JP5612767B2 - 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 - Google Patents
透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5612767B2 JP5612767B2 JP2013521714A JP2013521714A JP5612767B2 JP 5612767 B2 JP5612767 B2 JP 5612767B2 JP 2013521714 A JP2013521714 A JP 2013521714A JP 2013521714 A JP2013521714 A JP 2013521714A JP 5612767 B2 JP5612767 B2 JP 5612767B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- transparent
- conductive film
- oxide
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/02—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
Claims (22)
- a)基材上に透明複合導電層を形成するステップとして、透明導電性酸化物(TCO、Transparent Conductive Oxide)、導電性金属体、および導電性ポリマーを含む有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層を形成するステップと、
b)前記有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層を乾燥および焼成するステップと、
を含み、
前記有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層は、一液型有機−無機ハイブリッド溶液で形成され、
前記一液型有機−無機ハイブリッド溶液は、透明導電性酸化物フレークを含む透明導電性酸化物溶液と、導電性金属体溶液と、導電性ポリマー溶液とを含んで製造されることを特徴とする透明導電膜の製造方法。 - 一液型有機−無機ハイブリッド溶液は、脱イオン水、有機溶媒、および界面活性剤の中から選択された1種以上をさらに含んで製造されることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機−無機ハイブリッド溶液は、導電性金属体溶液および導電性ポリマー溶液を有機溶媒に混合するステップと、透明導電性酸化物溶液を添加して混合するステップと、脱イオン水、有機溶媒、および界面活性剤を添加して混合するステップとを通じて製造されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性金属体は、ワイヤー、ロッドまたはファイバー形態で有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層に含まれることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性金属体溶液は、ワイヤー、ロッドまたはファイバー形態の導電性金属体を含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 基材は、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、ナイロン(Nylon)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAR)またはガラスであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- a)ステップ前に、基材を水洗、脱脂、プラズマ、イオンビーム、コロナ、酸化、還元、熱処理、エッチング、紫外線照射およびプライマから選択されるいずれか一つ以上で前処理するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- a)ステップにおいて透明複合導電層を形成する方法は、スピン(spin)コーティング、ロール(roll)コーティング、スプレーコーティング、ディップ(dip)コーティング、フロー(flow)コーティング、ドクターブレード(doctor blade)とディスペンシング(dispensing)、インクジェット印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、パッド(pad)印刷、グラビア印刷、フレキソ(flexography)印刷、ステンシル印刷、インプリンティング(imprinting)、ゼログラフィー(xerography)およびリソグラフィー(lithography)方法の中から選択されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 透明導電性酸化物は、スズ酸化物(tin oxide:SnO2)、アンチモンスズ酸化物(antimony tin oxide:ATO)、フッ素スズ酸化物(fluoro tin oxide:FTO)、亜鉛酸化物(ZnO)、アルミニウム亜鉛酸化物(aluminum zinc oxide、AZO)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO、Gallium Zinc Oxide)、BZO(Boron Zinc Oxide)、SZO(SiO2−ZnO)、インジウム酸化物(In2O3)、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、およびインジウム亜鉛酸化物(IZO、Indium Zinc Oxide)の中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性金属体は、銀ナノワイヤー、金ナノワイヤー、および金−銀合金ナノワイヤーの中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性ポリマーは、ポリアセチレン(polyacetylene)、ポリアニリン(polyaniline)、ポリピロール(polypyrrole)、ポリチオフェン(polythiophene)、ポリサルファーニトリド(polysulfurnitride)、ポリフェニレンスルフィド(polyphenylenesulfide)、ポリフェニレン(polyphenylene)、ポリフラン(polyfuran)、ポリフェニレンビニレン(polyphenylenevinylene)、ポリチエニレンビニレン(polythienylenevinylene)、ポリイソチアナフテン(polyisothianaphthen)、PEDOT(polyethylenedioxythiophene)、およびPEDOT/PSS(polystyrenesulfonate)の中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- b)ステップの乾燥および焼成は、熱処理ステップを含むことを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- a)基材上に透明複合導電層を形成するステップとして、透明導電性酸化物(TCO、Transparent Conductive Oxide)、導電性金属体、および導電性ポリマーを含む有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層を形成するステップと、
b)前記有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層を乾燥および焼成するステップと、
を含み、
前記有機−無機ハイブリッド型透明複合導電層は、一液型有機−無機ハイブリッド溶液で形成され、
前記一液型有機−無機ハイブリッド溶液は、透明導電性酸化物溶液と、ワイヤー、ロッドまたはファイバー形態の導電性金属体を含む導電性金属体溶液と、導電性ポリマー溶液とを含んで製造されることを特徴とする透明導電膜の製造方法。 - 一液型有機−無機ハイブリッド溶液は、脱イオン水、有機溶媒、および界面活性剤の中から選択された1種以上をさらに含んで製造されることを特徴とする、請求項13に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機−無機ハイブリッド溶液は、導電性金属体溶液および導電性ポリマー溶液を有機溶媒に混合するステップと、透明導電性酸化物溶液を添加して混合するステップと、脱イオン水、有機溶媒、および界面活性剤を添加して混合するステップとを通じて製造されることを特徴とする、請求項13又は14に記載の透明導電膜の製造方法。
- 基材は、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、ナイロン(Nylon)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAR)またはガラスであることを特徴とする、請求項13〜15のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- a)ステップ前に、基材を水洗、脱脂、プラズマ、イオンビーム、コロナ、酸化、還元、熱処理、エッチング、紫外線照射およびプライマから選択されるいずれか一つ以上で前処理するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項13〜16のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- a)ステップにおいて透明複合導電層を形成する方法は、スピン(spin)コーティング、ロール(roll)コーティング、スプレーコーティング、ディップ(dip)コーティング、フロー(flow)コーティング、ドクターブレード(doctor blade)とディスペンシング(dispensing)、インクジェット印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、パッド(pad)印刷、グラビア印刷、フレキソ(flexography)印刷、ステンシル印刷、インプリンティング(imprinting)、ゼログラフィー(xerography)およびリソグラフィー(lithography)方法の中から選択されることを特徴とする、請求項13〜17のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 透明導電性酸化物は、スズ酸化物(tin oxide:SnO 2 )、アンチモンスズ酸化物(antimony tin oxide:ATO)、フッ素スズ酸化物(fluoro tin oxide:FTO)、亜鉛酸化物(ZnO)、アルミニウム亜鉛酸化物(aluminum zinc oxide、AZO)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO、Gallium Zinc Oxide)、BZO(Boron Zinc Oxide)、SZO(SiO 2 −ZnO)、インジウム酸化物(In 2 O 3 )、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、およびインジウム亜鉛酸化物(IZO、Indium Zinc Oxide)の中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項13〜18のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性金属体は、銀ナノワイヤー、金ナノワイヤー、および金−銀合金ナノワイヤーの中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項13〜19のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電性ポリマーは、ポリアセチレン(polyacetylene)、ポリアニリン(polyaniline)、ポリピロール(polypyrrole)、ポリチオフェン(polythiophene)、ポリサルファーニトリド(polysulfurnitride)、ポリフェニレンスルフィド(polyphenylenesulfide)、ポリフェニレン(polyphenylene)、ポリフラン(polyfuran)、ポリフェニレンビニレン(polyphenylenevinylene)、ポリチエニレンビニレン(polythienylenevinylene)、ポリイソチアナフテン(polyisothianaphthen)、PEDOT(polyethylenedioxythiophene)、およびPEDOT/PSS(polystyrenesulfonate)の中から選択された1種以上であることを特徴とする、請求項13〜20のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- b)ステップの乾燥および焼成は、熱処理ステップを含むことを特徴とする、請求項13〜21のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20100074380A KR101489161B1 (ko) | 2010-07-30 | 2010-07-30 | 투명 도전막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 투명 도전막 |
KR10-2010-0074380 | 2010-07-30 | ||
PCT/KR2011/005564 WO2012015254A2 (ko) | 2010-07-30 | 2011-07-28 | 투명 도전막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 투명 도전막 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014148279A Division JP5869627B2 (ja) | 2010-07-30 | 2014-07-18 | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013539162A JP2013539162A (ja) | 2013-10-17 |
JP5612767B2 true JP5612767B2 (ja) | 2014-10-22 |
Family
ID=45530618
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013521714A Expired - Fee Related JP5612767B2 (ja) | 2010-07-30 | 2011-07-28 | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 |
JP2014148279A Expired - Fee Related JP5869627B2 (ja) | 2010-07-30 | 2014-07-18 | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014148279A Expired - Fee Related JP5869627B2 (ja) | 2010-07-30 | 2014-07-18 | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9230707B2 (ja) |
JP (2) | JP5612767B2 (ja) |
KR (1) | KR101489161B1 (ja) |
CN (1) | CN103140899B (ja) |
WO (1) | WO2012015254A2 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009035238A1 (de) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Behr Gmbh & Co. Kg | Solarkollektor und Verfahren zur Herstellung einer lichtabsorbierenden Oberfläche |
JP5419955B2 (ja) * | 2011-12-12 | 2014-02-19 | 株式会社東芝 | 透明導電材料、分散液、透明導電膜、及びそれらの製造方法 |
CN102569462A (zh) * | 2012-02-10 | 2012-07-11 | 无锡中洁能源技术有限公司 | 等离子体改性全聚酯太阳电池背膜及其生产工艺 |
KR101388682B1 (ko) * | 2012-04-30 | 2014-04-24 | 한국교통대학교산학협력단 | 은 나노와이어 및 그라핀을 이용한 하이브리드 전극 및 이의 제조방법 |
KR20140046923A (ko) | 2012-10-11 | 2014-04-21 | 제일모직주식회사 | 투명 도전체, 이를 제조하기 위한 조성물 및 이를 포함하는 광학표시 장치 |
JPWO2014080789A1 (ja) * | 2012-11-20 | 2017-01-05 | 横浜ゴム株式会社 | 低温焼成用導電性組成物および太陽電池セル |
CN103094416B (zh) * | 2013-01-21 | 2016-08-17 | 无锡中洁能源技术有限公司 | 一种光伏组件生产工艺 |
CN104051660A (zh) * | 2013-03-12 | 2014-09-17 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 一种复合阳极及其制备方法和有机电致发光器件及其制备方法 |
CN103236323A (zh) * | 2013-04-18 | 2013-08-07 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 金属纳米线和金属氧化物复合透明导电薄膜的制备方法 |
JP6171609B2 (ja) * | 2013-06-19 | 2017-08-02 | 東ソー株式会社 | 透明導電膜用塗工液及びこれを用いた透明導電膜 |
CN104575698B (zh) * | 2013-10-09 | 2018-07-31 | 精磁科技股份有限公司 | 透明导电膜结构 |
DE102013111267B4 (de) * | 2013-10-11 | 2019-10-24 | Schott Ag | Kochfeld mit einem transparenten elektrischen Leiter und Verfahren zur Herstellung |
CN103730194B (zh) * | 2013-12-13 | 2016-02-24 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种银纳米线基多层结构的复合透明导电薄膜的制备方法 |
CN103730195B (zh) * | 2013-12-13 | 2016-03-30 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种铜纳米线基多层结构的复合透明导电薄膜及其制备方法 |
TWI500048B (zh) | 2013-12-30 | 2015-09-11 | Ind Tech Res Inst | 透明導電膜組合物及透明導電膜 |
CN103865263B (zh) * | 2014-01-09 | 2016-05-11 | 常州大学 | 一种有机-无机复合红外隐身材料的制备方法 |
CN104575864A (zh) * | 2014-12-15 | 2015-04-29 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种直接制备金属氧化物/银纳米线复合导电网络的方法 |
KR20170018718A (ko) | 2015-08-10 | 2017-02-20 | 삼성전자주식회사 | 비정질 합금을 이용한 투명 전극 및 그 제조 방법 |
KR102404922B1 (ko) * | 2015-11-05 | 2022-06-08 | 한국전자통신연구원 | 투명전도성산화물 박막의 제조 방법 |
CN105336508A (zh) * | 2015-11-06 | 2016-02-17 | 东华大学 | 一种柔性的透明二硫化钼薄膜电极的制备方法 |
JP2017112051A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 東ソー株式会社 | 透明導電膜 |
CN105895736B (zh) * | 2016-03-15 | 2017-06-23 | 深圳市金耀辉科技有限公司 | 一种耐高温柔性衬底微晶硅薄膜的制备方法 |
KR102612902B1 (ko) | 2016-04-22 | 2023-12-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 투명 전도막 및 이를 포함하는 전자 소자 |
WO2018019813A1 (en) | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Basf Se | Transparent electroconductive layer and ink for production thereof |
KR102335627B1 (ko) * | 2016-08-11 | 2021-12-08 | 한국전자통신연구원 | 투명 전도성 구조체를 포함하는 전자 소자의 제조방법 |
CN106298066B (zh) * | 2016-08-17 | 2017-07-28 | 石狮市森科智能科技有限公司 | 一种柔性透明导电膜的制备方法 |
JP6910133B2 (ja) * | 2016-11-29 | 2021-07-28 | 旭化成株式会社 | ポリイミドフィルム積層体 |
CN108630708A (zh) * | 2017-03-15 | 2018-10-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 导电基板及其制作方法、显示装置 |
CN107134321A (zh) * | 2017-04-28 | 2017-09-05 | 成都川烯科技有限公司 | 一种基于石墨烯的复合柔性透明导电薄膜及其制备方法 |
CN107507676A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-12-22 | 南京工业大学 | 一种基于银纳米线和pedot的纸基柔性透明电极的快速制备方法 |
JP6782211B2 (ja) | 2017-09-08 | 2020-11-11 | 株式会社東芝 | 透明電極、それを用いた素子、および素子の製造方法 |
CN108417294A (zh) * | 2017-12-07 | 2018-08-17 | 浙江欧仁新材料有限公司 | 柔性透明导电电极 |
CN108485263A (zh) * | 2018-04-06 | 2018-09-04 | 菏泽学院 | 一种导电、透明高分子材料及其制备方法 |
CN108825078B (zh) * | 2018-06-13 | 2019-08-27 | 浙江西溪玻璃有限公司 | 一种调光隔热玻璃基板及其制备工艺 |
KR20200047809A (ko) | 2018-10-19 | 2020-05-08 | 한국성전(주) | Pedot를 이용한 차량 대시보드용 터치패널 |
KR20200055170A (ko) | 2018-11-07 | 2020-05-21 | 한국성전(주) | Pedot를 이용한 차량 대시보드용 터치패널 및 그 형성방법 |
CN109535469A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-29 | 长沙浩然医疗科技有限公司 | 一种导电薄膜的制备方法 |
KR20200079439A (ko) | 2018-12-24 | 2020-07-03 | 한국성전(주) | 도전성 폴리머를 이용한 차량용 터치패널 |
KR20200079357A (ko) | 2018-12-24 | 2020-07-03 | 한국성전(주) | Pedot를 이용한 차량 대시보드용 터치패널 및 그 형성방법 |
KR20200106237A (ko) | 2019-02-28 | 2020-09-14 | 한국성전(주) | 도전성 폴리머를 이용한 차량용 터치패널 |
KR20210003347A (ko) | 2019-07-01 | 2021-01-12 | 한국성전(주) | Pedot을 이용한 차량용 터치 패드 및 제조 방법 |
JP7442283B2 (ja) * | 2019-09-02 | 2024-03-04 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法および中間体 |
KR20210087599A (ko) | 2020-01-02 | 2021-07-13 | 한국성전(주) | 곡면 대상물에 대한 터치패드 설치 구조 및 방법 |
KR102378619B1 (ko) * | 2020-02-07 | 2022-03-23 | 한남대학교 산학협력단 | 용액공정을 이용한 유연기판 위 인듐-주석 산화물의 코팅방법 |
CN111933331A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-11-13 | 深圳市诺斯特新材料股份有限公司 | 一种透明导电膜及电子装置 |
JP2022042664A (ja) * | 2020-09-03 | 2022-03-15 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
CN112185606B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-04-01 | 深圳市法鑫忠信新材料有限公司 | 一种高分子柔性导电薄膜及其制备方法 |
CN115938647A (zh) * | 2022-12-02 | 2023-04-07 | 宁波碳源新材料科技有限公司 | 一种超高粘附力的银纳米线/铝掺杂氧化锌复合柔性透明导电薄膜及其制备方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5525578A (en) * | 1989-11-21 | 1996-06-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Herbicidal agents containing imidazole herbicide and ether sulfate surfactants |
JPH09115334A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Mitsubishi Materiais Corp | 透明導電膜および膜形成用組成物 |
KR100472496B1 (ko) * | 1997-07-23 | 2005-05-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 투명도전성조성물,이로부터형성된투명도전막및그제조방법 |
KR20000009405A (ko) | 1998-07-24 | 2000-02-15 | 김영남 | 투명한 전도성 광선택 흡수피막이 형성된화상표시면판 및 그제조방법과 그 도포용액 |
US6517958B1 (en) | 2000-07-14 | 2003-02-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic-inorganic hybrid light emitting devices (HLED) |
JP2003151362A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-05-23 | Toppan Printing Co Ltd | 導電膜および導電膜の製造方法 |
JP3876811B2 (ja) | 2001-11-02 | 2007-02-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電層形成用塗液の製造方法 |
JP2003238822A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-08-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 導電性樹脂組成物、積層体および積層体の製造方法 |
JP3988935B2 (ja) * | 2002-11-25 | 2007-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 網目状導電体及びその製造方法並びに用途 |
JP2005019056A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Toray Ind Inc | 複合透明導電性基材とそれを用いたディスプレイ |
CN100587857C (zh) | 2003-09-08 | 2010-02-03 | 住友金属矿山株式会社 | 透明导电层叠体与采用了该层叠体的有机el元件及它们的制造方法 |
ES2311666T3 (es) | 2003-12-01 | 2009-02-16 | Asulab S.A. | Sustrato transparente, con electrodos invisibles y dispositivos que lo incorporan. |
US20080223428A1 (en) * | 2004-04-19 | 2008-09-18 | Zeira Eitan C | All printed solar cell array |
NO20045674D0 (no) | 2004-12-28 | 2004-12-28 | Uni I Oslo | Thin films prepared with gas phase deposition technique |
JP2006286418A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tdk Corp | 透明導電体 |
US20090321364A1 (en) * | 2007-04-20 | 2009-12-31 | Cambrios Technologies Corporation | Systems and methods for filtering nanowires |
JP5507806B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2014-05-28 | 日東電工株式会社 | 導電性物質偏在ポリマー層を有する導電部材 |
KR20160010646A (ko) * | 2007-12-20 | 2016-01-27 | 시마 나노 테크 이스라엘 리미티드 | 충전제 재료를 포함하는 투명한 전도성 코팅 |
JP2009155570A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | カーボンナノチューブ含有組成物、これからなる塗膜を有する複合体およびその製造方法 |
JP5359132B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2013-12-04 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極及び該透明電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子 |
GB0817224D0 (en) * | 2008-09-19 | 2008-10-29 | Dupont Teijin Films Us Ltd | Coated polymeric substrates |
TW201013708A (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-01 | Efun Technology Co Ltd | Transparent conductive film and the application thereof |
WO2010082429A1 (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | パターン電極の製造方法及びパターン電極 |
JP5533669B2 (ja) * | 2009-01-19 | 2014-06-25 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、その製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
-
2010
- 2010-07-30 KR KR20100074380A patent/KR101489161B1/ko active IP Right Grant
-
2011
- 2011-07-28 US US13/813,247 patent/US9230707B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-28 JP JP2013521714A patent/JP5612767B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-28 CN CN201180037660.1A patent/CN103140899B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-28 WO PCT/KR2011/005564 patent/WO2012015254A2/ko active Application Filing
-
2014
- 2014-07-18 JP JP2014148279A patent/JP5869627B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120021451A (ko) | 2012-03-09 |
KR101489161B1 (ko) | 2015-02-06 |
CN103140899B (zh) | 2015-09-23 |
US20130126796A1 (en) | 2013-05-23 |
JP5869627B2 (ja) | 2016-02-24 |
JP2013539162A (ja) | 2013-10-17 |
JP2015008141A (ja) | 2015-01-15 |
WO2012015254A2 (ko) | 2012-02-02 |
US9230707B2 (en) | 2016-01-05 |
WO2012015254A3 (ko) | 2012-05-31 |
CN103140899A (zh) | 2013-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5612767B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 | |
Farraj et al. | Plasma-induced decomposition of copper complex ink for the formation of highly conductive copper tracks on heat-sensitive substrates | |
US9241411B2 (en) | Substrate having transparent electrode for flexible display and method of fabricating the same | |
Park et al. | High-resolution and large-area patterning of highly conductive silver nanowire electrodes by reverse offset printing and intense pulsed light irradiation | |
Schrage et al. | Flexible and transparent SWCNT electrodes for alternating current electroluminescence devices | |
WO2016082338A1 (zh) | 导电柔性基板及其制作方法与oled显示装置及其制作方法 | |
Zhang et al. | Electrical, mechanical, and electromagnetic shielding properties of silver nanowire‐based transparent conductive films | |
KR20130062176A (ko) | 투명 전극 필름 제조용 기재 필름 | |
KR20150118583A (ko) | 탄소 나노튜브 투명 복합전극의 제조 방법 | |
Kumar et al. | Transparent conductive Ta/Al/Ta-grid electrode for optoelectronic and electromagnetic interference shielding applications | |
JP5614101B2 (ja) | 導電性基板の製造方法 | |
Ohsawa et al. | Bending reliability of flexible transparent electrode of gravure offset printed invisible silver-grid laminated with conductive polymer | |
JP2009252437A (ja) | 透明導電性フィルム | |
Valasma et al. | Grid-type transparent conductive thin films of carbon nanotubes as capacitive touch sensors | |
Ohsawa et al. | Bending reliability of transparent electrode of printed invisible silver-grid/PEDOT: PSS on flexible epoxy film substrate for powder electroluminescent device | |
CN214012530U (zh) | 一种导电结构及电子设备 | |
KR101349342B1 (ko) | 용매처리를 통해 형성된 투명 전도성 필름 및 그 제조방법 | |
Liu et al. | PEDOT: PSS and AgNW synergistically contributed high electromagnetic shielding performance for polyurethane-based composite coating | |
KR20110040223A (ko) | 투명전극, 그 제조방법 및 이를 포함하는 전자장치 | |
KR101272713B1 (ko) | 2층 구조의 하이브리드 투명 전극 및 그 제조 방법 | |
KR101163940B1 (ko) | 금속 나노 입자를 함유한 전도성 고분자 전극 형성 방법 및 전극 물질 | |
JP2008235098A (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 | |
JP6264262B2 (ja) | 導電性シートおよび導電性基材 | |
JP5467178B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法及びそれにより製造される透明導電膜 | |
CN113241211B (zh) | 一种有机薄膜的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140512 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140519 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140613 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140718 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140818 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140904 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5612767 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |