限はないが、スプレードライ品か、使用する前に加熱処理することが好ましく、使用前に加熱処理することが特に好ましい。加熱の温度は５０℃〜２５０℃が好ましく、８０℃〜２００℃が特に好ましい。

反応する際に使用する溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、フッ化金属を溶解させる作用の高い極性有機溶媒を用いると、特に反応速度が高まり好ましい。具体的には、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ニトロメタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒を挙げられ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホランが好ましい。
金属フッ化物の量は、一般式（１５）で表される化合物に対して、通常１モル以上用いるが、十分な収率で目的物を得るためには、１〜１０モルが好ましく、１〜５モルが特に好ましい。

添加剤を用いても良く、添加剤としては、例えば、１８−クラウン−６等のクラウンエーテル類、テトラフェニルホスホニウム塩等の相間移動触媒類、フッ化カルシウム、塩化カルシウム等の無機塩類、酸化水銀等の金属酸化物類、イオン交換樹脂等を示すことができ、これらの添加剤は反応系中に添加するだけでなく、フッ素化剤の前処理剤としても使用することができる。

一般式（１６）で表される化合物は、還元反応により、一般式（１４）で表される化合物に導くことができる。
還元反応としては、水素添加反応を用いる方法と金属化合物（例えば、塩化第一スズ（無水物）、鉄粉、亜鉛粉等）を用いる方法を例示できる。前者は溶媒中、触媒存在下、常圧下もしくは加圧下にて、水素雰囲気下で反応を行うことができる。触媒としては、パラジウム／炭素等のパラジウム触媒、ラネーニッケル等のニッケル触媒、コバルト触媒、ルテニウム触媒、ロジウム触媒、白金触媒等が例示できる。例えば、パラジウム／炭素を、一般式（１６）で表される化合物に対して金属重量１／１０〜１／１０，０００倍を使用し、水素圧０．１〜１０ＭＰａ、反応温度は通常０〜１００℃で、数分〜９６時間撹拌しながら行うことができる。溶媒として水やメタノール、エタノール等のアルコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒を挙げることができ、これらを単独または混合して用いられる。

これにより、一般式（１４）で表される化合物を効率よく製造できる。一般式（１６）で表される化合物を還元する反応については、その条件に限定されることはないが、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＩＩ ４５３ページに記載の条件を使用することにより、金属化合物として塩化第一スズ（無水物）を使用する方法を例示することができる。

上述したように、本発明の一般式（８）で表される化合物は、一般式（３）で表されるアミド誘導体の製造方法において、製造中間体として極めて有用である。
以下の第１表には、一般式（８）で表される化合物の代表的な例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定されるものでない。なお、表中。「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「ｎ−Ｐｒ」はノルマルプロピル基を、「ｎ−Ｂｕ」はノルマルブチル基を、「ｎ−Ｐｎ」はノルマルペンチル基を、「ｎ−ｈｅｘ」はノルマルヘキシル基を、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロピル基を、「Ｈ」は水素原子を、「Ｆ」はフッ素原子を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「ＣＮ」はニトリル基を、「Ｃｙｃｌｏ−Ｐｒ」はシクロプロピル基を、「Ｃｙｃｌｏ−ｈｅｘ」はシクロヘキシル基を、「ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２」はアリル基を、「ＣＨ_２Ｃ≡ＣＨ」はプロパルギル基を、「ＣＨ_２ＯＣＨ_３」はメトキシメチル基を、「ＣＨ_２Ｐｈ」はベンジル基を、「ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｐｈ」はベンジルオキシメチル基を、「Ｃ（ＣＨ_３）_３」はｔ−ブチル基を、「ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃｌ」は２−クロロエチル基を、「ＮＯ_２」はニトロ基を、それぞれ表すものである。

また、以下の第２表には、本発明のアミド化合物の製造方法で製造中間体として有用な一般式（１２）で表される化合物の代表的な例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでない。なお、表中、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「ｎ−Ｐｒ」はノルマルプロピル基を、「ｎ−Ｂｕ」はノルマルブチル基を、「ｎ−Ｐｎ」はノルマルペンチル基を、「ｎ−ｈｅｘ」はノルマルヘキシル基を、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロピル基を、「Ｈ」は水素原子を、「Ｆ」はフッ素原子を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｂｒ」は臭素原子を、「ＣＮ」はニトリル基を、「ＮＯ_２」はニトロ基を、「Ｃｙｃｌｏ−Ｐｒ」はシクロプロピル基をそれぞれ表すものである。

さらに、以下の第３表には、本発明のアミド化合物の製造方法で得られる一般式（３）で表されるアミド誘導体の代表的な例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでない。なお、表中、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「ｓ−」はセカンダリーを、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「ｎ−Ｐｒ」はノルマルプロピル基を、「ＣＦ_３」はトリフルオロメチル基を、「Ｈ」は水素原子を、「Ｆ」はフッ素原子を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｂｒ」は臭素原子を、「Ｉ」はヨウ素原子を、「ＣＮ」はニトリル基を、「ＮＯ_２」はニトロ基を、「ＯＣＦ_３」はトリフルオロメトキシ基を、「ＣＨ」はメチン基を、「Ｎ」は窒素原子を、それぞれ表すものである。

本発明の化合物を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分として含有する有害生物防除剤は、農園芸作物及び樹木等を加害する各種農業害虫、家屋等の人間の生活環境で悪影響を与える衛生害虫、ペット用動物薬、倉庫に貯蔵された穀物等を加害する貯穀害虫、建築物等の木材を加害する木材食害虫等としての昆虫類、及び同様の場面で発生、加害するダニ類、甲殻類、軟体動物、線虫類の何れの有害生物も低濃度で有効に防除できる。

本発明の化合物を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を用いて防除し得る昆虫類、ダニ類、甲殻類、軟体動物及び線虫類には具体的に、以下のものが挙げられる。例えばチャノコカクモンハマキ(Adoxophyes honmai)、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana faciata)、リンゴモンハマキ(Archips breviplicanus)、リンゴコシンクイガ（Grapholita inopinata）、ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、チャハマキ(Choristoneura magnanima)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、クワヒメハマキ（Olethreutes mori）、リンゴハマキホソガ(Caloptilia zachrysa)、リンゴヒメシンクイ(Argyresthia conjugella)、ナシホソガ(Spulerrina astaurota)、マメヒメサヤムシガ(Matsumuraeses phaseoli)、トビハマキ(Pandemis heparana)、ナシチビガ(Bucculatrix pyrivorella)、モモハモグリガ(Lyonetia clerkella)、モモシンクイガ(Carposina niponensis)、ギンモンハモグリガ(Lyonetia prunifoliella malinella)、チャノホソガ(Caloptilia theivora)、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoniella)、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)、ネギコガ(Acrolepiopsis sapporensis)、ヤマノイモコガ(Acrolepiopsis suzukiella)、コナガ(Plutella xylostella)、カキノヘタムシガ(Stathmopoda masinissa)、イモキバガ(Helcystogramma triannulella)、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)、モモシンクイガ(Carposina sasakii)、ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、チャマダラメイガ(Ephestia elutella)、モモノゴマダラノメイガ(Conogethes punctiferalis)、ワタヘリクロノメイガ(Diaphania indica)、シロイチモジマダラメイガ(Etiella zinckenella)、クワノメイガ(Glyphodes pyloalis)、イッテンオオメイガ(Scirpophaga incertulas)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、アズキノメイガ(Ostrinia scapulalis)、シバツトガ(Parapediasia teterrella)、イチモンジセセリ(Parnara guttata)、オオモンシロチョウ(Pieris brassicae)、モンシロチョウ(Pieris rapae crucivora)、アゲハチョウ(Papilio xuthus)、ヨモギエダシャク(Ascotis selenaria)、ソイビーンルーパー(Pseudoplusia includens)、チャドクガ(Euproctis pseudoconspersa)、マイマイガ(Lymantria dispar)、ヒメシロモンドクガ(Orgyia thyellina)、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)、クワゴマダラヒトリ(Lemyra imparilis)、アケビコノハ(Adris tyrannus)、ナカジロシタバ(Aedia leucomelas)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、カブラヤガ(Agrotis segetum)、タマナギンウワバ(Autographa nigrisigna)、ミツモンキンウワバ(Ctenoplusia agnata)、コドリンガ(Cydla pomonella)、オオタバコガ(Helicoverpa armigera)、タバコガ(Helicoverpa assulta)、コットンボールワーム(Helicoverpa zea)、タバコバッドワーム(Heliothis virescens)、ヨーロピアンコーンボーラー(Ostrinia nubilalis)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、アワヨトウ(Mythimna separata)、イネヨトウ（Sesamia inferens）、フタオビコヤガ(Naranga aenescens)、サザンアーミーワーム(Spodoptera eridania)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、フォールアーミーワーム(Spodoptera frugiperda)、コットンリーフワーム(Spodoptera littoralis)、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、スジキリヨトウ(Spodoptera depravata)、イラクサギンウワバ(Trichoplusia ni)、グレープベリーモス(Endopiza viteana)、トマトホーンワーム(Manduca quinquemaculata)、タバコホーンワーム(Manduca sexta)等の鱗翅目昆虫、

フタテンヒメヨコバイ(Arboridia apicalis)、ミドリナガヨコバイ(Balclutha saltuella)、フタテンオオヨコバイ(Epiacanthus stramineus)、ポテトリーフホッパー(Empoasca fabae)、カキノヒメヨコバイ(Empoasca nipponica)、チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)、マメノミドリヒメヨコバイ(Empoasca sakaii)、ヒメフタテンヨコバイ(Macrosteles striifrons)、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cinctinceps)、コットンフリーホッパー(Psuedatomoscelis seriatus)、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatella)、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、ミカンキジラミ(Diaphorina citri)、ナシキジラミ(Psylla pyrisuga)、ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)、シルバーリーフコナジラミ(Bemisia argentifolii)、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri)、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、ブドウコナジラミ(Aleurolobus taonabae)、ブドウネアブラムシ(Viteus vitifolii)、ニセダイコンアブラムシ(Lipaphis erysimi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、コミカンアブラムシ(Toxoptera aurantii)、オオワラジカイガラムシ(Drosicha corpulenta)、イセリアカイガラムシ(Icerya purchasi)、ナスコナカイガラムシ(Phenacoccus solani)、ミカンワタカイガラムシ(Pulvinaria aurantii)、ミカンコナカイガラムシ(Planococcus citri)、ミカンマルカイガラムシ(Pseudaonidia duplex)、フジコナカイガラムシ(Planococcus kuraunhiae)、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus comstocki)、ナシマルカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、ツノロウムシ(Ceroplastes ceriferus)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii)、ティースケール(Fiorinia theae)、チャノマルカイガラムシ(Pseudaonidia paeoniae)、クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)、ウメシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis prunicola)、マサキナガカイガラムシ(Unaspis euonymi)、ヤノネカイガラムシ(Unaspis yanonensis)、トコジラミ(Cimex lectularius)、ブチヒゲカメムシ(Dolycoris baccarum)、ナガメ(Eurydema rugosum)、トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris aeneus)、オオトゲシラホシカメムシ(Eysarcoris lewisi)、シラホシカメムシ(Eysarcoris ventralis)、ツヤアオカメムシ(Glaucias subpunctatus)、クサギカメムシ(Halyomorpha halys)、アオクサカメムシ(Nezara antennata)、ミナミアオカメムシ(Nezara viridula)、イチモンジカメムシ(Piezodorus hybneri)、チャバネアオカメムシ(Plautia crossota)、イネクロカメムシ(Scotinophora lurida)、ホソハリカメムシ(Cletus punctiger)、クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis)、ホソヘリカメムシ(Riptortus clavatus)、アカヒメヘリカメムシ(Rhopalus msculatus)、カンシャコバネナガカメムシ(Cavelerius saccharivorus)、コバネヒョウタンナガカメムシ(Togo hemipterus)、アカホシカメムシ(Dysdercus cingulatus)、ツツジグンバイ(Stephanitis pyrioides)、クロトビカスミカメ(Halticus insularis)、ターニッシュドプラントバグ(Lygus lineolaris)、ナガムギカスミカメ(Stenodema sibiricum)、アカスジカスミカメ(Stenotus rubrovittatus)、イネホソミドリカスミカメ(Trigonotylus caelestialium)等の半翅目昆虫、

ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、コアオハナムグリ(Gametis jucunda)、ナガチャコガネ(Heptophylla picea)、マメコガネ(Popillia japonica)、コロラドポテトビートル(Lepinotarsa decemlineata)、メキシカンビートビートル(Epilachna varivestis)、マルクビクシコメツキ(Melanotus fortnumi)、カンシャクシコメツキ(Melanotus tamsuyensis)、タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)、ヒラタキクイムシ(Lyctusbrunneus)、マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)、ナガシンクイムシ(Rhizopertha dominica)、ヒメヒラタケシキスイ(Epuraea domina)、インゲンテントウ(Epilachna varivestis)、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)、チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor)、コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)、ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)、マツノマダラカミキリ(Monochamus alternatus)、キボシカミキリ(Psacothea hilaris)、ブドウトラカミキリ(Xylotrechus pyrrhoderus)、アズキゾウムシ(Callosobruchus chinensis)、ウリハムシ(Aulacophora femoralis)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、テンサイトビハムシ(Chaetocnema concinna)、サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata)、ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera)、ノーザンコーンルートワーム(Diabrotica barberi)、キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)、ナスナガスネトビハムシ(Psylliodes angusticollis)、モモチョッキリゾウムシ(Rhynchites heros)、アリモドキゾウムシ(Cylas formicarius)、ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)、イネゾウムシ(Echinocnemus squameus)、イモゾウムシ(Euscepes postfasciatus)、アルファルファタコゾウムシ(Hypera postica)、イネミズゾウムシ(Lissohoptrus oryzophilus)、キンケクチブトゾウムシ(Otiorhynchus sulcatus)、グラナリーウィービル(Sitophilus granarius)、コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)、シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus vestitus)、アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等の鞘翅目昆虫、
ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)、キイロハナアザミウマ(Thrips flavus)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、クロトンアザミウマ(Heliothrips haemorrhoidalis)、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci)、カキクダアザミウマ(Ponticulothrips diospyrosi)、等の総翅目昆虫、

ダイズサヤタマバエ(Asphondylia yushimai)、ムギアカタマバエ(Sitodiplosis mosellana)、ウリミバエ(Bactrocera cucurbitae)、ミカンコミバエ(Bactrocera dorsalis)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)、イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola)、オウトウショウジョウバエ(Drosophila suzukii)、イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)、ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)、ナスハモグリバエ(Liriomyza bryoniae)、ネギハモグリバエ(Liriomyza chinensis)、トマトハモグリバエ(Liriomyza sativae)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、タネバエ(Delia platura)、タマネギバエ(Delia antique)、テンサイモグリハナバエ(Pegomya cunicularia)、アップルマゴット(Rhagoletis pomonella)、ヘシアンフライ(Mayetiola destructor)、イエバエ(Musca domestica)、サシバエ(Stomoxys calcitrans)、ヒツジシラミバエ(Melophagus ovinus)、ウシバエ(Hypoderma bovis)、キスジウシバエ(Hypoderma lineatum)、ヒツジバエ(Oestrus ovis)、ツェツェバエ(Glossina palpalis, Glossina morsitans)、キアシオオブユ(Prosimulium yezoensis)、ウシアブ(Tabanus trigonus)、オオチョウバエ(Telmatoscopus albipunctatus)、トクナガヌカカ(Leptoconops nipponensis)、アカイエカ(Culex pipiens pallens)、ネッタイシマカ(Aedes aegypti)、ヒトスジシマカ(Aedes albopicutus)、シナハマダラカ(Anopheles hyracanus sinesis)等の双翅目昆虫、
クリハバチ(Apethymus kuri)、カブラハバチ(Athalia rosae)、チュウレンジハバチ(Arge pagana)、マツノキハバチ(Neodiprion sertifer)、クリタマバチ(Dryocosmus kuriphilus)、グンタイアリ(Eciton burchelli, Eciton schmitti)、クロオオアリ(Camponotus japonicus)、オオスズメバチ(Vespa mandarina)、ブルドックアント(Myrmecia spp.)、ファイヤーアント類(Solenopsis spp.)、ファラオアント(Monomorium pharaonis)等の膜翅目昆虫、
エンマコオロギ(Teleogryllus emma)、ケラ(Gryllotalpa orientalis)、トノサマバッタ(Locusta migratoria)、コバネイナゴ(Oxya yezoensis)、サバクワタリバッタ(Schistocerca gregaria)等の直翅目昆虫、
トゲナシシロトビムシ(Onychiurus folsomi)、シベリアシロトビムシ(Onychiurus sibiricus)、キボシマルトビムシ(Bourletiella hortensis)等の粘管目昆虫、
クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)、ヤマトゴキブリ(Periplaneta japonica)、チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、ワモンゴキブリ(Periplaneta Americana)、等の網翅目昆虫、

イエシロアリ(Coptotermes formosanus)、ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus)等のシロアリ目昆虫、
ネコノミ(Ctenocephalidae felis)、イヌノミ（Ctenocephalides canis)、ニワトリノミ（Echidnophaga gallinacea)、ヒトノミ(Pulex irritans)、ケオプスネズミノミ(Xenopsylla cheopis)等の等翅目昆虫、
ニワトリオオハジラミ(Menacanthus stramineus)、ウシハジラミ(Bovicola bovis)等のハジラミ目昆虫、
ウシジラミ(Haematopinus eurysternus)、ブタジラミ(Haematopinus suis)、ウシホソジラミ(Linognathus vituli)、ケブカウシジラミ(Solenopotes capillatus)等のシラミ目昆虫、
シクラメンホコリダニ(Phytonemus pallidus)、チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)、スジブトホコリダニ(Tarsonemus bilobatus)等のホコリダニ類、
ハクサイダニ(Penthaleus erythrocephalus)、ムギダニ(Penthaleus major)等のハシリダニ類、
イネハダニ(Oligonychus shinkajii)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、クワオオハダニ(Panonychus mori)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ナミハダニ(Tetranychus urticae)等のハダニ類、
チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans)、チューリップサビダニ(Aceria tulipae)、トマトサビダニ(Aculops lycopersici)、ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)、リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)、ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis)、シトラスラストマイト(Phyllocoptruta oleivora)等のフシダニ類、
ロビンネダニ(Rhizoglyphus robini)、ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)、ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類、
ミツバチヘギイタダニ(Varroa jacobsoni)等のハチダニ類、
オウシマダニ(Boophilus microplus)、クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)、キチマダニ(Haemophysalis flava)、ツリガネチマダニ(Haemophysalis campanulata)、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツェマダニ(Ixodes persulcatus)、オオマダニ(Amblyomma spp.)、アミメマダニ(Dermacentor spp.)等のマダニ類、
イヌツメダニ(Cheyletiella yasguri)、ネコツメダニ(Cheyletiella blakei)等のツメダニ類、イヌニキビダニ(Demodex canis)、ネコニキビダニ(Demodex cati)などのニキビダニ類、
ヒツジキュウセンダニ(Psoroptes ovis)等のキュウセンダニ類、
センコウヒゼンダニ(Sarcoptes scabiei)、ネコショウセンコウヒゼンダニ(Notoedres cati)、ニワトリヒゼンダニ(Knemidocoptes spp.)等のヒゼンダニ類、
オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等の甲殻類、
スクミリンゴガイ(Pomacea canaliculata)、アフリカマイマイ(Achatina fulica)、ナメクジ(Meghimatium bilineatum)、チャコウラナメクジ(Limax Valentiana)、ウスカワマイマイ(Acusta despecta sieboldiana)、ミスジマイマイ(Euhadra peliomphala)等の腹足類、
ミナミネグサレセンチュウ(Prathylenchus coffeae)、キタネグサレセンチュウ(Prathylenchus penetrans)、クルミネグサレセンチュウ(Prathylenchus vulnus)、ジャガイモシストセンチュウ(Globodera rostochiensis)、ダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines)、キタネコブセンチュウ(Meloidogyne hapla)、サツマイモネコブセンチュウ(Meloidogyne incognita)、イネシンガレセンチュウ(Aphelenchoides besseyi)、マツノザイセンチュウ(Bursaphelenchus xylophilus)等の線虫類、
等が挙げられるが、本発明における一般式（３）で表されるアミド誘導体を用いて防除しうる昆虫類、ダニ類、甲殻類、軟体動物及び線虫類はこれらのみに限定されるものではない。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤は、水田作物、畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉等に被害を与える前記有害作物に対して顕著な防除効果を有するものであるので、有害生物の発生が予測される時期に合わせて、有害生物の発生前または発生が確認された時点で、水田、畑、果樹、野菜、その他の作物、花卉等の水田水、茎葉または土壌に処理することにより本発明の有害生物防除剤としての効果が得られるものである。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤は、収穫物の保存中に発生する貯穀害虫等に対して顕著な防除効果を有するものである。すなわち、本発明のアミド誘導体の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤を収穫物、あるいは収穫物の保存場所に、吹き付け、塗沫、塗布、浸漬、粉衣、薫蒸・薫煙または加圧注入等の収穫後（ｐｏｓｔ ｈａｒｖｅｓｔ）処理を行えばよい。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤は、植物種子に適用することにより、播種後の植物に発生する害虫による被害を予防することが出来る。すなわち、本発明の化合物を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤をそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で害虫防除に有効な量を、植物種子に対し吹き付け、塗沫、浸漬または粉衣などの処理をすることにより、本発明の製造方法を用いて製造したアミド誘導体を植物種子に接触させればよい。植物種子とは、幼植物が発芽するための栄養分を蓄え農業上繁殖に用いられるものをいう。例えば、トウモロコシ、大豆、小豆、綿、稲、サトウダイコン、小麦、大麦、ヒマワリ、トマト、キュウリ、ナス、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマンおよびセイヨウアブラナなどの種子やサトイモ、バレイショ、カンショ、コンニャクなどの種芋、食用ゆり、チューリップなどの球根やラッキョウなどの種球等が挙げられる。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤は、双翅目害虫（アカイエカ、チカイエカ、ユスリカ、イエバエ、チョウバエ、ウシアブ等）、網翅目害虫（チャバネゴキブリ、クロゴキブリ、ワモンゴキブリ等）等の衛生害虫に対して顕著な防除効果を有するものである。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を有効成分とする有害生物防除剤は、シロアリ、ヒラタキクイムシ、ナガシンクイムシ、シバンムシ、カミキリムシ等の木材食害虫に対して顕著な防除効果を有するものであり、土壌あるいは建築物等の木材に処理することにより、前記木材食害虫を防除することができる。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体は種々の有害生物に対して防除効果を示し、有用作物を保護する効果と共に、低薬量で殺虫剤又は殺ダニ剤として優れた防除効果を示すため、環境への負荷低減に大きく貢献する効果がある。
さらに、本発明のアミド誘導体の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体は、他の農園芸用殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、生物農薬等と混合使用することによっても優れた防除効果を奏するものである。

本発明の製造方法を用いて製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体を使用するにあたっては、通常適当な固体担体又は液体担体と混合し、更に所望により界面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤、崩壊剤、消泡剤、防腐剤および分解防止剤等を添加して、液剤（soluble concentrate）、乳剤（emulsifiable concentrate）、水和剤（wettable powder）、水溶剤（water soluble powder）、顆粒水和剤（water dispersible granule）、顆粒水溶剤（water soluble granule）、懸濁剤（suspension concentrate）、乳濁剤（concentrated emulsion）、サスポエマルジョン（suspoemulsion）、マイクロエマルジョン（microemulsion）、粉剤（dustable powder）、粒剤（granule）錠剤（tablet）および乳化性ゲル剤（emulsifiable gel）等任意の剤型の製剤にて実用に供することができる。また、省力化および安全性向上の観点から、上記任意の剤型の製剤を、水溶性カプセルおよび水溶性フィルムの袋等の水溶性包装体に封入して供することもできる。
使用できる不活性担体としては固体または液体のいずれであっても良く、固体の不活性担体になりうる材料としては、例えば、ダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂などの合成重合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土など）、タルク類（例えばタルク、ピロフィライドなど）、シリカ類（例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。〕）、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、リン酸カルシウムなどの無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安などの化学肥料、堆肥などを挙げることができ、これらは単独でもしくは二種以上の混合物の形で使用される。

液体の不活性担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとなるものから選択され、例えば代表例として次に上げる担体を例示できるが、これらは単独でもしくは２種以上の混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えばジエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）を挙げることができる。これら固体および液体担体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル（モノまたはジ）フェニルエーテル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸（モノまたはジ）エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ヒマシ油エチレンオキサイド付加物、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、アセチレンアルコールのエチレンオキサイド付加物およびアルキルグリコシド等のノニオン性界面活性剤、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸または燐酸エステル塩、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキルフェニルエーテル硫酸または燐酸エステル塩、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル硫酸または燐酸エステル塩、ポリカルボン酸塩（例えば、ポリアクリル酸塩、ポリマレイン酸塩およびマレイン酸とオレフィンとの共重合物等）およびポリスチレンスルホン酸塩等のアニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩およびアルキル４級アンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤、アミノ酸型およびベタイン型等の両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤ならびにフッ素系界面活性剤が挙げられる。
これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤１００重量部に対し、通常０．０５〜２０重量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

各種害虫を防除するために一般式（３）で表されるアミド誘導体をそのまま、または水などで適宜希釈し、もしくは懸濁させた形で病害防除に有効な量を当該害虫の発生が予測される作物もしくは発生が好ましくない場所に適用して使用すればよい。その使用量は種々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の生育状況、害虫の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期などにより変動するが、一般に有効成分０．０００１〜５０００ｐｐｍ、好ましくは０．０１〜１０００ｐｐｍの濃度で使用するのが好ましい。また、１０ａあたりの施用量は、一般に有効成分で１〜３００ｇである。

本発明の製造方法を利用して製造した一般式（３）で表されるアミド誘導体の有効成分量は、通常粉剤では０．１〜２０重量％、乳剤では５〜５０重量％、水和剤では３〜９０重量％、粒剤では０．１〜２０重量％およびフロアブル製剤では５〜９０重量％、顆粒水和剤では３〜９０重量％である。一方それぞれの剤型における担体の量は、通常粉剤では６０〜９９．９重量％、乳剤では４０〜９５重量％、水和剤では１０〜９０重量％、粒剤では８０〜９９．９重量％、およびフロアブル製剤では１０〜９５重量％、顆粒水和剤では１０〜９０重量％である。また、補助剤の量は、通常粉剤では０．１〜２０重量％、乳剤では１〜２０重量％、水和剤では０．１〜２０重量％、粒剤では０．１〜２０重量％およびフロアブル製剤では０．１〜２０重量％、顆粒水和剤では０．１〜２０重量％である。
また、本発明化合物を農薬として使用する場合には、必要に応じて製剤時又は散布時に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤等と混合施用してもよい。

日本出願特願２００８−２０８７１４号の開示はその全体を本明細書に援用する。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

次の実施例により本発明の代表的な実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、テトラメチルシランから低磁場にｐｐｍで報告され、「ｓ」は一重項を意味し、「ｄ」は二重項を意味し、「ｔ」は三重項を意味し、「ｍ」は多重項を意味し、「ｄｄ」は二重項の二重項を意味し、そして「ｂｒｓ」は広い一重項を意味する。

＜実施例１＞
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−２）
（工程１）
２−クロロ−３−ニトロ安息香酸メチルの製造

２−クロロ−３−ニトロ安息香酸（５４３．６g、２．７ｍｏｌ）をメタノール（３４２５．０ｍｌ）に懸濁し、濃硫酸（１０８．５ｍｌ）を装入し、６時間加熱還流した。室温に冷却した後、溶媒を減圧下に濃縮し、濃縮残渣を飽和重曹水の中に装入した。析出した固体を濾過し水洗した。得られた固体を酢酸エチルに溶かし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過し、濾液を減圧下に濃縮乾固し、n−ヘキサンで洗浄することにより、標記化合物５４２．６ｇ（収率９３％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．９８（３Ｈ，ｓ），７．４６−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．８３−７．８６（１Ｈ，ｍ），７．９４−７．９８（１Ｈ，ｍ）．
（工程２）
２−フルオロ−３−ニトロ安息香酸メチルの製造

窒素気流下で撹拌機付きフラスコにフッ化セシウム（４９９．０２ｇ、３．１９ｍｏｌ）を装入し、撹拌下で１１０℃にて１時間撹拌した。この中に２−クロロ−３−ニトロ安息香酸メチル（２２９．００ｇ、１．０６ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０００ｍｌ）を装入し、１４０℃で１時間撹拌した。室温に放冷後、反応液を濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣を水中に注ぎ、しばらく撹拌した後、析出した固体を濾取し、減圧下乾燥することにより、標記化合物１６０．０３ｇ（収率７６％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．９９（３Ｈ，ｓ），７．３６−７．４０（１Ｈ，ｍ），８．１４−８．２５（２Ｈ，ｍ）．
（工程３）
３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩の製造

２−フルオロ−３−ニトロ安息香酸メチルエステル（９．１０ｇ，０．０４６ｍｏｌ）、１０％塩酸／メタノール（２５ｍｌ）、メタノール（６０ｍｌ）、５％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）（２．７ｇ）を装入し、室温で水素添加を行なった。反応終了後、触媒を濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣をジイソプロピルエーテルで洗いだすことにより、標記化合物８．０１ｇ（収率８５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d₆，ｐｐｍ）δ３．８６（３Ｈ，ｓ），７．２１−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．２７（３Ｈ，ｂｒｓ），７．４２−７．５３（２Ｈ，ｍ）．
（工程４）
３−ベンズアミド−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１）

３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩（７．７７ｇ，０．０３７ｍｏｌ）を塩化メチレン（１００ｍｌ）に懸濁し、ピリジン（６．９４ｇ，０．０８５ｍｏｌ）を滴下した。この反応液中に冷却下、安息香酸クロリド（５．７８ｇ，０．０４１ｍｏｌ）を滴下し、室温で１晩撹拌した。反応終了後、反応液を１Ｎ塩酸水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した後、濾液を減圧下に濃縮し、濃縮残渣を酢酸エチルで再結晶することにより、標記化合物８．７９ｇ（収率８５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．９５（３Ｈ，ｓ），７．２４−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．５１−７．５８（３Ｈ，ｍ），７．６６−７．７０（１Ｈ，ｍ），７．８９−７．９１（２Ｈ，ｍ），８．２０−８．２２（１Ｈ，ｍ），８．７０−８．７３（１Ｈ，ｍ）．
（工程５）
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルの合成（化合物番号１−２）

３−ベンズアミド−２−フルオロ安息香酸メチル（８．７５ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２００ｍｌ）に溶かした。この中にジメチル硫酸（４．３ｇ，３４．１ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（２．６３ｇ，３９．８ｍｍｏｌ）を順次装入し、６０℃で３０分間撹拌した。室温に冷却した後、反応液を濃縮し、濃縮残渣に酢酸エチルを加え、水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過後、濾液を減圧下濃縮し、濃縮残渣にｎ−ヘキサンを加えることにより標記化合物８．００ｇ（収率８７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４３（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），７．０１−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．３３（６Ｈ，ｍ），７．７７−７．７９（１Ｈ，ｍ）

＜実施例２＞
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸クロリドの製造（化合物番号２−５）
（工程１）
２−フルオロ−３−（メチルアミノ）安息香酸メチルの合成

３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩（１８．６５ｇ、０．０９ｍｏｌ）を３７％ホルマリン溶液に溶かした。温度が４０℃を超えないように９８％硫酸（６８０．８１ｇ、６．８０ｍｏｌ）を滴下した。その後、放冷し室温で２時間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ、重曹で中和した。中和液を濾過し、酢酸エチルで洗浄後、濾液を分液し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／４）で精製することにより、表記化合物６．２７ｇ（収率：３８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ２．８９（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），６．８０−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．０３−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．１４−７．１６（２Ｈ，ｍ）．
（工程２）
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルの合成（化合物番号１−２）

２−フルオロ−３−（メチルアミノ）安息香酸（１．４２ｇ，４．９４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）に溶解し、塩化ベンゾイル（０．８３ｇ，５．９０ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．４７ｇ，５．９４ｍｍｏｌ）を加えて室温で１２時間反応させた。得られた反応溶液に酢酸エチルを加え、水、１Ｎ塩酸水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／８）で精製することにより、標記化合物１．４２ｇ（収率６４％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４３（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），７．０１−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．３２（６Ｈ，ｍ），７．７６−７．７９（１Ｈ，ｍ）
（工程３）
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸の合成（化合物番号１−３）

水酸化ナトリウム（０．２６ｇ、６．５０ｍｍｏｌ）をメタノール（３０ｍｌ）に溶かし、２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチル（１．４２ｇ，４．９４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３時間加熱した。室温に冷却した後、溶媒を減圧下に濃縮し、濃縮残渣を水に溶かし、塩化メチレンで洗浄した。水層を冷却しながら１Ｎ塩酸水溶液でｐＨ２〜３に調整し、撹拌を継続していると固体が析出した。得られた固体を濾過し、水洗して５０℃で乾燥することにより、標記化合物１．２５ｇ（収率９４％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４５（３Ｈ，ｓ），７．０５−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２１−７．３５（６Ｈ，ｍ），７．８５−７．９０（１Ｈ，ｍ），１０．２９（１Ｈ，ｂｒｓ）
（工程４）
２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸クロリドの製造（化合物番号２−５）

２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸（３．０ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）をトルエン（３５ｍｌ）に懸濁した。その中に塩化チオニル（４．９ｍｌ、６６ｍｍｏｌ）を加えて、１時間加熱還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下に濃縮することにより、標記化合物３．２１ｇ（定量的）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．１７（３Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２３−７．３５（６Ｈ，ｍ），７．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）．

＜実施例３＞
２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸クロリドの製造（化合物番号２−１５）
（工程１）
２−フルオロ−３−（４−フルオロベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−２０）

実施例１の（工程４）に従い、３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩とｐ−フルオロ安息香酸クロリドから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．９５（３Ｈ，ｓ）, ７．１７−７．２７（３Ｈ, ｍ）， ７．６６−７．７０（１Ｈ，ｍ）， ７．８９−７．９４（２Ｈ，ｍ）， ８．１１（１Ｈ，ｂｒｓ）, ８．６３−８．６８（１Ｈ，ｍ)
（工程２）
２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−２１）

実施例１の（工程５）に従い、２−フルオロ−３−（４−フルオロベンズアミド）安息香酸メチルとジメチル硫酸から標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４２（３Ｈ，ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），６．８６−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０９−７．１３（１Ｈ，ｍ），７．３２−７．３８（３Ｈ，ｍ），７．７８−７．８２（１Ｈ，ｍ）．
（工程３）
２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸の製造（化合物番号１−２２）

実施例２の（工程３）に従い、２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ)δ３．４５（３Ｈ，ｓ）, ６．８７−６．９１（２Ｈ, ｍ）, ７．１０-７．１８（１Ｈ，ｍ）, ７．３０−７．３７（３Ｈ, ｍ）, ７．８７−７．９２（１Ｈ，ｍ） カルボン酸のプロトン検出されず。

（工程４）
２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸クロリドの製造（化合物番号２−１５）

実施例２の（工程４）に従い、２−フルオロ−３−（４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸と塩化チオニルから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ)δ２．９５（３Ｈ，ｓ）, ６．９２（２Ｈ, ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ), ７．１９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）, ７．３３−７．３６（３Ｈ, ｍ）, ７．９７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）

＜実施例４＞
２−フルオロ−３−（３−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸の製造（化合物番号１−６５）
（工程１）
２−フルオロ−３−（３−フルオロベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−６３）

実施例１の（工程４）に従い、３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩と３−フルオロ安息香酸クロリドから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．９５（３Ｈ，ｓ），７．２４−７．３０（２Ｈ，ｓ），７．４８−７．５４（１Ｈ，ｍ），７．６１−７．７２（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｂｒｓ），８．６８−８．７０（１Ｈ，ｍ）
（工程２）
２−フルオロ−３−（３−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−６４）

実施例１の（工程５）に従い、２−フルオロ−３−（３−フルオロベンズアミド）安息香酸メチルとジメチル硫酸から標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４６（３Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），６．９５−７．２２（６Ｈ，ｍ），７．７９−７．８２（１Ｈ，ｍ）
（工程３）
２−フルオロ−３−（３−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸の製造（化合物番号１−６５）

実施例２の（工程３）に従い、２−フルオロ−３−（３−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸メチルから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４４（３Ｈ，ｓ），６．９８−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０７−７．１６（４Ｈ，ｍ），７．２９−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．８８−７．９１（１Ｈ，ｍ），カルボン酸のプロトン観測されず。

＜実施例５＞
３−（Ｎ−エチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１１）
（工程１）
３−（Ｎ−エチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１０）

３−ベンズアミド−２−フルオロ安息香酸メチル（３．１０ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶かし冷却した。６０％水素化ナトリウム（０．５３ｇ，１３．２ｍｍｏｌ）を装入し、そのままの温度で撹拌した。１０分後、ヨウ化エチル（２．０５ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）を装入し、室温で一晩撹拌した。反応液に水を滴下装入し、酢酸エチルで抽出を行い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した後、濾液を減圧下濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル／ｎ−へキサン＝１／５）で精製することにより、標記化合物２．０３ｇ（収率６１％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ｐｐｍ）δ１．１９−１．２８（３Ｈ，ｍ），３．８８−４．０４（５Ｈ，ｍ），７．０６−７．３０（７Ｈ，ｍ），７．８０−７．８３（１Ｈ，ｍ）．
（工程２）
３−（Ｎ−エチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１１）

実施例２の（工程３）に従って、３−（Ｎ−エチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルを加水分解することにより標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−d₆，ｐｐｍ）δ１．０８−１．１９（３Ｈ，ｍ），３．７４−３．８９（２Ｈ，ｍ），７．２４−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．６４−７．７３（２Ｈ，ｍ），１３．３６（１Ｈ，ｂｒｓ）

＜実施例６＞
２−フルオロ−３−（Ｎ−ｎ−プロピルベンズアミド）安息香酸の製造（化合物番号１−１３）
（工程１）
２−フルオロ−３−（Ｎ−ｎ−プロピルベンズアミド）安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１２）

実施例１の（工程５）に従って、３−ベンズアミド−２−フルオロ安息香酸メチルとヨウ化ｎ−プロピルから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ｐｐｍ）δ０．９２−１．０２（３Ｈ，ｍ）、１．５９−１．６３（２Ｈ，ｍ）、３．７２−３．７８（２Ｈ，ｍ）、３．０９（３Ｈ，ｓ）、７．０５−７．０６（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．７０−７．７１（１Ｈ，ｍ）
（工程２）
２−フルオロ−３−（Ｎ−ｎ−プロピルベンズアミド）安息香酸の製造（化合物番号１−１３）

実施例２の（工程３）に従って、３−（Ｎ−ｎ−プロピルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルを加水分解することにより標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３＋ＤＭＳＯ−d₆，ｐｐｍ）δ０．８８−０．９４（３Ｈ，ｍ），１．６０−１．６５（２Ｈ，ｍ），３．７２−３．７３（１Ｈ，ｍ），３．９１−３．９２（１Ｈ，ｍ），７．０４−７．０６（１Ｈ，ｍ）、７．２２−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．７９−７．８０（１Ｈ，ｍ）カルボン酸のプロトン検出されず

＜実施例７＞
３−（２−クロロ−４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１３９）
（工程１）
３−（２−クロロ−４−フルオロベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１３７）

実施例１の（工程４）に従って、３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩と２−クロロ−４−フルオロ安息香酸クロリドから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ｐｐｍ）δ３．９５（３Ｈ，ｓ），７．１１−７．１６（１Ｈ，ｍ），７．２２−７．２８（２Ｈ，ｍ），７．６８−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．８９−７．９２（１Ｈ，ｍ），８．４５（１Ｈ，ｂｒｓ），８．６９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）
（工程２）
３−（２−クロロ−４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１３８）

実施例１の（工程５）に従って、３−（２−クロロ−４−フルオロベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルとジメチル硫酸から標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ｐｐｍ）δ３．４４（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），６．８０−６．８４（１Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，７．３Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２１−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７６−７．８０（１Ｈ，ｍ）．
（工程３）
３−（２−クロロ−４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１３９）

実施例２の（工程３）に従って、３−（２−クロロ−４−フルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルを加水分解することにより、標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ｐｐｍ）δ３．４６（３Ｈ，ｓ），５．７０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．８２−６．８６（１Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２２−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．４７−７．４８（１Ｈ，ｍ）、７．８４−７．８８（１Ｈ，ｍ）．

＜実施例８＞
３−（４−シアノ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１０４）
（工程１）
３−（４−シアノベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１０２）

実施例１の（工程４）に従って、３−アミノ−２−フルオロ安息香酸メチル塩酸塩と４−シアノ安息香酸クロリドから標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６，ｐｐｍ）δ３．８８（３Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７５−７．７９（１Ｈ，ｍ），７．８７−７．９１（１Ｈ，ｍ），８．０３−８．１０（２Ｈ，ｍ），８．１３−８．１５（２Ｈ，ｍ），１０．５３（１Ｈ，ｓ）．
（工程２）
３−（４−シアノ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルの製造（化合物番号１−１０３）

実施例１の（工程５）に従って、３−（４−シアノベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルとジメチル硫酸から標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．４４（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），７．０８−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４１−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．４９−７．５１（２Ｈ，ｍ），７．８１−７．８４（１Ｈ，ｓ）．
（工程３）
３−（４−シアノ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸の製造（化合物番号１−１０４）

実施例２の（工程３）に従って３−（４−シアノ−Ｎ−メチルベンズアミド）−２−フルオロ安息香酸メチルを加水分解することにより標記化合物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６，ｐｐｍ）δ３．３３（３Ｈ，ｓ），７．２２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４５（２Ｈ，ｂｒｓ），７．６９−７．７４（４Ｈ，ｂｒｓ）．カルボン酸のプロトン検出されず。

＜実施例９＞
Ｎ−（２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）フェニル）−２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）ベンズアミドの製造（化合物番号３−１）

２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸（５．５g，０．０２ｍｏｌ）をトルエンに懸濁し、塩化チオニル（１１，９０g，０．１０ｍｏｌ）を滴下装入し、１００℃で１時間撹拌した。トルエンを減圧した濃縮し、濃縮残渣を１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（５．０ｇ）に溶かし、２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）アニリン（６．８０ｇ，０．０１７ｍｏｌ）を加え、１００℃で８時間撹拌した。室温に冷却後、酢酸エチルを加えて飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過後、濾液を減圧下濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／３）により精製することにより、一般式（３）で表されるアミド誘導体である標記化合物４．８７（収率４５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）δ３．５０（３Ｈ，ｓ），６．９９−７．３３（６Ｈ，ｍ），７．４３−７．４５（１Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ），７．９７−８．０６（２Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｓ）．

＜実施例１０＞
実施例９記載の方法に従って、２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸と２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）アニリンの反応を、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの代わりにトルエンを用いて行ったところ、収率１４％で実施例９の標記化合物を得た。

＜実施例１１＞
実施例９記載の方法に従って、２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸と２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）アニリンの反応を、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの代わりにジオキサンを用いて行ったところ、収率１６％で実施例９の標記化合物を得た。

＜実施例１２＞
実施例９記載の方法に従って、２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸と２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）アニリンの反応を、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンを用いずに無溶媒で行ったところ、収率３７％で実施例９の標記化合物を得た。

＜実施例１３〜１９＞
実施例９において、２−フルオロ−３−（Ｎ−メチルベンズアミド）安息香酸（一般式（２）で表される化合物）、および、２−ブロモ−４−（パーフルオロプロパン−２−イル）−６−（トリフルオロメチル）アニリン（一般式（１）で表される化合物）の代わりに、下記第４表に示した化合物をそれぞれ用いたこと以外は実施例９と同様にして、対応する一般式（３）で表されるアミド誘導体を得た。

次に、本発明の製造方法を利用して製造した化合物を有効成分として含有する製剤例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、製剤例中、部とあるのは重量部を示す。
＜製剤例１＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体２０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部、キシレン７０部、以上を均一に混合して乳剤を得た。
＜製剤例２＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体１０部、ラウリル硫酸ナトリウム２部、ジアルキルスルホサクシネート２部、β‐ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩１部、珪藻土８５部以上を均一に攪拌混合して水和剤を得た。
＜製剤例３＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体０．３部、ホワイトカーボン０．３部を均一に混合し、クレー９９．２部、ドリレスＡ（三共アグロ製）０．２部を加えて、均一に粉砕混合し、粉剤を得た。
＜製剤例４＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体３部、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン縮合物１．５部、カルボキシメチルセルロース３部、クレー６４．８部、タルク２７．７部、以上を均一に粉砕混合後、水を加えて混練し、造粒乾燥して粒剤を得た。
＜製剤例５＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体１０部、β‐ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩３部、トリスチリルフェノール１部、プロピレングリコール５部、シリコン系消泡剤０．５部、水３３．５部を十分攪拌混合した後、キサンタンガム０．３部、水４６．７部を混合したものと再び攪拌混合してフロアブル剤を得た。
＜製剤例６＞
一般式（３）で表されるアミド誘導体２０部、ナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物金属塩６部、ジアルキルスルホコハク酸金属塩１部、炭酸カルシウム７３部、以上を均一に粉砕混合後、水を加えて混練し、造粒乾燥して顆粒水和剤を得た。

上記で得られた製剤の使用に際しては、上記製剤を水で１〜１００００倍に希釈して、又は希釈せずに直接散布する。

次に、本発明の製造方法を利用して製造した化合物の有害生物防除剤としての有用性について、以下の試験例において具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
＜試験例１＞
ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｕｒａ）に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に調製した薬液にキャベツ葉片を３０秒間浸漬し風乾後、ろ紙を敷いた７ｃｍのポリエチレンカップに入れハスモンヨトウ２齢幼虫を放虫した。２５℃恒温室にて放置し、６日後に生死虫数を調査した。１区５頭２連制で行った。
上記試験の結果、本製造方法を利用して製造した実施例９、実施例１３〜１９で得られた一般式（３）で表されるアミド誘導体はいずれも、濃度１ｐｐｍで７０％以上の死虫率を示した。

＜試験例２＞
コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に調製した薬液にキャベツ葉片を３０秒間浸漬し風乾後、ろ紙を敷いた７ｃｍのポリエチレンカップに入れコナガ３齢幼虫を放虫した。２５℃恒温室にて放置し、６日後に生死虫数を調査した。１区５頭２連制で行った。
上記試験の結果、本製造方法を利用して製造した実施例９、実施例１３〜１９で得られた一般式（３）で表されるアミド誘導体はいずれも、濃度１ｐｐｍで７０％以上の死虫率を示した。

本発明のアミド誘導体の製造方法で得られる一般式（３）で表されるアミド誘導体は、有害生物防除作用に卓効を示す。すなわち本発明のアミド誘導体の製造方法は、産業上の有用性が高い。

Claims (2)

1. 下記一般式（８）
   
   （一般式（８）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物において、Ｒ^３が水素原子を表す場合には、前記一般式（８）で表される化合物をハロゲン化剤で処理することにより製造される下記一般式（１２）
   
   （一般式（１２）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｈａｌは塩素原子を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物、又はＲ^３がメチル基を表す場合には、前記一般式（８）で表される化合物より製造される下記一般式（１１）
   
   （一般式（１１）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物をさらにハロゲン化剤で処理することにより得られる前記一般式（１２）で表される化合物と、下記一般式（１）
   
   （一般式（１）中、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子またはＣ_１−Ｃ_３ハロアルキル基を表し、ＲfはＣ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表し、Ｒ^１は水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で表される化合物と、を反応させることにより下記一般式（４）
   
   （一般式（４）中、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表し、Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子またはＣ_１−Ｃ_３ハロアルキル基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。）で表される化合物を製造する製造方法に用いられる前記一般式（８）で表される化合物である、一般式（１）で表される化合物用のアシル化剤。
2. 下記一般式（１）
   
   （一般式（１）中、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子またはＣ_１−Ｃ_３ハロアルキル基を表し、ＲfはＣ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表し、Ｒ^１は水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で表される化合物と反応させることによって製造される下記一般式（４）
   
   （一般式（４）中、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表し、Ｒ^１は、水素原子またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^２は、水素原子
   、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｙ^１およびＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子またはＣ_１−Ｃ_３ハロアルキル基を表し、Ｒｆは、Ｃ_３−Ｃ_４パーフルオロアルキル基を表す。）で表される化合物の製造中間体として用いられる下記一般式（１２）
   
   （一般式（１２）中、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、またはｎ−プロピル基を表し、Ｈａｌは塩素原子を表し、Ｘ^１は水素原子または塩素原子を表し、Ｘ^２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｘ^３ は水素原子、フッ素原子、またはニトリル基を表し、Ｘ^４およびＸ^５は水素原子を表す。）で表される化合物である、一般式（１）で表される化合物用のアシル化剤。