JP5464354B2 - 光走査装置及び該光走査装置を備える画像形成装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光走査装置及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、偏光方向が異なる光を分離する偏光分離デバイスを有する光走査装置、及び該光走査装置を備える画像形成装置に関する。
電子写真の画像記録では、レーザを用いた画像形成装置が広く用いられている。この場合、画像形成装置は光走査装置を備え、偏向器(例えば、ポリゴンミラー)を用いて感光性を有するドラムの軸方向にレーザ光を走査しつつ、ドラムを回転させ、ドラムの表面に潜像を形成する方法が一般的である。
近年、画像形成装置において、カラー化、高速化が進み、感光性を有するドラム(感光体)を複数(通常は4つ)有するタンデム方式の画像形成装置が普及してきている。
タンデム方式の画像形性装置の場合、光走査装置を用いた書込ユニットで複数の感光体に光書込みを行うために、どうしても光走査装置の光源数が増えてしまい(例えば感光体が4つの場合には、通常4つの光源が必要となる)、それに伴い、部品点数の増加、コストアップ等の問題が生じてしまう。
タンデム方式の画像形性装置の場合、光走査装置を用いた書込ユニットで複数の感光体に光書込みを行うために、どうしても光走査装置の光源数が増えてしまい(例えば感光体が4つの場合には、通常4つの光源が必要となる)、それに伴い、部品点数の増加、コストアップ等の問題が生じてしまう。
タンデム方式の画像形成装置に用いる光走査装置で光源の数を増やさない工夫がなされた例がある(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の技術ではピラミダルミラー又は平板ミラーを用いて、共通の光源からのビームが異なる被走査面を走査するようにしている。しかし、この方法では、光源数は低減できるが、偏向ミラーの面数は最大2面までになり、高速化に対して問題が残る。
また、上記の問題を解決するため、光源からの1本の光束を光束分割手段で副走査方向にずらした2本の光束に分割し、互いに角度をずらして重ねた2枚のポリゴンミラーを同軸に回転させる偏向手段で走査し、相異なる2本の被走査面を走査する構成の光走査装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
この特許文献2に記載の技術では、共通の光源からのビームが異なる被走査面を走査する手段として位相をずらして2段に重ねたポリゴンミラーを用いようとするものであるが、位相をずらしたポリゴンミラーは汎用品ではなく、コストアップが懸念される。また、ポリゴンミラーの加工性も要求され、それぞれの段の面倒れが異なることや面精度も異なることから画像品質の劣化が懸念される。
また、光源からの1本の光束を光束分割手段で主走査方向に分割し、4面の反射面を有する偏向器に開き角π/2を有して入射するように、入射ミラーを介して分割した2本の光束を入射させ、共通の光源からのビームが相異なる被走査面を走査する構成の光走査装置が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
また、タンデム方式ではドラム数の増加に伴い画像形成装置が大型化する傾向にあり、光走査装置を含め小型化が求められている。小型化のためには、偏向器から各ドラムに向かう走査光の複数の光路を重ね合わせることが有効である。
例えば、特許文献4には、偏光方向の異なる複数の光ビームを出射する光源装置と、該光源装置から出射された複数の光ビームを主走査方向に偏向走査する単一の光偏向手段と、複数の光ビームをそれぞれ対応する複数の被走査面に向かって集光する走査結像手段と、光偏向手段から被走査面までの光路中に設けられ、複数の光ビームの光路を該光ビームの偏光方向に応じて分岐する光路分岐手段であって、光ビームの波長と同等またはそれ以下のピッチからなる凹凸構造部が形成された光学素子と、を備えた光走査装置が開示されている。
例えば、特許文献4には、偏光方向の異なる複数の光ビームを出射する光源装置と、該光源装置から出射された複数の光ビームを主走査方向に偏向走査する単一の光偏向手段と、複数の光ビームをそれぞれ対応する複数の被走査面に向かって集光する走査結像手段と、光偏向手段から被走査面までの光路中に設けられ、複数の光ビームの光路を該光ビームの偏光方向に応じて分岐する光路分岐手段であって、光ビームの波長と同等またはそれ以下のピッチからなる凹凸構造部が形成された光学素子と、を備えた光走査装置が開示されている。
特許文献3に示されている光走査装置では、複数の被走査面に向かって複数の光ビームを分離するために、複数の光ビーム間の距離を離して分離する必要がある。
その方法として、複数の光ビームを偏向器の回転軸に対して互いに異なる角度で斜めに入射させて、偏向器で反射した光ビームが所定の距離に離れたところにおいて分離ミラーで分離する方法がある。この方法を用いると、走査レンズに対して光線が斜めに入射することになり、走査線曲がりなどの光学特性が劣化するおそれがある。
その他の方法として、偏向器の回転軸に対して垂直に入射させ、偏向器上で複数のビームを離しておき、その後分離ミラーで分離する方法がある。この方法を用いる場合、偏向器上で複数の光ビームを離して入射させるために偏向器を大きくする必要があり、偏向器のコストが増大してしまう。
また、いずれの方法を用いても複数の光ビームを分離するスペースが必要なため光走査装置の大型化は免れ得ない。
一方、特許文献4に示されている光走査装置では光源数は減らないため、光源部のコストを抑えることは出来ない。
その方法として、複数の光ビームを偏向器の回転軸に対して互いに異なる角度で斜めに入射させて、偏向器で反射した光ビームが所定の距離に離れたところにおいて分離ミラーで分離する方法がある。この方法を用いると、走査レンズに対して光線が斜めに入射することになり、走査線曲がりなどの光学特性が劣化するおそれがある。
その他の方法として、偏向器の回転軸に対して垂直に入射させ、偏向器上で複数のビームを離しておき、その後分離ミラーで分離する方法がある。この方法を用いる場合、偏向器上で複数の光ビームを離して入射させるために偏向器を大きくする必要があり、偏向器のコストが増大してしまう。
また、いずれの方法を用いても複数の光ビームを分離するスペースが必要なため光走査装置の大型化は免れ得ない。
一方、特許文献4に示されている光走査装置では光源数は減らないため、光源部のコストを抑えることは出来ない。
そこで、本発明は、以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであり、高コスト化を招くことなく、小型で高品質の画像を形成することができる光走査装置及び該光走査装置を備える画像形成装置を提供することを目的とする。
しかして、上記課題を解決するために本発明に係る光走査装置及び該光走査装置を備える画像形成装置は、具体的には下記(1)〜(8)に記載の技術的特徴を有する。
(1):光束により複数の被走査面を走査する光走査装置であって、互いに偏光方向が異なる第1光束及び第2光束を含む複数の光束を出力する光源ユニットと、該光源ユニットから射出された第1光束及び第2光束それぞれを分割するビームスプリッタと、分割された第1光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させ、且つ、分割された第2光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させる入射光学系と、該入射光学系から入射した分割された第1光束のそれぞれ及び分割された第2光束のそれぞれを、各々偏向する偏向器と、該偏向器で偏向された複数の光束を偏光方向の差により分離する光分離デバイスを含み、当該分離された複数の光束それぞれを対応する被走査面上に個別に集光する走査光学系と、を備えることを特徴とする光走査装置である。
(1):光束により複数の被走査面を走査する光走査装置であって、互いに偏光方向が異なる第1光束及び第2光束を含む複数の光束を出力する光源ユニットと、該光源ユニットから射出された第1光束及び第2光束それぞれを分割するビームスプリッタと、分割された第1光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させ、且つ、分割された第2光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させる入射光学系と、該入射光学系から入射した分割された第1光束のそれぞれ及び分割された第2光束のそれぞれを、各々偏向する偏向器と、該偏向器で偏向された複数の光束を偏光方向の差により分離する光分離デバイスを含み、当該分離された複数の光束それぞれを対応する被走査面上に個別に集光する走査光学系と、を備えることを特徴とする光走査装置である。
上記(1)にかかる構成によれば、ビームスプリッタで光束を(2つに)分割し偏向器に向かってπ/2の角度差をつけて当該偏向器における異なる偏光面に入射させることにより、1つの光源で2つの被走査面の光走査を行えることにより光減数を半減出来る。また、偏向器の後で光分離デバイスにより省スペースで光分離を出来るため、光走査装置を小型化することが出来る。
(2):前記ビームスプリッタからの射出光が全て同一平面内にあることを特徴とする上記(1)に記載の光走査装置である。
上記(2)にかかる構成によれば、ビームスプリッタで分割された(2つの)射出光を同一平面内にすることで、偏向器に向かって水平入射とすることが出来、斜入射光学系と比較して走査線曲がりなどの光学特性を劣化させにくい。また、副走査方向に光束が広がらないため光走査装置を小型化することが出来る。
(3):前記ビームスプリッタで分割された第1光束または第2光束の偏光方向が、当該ビームスプリッタで分割された第1光束または第2光束を含む平面に対して水平もしくは垂直であることを特徴とする上記(2)に記載の光走査装置である。
上記(3)にかかる構成によれば、光分離デバイスへ入射させる光束の偏光状態を劣化させず、分離性が向上する。
(4):前記ビームスプリッタが、入射光の偏光状態を変化させずに光束を分割することを特徴とする上記(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の光走査装置である。
上記(4)にかかる構成によれば、ビームスプリッタで偏光が変化することを考慮せずに、ビームスプリッタ前の光学系を決めることが出来るため、設計の自由度が高まる。一例としては光源を一つのユニットでまとめることが可能となる。
(5):前記ビームスプリッタが、偏光ビームスプリッタであることを特徴とする上記(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の光走査装置である。
上記(5)にかかる構成によれば、ビームスプリッタを射出する時点で第1光束と第2光束を確実に直交する直線偏光とすることが出来る。
(6):前記ビームスプリッタよりも前の光路に、λ/2板または旋光子を備えることを特徴とする上記(4)または(5)に記載の光走査装置である。
上記(6)にかかる構成によれば、光源から射出される偏光方向に傾きや回転があってもビームスプリッタに入射させる光束の偏光状態を揃えることが出来る。
(7):前記光分離デバイスが、ワイヤーグリッドであることを特徴とする上記(1)乃至(6)のいずれか1項に記載の光走査装置である。
上記(7)にかかる構成によれば、ワイヤーグリッドを用いることで光利用効率が良く、また、光分離性能が高い。
(8):上記(1)乃至(7)のいずれか1項に記載の光走査装置を備えることを特徴とするカラー画像形成装置である。
上記(8)にかかる構成によれば、光源数を半減し、小型化した光走査装置を備えることで、低コストかつ小型なカラー画像形成装置を提供することが可能となる。
本発明によれば、高コスト化を招くことなく、小型で高品質の画像を形成することができる光走査装置及び該光走査装置を備える画像形成装置を提供することができる。
本発明に係る光走査装置は、光束により複数の被走査面2030を走査する光走査装置2010であって、互いに偏光方向が異なる第1光束及び第2光束を含む複数の光束を出力する光源ユニットLU1と、該光源ユニットLU1から射出された第1光束及び第2光束それぞれを分割するビームスプリッタ30と、分割された第1光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器14に入射させ、且つ、分割された第2光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器14に入射させる入射光学系(12,13)と、該入射光学系(12,13)から入射した分割された第1光束のそれぞれ及び分割された第2光束のそれぞれを、各々偏向する偏向器14と、該偏向器14で偏向された複数の光束を偏光方向の差により分離する光分離デバイス16を含み、当該分離された複数の光束それぞれを対応する被走査面2030上に個別に集光する走査光学系(15〜18)と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係る画像形成装置は、上記光走査装置2010を備えることを特徴とする。
また、本発明に係る画像形成装置は、上記光走査装置2010を備えることを特徴とする。
次に、本発明に係る光走査装置、及び該光走査装置を備える画像形成装置についてさらに詳細に説明する。
尚、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるから技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は以下の説明において本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
尚、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるから技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は以下の説明において本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
以下、本発明の一実施形態を図1〜図34に基づいて説明する。
図1には、本発明の画像形成装置の一実施形態に係るカラープリンタ2000の概略構成が示されている。
このカラープリンタ2000は、4色(ブラック、シアン、マゼンタ、イエロー)を重ね合わせてフルカラーの画像を形成するタンデム方式の多色カラープリンタであり、光走査装置2010、4つの感光体ドラム(2030a、2030b、2030c、2030d)、4つのクリーニングユニット(2031a、2031b、2031c、2031d)、4つの帯電チャージャ(2032a、2032b、2032c、2032d)、4つの現像ローラ(2033a、2033b、2033c、2033d)、4つのトナーカートリッジ(2034a、2034b、2034c、2034d)、転写ベルト2040、定着ローラ2050、給紙コロ2054、レジストローラ対2056、排紙ローラ2058、給紙トレイ2060、排紙トレイ2070、通信制御装置2080、及び上記各部を統括的に制御するプリンタ制御装置2090などを備えている。
図1には、本発明の画像形成装置の一実施形態に係るカラープリンタ2000の概略構成が示されている。
このカラープリンタ2000は、4色(ブラック、シアン、マゼンタ、イエロー)を重ね合わせてフルカラーの画像を形成するタンデム方式の多色カラープリンタであり、光走査装置2010、4つの感光体ドラム(2030a、2030b、2030c、2030d)、4つのクリーニングユニット(2031a、2031b、2031c、2031d)、4つの帯電チャージャ(2032a、2032b、2032c、2032d)、4つの現像ローラ(2033a、2033b、2033c、2033d)、4つのトナーカートリッジ(2034a、2034b、2034c、2034d)、転写ベルト2040、定着ローラ2050、給紙コロ2054、レジストローラ対2056、排紙ローラ2058、給紙トレイ2060、排紙トレイ2070、通信制御装置2080、及び上記各部を統括的に制御するプリンタ制御装置2090などを備えている。
通信制御装置2080は、ネットワークなどを介した上位装置(例えばパソコン)との双方向の通信を制御する。
感光体ドラム2030a、帯電チャージャ2032a、現像ローラ2033a、トナーカートリッジ2034a、及びクリーニングユニット2031aは、組として使用され、ブラックの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Kステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030b、帯電チャージャ2032b、現像ローラ2033b、トナーカートリッジ2034b、及びクリーニングユニット2031bは、組として使用され、シアンの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Cステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030c、帯電チャージャ2032c、現像ローラ2033c、トナーカートリッジ2034c、及びクリーニングユニット2031cは、組として使用され、マゼンタの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Mステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030d、帯電チャージャ2032d、現像ローラ2033d、トナーカートリッジ2034d、及びクリーニングユニット2031dは、組として使用され、イエローの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Yステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030b、帯電チャージャ2032b、現像ローラ2033b、トナーカートリッジ2034b、及びクリーニングユニット2031bは、組として使用され、シアンの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Cステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030c、帯電チャージャ2032c、現像ローラ2033c、トナーカートリッジ2034c、及びクリーニングユニット2031cは、組として使用され、マゼンタの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Mステーション」ともいう)を構成する。
感光体ドラム2030d、帯電チャージャ2032d、現像ローラ2033d、トナーカートリッジ2034d、及びクリーニングユニット2031dは、組として使用され、イエローの画像を形成する画像形成ステーション(以下では、便宜上「Yステーション」ともいう)を構成する。
各感光体ドラム2030はいずれも、その表面に感光層が形成されている。すなわち、各感光体ドラムの表面がそれぞれ被走査面である。なお、各感光体ドラムは、不図示の回転機構により、図1における面内で矢印方向に回転するものとする。また、本明細書では、XYZ3次元直交座標系において、各感光体ドラムの長手方向(軸方向)に沿った方向をY軸方向、4つの感光体ドラムの配列方向に沿った方向をX軸方向として説明する。なお、図1において示すが如く、紙面垂直方向がY軸方向(:感光体ドラムの長手方向)、左右方向がX軸方向(:感光体ドラムの配列方向)、上下方向がZ軸方向(:XY平面に垂直方向)である。
各帯電チャージャ2032は、対応する感光体ドラムの表面をそれぞれ均一に帯電させる。
光走査装置2010は、上位装置からの多色の画像情報(ブラック画像情報、シアン画像情報、マゼンタ画像情報、イエロー画像情報)に基づいて、各色毎に変調された光束を、対応する帯電された感光体ドラム2030の表面にそれぞれ照射する。これにより、各感光体ドラム2030の表面では、光が照射された部分だけ電荷が消失し、画像情報に対応した潜像が各感光体ドラムの表面にそれぞれ形成される。ここで形成された潜像は、感光体ドラム2030の回転に伴って対応する現像ローラ2033の方向に移動する。なお、この光走査装置2010の構成については後述する。
トナーカートリッジ2034aにはブラックトナーが格納されており、該トナーは現像ローラ2033aに供給される。トナーカートリッジ2034bにはシアントナーが格納されており、該トナーは現像ローラ2033bに供給される。トナーカートリッジ2034cにはマゼンタトナーが格納されており、該トナーは現像ローラ2033cに供給される。トナーカートリッジ2034dにはイエロートナーが格納されており、該トナーは現像ローラ2033dに供給される。
各現像ローラ2033は、回転に伴って、対応するトナーカートリッジ2034らのトナーが、その表面に薄く均一に塗布される。そして、各現像ローラ2033の表面のトナーは、対応する感光体ドラム2030の表面に接すると、該表面における光が照射された部分にだけ移行し、そこに付着する。すなわち、各現像ローラ2033は、対応する感光体ドラム2030の表面に形成された潜像にトナーを付着させて顕像化させる。ここでトナーが付着した像(以下、便宜上「トナー画像」という)は、感光体ドラム2030の回転に伴って転写ベルト2040の方向に移動する。
イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各トナー画像は、所定のタイミングで各感光体ドラム2030上から転写ベルト2040上に1色ずつ順次転写され、当該転写ベルト2040上で重ね合わされてカラー画像が形成される。
給紙トレイ2060には記録紙が格納されている。この給紙トレイ2060の近傍には給紙コロ2054が配置されており、該給紙コロ2054は、記録紙を給紙トレイ2060から1枚ずつ取り出し、レジストローラ対2056に搬送する。該レジストローラ対2056は、所定のタイミングで記録紙を転写ベルト2040に向けて送り出す。これにより、転写ベルト2040上のカラー画像が記録紙に転写される。ここで転写された記録紙は、定着ローラ2050に送られる。
定着ローラ2050では、熱と圧力とが記録紙に加えられ、これによってトナーが記録紙上に定着される。ここで定着された記録紙は、排紙ローラ2058を介して排紙トレイ2070に送られ、排紙トレイ2070上に順次スタックされる。
各クリーニングユニット2031は、対応する感光体ドラム2030の表面における転写ベルト2040への転写後に残ったトナー(残留トナー)を除去する。残留トナーが除去された感光体ドラム2030の表面は、再度対応する帯電チャージャ2032に対向する位置に戻る。
以上で一連の画像形成プロセスを終え、これを繰り返すことで複数枚の記録紙への画像形成が行われる。
以上で一連の画像形成プロセスを終え、これを繰り返すことで複数枚の記録紙への画像形成が行われる。
次に、前記光走査装置2010の構成について具体例を挙げてさらに詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図2は本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における構成を示す概略上面図、図3は本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における構成を示す概略正面図である。
この光走査装置2010は、一例として図2及び図3に示されるように、光源ユニット(LU1)、2つのシリンドリカルレンズ(121、122)、ポリゴンミラー(偏向器)14、2つのfθレンズ(151、152)、2つの偏光分離デバイス(光分離デバイス)(161、162)、2つの反射ミラー(171、172)、複数の折り返しミラー(18a、18b1、18b2、18c1、18c2、18d)、4つのアナモフィックレンズ(19a、19b、19c、19d)及び不図示の走査制御装置を有している。なお、以下では、便宜上、主走査方向に対応する方向を「主走査対応方向」と略述し、副走査方向に対応する方向を「副走査対応方向」と略述する。
(第1の実施の形態)
図2は本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における構成を示す概略上面図、図3は本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における構成を示す概略正面図である。
この光走査装置2010は、一例として図2及び図3に示されるように、光源ユニット(LU1)、2つのシリンドリカルレンズ(121、122)、ポリゴンミラー(偏向器)14、2つのfθレンズ(151、152)、2つの偏光分離デバイス(光分離デバイス)(161、162)、2つの反射ミラー(171、172)、複数の折り返しミラー(18a、18b1、18b2、18c1、18c2、18d)、4つのアナモフィックレンズ(19a、19b、19c、19d)及び不図示の走査制御装置を有している。なお、以下では、便宜上、主走査方向に対応する方向を「主走査対応方向」と略述し、副走査方向に対応する方向を「副走査対応方向」と略述する。
図4は本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における光源ユニットLU1の構成を示す概略図である。また、図5は、図4に示す2つの光源10a,10bの配置構成の一例を示す概略図である。
光源ユニットLU1は、一例として図4に示されるように、2つの光源(10a、10b)、及び2つのコリメートレンズ(11a、11b)を有している。
光源10a及び光源10bは、同等の光源である。そして、光源10a及び光源10bは、それらの出力光の偏光方向が互いに直交するように回路基板上に配置されている。すなわち、一例として図5に示されるように、各光源は、一方の光源に対して他方の光源が90°回転した姿勢で基板に実装されている。ここでは、光源10aからP偏光(第1光束)が出力され、光源10bからS偏光(第2光束)が出力される。
コリメートレンズ11aは、光源10aからの光束(LBa)の光路上に配置され、該光束LBaを略平行光とする。
コリメートレンズ11bは、光源10bからの光束(LBb)の光路上に配置され、該光束LBbを略平行光とする。
光源ユニットLU1は、一例として図4に示されるように、2つの光源(10a、10b)、及び2つのコリメートレンズ(11a、11b)を有している。
光源10a及び光源10bは、同等の光源である。そして、光源10a及び光源10bは、それらの出力光の偏光方向が互いに直交するように回路基板上に配置されている。すなわち、一例として図5に示されるように、各光源は、一方の光源に対して他方の光源が90°回転した姿勢で基板に実装されている。ここでは、光源10aからP偏光(第1光束)が出力され、光源10bからS偏光(第2光束)が出力される。
コリメートレンズ11aは、光源10aからの光束(LBa)の光路上に配置され、該光束LBaを略平行光とする。
コリメートレンズ11bは、光源10bからの光束(LBb)の光路上に配置され、該光束LBbを略平行光とする。
図2に戻り、略平行光束LBaは、光束分離手段としてのビームスプリッタ30にて反射光LBa1と透過光LBa2に分離される。
略平行光束LBbは、光束分離手段としてのビームスプリッタ30にて反射光LBb1と透過光LBb2に分離される。
ビームスプリッタ30で分割された光束LBa1、LBa2、LBb1、LBb2は全て同一平面内にあり、ポリゴンミラー回転軸に垂直である。
略平行光束LBbは、光束分離手段としてのビームスプリッタ30にて反射光LBb1と透過光LBb2に分離される。
ビームスプリッタ30で分割された光束LBa1、LBa2、LBb1、LBb2は全て同一平面内にあり、ポリゴンミラー回転軸に垂直である。
シリンドリカルレンズ121は、光束LBa1と光束LBb1を、入射ミラー131を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
シリンドリカルレンズ122は、光束LBa2と光束LBb2を、入射ミラー132を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
光束LBa1と光束LBb1は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
光束LBa2と光束LBb2は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
ビームスプリッタ30により分割された光束LBa1、LBa2、LBb1、LBb2は、入射光学系を構成するシリンドリカルレンズ121、シリンドリカルレンズ122、入射ミラー131、入射ミラー132により、光束LBa1と光束LBb1とが互いに略π/2の角度差をつけるように、且つ、光束LBa2と光束LBb2とが互いに略π/2の角度差をつけるようにして、ポリゴンミラー14に入射される。
シリンドリカルレンズ122は、光束LBa2と光束LBb2を、入射ミラー132を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
光束LBa1と光束LBb1は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
光束LBa2と光束LBb2は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
ビームスプリッタ30により分割された光束LBa1、LBa2、LBb1、LBb2は、入射光学系を構成するシリンドリカルレンズ121、シリンドリカルレンズ122、入射ミラー131、入射ミラー132により、光束LBa1と光束LBb1とが互いに略π/2の角度差をつけるように、且つ、光束LBa2と光束LBb2とが互いに略π/2の角度差をつけるようにして、ポリゴンミラー14に入射される。
ポリゴンミラー14への光束LBa1、LBa2、LBb1、LBb2は全て水平入射で、副走査方向に重なって入射されるためにポリゴン14の反射面を副走査方向に薄く出来る。そのためにポリゴンのコストを下げることが可能となるだけでなく、斜入射と比較して走査線曲がりなどの光学性能を劣化させにくい。
図6は分割光による光走査を説明するための図である。
図6に示すように共通の光源(10aあるいは10b)からの入射光は偏向器14の異なる面に入射するようにしており、互いの入射光の角度差をπ/2つけている(図中の入射光x,入射光y)。互いの入射光の角度差がπ/2近傍であれば分割された光束が同時に有効走査領域(A,B)を走査することがない。
図6に示すように共通の光源(10aあるいは10b)からの入射光は偏向器14の異なる面に入射するようにしており、互いの入射光の角度差をπ/2つけている(図中の入射光x,入射光y)。互いの入射光の角度差がπ/2近傍であれば分割された光束が同時に有効走査領域(A,B)を走査することがない。
例として、図6(a)に示す上側の有効走査領域Aを走査している時(反射光aが反射光b、反射光cの順で走査される時)の図6に示す下側の反射光について説明する。
上側の入射光xが反射光aとなる時は、図6(b)に示すように下側の反射光a’は入射光xと入射光yの角度差がπ/2なので有効走査領域Bに入らない。偏向器14が回転して上側の入射光xが反射光bとなる時は、図6(c)に示すように下側の反射光はb’となり有効走査領域Bに入らない。また、さらに偏向器14が回転して、上側の入射光xが反射光cとなる時も、図6(d)に示すように下側の反射光はc’となり有効走査領域Bに入らない。
上側の入射光xが反射光aとなる時は、図6(b)に示すように下側の反射光a’は入射光xと入射光yの角度差がπ/2なので有効走査領域Bに入らない。偏向器14が回転して上側の入射光xが反射光bとなる時は、図6(c)に示すように下側の反射光はb’となり有効走査領域Bに入らない。また、さらに偏向器14が回転して、上側の入射光xが反射光cとなる時も、図6(d)に示すように下側の反射光はc’となり有効走査領域Bに入らない。
すなわち、図6(b)から図6(c)を経て図6(d)まで下側の反射光(a’〜b’〜c’)は、有効走査領域Bに入らないことが分かる。これは、入射光xと入射光yの角度差がπ/2であり、偏向器14の面数が4面であるため、反射光の角度差が必ずπ/2になることで、有効走査領域Aと有効走査領域Bとを同時に走査することがなくなるものである。
この上側の入射光xが有効走査領域A内を走査している時は、下側の入射光yは有効走査領域B外を走査しており、感光体2030の被走査面上を走査しない構成となっているが、かかる構成は入射光xと入射光yとの角度差が厳密にπ/2であることを要するものではなく、少しずれていてもかまわない。(図6に示す配置構成から自明である。)
逆に下側の入射光yが有効走査領域B内を走査している時は、上側の入射光xは有効走査領域A外を走査しており、感光体2030の被走査面上を走査しないことも上下対称配置となっているため自明である。
この上側の入射光xが有効走査領域A内を走査している時は、下側の入射光yは有効走査領域B外を走査しており、感光体2030の被走査面上を走査しない構成となっているが、かかる構成は入射光xと入射光yとの角度差が厳密にπ/2であることを要するものではなく、少しずれていてもかまわない。(図6に示す配置構成から自明である。)
逆に下側の入射光yが有効走査領域B内を走査している時は、上側の入射光xは有効走査領域A外を走査しており、感光体2030の被走査面上を走査しないことも上下対称配置となっているため自明である。
光源(10aあるいは10b)の変調駆動は上側の入射光xが有効走査領域A内を走査している時は対応する色(例えばブラック)の画像情報に基づき光源の変調駆動を行う。さらに、下側の入射光yが有効走査領域B内を走査している時は対応する色(例えばイエロー)の画像情報に光源(10aあるいは10b)の変調駆動を行うことで、共通の光源で2色分の画像を走査することが可能となり、光源のコストを半減することが可能となる。
図7は複数色用の露光のタイミングチャートである。図7において縦軸は光量、横軸は時間をそれぞれ表す。
共通の光源(10aあるいは10b)によりブラックとイエローの露光を行い、なおかつ、有効走査領域A,Bにおいて、それぞれ全点灯する場合のタイムチャートを図7に示す。実線がブラックに相当する部分、点線がイエローに相当する部分を示す。ブラック、イエローにおける、書き出しのタイミングは、有効走査領域A,B外に配備される同期受光手段で走査ビームを検知することにより決定される。なお、同期受光手段は図示されていないが、通常はフォトダイオードが用いられる。
共通の光源(10aあるいは10b)によりブラックとイエローの露光を行い、なおかつ、有効走査領域A,Bにおいて、それぞれ全点灯する場合のタイムチャートを図7に示す。実線がブラックに相当する部分、点線がイエローに相当する部分を示す。ブラック、イエローにおける、書き出しのタイミングは、有効走査領域A,B外に配備される同期受光手段で走査ビームを検知することにより決定される。なお、同期受光手段は図示されていないが、通常はフォトダイオードが用いられる。
図8は色によって露光量を異ならせるためのタイミングチャートである。
図7ではブラックの領域とイエローの領域とで、光量を同じに設定しているが、実際には光学素子の透過率、反射率が相対的に異なるため、光源の光量を同じにしてしまうと、感光体2030に到達するビームの光量が異なってしまう。そこで、図8に示すように、異なる感光体2030の被走査面を走査するときに互いの設定光量を異ならせることにより、異なる感光体2030の被走査面上に到達するビーム光量を等しくできる。
図7ではブラックの領域とイエローの領域とで、光量を同じに設定しているが、実際には光学素子の透過率、反射率が相対的に異なるため、光源の光量を同じにしてしまうと、感光体2030に到達するビームの光量が異なってしまう。そこで、図8に示すように、異なる感光体2030の被走査面を走査するときに互いの設定光量を異ならせることにより、異なる感光体2030の被走査面上に到達するビーム光量を等しくできる。
ポリゴンミラー14は、それぞれがZ軸に平行な反射面4つからなる4面鏡を有し、各鏡がそれぞれ偏向反射面となる。
このポリゴンミラー14は、Z軸方向に平行な軸の周りに等速回転し、各シリンドリカルレンズ(121,122)からの光束をXY平面に平行な面内で等角速度的に偏向する。ここでは、シリンドリカルレンズ121からの光束はポリゴンミラー14の−X側に偏向され、シリンドリカルレンズ122からの光束はポリゴンミラー14の+X側に偏向される。なお、ポリゴンミラー14の偏向反射面で偏向された光束が経時的に形成する光線束面は、「偏向面」と呼ばれている(特開平11−202252号公報参照)。ここでは、偏向面はXY面に平行である。
このポリゴンミラー14は、Z軸方向に平行な軸の周りに等速回転し、各シリンドリカルレンズ(121,122)からの光束をXY平面に平行な面内で等角速度的に偏向する。ここでは、シリンドリカルレンズ121からの光束はポリゴンミラー14の−X側に偏向され、シリンドリカルレンズ122からの光束はポリゴンミラー14の+X側に偏向される。なお、ポリゴンミラー14の偏向反射面で偏向された光束が経時的に形成する光線束面は、「偏向面」と呼ばれている(特開平11−202252号公報参照)。ここでは、偏向面はXY面に平行である。
図9は、本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における各光線の偏光状態について説明する説明図である。
ここで、各光線の偏光状態について図9を用いて説明する。
光源10aから射出された光束LBaはP偏光でありビームスプリッタ30によってLBa1とLBa2に分割される。ビームスプリッタ30はP偏光とS偏光に対して、透過率と反射率が等しく、かつ入射光の位相状態を維持したまま射出するビームスプリッタであり、LBa1およびLBa2は入射光LBaの偏光状態(P偏光)の状態で射出される。
光源10bから射出された光束LBbはS偏光でありビームスプリッタ30によってLBb1とLBb2に分割される。LBb1およびLBb2は入射光LBbの偏光状態(S偏光)の状態で射出される。
ここで、各光線の偏光状態について図9を用いて説明する。
光源10aから射出された光束LBaはP偏光でありビームスプリッタ30によってLBa1とLBa2に分割される。ビームスプリッタ30はP偏光とS偏光に対して、透過率と反射率が等しく、かつ入射光の位相状態を維持したまま射出するビームスプリッタであり、LBa1およびLBa2は入射光LBaの偏光状態(P偏光)の状態で射出される。
光源10bから射出された光束LBbはS偏光でありビームスプリッタ30によってLBb1とLBb2に分割される。LBb1およびLBb2は入射光LBbの偏光状態(S偏光)の状態で射出される。
ビームスプリッタ30で分割され−X方向に向かう光束LBa1およびLBb1はシリンドリカルレンズ121、入射ミラー131を経て偏向器14で走査され−X方向へと向かう。−X方向へ向かう2つの光束LBa1及びLBb1はそれぞれP偏光、S偏光である。
ビームスプリッタ30で分割され+X方向に向かう光束LBa2およびLBb2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かう2つの光束LBa2及びLBb2はそれぞれP偏光、S偏光である。
ビームスプリッタ30で分割され+X方向に向かう光束LBa2およびLBb2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かう2つの光束LBa2及びLBb2はそれぞれP偏光、S偏光である。
fθレンズ151は、ポリゴンミラー14の−X側であって、ポリゴンミラー14で偏向されたシリンドリカルレンズ121からの光束の光路上に配置されている。
図10は、偏光分離デバイス161の構成の一例を示す概略図である。
偏光分離デバイス161は、一例として図10に示されるように、偏光分離素子1611及び該偏光分離素子1611の−Z側に配置された偏光子1612を含んで構成されている。
偏光分離デバイス161は、一例として図10に示されるように、偏光分離素子1611及び該偏光分離素子1611の−Z側に配置された偏光子1612を含んで構成されている。
偏光分離素子1611は、一例として図11(A)〜図11(C)に示されるように、板状の基体上に、その格子ピッチが入射光の波長よりも小さい微細構造格子としてワイヤーグリッドが形成されているワイヤーグリッド偏光分離素子である。
なお、図11(a)は、偏光分離面を上から見た概略構成図、図11(b)は、偏光分離面を側方から見た概略構成図(zx断面図)、図11(C)は、図11(A)のA−A断面図である。
またその他の一例として、図11(A’)〜図11(C’)に示すように、偏光分離面において図11(A)〜図11(C)と比較してワイヤーグリットが90°回転した状態で形成されていても良い。透過・反射の偏光成分は異なるが同じ機能を有する。
ここで、以下に示す実施の形態は図11(A)〜図11(C)の構成例の場合について記載する。
なお、図11(a)は、偏光分離面を上から見た概略構成図、図11(b)は、偏光分離面を側方から見た概略構成図(zx断面図)、図11(C)は、図11(A)のA−A断面図である。
またその他の一例として、図11(A’)〜図11(C’)に示すように、偏光分離面において図11(A)〜図11(C)と比較してワイヤーグリットが90°回転した状態で形成されていても良い。透過・反射の偏光成分は異なるが同じ機能を有する。
ここで、以下に示す実施の形態は図11(A)〜図11(C)の構成例の場合について記載する。
偏光分離デバイスは誘電体多層膜でも可能であるが、ワイヤーグリッドを用いた方が光利用効率が高く分離性能が高い。
ここでは、一例として、ワイヤーグリッドの格子ピッチを0.15μm、「格子幅/格子ピッチ」であるデューティ(Duty)比を50%、格子の深さを0.05μmとしている(図12参照)。また、ワイヤーの素材はアルミニウムである。また、基体としてはガラス、硬質プラスチック等の透明材料が選ばれる。ここで、図12は、偏光分離素子1611(1621)の格子配列の一例(格子ピッチ及び格子の深さ)を示す概略図である。
偏光分離素子1611は、ワイヤーグリッドが形成されている面が偏光分離面となり、P偏光を透過させ、S偏光を反射する(図13参照)。偏光分離素子1611への入射光束LBa1にS偏光成分が含まれたりLBb1にP偏光成分が含まれたりすると、意図せぬ反射・透過が行われ分離性能が劣化する。ここで、図13は、偏光分離素子1611(1621)の偏光分離面におけるP偏光の透過およびS偏光の反射を模式的に示す図である。
ここでは、一例として、ワイヤーグリッドの格子ピッチを0.15μm、「格子幅/格子ピッチ」であるデューティ(Duty)比を50%、格子の深さを0.05μmとしている(図12参照)。また、ワイヤーの素材はアルミニウムである。また、基体としてはガラス、硬質プラスチック等の透明材料が選ばれる。ここで、図12は、偏光分離素子1611(1621)の格子配列の一例(格子ピッチ及び格子の深さ)を示す概略図である。
偏光分離素子1611は、ワイヤーグリッドが形成されている面が偏光分離面となり、P偏光を透過させ、S偏光を反射する(図13参照)。偏光分離素子1611への入射光束LBa1にS偏光成分が含まれたりLBb1にP偏光成分が含まれたりすると、意図せぬ反射・透過が行われ分離性能が劣化する。ここで、図13は、偏光分離素子1611(1621)の偏光分離面におけるP偏光の透過およびS偏光の反射を模式的に示す図である。
偏光子1612は、その透過軸がS偏光の偏光方向と一致している偏光子である。
偏光分離デバイス161は、fθレンズ151の−X側であって、fθレンズ151を介した光束(ここでは、光束LBa1と光束LBb1)の光路上に配置されている。また、偏光分離素子1611は、S偏光を−Z方向に反射するように配置されている。ここでは、図14に示されるように、fθレンズ151を介した光束LBa1は、P偏光であるため偏光分離素子1611を透過し、fθレンズ151を介した光束LBb1は、S偏光であるため偏光分離素子1611で−Z方向に反射される。S偏光は、さらにその透過軸がS偏光の偏光方向と一致している偏光子1612を透過する。図14は、偏光分離デバイス161における偏光分離の一形態及び反射ミラー171の作用を模式的に示す図である。
なお、偏光分離素子1611を透過した光束の光路上に、その透過軸がP偏光の偏光方向と一致している偏光子1613を追加して置くことで、よりゴースト光の除去性能を向上させることができる。この場合の偏光分離デバイスが図15に示されている。図15は、偏光分離デバイス161(162)における偏光分離のその他の形態及び反射ミラー171の作用を模式的に示す図である。
なお、本明細書では、偏光分離デバイス161,162で分離しきれず、混入している望まぬ偏光状態の光束を「ゴースト光」という。
なお、偏光分離素子1611を透過した光束の光路上に、その透過軸がP偏光の偏光方向と一致している偏光子1613を追加して置くことで、よりゴースト光の除去性能を向上させることができる。この場合の偏光分離デバイスが図15に示されている。図15は、偏光分離デバイス161(162)における偏光分離のその他の形態及び反射ミラー171の作用を模式的に示す図である。
なお、本明細書では、偏光分離デバイス161,162で分離しきれず、混入している望まぬ偏光状態の光束を「ゴースト光」という。
図3に戻り、偏光分離デバイス161を透過した光束(ここでは、光束LBa1)は、折り返しミラー18aとアナモフィックレンズ19aを介して感光体ドラム2030aの表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー14の回転に伴って感光体ドラム2030aの長手方向(感光体ドラム2030aの回転軸方向:Y方向)に移動する。すなわち、感光体ドラム2030a上を走査する。このときの光スポットの移動方向が、感光体ドラム2030aでの「主走査方向」であり、感光体ドラム2030aの回転方向が、感光体ドラム2030aでの「副走査方向」である。
このように、fθレンズ151と偏光分離デバイス161と折り返しミラー18aとアナモフィックレンズ19aは、「Kステーション」の走査光学系である。
このように、fθレンズ151と偏光分離デバイス161と折り返しミラー18aとアナモフィックレンズ19aは、「Kステーション」の走査光学系である。
一方、偏光分離デバイス161で−Z方向に反射された光束(ここでは、光束LBb1)は、反射ミラー171で−X方向に反射された後、折り返しミラー18b1と折り返しミラー18b2とアナモフィックレンズ19bを介して感光体ドラム2030bの表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー14の回転に伴って感光体ドラム2030bの長手方向(感光体ドラム2030aの回転軸方向:Y方向)に移動する。すなわち、感光体ドラム2030b上を走査する。このときの光スポットの移動方向が、感光体ドラム2030bでの「主走査方向」であり、感光体ドラム2030bの回転方向が、感光体ドラム2030bでの「副走査方向」である。
このように、fθレンズ151と偏光分離デバイス161と反射ミラー171と折り返しミラー18b1と折り返しミラー18b2とアナモフィックレンズ19bは、「Cステーション」の走査光学系である。
すなわち、fθレンズ151と偏光分離デバイス161は、2つの画像形成ステーション(K,C)で共有されている。
このように、fθレンズ151と偏光分離デバイス161と反射ミラー171と折り返しミラー18b1と折り返しミラー18b2とアナモフィックレンズ19bは、「Cステーション」の走査光学系である。
すなわち、fθレンズ151と偏光分離デバイス161は、2つの画像形成ステーション(K,C)で共有されている。
ここで、本実施の形態における「Kステーション」の走査光学系の諸元について、具体例を挙げて説明する。
光偏向器14は4面のポリゴンミラーである。光偏向器14に入射した2つの光束は、一方が光偏向器14の回転軸と平行な方向に偏光し、他方が光偏向器14の回転軸に垂直な偏光となっている。光偏向器14により反射された2つの光束は、ガラスレンズ151、偏光分離デバイス161、樹脂レンズ19aを透過する。
光偏向器14から偏光分離デバイス161までにミラー等は設けられておらず偏光方向が金属反射による誤差を受けない構成になっている。
下記表1に主走査断面内における走査光学系の概要を数値例で示す。曲率半径の符号は、光学面から見てその曲率中心が被走査面側であれば正、光偏向器側であれば負とする。
光偏向器14は4面のポリゴンミラーである。光偏向器14に入射した2つの光束は、一方が光偏向器14の回転軸と平行な方向に偏光し、他方が光偏向器14の回転軸に垂直な偏光となっている。光偏向器14により反射された2つの光束は、ガラスレンズ151、偏光分離デバイス161、樹脂レンズ19aを透過する。
光偏向器14から偏光分離デバイス161までにミラー等は設けられておらず偏光方向が金属反射による誤差を受けない構成になっている。
下記表1に主走査断面内における走査光学系の概要を数値例で示す。曲率半径の符号は、光学面から見てその曲率中心が被走査面側であれば正、光偏向器側であれば負とする。
上記表1に記載の「ガラス1」はBK7等に代表される光学ガラスであり、「樹脂1」はZEONEXに代表される透明性の高い光学プラスチックである。特に、低複屈折材料として提供されているTOPAS、オプトレッツ等の材料であれば更に好ましい。
ここで、偏光分離素子1611、1621は、ガラス2から成る長尺の三角柱を、誘電体多層膜面を接合面として接合したものである。「ガラス2」は偏光分離素子1611、1621の生産効率から適宜選択された光学ガラスである。誘電体多層膜は、光源の波長に応じて適切な偏光分離を行えるよう設計されている。
なお、偏光分離デバイス161は、ガラスレンズ151の前に配置しても良い。
ここで、偏光分離素子1611、1621は、ガラス2から成る長尺の三角柱を、誘電体多層膜面を接合面として接合したものである。「ガラス2」は偏光分離素子1611、1621の生産効率から適宜選択された光学ガラスである。誘電体多層膜は、光源の波長に応じて適切な偏光分離を行えるよう設計されている。
なお、偏光分離デバイス161は、ガラスレンズ151の前に配置しても良い。
図2に戻り、fθレンズ152は、ポリゴンミラー14の+X側であって、ポリゴンミラー14で偏向されたシリンドリカルレンズ122からの光束の光路上に配置されている。
図16は、偏光分離デバイス162の構成の一例を示す概略図である。
偏光分離デバイス162は、前述した偏光分離デバイス161と同様な偏光分離デバイスであり、図16に示されるように、偏光分離素子1621及び該偏光分離素子1621の−Z側に配置された偏光子1622を含んで構成されている。
偏光分離素子1621は、ワイヤーグリッドが形成されている面が偏光分離面となり、P偏光を透過させ、S偏光を反射する。偏光分離素子1621への入射光束LBa2にS偏光成分が含まれたりLBb2にP偏光成分が含まれたりすると、意図せぬ反射・透過が行われ分離性能が劣化する。
図16は、偏光分離デバイス162の構成の一例を示す概略図である。
偏光分離デバイス162は、前述した偏光分離デバイス161と同様な偏光分離デバイスであり、図16に示されるように、偏光分離素子1621及び該偏光分離素子1621の−Z側に配置された偏光子1622を含んで構成されている。
偏光分離素子1621は、ワイヤーグリッドが形成されている面が偏光分離面となり、P偏光を透過させ、S偏光を反射する。偏光分離素子1621への入射光束LBa2にS偏光成分が含まれたりLBb2にP偏光成分が含まれたりすると、意図せぬ反射・透過が行われ分離性能が劣化する。
偏光子1622は、その透過軸がS偏光の偏光方向と一致している偏光子である。
偏光分離デバイス162は、fθレンズ152の+X側であって、fθレンズ152を介した光束(ここでは、光束LBa2と光束LBb2)の光路上に配置されている。また、偏光分離素子1621は、S偏光を−Z方向に反射するように配置されている。ここでは、図17に示されるように、fθレンズ152を介した光束LBb2は、S偏光であるため偏光分離素子1621で−Z方向に反射され、さらにその透過軸がS偏光の偏光方向と一致している偏光子1622を透過する。fθレンズ152を介した光束LBa2は、P偏光であるため偏光分離素子1621を透過する。なお、偏光分離素子1621を透過した光束の光路上に、その透過軸がP偏光の偏光方向と一致している偏光子を追加して置くことで、よりゴースト光の除去性能を向上させることができる。ここで、図17は、偏光分離デバイス162における偏光分離の一形態及び反射ミラー172の作用を模式的に示す図である。
図3に戻り、偏光分離デバイス162で−Z方向に反射された光束(ここでは、光束LBb2)は、反射ミラー172で+X方向に反射された後、折り返しミラー18c1と折り返しミラー18c2とアナモフィックレンズ19cを介して感光体ドラム2030cの表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー14の回転に伴って感光体ドラム2030cの長手方向(感光体ドラム2030aの回転軸方向:Y方向)に移動する。すなわち、感光体ドラム2030c上を走査する。このときの光スポットの移動方向が、感光体ドラム2030cでの「主走査方向」であり、感光体ドラム2030cの回転方向が、感光体ドラム2030cでの「副走査方向」である。
このように、fθレンズ152と偏光分離デバイス162と反射ミラー172と折り返しミラー18c1と折り返しミラー18c2とアナモフィックレンズ19cは、「Mステーション」の走査光学系である。
一方、偏光分離デバイス162を透過した光束(ここでは、光束LBa2)は、折り返しミラー18dとアナモフィックレンズ19dを介して感光体ドラム2030dの表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー14の回転に伴って感光体ドラム2030dの長手方向(感光体ドラム2030aの回転軸方向:Y方向)に移動する。すなわち、感光体ドラム2030d上を走査する。このときの光スポットの移動方向が、感光体ドラム2030dでの「主走査方向」であり、感光体ドラム2030dの回転方向が、感光体ドラム2030dでの「副走査方向」である。
このように、fθレンズ152と偏光分離デバイス162と折り返しミラー18dとアナモフィックレンズ19dは、「Yステーション」の走査光学系である。
すなわち、fθレンズ152と偏光分離デバイス162は、2つの画像形成ステーション(Y,M)で共有されている。
一方、偏光分離デバイス162を透過した光束(ここでは、光束LBa2)は、折り返しミラー18dとアナモフィックレンズ19dを介して感光体ドラム2030dの表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー14の回転に伴って感光体ドラム2030dの長手方向(感光体ドラム2030aの回転軸方向:Y方向)に移動する。すなわち、感光体ドラム2030d上を走査する。このときの光スポットの移動方向が、感光体ドラム2030dでの「主走査方向」であり、感光体ドラム2030dの回転方向が、感光体ドラム2030dでの「副走査方向」である。
このように、fθレンズ152と偏光分離デバイス162と折り返しミラー18dとアナモフィックレンズ19dは、「Yステーション」の走査光学系である。
すなわち、fθレンズ152と偏光分離デバイス162は、2つの画像形成ステーション(Y,M)で共有されている。
本実施の形態では、fθレンズ15は、ポリゴンミラー14と偏光分離デバイス16(偏光分離素子)との間に設けられている。そして、P偏光の光路とS偏光の光路は、Z軸方向に関してほぼ重なっているため、Z方向にfθレンズ15を薄くすることができる。
走査制御装置(不図示)は、各光源10a,10bに対応した光源制御回路を有している。そして、光源10a及び光源10bに対応した光源制御回路は、光源ユニットLU1の回路基板上に実装されている。
以上の説明から明らかなように、本実施の形態に係る光走査装置2010では、fθレンズ(151、152)と偏光分離デバイス(161、162)と反射ミラー(171、172)と折り返しミラー(18a、18b1、18b2、18c1、18c2、18d)とアナモフィックレンズ(19a、19b、19c、19d)とによって走査光学系が構成されている。
本実施の形態では、fθレンズ(151、152)と偏光分離デバイス(161、162)は、2つの画像形成ステーション(Y,M/C,K)で共有されているため、更に小型化を図ることが可能である。
本実施の形態では、fθレンズ(151、152)と偏光分離デバイス(161、162)は、2つの画像形成ステーション(Y,M/C,K)で共有されているため、更に小型化を図ることが可能である。
図18は、本発明に係る光走査装置の第1の実施の形態における構成の変形例を示す概略正面図である。
さらに小型化を図る実施の形態としては図18に示すように、fθレンズ(151、152)の後にアナモフィックレンズ(19ab、19cd)を配置し、その後に偏光分離デバイス16(偏光分離素子)を配置する構成がある。この場合アナモフィックレンズ(19ab、19cd)を2つの画像形成ステーション(Y,M/C,K)が共有できるためにさらに薄型化が図れる。
さらに小型化を図る実施の形態としては図18に示すように、fθレンズ(151、152)の後にアナモフィックレンズ(19ab、19cd)を配置し、その後に偏光分離デバイス16(偏光分離素子)を配置する構成がある。この場合アナモフィックレンズ(19ab、19cd)を2つの画像形成ステーション(Y,M/C,K)が共有できるためにさらに薄型化が図れる。
本実施の形態では、ビームスプリッタ30が入射光の位相状態を維持したまま透過・反射するビームスプリッタであるため、ビームスプリッタ30以前の光学系で偏光状態をP偏光・S偏光にしておけば良いため、光源10a、10bを図5の様に配置することで、2つの光源を同一の回路基板上に配置することが出来た。
本実施の形態に係るカラープリンタ2000によると、光走査装置2010を備えているため、その結果として、高コスト化を招くことなく、小型で、高品質の画像を形成することが可能である。
本実施の形態に係るカラープリンタ2000によると、光走査装置2010を備えているため、その結果として、高コスト化を招くことなく、小型で、高品質の画像を形成することが可能である。
(第2の実施の形態)
図19は本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における構成を示す概略上面図である。なお、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
光走査装置2010は、一例として図19及び図3に示されるように、2つの光源ユニット(LU1、LU2)、2つのシリンドリカルレンズ(121、122)、ポリゴンミラー14、2つのfθレンズ(151、152)、2つの偏光分離デバイス(161、162)、2つの反射ミラー(171、172)、複数の折り返しミラー(18a、18b1、18b2、18c1、18c2、18d)、4つのアナモフィックレンズ(19a、19b、19c、19d)及び不図示の走査制御装置を有している。
図19は本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における構成を示す概略上面図である。なお、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
光走査装置2010は、一例として図19及び図3に示されるように、2つの光源ユニット(LU1、LU2)、2つのシリンドリカルレンズ(121、122)、ポリゴンミラー14、2つのfθレンズ(151、152)、2つの偏光分離デバイス(161、162)、2つの反射ミラー(171、172)、複数の折り返しミラー(18a、18b1、18b2、18c1、18c2、18d)、4つのアナモフィックレンズ(19a、19b、19c、19d)及び不図示の走査制御装置を有している。
図20は、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における光源ユニットLU1の構成を示す概略図である。また、図21は、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における光源ユニットLU2の構成を示す概略図である。
光源ユニットLU1は、一例として図20に示されるように、1つの光源(10c)、及び1つのコリメートレンズ(11c)を有している。
光源ユニットLU2は、一例として図21に示されるように、1つの光源(10d)、及び1つのコリメートレンズ(11d)を有している。
光源ユニットLU1は、一例として図20に示されるように、1つの光源(10c)、及び1つのコリメートレンズ(11c)を有している。
光源ユニットLU2は、一例として図21に示されるように、1つの光源(10d)、及び1つのコリメートレンズ(11d)を有している。
光源10c及び光源10dは、同等の光源である。そして、光源10c及び光源10dは、それらの出力光の偏光方向が45°傾くように回路基板上に配置されている。すなわち、一例として図22および図23に示されるように、各光源は、45°回転した姿勢で基板に実装されている。ここでは、光源10c、光源10dはP偏光から45°傾いた直線偏光(第1光束、第2光束)が出力されるものとする。図22は、図20に示す光源10cの配置構成の一例を示す概略図である。また、図23は、図21に示す光源10dの配置構成の一例を示す概略図である。
コリメートレンズ11cは、光源10cからの光束(LBc)の光路上に配置され、該光束LBcを略平行光とする。
コリメートレンズ11dは、光源10dからの光束(LBd)の光路上に配置され、該光束LBdを略平行光とする。
コリメートレンズ11dは、光源10dからの光束(LBd)の光路上に配置され、該光束LBdを略平行光とする。
図19に戻り、略平行光束LBcは、光束分離手段としての偏光ビームスプリッタ30’にて反射光LBc1と透過光LBc2に分離される。
略平行光束LBdは、光束分離手段としての偏光ビームスプリッタ30’にて反射光LBd1と透過光LBd2に分離される。
略平行光束LBdは、光束分離手段としての偏光ビームスプリッタ30’にて反射光LBd1と透過光LBd2に分離される。
シリンドリカルレンズ121は、光束LBc1と光束LBd1を、入射ミラー131を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
シリンドリカルレンズ122は、光束LBc2と光束LBd2を、入射ミラー132を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
光束LBc1と光束LBd1は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
光束LBc2と光束LBd2は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
シリンドリカルレンズ122は、光束LBc2と光束LBd2を、入射ミラー132を介してポリゴンミラー14の偏向反射面近傍にZ軸方向に関して結像する。
光束LBc1と光束LBd1は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
光束LBc2と光束LBd2は互いに略π/2の角度差をつけてポリゴンミラー14に入射する。
ビームスプリッタ30’により分割された光束LBc1、LBc2、LBd1、LBd2は、入射光学系を構成するシリンドリカルレンズ121、シリンドリカルレンズ122、入射ミラー131、入射ミラー132により、光束LBc1と光束LBd1とが互いに略π/2の角度差をつけるように、且つ、光束LBc2と光束LBd2とが互いに略π/2の角度差をつけるようにして、ポリゴンミラー14に入射される。
図24は、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における光源ユニットLU1からの光束のみの偏光状態を表した図である。また、図25は、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における光源ユニットLU2からの光束のみの偏光状態を表した図である。さらに、図26は、本発明に係る光走査装置の第2の実施の形態における光源ユニットLU1及びLU2からの光束の偏光状態を表した図である。
ここで、各光線の偏光状態について図24、図25、図26を用いて説明する。
図24は説明のため、LU1のみの偏光状態を表した図であり、図25はLU2のみの偏光状態を表した図であり、図26は図24と図25を合成したものである。
ビームスプリッタ30’は偏光ビームスプリッタであり、P偏光成分は透過し、S偏光成分は反射する。
ここで、各光線の偏光状態について図24、図25、図26を用いて説明する。
図24は説明のため、LU1のみの偏光状態を表した図であり、図25はLU2のみの偏光状態を表した図であり、図26は図24と図25を合成したものである。
ビームスプリッタ30’は偏光ビームスプリッタであり、P偏光成分は透過し、S偏光成分は反射する。
すなわち図24に示すように光束LBcは偏光ビームスプリッタ30’によってS偏光成分はLBc1に、P偏光成分はLBc2に分割される。先述したようにLBcは45°傾いた直線偏光であるため、P偏光成分とS偏光成分の比は等しい。そのため、LBc1とLBc2の光量比は1:1となる。
偏光ビームスプリッタ30’で反射し−X方向に向かう光束LBc1はシリンドリカルレンズ121、入射ミラー131を経て偏向器14で走査され−X方向へと向かう。−X方向へ向かうLBc1はS偏光であり、図24中において黒丸のマークで記す。
一方偏光ビームスプリッタ30’で透過し+X方向に向かう光束LBc2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かうLBc2はP偏光であり、図24中において両矢印のマークで記す。
偏光ビームスプリッタ30’で反射し−X方向に向かう光束LBc1はシリンドリカルレンズ121、入射ミラー131を経て偏向器14で走査され−X方向へと向かう。−X方向へ向かうLBc1はS偏光であり、図24中において黒丸のマークで記す。
一方偏光ビームスプリッタ30’で透過し+X方向に向かう光束LBc2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かうLBc2はP偏光であり、図24中において両矢印のマークで記す。
一方、図25に示すように光束LBdは偏光ビームスプリッタ30’によってP偏光成分はLBd1に、S偏光成分はLBd2に分割される。先述したようにLBdは45°傾いた直線偏光であるため、P偏光成分とS偏光成分の比は等しい。そのため、LBd1とLBd2の光量比は1:1となる。
偏光ビームスプリッタ30’で透過し−X方向に向かう光束LBd1はシリンドリカルレンズ121、入射ミラー131を経て偏向器14で走査され−X方向へと向かう。−X方向へ向かうLBd1はP偏光であり、図25中において両矢印のマークで記す。
一方偏光ビームスプリッタ30’で反射し+X方向に向かう光束LBd2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かうLBd2はS偏光であり、図25中において黒丸のマークで記す。
偏光ビームスプリッタ30’で透過し−X方向に向かう光束LBd1はシリンドリカルレンズ121、入射ミラー131を経て偏向器14で走査され−X方向へと向かう。−X方向へ向かうLBd1はP偏光であり、図25中において両矢印のマークで記す。
一方偏光ビームスプリッタ30’で反射し+X方向に向かう光束LBd2はシリンドリカルレンズ122、入射ミラー132を経て偏向器14で走査され+X方向へと向かう。+X方向へ向かうLBd2はS偏光であり、図25中において黒丸のマークで記す。
本実施の形態においては、偏光ビームスプリッタ30’の射出時点で光束の偏光方向をP偏光、S偏光に分離出来るため、偏光分離デバイス161及び162の分離性能が劣化しないという利点がある。
図26は図24と図25を重ね合わせたものである。
図26に示すようにポリゴンミラー14以降の光学系は第1の実施の形態における構成(図9参照。)と同様にP偏光とS偏光が重なって走査されている。すなわち第1の実施の形態と同様に走査光学系により複数の走査面をそれぞれ走査できる。換言すると、偏光分離デバイス161及び162で2つの光束が4つに分離されて「Kステーション」「Cステーション」「Mステーション」「Yステーション」を走査できる。
図26に示すようにポリゴンミラー14以降の光学系は第1の実施の形態における構成(図9参照。)と同様にP偏光とS偏光が重なって走査されている。すなわち第1の実施の形態と同様に走査光学系により複数の走査面をそれぞれ走査できる。換言すると、偏光分離デバイス161及び162で2つの光束が4つに分離されて「Kステーション」「Cステーション」「Mステーション」「Yステーション」を走査できる。
(第3の実施の形態)
本実施の形態は1つの光源に2以上のチャンネル数を持つマルチビームを用いる場合の実施の形態である。
本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における構成を示す概略上面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図2)と同一である。
また、本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
即ち、光走査装置2010は第1の実施の形態と同様に図2、図3に示す光走査装置である。
しかしながらマルチビーム光源を用いる場合、同一のマルチビーム光源のビーム間の副走査方向の間隔を調整し、各ステーションで走査するビーム間の副走査方向の間隔を所定の値になるように調整する必要がある。
本実施の形態は1つの光源に2以上のチャンネル数を持つマルチビームを用いる場合の実施の形態である。
本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における構成を示す概略上面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図2)と同一である。
また、本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第1の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
即ち、光走査装置2010は第1の実施の形態と同様に図2、図3に示す光走査装置である。
しかしながらマルチビーム光源を用いる場合、同一のマルチビーム光源のビーム間の副走査方向の間隔を調整し、各ステーションで走査するビーム間の副走査方向の間隔を所定の値になるように調整する必要がある。
図27は、光源ch及びポリゴン反射面14p,14qと感光体2030上の走査線の副走査方向間隔との関係を説明するための図である。
一例として副走査方向に600dpiの書込密度で書込む場合は感光体ドラム2030上で42μmに調整し、図27の様に走査する。なお、本実施の形態におけるマルチビーム光源は、2のチャンネル数(発光点)を有するものである。
ここで、図27に示す被走査面上の光走査の例では、ポリゴンミラー14の反射面14pをスポット照射するch1及びch2からの光束が、ポリゴンミラー14の回転に伴って被走査面上を光走査し、図27における走査線のうち上2本の光走査が実施される。次いで、ch1及びch2からの光束は、ポリゴンミラー14の回転によりポリゴンミラー14の別の反射面14qをスポット照射、光走査し、図27における走査線のうち下2本の光走査が実施される。
マルチビーム光源は等しい間隔で発光点が並んでいるため、図27の様にch1からの光束とch2からの光束とが副走査方向に所定の間隔をあけるためには、光源10e、10fを図28のように回転させて用いることが一般的である。図28は、本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における光源ユニットLU1の2つの光源10e、10fの配置構成の一例を示す概略図である。
ところが、光源10e,10fを回転させることにより偏光方向も回転してしまうため、第1の実施の形態のように光源単体でP偏光・S偏光を出力することが出来ない。
一例として副走査方向に600dpiの書込密度で書込む場合は感光体ドラム2030上で42μmに調整し、図27の様に走査する。なお、本実施の形態におけるマルチビーム光源は、2のチャンネル数(発光点)を有するものである。
ここで、図27に示す被走査面上の光走査の例では、ポリゴンミラー14の反射面14pをスポット照射するch1及びch2からの光束が、ポリゴンミラー14の回転に伴って被走査面上を光走査し、図27における走査線のうち上2本の光走査が実施される。次いで、ch1及びch2からの光束は、ポリゴンミラー14の回転によりポリゴンミラー14の別の反射面14qをスポット照射、光走査し、図27における走査線のうち下2本の光走査が実施される。
マルチビーム光源は等しい間隔で発光点が並んでいるため、図27の様にch1からの光束とch2からの光束とが副走査方向に所定の間隔をあけるためには、光源10e、10fを図28のように回転させて用いることが一般的である。図28は、本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における光源ユニットLU1の2つの光源10e、10fの配置構成の一例を示す概略図である。
ところが、光源10e,10fを回転させることにより偏光方向も回転してしまうため、第1の実施の形態のように光源単体でP偏光・S偏光を出力することが出来ない。
そこで本実施の形態の光源ユニットLU1は図29に示すように光源10eで傾いた偏光方向の光束を1/2波長板31eで偏光方向を変えてP偏光にする。また、光源10fの光束も同様に1/2波長板31fで偏光方向を変えてS偏光とする。1/2波長板31eを経た光束LBeはP偏光となり、1/2波長板31fを経た光束LBfはS偏光となるため、光源ユニットLU1から射出される2本の光束は第1の実施の形態と同様となり、光源ユニット以外は第1の実施の形態と同じ光学系で「Kステーション」「Cステーション」「Mステーション」「Yステーション」を走査できる。図29は、本発明に係る光走査装置の第3の実施の形態における光源ユニットLU1の構成を示す概略図である。
偏光方向を変える素子としては一例として1/2波長板を挙げたが、磁気光学素子等の旋光子を用いることもできる。
偏光方向を変える素子としては一例として1/2波長板を挙げたが、磁気光学素子等の旋光子を用いることもできる。
(第4の実施の形態)
本実施の形態は1つの光源に2以上のチャンネル数を持つマルチビームを用いる場合の実施の形態である。
本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における構成を示す概略上面図は、上記第2の実施の形態における構成を示す概略正面図(図19)と同一である。
また、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第2の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
即ち、光走査装置2010は第2の実施の形態と同様に図19及び図3に示す光走査装置である。
しかしながらマルチビーム光源を用いる場合、第3の実施の形態と同様に同一のマルチビーム光源のビーム間の副走査方向の間隔を調整する必要があるため、光源ユニットLU1の光源10gは図30に、光源ユニットLU2の光源10fは図31に示すように、第3の実施の形態の図28と同じ角度回転させる。すなわち第2の実施の形態のように光源単体でP偏光から45°傾いた直線偏光を出力することが出来ない。図30は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU1の光源10gの配置構成の一例を示す概略図である。また、図31は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU2の光源10hの配置構成の一例を示す概略図である。
本実施の形態は1つの光源に2以上のチャンネル数を持つマルチビームを用いる場合の実施の形態である。
本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における構成を示す概略上面図は、上記第2の実施の形態における構成を示す概略正面図(図19)と同一である。
また、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における構成を示す概略正面図は、上記第2の実施の形態における構成を示す概略正面図(図3)と同一である。
即ち、光走査装置2010は第2の実施の形態と同様に図19及び図3に示す光走査装置である。
しかしながらマルチビーム光源を用いる場合、第3の実施の形態と同様に同一のマルチビーム光源のビーム間の副走査方向の間隔を調整する必要があるため、光源ユニットLU1の光源10gは図30に、光源ユニットLU2の光源10fは図31に示すように、第3の実施の形態の図28と同じ角度回転させる。すなわち第2の実施の形態のように光源単体でP偏光から45°傾いた直線偏光を出力することが出来ない。図30は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU1の光源10gの配置構成の一例を示す概略図である。また、図31は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU2の光源10hの配置構成の一例を示す概略図である。
そこで、本実施の形態の光源ユニットLU1は図32に示すように光源10gで傾いた偏光方向の光束を1/2波長板31gで偏光方向を変えてP偏光から45°傾いた偏光方向に変換する。同様に光源ユニットLU2でも図33に示すように光源10hで傾いた偏光方向の光束を1/2波長板31hで偏光方向を変えてP偏光から45°傾いた偏光方向に変換する。図32は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU1の構成を示す概略図である。図33は、本発明に係る光走査装置の第4の実施の形態における光源ユニットLU2の構成を示す概略図である。
1/2波長板31gあるいは1/2波長板31hで変換された後は、光源ユニットLU1及びLU2から射出される光束は第2の実施の形態と同様となり、光源ユニット以外は第2の実施の形態と同じ光学系で「Kステーション」「Cステーション」「Mステーション」「Yステーション」を走査できる。
偏光方向を変える素子としては一例として1/2波長板を挙げたが、磁気光学素子等の旋光子を用いることもできる。
1/2波長板31gあるいは1/2波長板31hで変換された後は、光源ユニットLU1及びLU2から射出される光束は第2の実施の形態と同様となり、光源ユニット以外は第2の実施の形態と同じ光学系で「Kステーション」「Cステーション」「Mステーション」「Yステーション」を走査できる。
偏光方向を変える素子としては一例として1/2波長板を挙げたが、磁気光学素子等の旋光子を用いることもできる。
(第5の実施の形態)
図34は、本発明に係る光走査装置の第5の実施の形態における構成を示す概略正面図である。
上記第1〜第4の実施の形態において、一例として図34に示されるように、ポリゴンミラーとfθレンズとの間に偏光分離デバイス16(偏光分離素子)を配置しても良い。但し、光束LBa用のfθレンズ15aと、光束LBb用のfθレンズ15bと、光束LBc用のfθレンズ15cと、光束LBd用のfθレンズ15dが必要となる。この場合には、各fθレンズを光束の偏光状態、光路長、結像位置、走査長に適したレンズ形状とすることができる。
図34は、本発明に係る光走査装置の第5の実施の形態における構成を示す概略正面図である。
上記第1〜第4の実施の形態において、一例として図34に示されるように、ポリゴンミラーとfθレンズとの間に偏光分離デバイス16(偏光分離素子)を配置しても良い。但し、光束LBa用のfθレンズ15aと、光束LBb用のfθレンズ15bと、光束LBc用のfθレンズ15cと、光束LBd用のfθレンズ15dが必要となる。この場合には、各fθレンズを光束の偏光状態、光路長、結像位置、走査長に適したレンズ形状とすることができる。
以上のように、本発明の画像形成装置は、高コスト化を招くことなく、小型で、高品質の画像を形成するのに適している。
10a〜10g…光源、11a〜11g・・・カップリングレンズ、12・・・シリンドリカルレンズ、14…ポリゴンミラー(偏向器)、151,152…fθレンズ(走査光学系の一部)、161,162…偏光分離デバイス、1611,1621…偏光分離素子、1612,1622…偏光子(第1の偏光子)、1613…偏光子(第2の偏光子)、171,172…反射ミラー(走査光学系の一部)、18a,18b1,18b2,18c1,18c2,18d…折り返しミラー(走査光学系の一部)、19a〜19d…アナモフィックレンズ(走査光学系の一部)、30,30’・・・光束分割素子、31e〜f・・・1/2λ板、2000…カラープリンタ(画像形成装置)、2030a〜2030d…感光体ドラム(像担持体)、2010…光走査装置、LU1…光源ユニット、LU2…光源ユニット。
Claims (8)
- 光束により複数の被走査面を走査する光走査装置であって、
互いに偏光方向が異なる第1光束及び第2光束を含む複数の光束を出力する光源ユニットと、
該光源ユニットから射出された第1光束及び第2光束それぞれを分割するビームスプリッタと、
分割された第1光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させ、且つ、分割された第2光束のそれぞれを、互いが略π/2の角度差を有するように偏向器に入射させる入射光学系と、
該入射光学系から入射した分割された第1光束のそれぞれ及び分割された第2光束のそれぞれを、各々偏向する偏向器と、
該偏向器で偏向された複数の光束を偏光方向の差により分離する光分離デバイスを含み、当該分離された複数の光束それぞれを対応する被走査面上に個別に集光する走査光学系と、を備えることを特徴とする光走査装置。 - 前記ビームスプリッタからの射出光が全て同一平面内にあることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
- 前記ビームスプリッタで分割された第1光束または第2光束の偏光方向が、当該ビームスプリッタで分割された第1光束または第2光束を含む平面に対して水平もしくは垂直であることを特徴とする請求項2に記載の光走査装置。
- 前記ビームスプリッタが、入射光の偏光状態を変化させずに光束を分割することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光走査装置。
- 前記ビームスプリッタが、偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光走査装置。
- 前記ビームスプリッタよりも前の光路に、λ/2板または旋光子を備えることを特徴とする請求項4または5に記載の光走査装置。
- 前記光分離デバイスが、ワイヤーグリッドであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光走査装置。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光走査装置を備えることを特徴とするカラー画像形成装置。
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JP2578036B2 (ja) * | 1990-11-26 | 1997-02-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 円筒内面走査型画像記録装置 |
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JP3499359B2 (ja) * | 1996-02-14 | 2004-02-23 | 株式会社リコー | 多ビーム書込光学系 |
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