JP5721307B2 - 複層皮膜形成方法及び塗装物品 - Google Patents
複層皮膜形成方法及び塗装物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5721307B2 JP5721307B2 JP2008265309A JP2008265309A JP5721307B2 JP 5721307 B2 JP5721307 B2 JP 5721307B2 JP 2008265309 A JP2008265309 A JP 2008265309A JP 2008265309 A JP2008265309 A JP 2008265309A JP 5721307 B2 JP5721307 B2 JP 5721307B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- forming agent
- epoxy resin
- resin
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 127
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 157
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 155
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 150
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 133
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 114
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 112
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 106
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 102
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 100
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 100
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 98
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 97
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 81
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 81
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 80
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 71
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 64
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 64
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 58
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 38
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 31
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 29
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 24
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 24
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 17
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 17
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 13
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 7
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 6
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 4
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 4
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 3
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 claims description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 96
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 66
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 46
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 27
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 21
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 18
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 17
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 17
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 14
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 14
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 13
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 13
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 11
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 11
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 10
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 10
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 6
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N dioctyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCC LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- GOZLPQZIQDBYMO-UHFFFAOYSA-N azanium;zirconium;fluoride Chemical compound [NH4+].[F-].[Zr] GOZLPQZIQDBYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 3
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 3
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNVGBIALRHLALK-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexanediol Chemical compound CC(O)CCCCO UNVGBIALRHLALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCCOCC1CO1 VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;oxirane Chemical compound C1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000951471 Citrus junos Species 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LHFURYICKMKJHJ-UHFFFAOYSA-L [benzoyloxy(dibutyl)stannyl] benzoate Chemical compound CCCC[Sn+2]CCCC.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 LHFURYICKMKJHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UFYYBMYIZKRDCG-UHFFFAOYSA-L [benzoyloxy(dioctyl)stannyl] benzoate Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.CCCCCCCC[Sn+2]CCCCCCCC UFYYBMYIZKRDCG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 229960004217 benzyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- RGPUVZXXZFNFBF-UHFFFAOYSA-K diphosphonooxyalumanyl dihydrogen phosphate Chemical compound [Al+3].OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O RGPUVZXXZFNFBF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N gallium nitrate Chemical compound [Ga+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 2
- 229940099596 manganese sulfate Drugs 0.000 description 2
- 239000011702 manganese sulphate Substances 0.000 description 2
- 235000007079 manganese sulphate Nutrition 0.000 description 2
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L manganese(II) sulfate Chemical compound [Mn+2].[O-]S([O-])(=O)=O SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical compound [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFYIQPIHXRFFCZ-QMMMGPOBSA-N (2s)-2-(cyclohexylamino)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)C[C@@H](C(O)=O)NC1CCCCC1 ZFYIQPIHXRFFCZ-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFNDFCFPJQPVQL-UHFFFAOYSA-N 1,12-diisocyanatododecane Chemical compound O=C=NCCCCCCCCCCCCN=C=O GFNDFCFPJQPVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromo-5-chlorophenyl)-3-methylpyrazole Chemical compound N1=C(C)C=CN1C1=CC(Cl)=CC=C1Br QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanato-3-methylphenyl)-2-methylbenzene Chemical group C1=C(N=C=O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQBUVIFBALZGPC-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanatophenyl)benzene Chemical group C1=CC(N=C=O)=CC=C1C1=CC=C(N=C=O)C=C1 RQBUVIFBALZGPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHAMPPWFPNXLIU-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)pentanoic acid Chemical compound CCCC(CO)(CO)C(O)=O UHAMPPWFPNXLIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKCZSFRAGKIIKN-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)ethanamine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(CCN)C=C1 WKCZSFRAGKIIKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)ethanol Chemical compound CCNCCO MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 2-Methylaziridine Chemical compound CC1CN1 OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAJMKGZZBBTTOY-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-hydroxy-1-(3-hydroxyoctyl)-2,3,3a,4,9,9a-hexahydro-1h-cyclopenta[g]naphthalen-5-yl]oxy]acetic acid Chemical compound C1=CC=C(OCC(O)=O)C2=C1CC1C(CCC(O)CCCCC)C(O)CC1C2 PAJMKGZZBBTTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKMOSYLWYLMHAL-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-6-nitroaniline Chemical compound NC1=C(Br)C=CC=C1[N+]([O-])=O KKMOSYLWYLMHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[Ni+2].[Ni+2].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- BAXLQGLZEUGKAR-UHFFFAOYSA-K 2-hydroxypropanoate yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O BAXLQGLZEUGKAR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GNDOBZLRZOCGAS-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl 2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound O=C=NCCCCC(N=C=O)C(=O)OCCN=C=O GNDOBZLRZOCGAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethylpyridine-2,5-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=N1 OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJJZIMFAIMUSBW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutane-1,2-diol Chemical compound CC(C)C(O)CO HJJZIMFAIMUSBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGLLAZUAZSIDFE-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,2-diol Chemical compound CCC(C)C(O)CO OGLLAZUAZSIDFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLWWHEFTJSHFRN-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-2,3-diol Chemical compound CCC(C)(O)C(C)O RLWWHEFTJSHFRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWDMKTDPDJCJOP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-ium-4-carboxylate Chemical compound CC1(C)CC(O)(C(O)=O)CC(C)(C)N1 UWDMKTDPDJCJOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEZWFBJCEWZGHX-UHFFFAOYSA-N 4-isocyanato-n-(oxomethylidene)benzenesulfonamide Chemical compound O=C=NC1=CC=C(S(=O)(=O)N=C=O)C=C1 CEZWFBJCEWZGHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-phenyl-1,3-thiazole-5-sulfonyl chloride Chemical compound S1C(S(Cl)(=O)=O)=C(C)N=C1C1=CC=CC=C1 NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMIALBAZYTSFI-UHFFFAOYSA-N 7-isocyanato-2-(isocyanatomethyl)heptanoic acid Chemical compound O=C=NCC(C(=O)O)CCCCCN=C=O GZMIALBAZYTSFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000014 Bismuth subcarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- JZDMNWBZPLJKBT-UHFFFAOYSA-N F.[Zr] Chemical compound F.[Zr] JZDMNWBZPLJKBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017569 La2(CO3)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000538 Poly[(phenyl isocyanate)-co-formaldehyde] Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- RSBNPUNXBGVNNB-UHFFFAOYSA-M S(=O)(=O)([O-])[O-].[NH4+].[Co+] Chemical compound S(=O)(=O)([O-])[O-].[NH4+].[Co+] RSBNPUNXBGVNNB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CANRESZKMUPMAE-UHFFFAOYSA-L Zinc lactate Chemical compound [Zn+2].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O CANRESZKMUPMAE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XSJWDZJHLGYOSS-UHFFFAOYSA-K [Bi+3].COCC([O-])=O.COCC([O-])=O.COCC([O-])=O Chemical compound [Bi+3].COCC([O-])=O.COCC([O-])=O.COCC([O-])=O XSJWDZJHLGYOSS-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WXWFERPFIRZYJG-UHFFFAOYSA-O [NH4+].[In].[O-][N+]([O-])=O Chemical compound [NH4+].[In].[O-][N+]([O-])=O WXWFERPFIRZYJG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- RCITVHFNWJIDNA-UHFFFAOYSA-K [NH4+].[NH4+].[NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O RCITVHFNWJIDNA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WLJLWSSCKPOGQV-UHFFFAOYSA-L [O-]S([O-])(=O)=O.N.O.O.O.O.O.O.[Cu+2] Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.N.O.O.O.O.O.O.[Cu+2] WLJLWSSCKPOGQV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FRHOZLBTKXGMDH-UHFFFAOYSA-N [Zr].[F] Chemical compound [Zr].[F] FRHOZLBTKXGMDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QGAVSDVURUSLQK-UHFFFAOYSA-N ammonium heptamolybdate Chemical compound N.N.N.N.N.N.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Mo].[Mo].[Mo].[Mo].[Mo].[Mo].[Mo] QGAVSDVURUSLQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGGLLRJQCZROSE-UHFFFAOYSA-K ammonium iron(iii) sulfate Chemical compound [NH4+].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGGLLRJQCZROSE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O azanium;cerium;nitrate Chemical compound [NH4+].[Ce].[O-][N+]([O-])=O HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KVTQOXMLIFVKOK-UHFFFAOYSA-K azanium;iron(3+);oxalate Chemical compound [NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O KVTQOXMLIFVKOK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RCMWGBKVFBTLCW-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Ba+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O RCMWGBKVFBTLCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHGGOUPMGSLBR-UHFFFAOYSA-K bis(2-hydroxypropanoyloxy)bismuthanyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound [Bi+3].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O ZDHGGOUPMGSLBR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VBIAXKVXACZQFW-OWOJBTEDSA-N bis(2-isocyanatoethyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound O=C=NCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCN=C=O VBIAXKVXACZQFW-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- DZYFUUQMKQBVBY-UHFFFAOYSA-N bis(2-isocyanatoethyl) carbonate Chemical compound O=C=NCCOC(=O)OCCN=C=O DZYFUUQMKQBVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940049676 bismuth hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910001451 bismuth ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940073609 bismuth oxychloride Drugs 0.000 description 1
- JAONZGLTYYUPCT-UHFFFAOYSA-K bismuth subgallate Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C2O[Bi](O)OC2=C1 JAONZGLTYYUPCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000199 bismuth subgallate Drugs 0.000 description 1
- TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K bismuth tribromide Chemical compound Br[Bi](Br)Br TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRHIYTPMKBMCJJ-UHFFFAOYSA-K bismuth;3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)-2-methylpropanoate Chemical compound [Bi+3].OCC(C)(CO)C([O-])=O.OCC(C)(CO)C([O-])=O.OCC(C)(CO)C([O-])=O HRHIYTPMKBMCJJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MFBGWESXOIGYSS-UHFFFAOYSA-K bismuth;triformate Chemical compound [Bi+3].[O-]C=O.[O-]C=O.[O-]C=O MFBGWESXOIGYSS-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K bismuth;trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Bi+3] TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Ca+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229960001759 cerium oxalate Drugs 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XQTIWNLDFPPCIU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+) Chemical compound [Ce+3] XQTIWNLDFPPCIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZNLKYXLARXFY-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);oxalate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O ZMZNLKYXLARXFY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);triacetate Chemical compound [Ce+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AVWLPUQJODERGA-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);diiodide Chemical compound [Co+2].[I-].[I-] AVWLPUQJODERGA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) bromide Chemical compound Br[Co]Br BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate trihydrate Substances [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- QBEGYEWDTSUVHH-UHFFFAOYSA-P diazanium;cerium(3+);pentanitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O QBEGYEWDTSUVHH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- NMGYKLMMQCTUGI-UHFFFAOYSA-J diazanium;titanium(4+);hexafluoride Chemical compound [NH4+].[NH4+].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] NMGYKLMMQCTUGI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- IZRTVYMPRPTBAI-UHFFFAOYSA-K dibenzoyloxybismuthanyl benzoate Chemical compound [Bi+3].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 IZRTVYMPRPTBAI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DQUIAMCJEJUUJC-UHFFFAOYSA-N dibismuth;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DQUIAMCJEJUUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWIZHMQARNODNX-UHFFFAOYSA-L dibismuth;oxygen(2-);carbonate Chemical compound [O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3].[O-]C([O-])=O FWIZHMQARNODNX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- RVEASLJBVZGRIP-UHFFFAOYSA-K dinitrosooxybismuthanyl nitrite Chemical compound [Bi+3].[O-]N=O.[O-]N=O.[O-]N=O RVEASLJBVZGRIP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAQNGTNRWPXMPB-UHFFFAOYSA-N dipotassium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [K+].[K+].[O-][W]([O-])(=O)=O AAQNGTNRWPXMPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLJCWGPUCQTHFY-UHFFFAOYSA-H disodium;hexafluorotitanium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[Na+].[Na+].F[Ti](F)(F)F HLJCWGPUCQTHFY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052730 francium Inorganic materials 0.000 description 1
- KLMCZVJOEAUDNE-UHFFFAOYSA-N francium atom Chemical compound [Fr] KLMCZVJOEAUDNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940044658 gallium nitrate Drugs 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- QVTWBMUAJHVAIJ-UHFFFAOYSA-N hexane-1,4-diol Chemical compound CCC(O)CCCO QVTWBMUAJHVAIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001866 hydroxypropyl methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N hydroxypropyl methyl cellulose Chemical compound OC1C(O)C(OC)OC(CO)C1OC1C(O)C(O)C(OC2C(C(O)C(OC3C(C(O)C(O)C(CO)O3)O)C(CO)O2)O)C(CO)O1 UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010979 hydroxypropyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910001449 indium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000398 iron phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K iron(3+) phosphate Chemical compound [Fe+3].[O-]P([O-])([O-])=O WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K iron(iii) fluoride Chemical compound F[Fe](F)F SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004658 ketimines Chemical class 0.000 description 1
- NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H lanthanum carbonate Chemical compound [La+3].[La+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229960001633 lanthanum carbonate Drugs 0.000 description 1
- LQFNMFDUAPEJRY-UHFFFAOYSA-K lanthanum(3+);phosphate Chemical compound [La+3].[O-]P([O-])([O-])=O LQFNMFDUAPEJRY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JLRJWBUSTKIQQH-UHFFFAOYSA-K lanthanum(3+);triacetate Chemical compound [La+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O JLRJWBUSTKIQQH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);trinitrate Chemical compound [La+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMHMDUCCVHOJQI-UHFFFAOYSA-N lithium molybdate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O NMHMDUCCVHOJQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWTJALAXUKLZON-UHFFFAOYSA-I lithium titanium(4+) pentafluoride Chemical compound [Li+].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] UWTJALAXUKLZON-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- QLKUHEGYKZOAEP-UHFFFAOYSA-I lithium;zirconium(4+);pentafluoride Chemical compound [Li+].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Zr+4] QLKUHEGYKZOAEP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N magnesium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Mg+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 description 1
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 description 1
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001437 manganese ion Inorganic materials 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGVLTEMOWXGQOS-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);oxalate Chemical compound [Mn+2].[O-]C(=O)C([O-])=O RGVLTEMOWXGQOS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N metavanadate Chemical compound [O-][V](=O)=O ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCN LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFSAPTWLWWYADB-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-phenylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(CN)C1=CC=CC=C1 NFSAPTWLWWYADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);trinitrate Chemical compound [Nd+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);oxalate Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C([O-])=O DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical compound F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSLPYMQWMAAGGH-UHFFFAOYSA-N nitric acid;praseodymium Chemical compound [Pr].O[N+]([O-])=O JSLPYMQWMAAGGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- UHTYDNCIXKPJDA-UHFFFAOYSA-H oxalate;praseodymium(3+) Chemical compound [Pr+3].[Pr+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O UHTYDNCIXKPJDA-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N oxobismuth;hydrochloride Chemical compound Cl.[Bi]=O BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);diacetate Chemical compound [O-2].[Zr+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- WCVRQHFDJLLWFE-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2-diol Chemical compound CCCC(O)CO WCVRQHFDJLLWFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLOBUAZSRIOKLN-UHFFFAOYSA-N pentane-1,4-diol Chemical compound CC(O)CCCO GLOBUAZSRIOKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000001637 plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I potassium;titanium(4+);pentafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[Ti+4] SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWZAHTVZMSRSJE-UHFFFAOYSA-H praseodymium(iii) sulfate Chemical compound [Pr+3].[Pr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HWZAHTVZMSRSJE-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 description 1
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXIGZHYPWYIZLM-UHFFFAOYSA-J tetrafluorozirconium;dihydrofluoride Chemical compound F.F.F[Zr](F)(F)F DXIGZHYPWYIZLM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFDQRLXGNLZULX-UHFFFAOYSA-N titanium hydrofluoride Chemical compound F.[Ti] BFDQRLXGNLZULX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J titanium tetrafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZHXAZZQXWJJBHA-UHFFFAOYSA-N triphenylbismuthane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Bi](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZHXAZZQXWJJBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHIXIJGXTJIKRB-UHFFFAOYSA-N trisodium vanadate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-][V]([O-])([O-])=O IHIXIJGXTJIKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001456 vanadium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940041260 vanadyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000352 vanadyl sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GONBZNBMLOZYAM-UHFFFAOYSA-K yttrium(3+);triformate Chemical compound [Y+3].[O-]C=O.[O-]C=O.[O-]C=O GONBZNBMLOZYAM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- IZEIVMMAXIQETE-UHFFFAOYSA-K yttrium(3+);trisulfamate Chemical compound [Y+3].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O IZEIVMMAXIQETE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 239000011576 zinc lactate Substances 0.000 description 1
- 235000000193 zinc lactate Nutrition 0.000 description 1
- 229940050168 zinc lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/2805—Compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/2815—Monohydroxy compounds
- C08G18/283—Compounds containing ether groups, e.g. oxyalkylated monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/64—Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63
- C08G18/6415—Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63 having nitrogen
- C08G18/643—Reaction products of epoxy resins with at least equivalent amounts of amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/80—Masked polyisocyanates
- C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/8064—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen with monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/80—Masked polyisocyanates
- C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/807—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen with nitrogen containing compounds
- C08G18/8077—Oximes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/182—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing using pre-adducts of epoxy compounds with curing agents
- C08G59/184—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing using pre-adducts of epoxy compounds with curing agents with amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4419—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications with polymers obtained otherwise than by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D5/443—Polyepoxides
- C09D5/4434—Polyepoxides characterised by the nature of the epoxy binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/07—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing phosphates
- C23C22/08—Orthophosphates
- C23C22/12—Orthophosphates containing zinc cations
- C23C22/13—Orthophosphates containing zinc cations containing also nitrate or nitrite anions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/34—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing fluorides or complex fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/82—After-treatment
- C23C22/83—Chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
- C25D13/18—Electrophoretic coating characterised by the process using modulated, pulsed, or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
- C25D13/20—Pretreatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing nitrogen, e.g. polyetheramines or Jeffamines(r)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
Description
他に、特許文献4には、フッ素及びジルコニウム含有化合物からなる化成処理剤による化成処理反応によってアルミニウム系基材表面に化成皮膜を形成させる工程(1)と、親水処理剤を用いて親水皮膜を形成させる工程(2)とからなるアルミニウム系基材の表面処理方法であって、前記化成処理反応は、電解処理によって化成処理を行うことを特徴とするアルミニウム系基材の表面処理方法が開示されている。
しかし特許文献6の樹脂を浮遊させた化成処理液の塗装前処理方法によって皮膜を形成し、水洗を施さず、次いで電着塗膜を施した場合には、化成処理液が電着塗料槽に持ち込まれ、得られた塗膜の仕上り性や防食性が不十分であり改良が求められていた。
工程1:金属基材を皮膜形成剤(1)である化成処理液に浸漬して化成処理皮膜(F1)を形成する工程、
工程2:水洗を施すことなく、カチオン電着塗料(I)である皮膜形成剤(2)を用いて金属基材を電着塗装して電着塗装皮膜(F2)を形成する工程
を含む複層皮膜の形成方法。
で表されるポリオキシアルキレン鎖を3〜50質量%含有する、項1に記載の複層皮膜の形成方法。
項6. アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(3)で表されるビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である項4に記載の複層皮膜形成方法。
項7. アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(4)で表されるポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル類(a13)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である項4に記載の複層皮膜形成方法。
項8. アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(5)で表されるポリオキシアルキレンジアミン類(a14)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である項4に記載の複層皮膜形成方法。
項9. アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(6)で表されるイソシアネート類(a15)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である項4に記載の複層皮膜形成方法。
項10. カチオン電着塗料(I)が、カチオン電着塗料を構成する樹脂成分の固形分合計を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を40〜80質量%含み、かつアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、該樹脂(A)の樹脂固形分に基づいて、式(7)
で表されるポリグリセリン鎖(a16)を3〜50質量%含有する、項1に記載の複層皮膜の形成方法。
で表されるポリエチレンイミン鎖(a17)を3〜50質量%含有する、項1に記載の複層皮膜の形成方法。
化合物(a1)とエポキシ樹脂(a2)とビスフェノール類(a3)の固形分合計質量を基準にして、化合物(a1)が3〜70質量%、エポキシ樹脂(a2)が10〜80質量%、ビスフェノール類(a3)が10〜70質量%の割合で反応させて変性エポキシ樹脂(a4)を得た後、該変性エポキシ樹脂(a4)にアミン化合物(a5)を反応させてなる樹脂である項4に記載の複層皮膜形成方法。
次いで、水洗を施さないまま、該皮膜(F1)を形成した金属基材を、皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して皮膜形成剤槽(2)を電着塗装することを特徴とする項1に記載の複層皮膜形成方法;
皮膜形成剤(1):ジルコニウム、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属から選ばれる少なくとも1種の金属(m)の化合物からなる金属化合物成分(M)を合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppm、並びにアミノ基含有エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドンおよびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)0.1〜40質量%とを含む皮膜形成剤;
皮膜形成剤(2):カチオン性樹脂組成物とブロック化ポリイソシアネートの合計固形分質量を基準にして、カチオン性樹脂組成物50〜90質量%とブロック化ポリイソシアネート10〜50質量%を含む。
次いで、水洗を施さないままセッティングを施し、該皮膜(F1)を形成した金属基材を、皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して電着塗装することを特徴とする項1に記載の複層皮膜形成方法。
これらの効果が得られる1つの理由としては、化成処理液の混入性に優れる特定のアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を一定量含有したカチオン電着塗料(I)を用いることによって達成できるためである。
1.皮膜形成剤(1)における金属化合物成分(M)の含有量は、合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppmの比較的低含有量にて、防食性に優れる皮膜(F1)を形成できる。よって、次の槽への持込まれる金属化合物成分(M)も比較的少ない量である。
3.皮膜形成剤(2)は、金属化合物成分(M)の混入性に優れる。
また、従来では図1に示されるライン工程(脱脂−表面調整及び化成処理−水洗−電着塗装−UF水洗−純水水洗−焼付乾燥)が一般的であったが、図2に示されるライン工程(脱脂−皮膜形成剤槽(1槽目)による皮膜形成剤(1)−皮膜形成剤槽(2槽目)による皮膜形成剤(2)−UF水洗−純水水洗−焼付乾燥工程)のように、工程短縮、省スペース化(例えば、水洗設備や排水処理を省略できる)が可能となることも挙げることができる。
なお、本明細書において「水洗を施すことなく」とは、工業用水洗と上水水洗及び純水工程からなる少なくとも1種の水洗工程を省略することが可能であることを意味し、要求される塗膜性能に応じて適宜対応できる。例えば、工業用水洗と上水水洗を省略し、純水水洗を行うことは「水洗を施すことなく」に該当する。
本発明の複層皮膜形成方法に用いる被塗物としては、冷延鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛−鉄二層めっき鋼板、有機複合めっき鋼板、Al素材、Mg素材などの金属基材が挙げられる。
[第1段目の皮膜形成について]
皮膜形成剤(1)
上記の方法(1)に用いる皮膜形成剤(1)は、ジルコニウム化合物、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、ビスマス、イットリウム、鉄、ニッケル、マンガン、ガリウム、銀、ランタノイド金属(ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウム)から選ばれる少なくとも1種の金属(m)の化合物とからなる金属化合物成分(M)を合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppm、並びに水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)0.1〜40質量%を含む。
亜鉛イオンを生じる化合物としては、例えば、酢酸亜鉛、乳酸亜鉛、酸化亜鉛などが挙げられる。
マンガンイオンを生じる化合物としては、酢酸マンガン(II)、酢酸マンガン(III)、シュウ酸マンガン(II)、硝酸マンガン(II)、炭酸マンガン(II)、硫酸マンガン(II)、硫酸マンガン(II)アンモニウムなどが挙げられる。
皮膜形成剤(1)は、水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)0.1〜40質量%が含まれる。水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)としては、例えば、分子中にアミノ基、アンモニウム塩基、スルホニウム塩基、ホスホニウム塩基などの水性媒体中でカチオン化可能なカチオン性樹脂組成物が挙げられる。
また、分子中にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などの水性媒体中でアニオン化可能な基を有するアニオン性樹脂組成物が挙げられる。該樹脂の種類としては、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリブタジエン樹脂系、アルキド樹脂系、ポリエステル樹脂系などが挙げられる。
なお、皮膜形成剤(1)の調製は、例えば、以下に述べる(1)〜(4)の方法により行うことができる。
(1)水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)に、金属化合物成分(M)を加え、適宜に中和剤を添加して樹脂組成物(B)の水分散化又は水溶化を図り、脱イオン水を加えて調整する方法;
(2)金属化合物成分(M)に、水分散化又は水溶化した樹脂組成物(B)を添加し、脱イオン水を加えて調整する方法;
(3)あらかじめ作製した皮膜形成剤の浴に、金属化合物成分(M)、並びに水分散化又は水溶化した樹脂組成物(B)を添加し、脱イオン水を加えて調整する方法;
(4)リン酸亜鉛化成処理、ジルコニウム、チタニウム、モリブデン、タングステン、マンガン及びセリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含む金属表面処理剤等の化成処理;
が挙げられる。
本発明に従う皮膜形成は、金属基材を、皮膜形成剤(1)を満たした皮膜形成剤槽(1)に10〜360秒間、好ましくは50〜300秒間、さらに好ましくは70〜240秒間浸漬して、金属基材上に皮膜(F1)を形成する方法(1)、皮膜形成剤(1)を浴とし且つ金属基材を陰極として、1〜50Vで10〜360秒間、好ましくは2〜30Vで30〜180秒間通電する方法(2)、さらに、一定時間浸漬しその後通電する方法も可能であり、10〜180秒間、好ましくは5〜120秒間浸漬し、さらに1〜100Vで10〜360秒間、2〜60Vで30〜180秒間通電する方法(3)、が挙げられる。
このようにして得られた皮膜(F1)を形成した金属基材は、水洗を施さずに、該皮膜(F1)上に第2段目の皮膜形成を行うことができる。また、該皮膜(F1)を形成した金属基材は、水洗を施さずに、適宜にセッティングを施し、次いで皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して電着塗装することによって、該皮膜(F1)上に第2段目の皮膜形成を行うこともできる。
次いで、得られた皮膜(F1)を形成した金属基材を、カチオン電着塗料(I)である皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して通電することによって、該皮膜(F1)上に皮膜(F2)を形成できる。
カチオン電着塗料(I)は、カチオン電着塗料を構成する樹脂成分の固形分合計を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を通常40〜90質量%、好ましくは55〜85質量%、さらに好ましくは60〜80質量%の範囲内、そしてブロック化ポリイソシアネートは通常10〜60質量%、好ましくは15〜45質量%、さらに好ましくは20〜40質量%を含む皮膜形成剤であって、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、該樹脂(A)の樹脂固形分に対して、式(1)表されるポリオキシアルキレン鎖を3〜50質量%含有する樹脂(A)を含有してなるカチオン電着塗料である。
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)は、ポリオキシアルキレン類(a11)とビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)とポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル(a13)とポリオキシアルキレンジアミン類(a14)及びイソシアネート類(a15)から選ばれる少なくとも1種の化合物(a1)を用い、エポキシ樹脂(a2)とビスフェノール類(a3)を反応させて変性エポキシ樹脂(a4)を得た後、アミン化合物(a5)と反応することによって得ることができる。
下記式(2)で表されるポリオキシアルキレン類(a11)を反応における構成成分として、アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)を得ることができる。
上記式(2)の中でも、ポリエチレングリコール(式(2)において、Rが水素原子、a=1に相当)が、塗料安定性、塗膜の仕上り性と防食性の面から好ましい。その分子量としては、70〜4,000、好ましくは200〜3,000である。
下記式(3)で表されるビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)を反応における構成成分として、アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)を得ることができる。
この中でも、ビスフェノールAのエチレングリコール付加物(式(3)において、Rが水素原子、a=1に相当)が、塗料安定性、塗膜の仕上り性と防食性の面から好ましい。数平均分子量としては、300〜2000、好ましくは400〜1500である。
なお、市販品としては、ニューポールBPE−60、ニューポールBPE−180(以上、三洋化成工業社製、商品名)が挙げられる。
下記式(4)で表されるポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル類(a13)を反応における構成成分として、アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)を得ることができる。
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(式(4)において、Rが水素原子、a=1に相当)、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(式(4)において、Rがメチル基、a=1に相当)が、塗料安定性、塗膜の仕上り性と防食性の面から好ましい。分子量としては、230〜2,000、好ましくは340〜1,200である。
上記ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類の市販品としては、例えば、デナコールEX−810、EX−821、EX−832、EX−841、EX−851、EX−861(以上、ナガセケムテックス株式会社)が挙げられる。上記ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類の市販品としては、デナコールEX−911、EX−920、EX−931、EX−941(以上、ナガセケムテックス株式会社)が挙げられる。
下記式(5)で表されるポリオキシアルキレンジアミン類(a14)を反応における構成成分として、アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)を得ることができる。
式(5)で表されるポリオキシアルキレンジアミン類の分子量としては、600〜2,000、好ましくは800〜1,000であることが、塗料安定性、仕上り性と防食性の面から好ましい。
アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(6)で表されるイソシアネート類を構成成分として、反応して得られる樹脂(A)である
上記のR2がメチル基、R3が水素原子、Aがヘキサメチレン基であり、かつ分子量が600〜2,000、好ましくは800〜1,000が、塗料安定性、塗膜の仕上り性と防食性の面から好ましい。
上記に述べたアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)のほかに、式(7)で表されるポリグリセリン鎖(a16)を3〜50質量%含有するアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A1)も本発明の複層皮膜形成方法に使用可能であり、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)と同様の効果を得ることができる。
上記アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A1)中に分子量約800のポリグリセリン鎖を導入するには、例えば、ポリグリセリンとエポキシ樹脂(a2)、ビスフェノール類(a3)を触媒の存在下に、適当な溶媒中で、反応させ、式(7)を部分構造として有する変性エポキシ樹脂を得た後、アミン化合物を反応させて得ることができる。
また、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)中に含有されているポリオキシアルキレン鎖のほかに、式(8)で表されるポリエチレンイミン鎖(a17)を3〜50質量%含有するアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A2)も本発明の複層皮膜形成方法に使用可能であり、樹脂(A)と同様の効果を得ることができる。
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A2)の製造には、例えば、分子量約600のポリエチレンイミンとエポキシ樹脂(a2)、ビスフェノール類(a3)を触媒の存在下に、適当な溶媒中で反応させ、式(8)を部分構造として有する変性エポキシ樹脂を得た後、アミン化合物を反応させて得ることができる。
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)の製造は、ポリオキシアルキレン類(a11)とビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)とポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル(a13)とポリオキシアルキレンジアミン類(a14)及びイソシアネート類(a15)から選ばれる少なくとも1種の化合物(a1)、ポリグリセリン鎖(a16)あるいはポリエチレンイミン鎖(a17)に、エポキシ当量170〜500のエポキシ樹脂(a2)、ビスフェノール類(a3)を反応させて変性エポキシ樹脂(a4)を得た後、アミン化合物(a5)を反応させて得ることができる。以下、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)の製造方法について説明する。アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A1)、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A2)についても、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)と同様にして製造することができる。
上記化合物(a1)として、前記の一般式(2)で表されるポリオキシアルキレン類(a11)を用いることができる。
一般式(2)で表されるポリオキシアルキレン類(a11)の中でも、特に、ポリエチレングリコール(Rが水素原子、a=1)が、本発明の効果を得るのに好ましい。
エポキシ化合物(a2)は、1分子中にエポキシ基を2個以上有する化合物であり、その分子量は340〜1,500、さらに好ましくは340〜1000の「数平均分子量」、及び170〜500、さらに好ましくは170〜400の範囲内の「エポキシ当量」を有するものが適しており、特に、ポリフェノール化合物とエピハロヒドリンとの反応によって得られるものが好ましい。
かかるエポキシ樹脂の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン株式会社からjER828EL、jER1001なる商品名で販売されているものが挙げられる。
ビスフェノール類(a3)には、下記一般式(10)
上記反応における溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサンなどの炭化水素系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトンなどのケトン系;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系;メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノールなどのアルコール系;フェニルカルビノール、メチルフェニルカルビノールなどの芳香族アルキルアルコール類;エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテルアルコール系化合物あるいはこれらの混合物などが挙げられる。
さらに、従来から公知のカチオン性樹脂組成物を使用することも可能である。カチオン性樹脂組成物としては、例えば、分子中にアミノ基、アンモニウム塩基、スルホニウム塩基、ホスホニウム塩基などの水性媒体中でカチオン化可能な基を有する樹脂が挙げられる。該カチオン性樹脂組成物の樹脂種としては、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリブタジエン樹脂系、アルキド樹脂系、ポリエステル樹脂系などが挙げられる。
架橋剤
本発明の複層皮膜形成方法には、カチオン電着塗料(I)を構成する樹脂成分の固形分合計に対して、アミノ基含有変性樹脂(A)40〜90質量%に加えて、硬化性や塗膜性能の向上のために架橋剤としてブロック化ポリイソシアネート化合物を10〜60質量%含有できる。
カチオン電着塗料(I)は、脱イオン水などで希釈して、浴固形分濃度が通常5〜40質量%、好ましくは8〜15質量%、pHが通常1.0〜9.0、好ましくは3.0〜6.0の範囲内となるように調整して使用することができる。
なお、化成処理後の水洗は、工業用水洗と上水水洗及び純水工程からなる少なくとも1種の水洗を施さずに電着塗装を行うこともでき、例えば、化成処理後、純水水洗のみを施し、電着塗装工程に搬送することもできる。
製造例1A アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.1A
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名、エポキシ樹脂)602部に、ビスフェノールA 178部、PEG−400(注1A)107部とジメチルベンジルアミン0.2部とを加え、170℃でエポキシ当量が800になるまで反応させた。
表1Aの配合内容とする以外は、製造例1Aと同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.2A〜No.3Aを得た。
リコール、分子量400
ビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)を用いたアミノ基含有エポキシ樹脂(A)の製造例
製造例4A アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.4A
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのフラスコに、jER828EL 536部、ビスフェノールA 85部、ニューポールBPE−60(注2A)279部及びテトラブチルアンモニウムブロマイド0.8部を加え、180℃でエポキシ当量が870になるまで反応させた。
表2Aの配合内容とする以外は、製造例4Aと同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.5A〜No.6Aを得た。
ニューポールBPE−60:三洋化成工業社製、商品名、ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物、水酸基価228mgKOH/g
(注3A)ニューポールBPE−180:三洋化成工業社製、商品名、ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物、水酸基価109mgKOH/g
ポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル類(a13)を用いたアミノ基含有エポキシ樹脂(A)の製造例
製造例7A アミノ基含有エポキシ樹脂樹脂溶液No.7A
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL 423部に、デナコールEX821(注4A)209部、ビスフェノールA 250部とジメチルベンジルアミン0.2部とを加え、130℃でエポキシ当量900になるまで反応させた。
表3Aの配合内容とする以外は、製造例7Aと同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.8A〜No.9Aを得た。
(注5A)デナコールEX−841:ナガセケムテックス株式会社製、商品名、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量372
ポリオキシアルキレンジアミン類(a14)を用いたアミノ基含有エポキシ樹脂(A)の製造例
製造例10A アミノ基含有エポキシ樹脂樹脂溶液No.10A
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL 527部にビスフェノールA 169部とジメチルベンジルアミン0.2部とを加え、130℃で1時間反応させた後、ジェファーミンED−600(注6A)152を加えて同温度を保持し、エポキシ当量900になるまで反応させた。
表4Aの配合内容とする以外は、製造例10Aと同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.11A〜No.12Aを得た。
(注7A)ジェファーミンED−900:ハンツマン株式会社製、商品名、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジアミン、分子量900
イソシアネート類(a15)を用いたアミノ基含有エポキシ樹脂(A)の製造例
製造例13A TDIプレポリマーの製造
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、コスモネートT−80(注8A)800部にMPG−081(注9A)200.0部とを加え、80℃でNCO当量870mg/eqになるまで反応させて、TDIプレポリマーを得た。
(注8A)コスモネートT−80:三井化学ポリウレタン株式会社製、商品名、トレリンジイソシアネート
(注9A)MPG−081:日本乳化剤株式会社、商品名、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、水酸基価81mgKOH/g
製造例14A
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL 549部にビスフェノールA 217部とジメチルベンジルアミン0.2部とを加え、130℃でエポキシ当量780になるまで反応させた。
表5Aの配合内容とする以外は、製造例14Aと同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.14A〜No.15Aを得た。
製造例17A 硬化剤No.1Aの製造
イソホロンジイソシアネート222部にメチルイソブチルケトン44部を加え、70℃に昇温した。その後、メチルエチルケトキシム174部を2時間かけて滴下して、この温度を保ちながら経時でサンプリングして赤外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認し、樹脂固形分90%のブロック化ポリイソシアネート化合物の硬化剤No.1Aを得た。
製造例18A エマルションNo.1Aの製造
上記製造例1Aにて得た樹脂固形分80%のアミノ基含有エポキシ樹脂No.1Aを87.5部(固形分70.0部)、製造例17Aにて得た硬化剤No.1Aを33.3部(固形分30.0部)及び10%蟻酸10.7部を混合し、均一に攪拌した後、脱イオン水181部を強く攪拌しながら約15分かけて滴下し、固形分32.0%のエマルションNo.1Aを得た。
表6A及び表7Aの配合内容とする以外は、製造例18Aと同様にして、固形分32.0%のエマルションNo.2A〜No.15Aを得た。
jER828EL(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名、エポキシ樹脂)1010部に、ビスフェノールAを390部、プラクセル212(ポリカプロラクトンジオール、ダイセル化学工業株式会社、商品名、重量平均分子量約1,250)240部及びジメチルベンジルアミン0.2部を加え、130℃でエポキシ当量が約1090になるまで反応させた。
製造例33Aで得た固形分60%の顔料分散用樹脂8.3部(固形分5.0部)、JR−600E(注10A)14.0部(固形分14.0部)、カーボンMA−7(注11A)0.3部(固形分0.3部)、ハイドライトPXN(注12A)9.7部(固形分9.7部)、ジオクチル錫オキサイド1.0部(固形分1.0部)及び脱イオン水23.3部を混合分散し、固形分55質量%の顔料分散ペーストNo.1Aを得た。
(注10A)JR−600E:テイカ株式会社製、商品名、チタン白
(注11A)カーボンMA−7:三菱化成株式会社製、商品名、カーボンブラック
(注12A)ハイドライトPXN:ジョージアカオリン株式会社製、商品名、カオリン
製造例35A 化成処理剤A(リン酸亜鉛系化成処理液)の製造
下記組成の化成液Aを調整し、実施例及び比較例の試験に供した。
Zn2+ 1.5g/l
Ni2+ 0.5g/l
PO4 3− 13.5g/l
F− 0.5g/l
NO3− 6.0g/l
NO2− 0.1g/l
Na+ 1.5g/l
製造例36A 化成処理剤B(ジルコニウム系化成処理液)の製造
下記組成の化成液Bを調整し、実施例及び比較例の試験に供した。
ヘキサフルオロジルコニウム酸、硝酸アルミニウム及び硝酸カルシウムを用いて、金属元素としてジルコニウムが2000ppm、アルミニウムが100ppm、カルシウムが100ppmになるように配合し、フッ化水素酸とアンモニアを用いてpHが4となるように調整した。
製造例37A
製造例18Aで得た固形分32%のエマルションNo.1Aを312.5部(固形分100.0部)、製造例34Aで得た55%顔料分散ペーストNo.1Aを54.5部(固形分30.0部)及び脱イオン水283.0部を混合して固形分20%の電着塗料No.1Aとした。
製造例38A〜46A
下記表8Aに示す配合とする以外は、製造例37Aと同様にして電着塗料No.2A〜No.10Aを得た。
固形分32%のエマルションNo.3Aを312.5部(固形分100.0部)、製造例34Aで得た55%顔料分散ペーストを54.5部(固形分30.0部)及び脱イオン水283.0部を混合して固形分20%の電着塗料No.11Aとした。
製造例48A〜51A
下記表9Aに示す配合とする以外は、製造例47Aと同様にして電着塗料No.12A〜No.15Aを得た。
[化成処理後の「水洗なし」で電着塗装を施す工程]
実施例1A
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.1Aを得た。
表10Aに示す電着塗料及び塗装条件とする以外は、実施例1Aと同様にして、試験板No.2A〜No.10Aを得た。
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.11Aを得た。
工程3(焼付け乾燥):電気乾燥機によって170℃で20分間焼付けし、乾燥膜厚20μmを得た。
表10Aに示す電着塗料及び塗装条件とする以外は、実施例11Aと同様にして、試験板No.12Aを得た。
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.13Aを得た。
表11Aに示すような電着塗料及び工程とする以外は、比較例6Aと同様にして、試験板No.14A〜No.17Aを得た。試験結果も併せて示す。
比較例6A
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.18Aを得た。
表11Aに示す電着塗料及び塗装条件とする以外は、比較例6Aと同様にして、試験板No.19Aを得た。
比較例8A
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.20を得た。
その後、水洗(工業用水水洗と上水水洗及び純水水洗)を施し、電着塗装工程に搬送した。
表12Aに示すような電着塗料及び工程とする以外は、比較例11Aと同様にして、試験板No.21A〜No.29Aを得た。
比較例18A
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.30Aを得た。
工程3(焼付け乾燥):電気乾燥機によって170℃で20分間焼付けし、乾燥膜厚20μmを得た。
表12Aに示す電着塗料及び塗装条件とする以外は、比較例18Aと同様にして、試験板No.31Aを得た。
(注16A)耐ばくろ性:試験板に、スプレー塗装方法で、WP−300(関西ペイント株式会社製、商品名、水性中塗り塗料)を硬化膜厚が25μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行なった。さらに、その中塗塗膜上に、スプレー塗装方法で、ネオアミラック6000(関西ペイント株式会社製、商品名、上塗り塗料)を硬化膜厚が35μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行ない、暴露試験板を作製した。
(注17A)仕上り性:
試験板の塗面をサーフテスト301(株式会社ミツトヨ製、商品名、表面粗度計)を用いて、表面粗度値(Ra)をカットオフ0.8mmにて測定し、以下の基準で評価した。
製造例1B アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.1B
温度計、還流冷却器、及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER1001(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名、エポキシ樹脂)708部にエチレングリコールモノブチルエーテル250部を加え、ジエタノールアミン83部及びジエチレントリアミンのメチルイソブチルケトンのケチミン化物209部を加え、110℃で4時間反応させ、樹脂固形分80質量%のアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.1Bを得た。該アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.1Bの樹脂固形分は、アミン価130mgKOH/g、数平均分子量1,300であった。
上記製造例1Bにて得た80%のアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.1Bを125部(固形分100部)、10%蟻酸16.4部を混合し、均一に攪拌した後、脱イオン水860部を強く攪拌しながら約15分かけて滴下し、固形分10%のエマルションNo.1Bを得た。
フッ化ジルコニウムアンモニウム2.7部に脱イオン水1000部を加えて、次いで固形分10%のエマルションNo.1Bを1000部(固形分100部)を加え、皮膜形成剤No.1Bを得た。皮膜形成剤No.1BのpHは、6.5であった。
表1Bの配合内容及び皮膜形成剤のpHとする以外は、製造例3Bと同様に操作によって、皮膜形成剤No.2B〜No.13Bを得た。
(注2B)K−17C:固形分20%のポリビニルアルコール溶液、商品名、電気化学工業株式会社製
製造例16B アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.2B
jER1002(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名、エポキシ樹脂)845部に、エチレングリコールモノブチルエーテル250部、ジエタノールアミンを103部及びジエチレントリアミンのメチルイソブチルケトンのケチミン化物52部を加え120℃で4時間反応させ、樹脂固形分80%のアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.2Bを得た。該アミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.2Bの樹脂固形分は、樹脂アミン価が77mgKOH/g、数平均分子量が1,600であった。
PP−400(三洋化成株式会社製、商品名、ポリプロピレングリコール 分子量400)400部にε−カプロラクトン300部を加えて、130℃まで昇温した。その後、テトラブトキシチタン0.01部を加え、170℃に昇温した。この温度を保ちながら経時でサンプリングし、赤外吸収スペクトル測定にて未反応のε−カプロラクトン量を追跡し、未反応のε−カプロラクトンが実質的になくなったことを確認した時点で冷却し、変性剤を得た。
イソホロンジイソシアネート222部にメチルイソブチルケトン44部を加え、70℃に昇温した。その後、メチルエチルケトキシム174部を2時間かけて滴下して、この温度を保ちながら経時でサンプリングして赤外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認し、樹脂固形分90%のブロック化ポリイソシアネート化合物の硬化剤No.1Bを得た。
上記製造例14Bにて得た樹脂固形分80%のアミノ基含有エポキシ樹脂No.2Bを87.5部(固形分70.0部)、製造例16Bにて得た硬化剤No.1Bを33.3部(固形分30.0部)及び10%蟻酸10.7部を混合し、均一に攪拌した後、脱イオン水181部を強く攪拌しながら約15分かけて滴下し、固形分32.0%のエマルションNo.2Bを得た。
上記製造例15Bにて得た樹脂固形分80%のアミノ基含有エポキシ樹脂No.3Bを用い、上記製造例17Bと同様にして、固形分32.0%のエマルションNo.3Bを得た。
jER828EL(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名、エポキシ樹脂)1010部に、ビスフェノールAを390部、プラクセル212(ポリカプロラクトンジオール、ダイセル化学工業株式会社、商品名、重量平均分子量約1,250)240部及びジメチルベンジルアミン0.2部を加え、130℃でエポキシ当量が約1090になるまで反応させた。
次に、ジメチルエタノールアミン134部及び濃度90%の乳酸水溶液150部を加え、120℃で4時間反応させた。次いで、メチルイソブチルケトンを加えて固形分を調整し、固形分60%のアンモニウム塩型樹脂系の顔料分散用樹脂を得た。
製造例21Bで得た固形分60%の顔料分散用樹脂8.3部(固形分5.0部)、JR−600E(注3B)14.0部(固形分14.0部)、カーボンMA−7(注4B)0.3部(固形分0.3部)、ハイドライトPXN(注5B)9.7部(固形分9.7部)、ジオクチル錫オキサイド1.0部(固形分1.0部)及び脱イオン水23.3部を混合分散し、固形分55質量%の顔料分散ペーストNo.1Bを得た。
表2Bの配合内容とする以外は、製造例22Bと同様にして、顔料分散ペーストNo.2Bを得た。
(注4B)カーボンMA−7:三菱化成株式会社製、商品名、カーボンブラック
(注5B)ハイドライトPXN:ジョージアカオリン株式会社製、商品名、カオリン
製造例24B
固形分32%のエマルションNo.2Bを312.5部(固形分100.0部)、製造例21Bで得た55%顔料分散ペーストNo.1Bを54.5部(固形分30.0部)及び脱イオン水283.0部を混合して固形分20%の浴とし、皮膜形成剤No.14Bを得た。
下記表3Bに示す配合とする以外は、製造例22Bと同様にして皮膜形成剤No.15B〜No.16Bを得た。
実施例1B
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.1Bを得た。
表4B及び表5Bに示す皮膜形成剤及び塗装条件を使用する以外は、実施例1Bと同様にして、試験板No.2B〜No.18Bを得た。
実施例19B
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.19Bを得た。
実施例20B
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.20Bを得た。
表6Bに示す皮膜形成剤及び塗装条件を使用する以外は、実施例20Bと同様にして、試験板No.21B〜No.26Bを得た。
冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を2質量%の「ファインクリーナーL4460」(日本パーカライジング株式会社製)で40℃、2分間浸漬処理した後、水道水で30秒間水洗し、試験板とした。
表7Bの工程内容とする以外は、比較例1Bと同様にして、試験板No.28を得た。
冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を2質量%の「ファインクリーナーL4460」(日本パーカライジング株式会社製)で40℃、2分間浸漬処理した後、水道水で30秒間水洗し、試験板とした。
表7Bの工程内容とする以外は、比較例3Bと同様にして、試験板No.30Bを得た。
冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を2質量%の「ファインクリーナーL4460」(日本パーカライジング株式会社製)で40℃、2分間浸漬処理した後、水道水で30秒間水洗し、試験板とした。
表7Bの工程内容とする以外は、比較例5Bと同様にして、試験板No.32B、33Bを得た。
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.34Bを得た。
第1槽目の皮膜形成剤として、パルボンド#3020(日本パーカライジング社製、リン酸塩処理)を用い、40℃、120秒浸漬した。
表7Bの工程内容とする以外は、比較例8Bと同様にして、試験板No.35Bを得た。
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.36Bを得た。
表7Bの工程内容とする以外は、比較例10Bと同様にして、試験板No.37Bを得た。
(注7B) 耐ばくろ性:
試験板に、スプレー塗装方法で、WP−300(関西ペイント株式会社製、商品名、水性中塗り塗料)を硬化膜厚が25μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行なった。さらに、その中塗塗膜上に、スプレー塗装方法で、ネオアミラック6000(関西ペイント株式会社製、商品名、上塗り塗料)を硬化膜厚が35μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行ない、暴露試験板を作製した。
(注8B) 仕上り性:
試験板の塗面をサーフテスト301(株式会社ミツトヨ製、商品名、表面粗度計)を用いて、表面粗度値(Ra)をカットオフ0.8mmにて測定し、以下の基準で評価した。
以下の「工程1〜工程3」によって、試験板No.1Cを得た。
表1Cに示す電着塗料及び塗装条件とする以外は、実施例1Cと同様にして、試験板No.2C〜No.10Cを得た。
2.表面調整工程と化成処理工程を示す
3.水洗工程を示す
4.電着塗料を収納する電着塗装設備を示す
5.UF水洗工程を示す。
6.純水水洗工程を示す。
7.焼付乾燥工程を示す。
8.皮膜形成剤槽(1槽目)による皮膜形成剤(1)の工程を示す。
9.皮膜形成剤槽(2槽目)による皮膜形成剤(2)の工程を示す。
Claims (16)
- 以下の工程を含む、金属基材に化成処理皮膜(F1)と電着塗装皮膜(F2)を含む複層皮膜を形成する方法
工程1:金属基材を皮膜形成剤(1)である化成処理液に浸漬して化成処理皮膜(F1)を形成する工程、
工程2:水洗を施すことなく、カチオン電着塗料(I)である皮膜形成剤(2)を用いて金属基材を電着塗装して電着塗装皮膜(F2)を形成する工程
を含む複層皮膜の形成方法であって、
皮膜形成剤(2)が、カチオン電着塗料を構成する樹脂成分の固形分合計を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を40〜80質量%含み、かつアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、該樹脂(A)の樹脂固形分に基づいて、式(1)
で表されるポリオキシアルキレン鎖を3〜50質量%含有する、方法であって、
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(4)で表されるポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル類(a13)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂であるか:
アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(5)で表されるポリオキシアルキレンジアミン類(a14)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂であるか:
又は
アミノ含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(6)で表されるイソシアネート類(a15)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である、複層皮膜形成方法。
- 前記皮膜形成剤(1)が、ジルコニウム化合物、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、ビスマス、イットリウム、鉄、ニッケル、マンガン、ガリウム、銀、ランタノイド金属から選ばれる少なくとも1種の金属(m)の化合物からなる少なくとも1種の金属化合物成分(M)を合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppm、並びに水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)0.1〜40質量%とを含む、請求項1に記載の複層皮膜の形成方法。
- 皮膜形成剤(2)が、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)とブロック化ポリイソシアネートを含み、カチオン性樹脂組成物とブロック化ポリイソシアネートの合計固形分質量を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)40〜90質量%とブロック化ポリイソシアネート10〜60質量%を含む、請求項1に記載の複層皮膜の形成方法。
- アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(2)で表されるポリオキシアルキレン類(a11)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である請求項1に記載の複層皮膜形成方法。
- アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、下記式(3)で表されるビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)を反応成分の一部として、反応させて得られる樹脂である請求項1に記載の複層皮膜形成方法。
- 皮膜形成剤(2)が、カチオン電着塗料を構成する樹脂成分の固形分合計を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を40〜80質量%含み、かつアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、該樹脂(A)の樹脂固形分に基づいて、式(7)
で表されるポリグリセリン鎖(a16)を3〜50質量%含有する、請求項1に記載の複層皮膜の形成方法。 - 皮膜形成剤(2)が、カチオン電着塗料を構成する樹脂成分の固形分合計を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)を40〜80質量%含み、かつアミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、該樹脂(A)の樹脂固形分に基づいて、式(8)
で表されるポリエチレンイミン鎖(a17)を3〜50質量%含有する、請求項1に記載の複層皮膜の形成方法。 - アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)が、ポリオキシアルキレン類(a11)とビスフェノールAのポリオキシアルキレン付加物(a12)とポリオキシアルキレンジグリシジルエーテル(a13)とポリオキシアルキレンジアミン類(a14)とイソシアネート類(a15)とから選ばれる少なくとも1種の化合物(a1)と、エポキシ当量170〜500のエポキシ樹脂(a2)とビスフェノール類(a3)を、
化合物(a1)とエポキシ樹脂(a2)とビスフェノール類(a3)の固形分合計質量を基準にして、化合物(a1)が3〜70質量%、エポキシ樹脂(a2)が10〜80質量%、ビスフェノール類(a3)が10〜70質量%の割合で反応させて変性エポキシ樹脂(a4)を得た後、該変性エポキシ樹脂(a4)にアミン化合物(a5)を反応させてなる樹脂である請求項1に記載の複層皮膜形成方法。 - 皮膜形成剤槽(1)と皮膜形成剤槽(2)とを連続して具備する皮膜形成設備において、皮膜形成剤(1)を満たした第1段目の皮膜形成剤槽(1)に金属基材を浸漬して通電により金属基材上に皮膜(F1)を形成し、
次いで、水洗を施さないまま、該皮膜(F1)を形成した金属基材を、皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して電着塗装することを特徴とする請求項1に記載の複層皮膜形成方法;
皮膜形成剤(1):ジルコニウム化合物、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属から選ばれる少なくとも1種の金属(m)の化合物からなる金属化合物成分(M)を合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppm、並びにアミノ基含有エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドンおよびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる水分散性又は水溶性の樹脂組成物(B)0.1〜40質量%とを含む皮膜形成剤;
皮膜形成剤(2):カチオン性樹脂組成物とブロック化ポリイソシアネートの合計固形分質量を基準にして、カチオン性樹脂組成物50〜90質量%とブロック化ポリイソシアネート10〜50質量%を含む。 - 皮膜形成剤(2)が、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)とブロック化ポリイソシアネートの合計固形分質量を基準にして、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)40〜80質量%とブロック化ポリイソシアネート20〜60質量%を含む請求項1に記載の複層皮膜形成方法。
- 皮膜形成剤(1)における金属化合物成分(M)が、ジルコニウム化合物を必須成分として含有するものである請求項9に記載の複層皮膜形成方法。
- 皮膜形成剤槽(1)のpHが4.5〜8.0の範囲とすることを特徴とする請求項9に記載の複層皮膜形成方法。
- 皮膜形成剤槽(1)と皮膜形成剤槽(2)とを連続して具備する皮膜形成設備において、皮膜形成剤(1)を満たした第1段目の皮膜形成剤槽(1)に金属基材を浸漬して、通電を行わずに又は通電を行って、金属基材上に皮膜(F1)を形成し、
次いで、水洗を施さないままセッティングを施し、該皮膜(F1)を形成した金属基材を、皮膜形成剤(2)を満たした第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して電着塗装することを特徴とする請求項1に記載の複層皮膜形成方法。 - 金属基材を、第1段目の皮膜形成剤槽(1)に浸漬して1〜50Vの電圧(V1)で10〜360秒間通電した後、第2段目の皮膜形成剤槽(2)の電着塗装を50〜400Vの電圧(V2)で60〜600秒間の条件で行うことを特徴とする請求項13に記載の複層皮膜形成方法。
- 金属基材において、第1段目の皮膜形成剤槽(1)に10〜360秒間通電せずに浸漬した後、次いで、第2段目の皮膜形成剤槽(2)に浸漬して50〜400Vの電圧(V2)で60〜600秒間電着塗装することを特徴とする請求項13に記載の複層皮膜形成方法。
- 請求項1〜15のいずれか1項に記載の複層皮膜形成方法を用いた塗装物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008265309A JP5721307B2 (ja) | 2007-10-17 | 2008-10-14 | 複層皮膜形成方法及び塗装物品 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007269756 | 2007-10-17 | ||
JP2007269756 | 2007-10-17 | ||
JP2007304137 | 2007-11-26 | ||
JP2007304137 | 2007-11-26 | ||
JP2008265309A JP5721307B2 (ja) | 2007-10-17 | 2008-10-14 | 複層皮膜形成方法及び塗装物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009149974A JP2009149974A (ja) | 2009-07-09 |
JP5721307B2 true JP5721307B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=40562363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008265309A Active JP5721307B2 (ja) | 2007-10-17 | 2008-10-14 | 複層皮膜形成方法及び塗装物品 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9115440B2 (ja) |
JP (1) | JP5721307B2 (ja) |
CN (1) | CN101691666B (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITBO20090348A1 (it) * | 2009-05-28 | 2010-11-29 | Luciano Scarpellini | Composizione, procedimento ed impianto per il trattamento superficiale di metallo laminato |
JP5634145B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-12-03 | 関西ペイント株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
JP5725757B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2015-05-27 | 関西ペイント株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
JP5595131B2 (ja) * | 2010-06-10 | 2014-09-24 | 日本ペイント株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
JP5814520B2 (ja) * | 2010-07-06 | 2015-11-17 | 関西ペイント株式会社 | 皮膜形成方法 |
US8574414B2 (en) | 2010-07-14 | 2013-11-05 | Ppg Industries Ohio, Inc | Copper prerinse for electrodepositable coating composition comprising yttrium |
US8496762B2 (en) * | 2011-02-04 | 2013-07-30 | Roberto Zoboli | Aluminum treatment compositions |
JP5550580B2 (ja) * | 2011-02-10 | 2014-07-16 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理用組成物 |
JP6161243B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2017-07-12 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | 電着塗料組成物 |
CN102553789A (zh) * | 2012-03-06 | 2012-07-11 | 奇瑞汽车股份有限公司 | 一种前处理表调槽液的自动补充与更新系统及其工作方法 |
JP6085499B2 (ja) * | 2013-03-06 | 2017-02-22 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | 電着塗装方法 |
JP5657157B1 (ja) * | 2013-08-01 | 2015-01-21 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
JP6416688B2 (ja) * | 2013-08-13 | 2018-10-31 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
JP5828929B2 (ja) | 2013-08-13 | 2015-12-09 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
WO2015029757A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
CN104018198B (zh) * | 2014-06-10 | 2016-11-09 | 上海大学 | 一种电化学法用酚类衍生物-氨基多糖聚合物改性金属材料表面的方法 |
WO2016080483A1 (ja) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | 関西ペイント株式会社 | 熱硬化性塗料組成物 |
BR112017017343B1 (pt) * | 2015-02-13 | 2021-10-05 | Sanoh Industrial Co., Ltd | Tubo de metal revestido para tubulação de veículo e método para produzir o mesmo |
US10577710B2 (en) * | 2017-11-06 | 2020-03-03 | GM Global Technology Operations LLC | Method of coating body-in-white structure having at least one surface comprising an aluminum alloy |
CN108315728B (zh) * | 2017-12-21 | 2020-04-28 | 湖南芯能新材料有限公司 | 一种金属防腐处理剂及其应用方法 |
JP6779245B2 (ja) * | 2018-02-26 | 2020-11-04 | 株式会社大気社 | 電着塗装設備 |
CN111005051B (zh) * | 2018-10-08 | 2022-03-22 | 株洲中车时代电气股份有限公司 | 金属件表面复合涂层的制备方法 |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4457790A (en) * | 1983-05-09 | 1984-07-03 | Parker Chemical Company | Treatment of metal with group IV B metal ion and derivative of polyalkenylphenol |
AT381115B (de) * | 1985-02-26 | 1986-08-25 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung kathodisch abscheidbarer lackbindemittel |
US4867854A (en) * | 1986-09-24 | 1989-09-19 | The Dow Chemical Company | Controlled film build epoxy coatings applied by cathodic electrodeposition |
JPH0617293A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-01-25 | Kansai Paint Co Ltd | 塗膜形成方法 |
JPH0625567A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-02-01 | Nissan Motor Co Ltd | カチオン電着塗料組成物 |
JPH083483A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-09 | Kansai Paint Co Ltd | 塗装法 |
JPH0892508A (ja) | 1994-09-21 | 1996-04-09 | Shinto Paint Co Ltd | カチオン電着塗料用樹脂組成物 |
JPH10324997A (ja) | 1997-05-26 | 1998-12-08 | Nippon Paint Co Ltd | 電着塗膜のハジキ防止方法 |
JP2000017489A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-18 | Canon Inc | 重合膜の製造方法 |
US6168868B1 (en) * | 1999-05-11 | 2001-01-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Process for applying a lead-free coating to untreated metal substrates via electrodeposition |
DE60019073T2 (de) * | 1999-12-22 | 2006-02-02 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki | Kationische Beschichtungszusammensetzung |
JP3856367B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2006-12-13 | 関西ペイント株式会社 | カチオン性塗料組成物 |
JP3920880B2 (ja) * | 2000-10-11 | 2007-05-30 | 関西ペイント株式会社 | カチオン性塗料組成物 |
JP2002275691A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Kansai Paint Co Ltd | 自動車車体塗装方法 |
JP2002294165A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗料用ハジキ防止方法及びハジキ防止剤 |
TWI268965B (en) | 2001-06-15 | 2006-12-21 | Nihon Parkerizing | Treating solution for surface treatment of metal and surface treatment method |
JP2003012764A (ja) | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Kansai Paint Co Ltd | カチオン性樹脂の製造方法及びカチオン電着塗料 |
JP2003155578A (ja) | 2001-11-20 | 2003-05-30 | Toyota Motor Corp | 鉄及び/又は亜鉛系基材用化成処理剤 |
JP3820165B2 (ja) | 2002-03-04 | 2006-09-13 | 日本ペイント株式会社 | 金属表面処理用組成物 |
JP2003328192A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-11-19 | Kansai Paint Co Ltd | 複層電着塗膜形成方法及び塗装物品 |
KR100791701B1 (ko) * | 2002-10-01 | 2008-01-03 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 전착성 코팅 조성물 및 관련 방법 |
JP2004307776A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-11-04 | Dupont Shinto Automotive Systems Kk | カチオン性電着塗料用樹脂組成物 |
JP2005002370A (ja) | 2003-06-09 | 2005-01-06 | Nippon Paint Co Ltd | アルミニウム系基材の表面処理方法及び表面処理基材 |
JP2005105413A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-04-21 | Nippon Paint Co Ltd | エレクトリックスルーホールを形成するカチオン電着塗膜形成方法、及び、エレクトリックスルーホール形成性カチオン電着塗料 |
JP4575008B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2010-11-04 | 日本ペイント株式会社 | アルミ自動車車体の塗膜形成方法 |
JP4817709B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2011-11-16 | 関西ペイント株式会社 | 電着塗料 |
JP2006045560A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-02-16 | Kansai Paint Co Ltd | 重付加体及び該重付加体を含有するカチオン電着塗料 |
JP4096922B2 (ja) * | 2004-07-13 | 2008-06-04 | 日産自動車株式会社 | 塗装前処理方法及び塗装前処理装置 |
JP2006026497A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
JP4039405B2 (ja) | 2004-07-15 | 2008-01-30 | 日産自動車株式会社 | 塗装前処理方法 |
JP2006169471A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Kansai Paint Co Ltd | 電着塗料と該電着塗料を用いた電着塗装方法 |
JP2006239622A (ja) | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Nippon Fine Coatings Inc | 塗装方法及び金属塗装板 |
WO2006109862A1 (en) | 2005-04-07 | 2006-10-19 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method for forming multi-layer coating film |
JP2006342239A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗料組成物 |
JP2007246806A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Kansai Paint Co Ltd | カチオン電着塗料 |
JP5329814B2 (ja) * | 2007-01-29 | 2013-10-30 | 関西ペイント株式会社 | カチオン電着塗料組成物及び当該電着塗料を用いて塗装した物品 |
JP5060796B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2012-10-31 | 関西ペイント株式会社 | 表面処理皮膜の形成方法 |
-
2008
- 2008-10-14 JP JP2008265309A patent/JP5721307B2/ja active Active
- 2008-10-17 US US12/285,977 patent/US9115440B2/en active Active
- 2008-10-17 CN CN2008101499581A patent/CN101691666B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009149974A (ja) | 2009-07-09 |
US20090101512A1 (en) | 2009-04-23 |
CN101691666A (zh) | 2010-04-07 |
CN101691666B (zh) | 2011-11-02 |
US9115440B2 (en) | 2015-08-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5721307B2 (ja) | 複層皮膜形成方法及び塗装物品 | |
JP5725757B2 (ja) | カチオン電着塗料組成物 | |
JP5634145B2 (ja) | カチオン電着塗料組成物 | |
JP5060796B2 (ja) | 表面処理皮膜の形成方法 | |
JP5657157B1 (ja) | 複層皮膜形成方法 | |
WO2017138445A1 (ja) | カチオン電着塗料組成物の製造方法 | |
JP4825841B2 (ja) | 皮膜形成方法 | |
WO2016143706A1 (ja) | カチオン電着塗料組成物の調製方法 | |
JP5828929B2 (ja) | 複層皮膜形成方法 | |
JP4777099B2 (ja) | 複層塗膜形成方法 | |
WO2016143707A1 (ja) | カチオン電着塗料組成物 | |
JP2010214283A (ja) | 複層塗膜形成方法 | |
JP4777098B2 (ja) | 新規な複合化成皮膜を含む複層塗膜 | |
JP2006169471A (ja) | 電着塗料と該電着塗料を用いた電着塗装方法 | |
WO2015029757A1 (ja) | 複層皮膜形成方法 | |
JP7333198B2 (ja) | カチオン電着塗料組成物の調製方法 | |
JP6416688B2 (ja) | 複層皮膜形成方法 | |
JP5814520B2 (ja) | 皮膜形成方法 | |
JP2009108359A (ja) | 複層塗膜形成方法 | |
JP2010215955A (ja) | 複層塗膜形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110610 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140708 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150324 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5721307 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |