JP5350804B2 - 電力用半導体装置 - Google Patents
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このようなものとして、放熱板となる金属板と、この金属板に絶縁層としてセラミック板を介して配線パターンが形成され、配線パターン上に接合され、且つ電力用半導体素子を搭載した面から立ち上がっている外部取り出し端子と、外部取り出し端子と電力用半導体素子とを接続する金属ワイヤと、金属板に接着された熱可塑性樹脂の外囲ケースと、この外囲ケースと電力用半導体素子を搭載した基板とで形成された凹部に充填されたシリコーンゲルと、さらにシリコーンゲル上に充填された熱硬化性樹脂とから形成された電力用半導体装置がある(例えば、特許文献1参照)。
このような問題を解決し生産性に優れた電力用半導体装置として、金属板上に絶縁層を介してリードフレームを設け、このリードフレーム上に電力用半導体素子を搭載し、トランスファーモールド樹脂により封止した電力用半導体装置がある(例えば、特許文献2参照)。
すなわち、金属板上に絶縁層を介して設けられ、且つ電力用半導体素子を搭載したリードフレームは、電力用半導体素子とともに、トランスファーモールド樹脂により封止されるが、リードフレーム外周部の他端が樹脂封止部から突出している。そして、この樹脂封止部から突出したリードフレームは、タイバーを切断して、独立した外部端子として用いられる。
しかし、トランスファーモールド樹脂による封止は、リードフレームを上下の金型で挟み込んだ状態で行われるため、外部端子の突出方向は電力用半導体素子搭載面に対して平行な方向となっている。つまりトランスファーモールド樹脂により封止された電力用半導体装置では、樹脂封止部周辺の側面部から外部端子が突出した構造となっており、この外部端子は、電力用半導体装置の実装のため、折り曲げ加工が施されている。
また、外部端子に用いられているリードフレームは、折り曲げ加工を行うため、厚みに制約があり、それにより、外部端子部に流す電流を大きくできず、電力用半導体装置の大電流化が制限されるとの問題があった。
また、本発明の電力用半導体装置は、外部回路基板などへの複数個の実装において、隣接する電力用半導体装置を近接させても、絶縁距離を十分確保できるので、電力用半導体装置どうしを近接させて外部回路基板に実装でき、実装密度を向上できる。
また、本発明の電力用半導体装置は、リードフレームを用いないので、トランスファーモールドにおいて、リードフレームを挟み込む面積を必要とせず、同じ金型面積における電力用半導体装置の取数が多くできるので、生産性が向上する。
また、本発明の電力用半導体装置は、任意の断面積を有した金属製の外部端子を用いることができるので、外部端子の電流を流す方向に垂直な面の断面積を大きくすることが可能となり、外部端子に大電流を流すことができ、小型で大電流化が実現できる。
図1は、本発明の実施の形態1に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図1に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置100は、電力用半導体装置100の熱を放熱する金属放熱体である金属板1の一方の面に、高熱伝導絶縁層である樹脂絶縁層2が設けられている。この樹脂絶縁層2における金属板1に接合された面と対向する面には、金属箔の配線パターン3が設けられている。
すなわち、金属板1と樹脂絶縁層2と配線パターン3とで、回路基板である金属回路基板8を構成している。配線パターン3上には、電力用半導体素子5と筒状外部端子連通部6とが、略直立にはんだ4で接合されている。また、必要な、配線パターン3と配線パターン3との間、電力用半導体素子5と電力用半導体素子5との間、および、配線パターン3と電力用半導体素子5との間が、ワイヤーボンド9で電気的に接続されている。
そして、金属回路基板8の配線パターン3形成面部および周囲側面部と、電力用半導体素子5と、ワイヤーボンド9と、筒状外部端子連通部6の外側面側とは、トランスファーモールド樹脂7で封止されている。しかし、筒状外部端子連通部6の孔部にはトランスファーモールド樹脂7は充填されていない。
また、本実施の形態において、樹脂絶縁層2には、例えば、各種セラミックスや無機粉末を含有する樹脂絶縁シート、ガラス繊維を含有する樹脂絶縁シートを用いることができる。上記樹脂絶縁層2に含有される無機粉末としては、アルミナ、ベリリヤ、ボロンナイトライド、マグネシア、シリカ、窒化珪素、窒化アルミニウムが挙げられる。そして、樹脂絶縁層2の厚みは、例えば、20〜400μmである。
また、本実施の形態において、筒状外部端子連通部6には、例えば、金属筒が用いられ、その材質は、熱伝導性と電気伝導性とに優れ、配線パターン3とはんだ4で接合できる金属、例えば、銅および銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金等のめっき品を用いるのが好ましい。筒状外部端子連通部6の厚みは、トランスファーモールド時の成形圧力により潰れない厚みであれば良い。
筒状外部端子連通部6の高さは、後で挿入接続する外部端子が十分に接続できる高さであれば良い。
筒状外部端子連通部6の内径は、後で挿入接続する外部端子の挿入部の外径から決まり、少なくとも、外部端子を取り付けることができる内径であれば良い。そして、筒状外部端子連通部6のトランスファーモールド樹脂表面側端部の内径を、中心部の内径以上としても良い。このようにすると、筒状外部端子連通部6への外部端子の挿入が容易になる。
例えば、配線パターン3と金属板1とに銅を用いた場合、トランスファーモールド樹脂7の熱膨張係数を銅の熱膨張係数である16ppm/℃に合わすように、エポキシ樹脂へのシリカ粉末の充填量が設定される。このようにすることにより、反りのない電力用半導体装置が得られる。
また、トランスファーモールド樹脂7の放熱性を向上させる場合は、フィラーとしてシリカ粉末の代わりにアルミナ粉末を用いることが好ましい。
本実施の形態の電力用半導体装置100は、例えば、厚み3mmのアルミニウム板に、Bステージ状態のアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートを載せ、その上に厚み0.3mmの銅箔を重ねる。そして、アルミニウム板とアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートと銅箔とを積層したものを加熱・加圧して、アルミニウム板と銅箔とをアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂シートで接合する。次に、銅箔をエッチングして配線パターン3を形成する。
このようにして、アルミニウムの金属板1とアルミナ粉末を含有するエポキシ樹脂の樹脂絶縁層2と銅の配線パターン3とからなる金属回路基板8を形成する。
次に、配線パターン3上の任意の場所に設けられる素子搭載部に電力用半導体素子5を、そして配線パターン3上の任意の場所に設けられる筒状外部端子連通部6との接合部に筒状外部端子連通部6を、各々はんだ4を用いて接合する。
そして、配線パターン3と配線パターン3との間、電力用半導体素子5と電力用半導体素子5との間、および、配線パターン3と電力用半導体素子5との間において、導通が必要な箇所をアルミニウムのワイヤーボンド9で接続する。
トランスファーモールド樹脂7で封止された筒状外部端子連通部6の孔部は、外部端子を接続する部位である。
筒状外部端子連通部6と外部端子との接続方法としては、はんだ付け、金属間接合であるプレスフィットに代表される圧入接続、ネジ接続等が挙げられるが、低コストで接続部の信頼性が高く、工程が容易なプレスフィットに代表される圧入接続が好ましい。
金属板1の放熱面に樹脂が回り込んだ場合、断熱構造となり電力用半導体素子5からの発熱が十分に下に放熱できなくなる。また、筒状外部端子連通部6の孔部にトランスファーモールド樹脂7が浸入した場合、挿入すべき外部端子が挿入できなくなるとの問題が生ずる。
図2に示すように、電力用半導体装置における金属板1の放熱面と筒状外部端子連通部6の孔部にトランスファーモールド樹脂が浸入するのを防止する手段(この後、トランスファーモールド樹脂浸入防止手段と記す)は、まず、ワイヤーボンド工程まで完了した電力用半導体装置を、電力用半導体装置の高さとほぼ同寸法にザグリ加工を施した下金型11にセットする。次に、トランスファーモールド樹脂7との接着性を有さず、弾性を有し、200℃程度でも熱劣化を起こさない耐熱性を有する樹脂シート12を真空引き等で密着させて一体化した上金型10と、ワイヤーボンド工程まで完了した電力用半導体装置をセットした下金型11とで型締めする。次に、上金型10と下金型11とで形成された金型キャビティ内にトランスファーモールド樹脂7が充填される。このとき用いられる樹脂シート12としては、例えば、テフロン(登録商標)等のフッ素系の樹脂シートが挙げられる。
また、下金型11のザグリ深さは、ワイヤーボンド工程まで完了した電力用半導体装置の筒状外部端子連通部6が上記樹脂シート12に多少めり込む深さとする。この下金型11のザグリ深さは、用いる樹脂シート12の厚みに大きく依存するので、例えば、200μm厚みのフッ素系の樹脂シート12を用いた場合、金属板1の放熱面から筒状外部端子連通部6の上面の高さに対して、100μm程度の公差で形成されれば良い。
このような構造の金型を用いた第1のトランスファーモールド樹脂浸入防止手段は、量産性に優れると同時に、簡単にトランスファーモールド樹脂7の、金属板1の放熱面への回り込み、および筒状外部端子連通部6の孔部への浸入を防止できる。
この第2のトランスファーモールド樹脂浸入防止手段では、電力用半導体装置の高さ精度をあげる必要があるので、電力用半導体装置に用いられる部材の高さ、さらには、はんだ4の高さを数μmの精度で管理する必要が生じ、材料の公差管理、プロセス上の管理が厳しくなるが、やはり、トランスファーモールド樹脂7の、金属板1の放熱面への回り込み、および筒状外部端子連通部6の孔部への浸入を防止できる。
この第3のトランスファーモールド樹脂浸入防止手段では、部分的に弾性を有する材料を設けるため、これら材料の装着および脱着などの作業が複雑になるとともに、金属回路基板8の大きさや筒状外部端子連通部6の配置が変わるたびに、設ける材料を再設計する必要があるが、やはり、トランスファーモールド樹脂7の、金属板1の放熱面への回り込み、および筒状外部端子連通部6の孔部への浸入を防止できる。
この第4のトランスファーモールド樹脂浸入防止手段では、充填物を完全に取り除くことが必要であり、筒状外部端子連通部6が深くなればなるほど取り除くのに複雑な手段が必要であるが、やはり、トランスファーモールド樹脂7の、金属板1の放熱面への樹脂の回り込み、および筒状外部端子連通部6の孔部への浸入を防止できる。特に、トランスファーモールド樹脂7の筒状外部端子連通部6の孔部への浸入防止が容易である。
また、上金型10に設置された樹脂シート12の自動取替が可能であるとともに、金属回路基板8の大きさ、筒状外部端子連通部6の配置がどの様な場合でも、1台の金型で対応可能であり、量産性に優れ、低コスト化も実現できる。
図3は、本発明の実施の形態2に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図3に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置200は、棒状の外部端子13が筒状外部端子連通部6に挿入され、外部端子13と電力用半導体装置の配線回路とが電気的に接続されている以外、実施の形態1の電力用半導体装置と同様である。
本実施の形態において、外部端子13には、熱伝導性と電気伝導性に優れた金属が用いられ、特に、銅系の材料が好ましい。外部端子13の外径は、電力用半導体素子5の電流容量により、適宜決められる。電流容量が大きい電力用半導体装置200には、外径の大きい外部端子13が用いられる。
また、本実施の形態の電力用半導体装置200は、トランスファーモールド樹脂の周辺側面部から外部端子が突出した構造でないので、外部回路基板などへの複数個の実装において、隣接する電力用半導体装置を近接させても、絶縁距離を十分確保できるので、電力用半導体装置どうしを近接させて外部回路基板に実装でき、機器への実装密度が向上する。
さらには、任意の断面積を有した金属製の外部端子を用いることが出来るため、外部端子の電流を流す方向に垂直な面の断面積を大きくできるので、外部端子に大電流を流すことができ、小型で大電流化が可能な電力用半導体装置を実現できる。
図4は、本発明の実施の形態3に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図4に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置300は、金属回路基板8のかわりにセラミック回路基板14を用いた以外、実施の形態2の電力用半導体装置と同様である。
本実施の形態におけるセラミック回路基板14は、高熱伝導絶縁層であるセラミック板15の両面に銅箔が接合され、一方の面に設けられた銅箔が、実施の形態1と同様にしてエッチングされ配線パターン3となり、他方の面に設けられた銅箔16が電力用半導体装置300の金属放熱体になっている。
本実施の形態では、セラミック板15の材質として、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等が用いられ、その厚みは0.1mm〜1.0mmである。
本実施の形態の電力用半導体装置300では、セラミック回路基板が用いられており、電力用半導体装置における電力用半導体素子から金属放熱体への熱伝導特性が優れているので、電力用半導体装置のさらなる大電流化が図れ、電力用半導体装置の稼動時に発生する熱応力を小さくできると同時に、絶縁信頼性にも優れているため電力用半導体装置の長期信頼性を向上できる。
図5は本発明の実施の形態4に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図5に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置400は、電流容量により筒状外部端子連通部6の内径を変化させたものである。すなわち、小電流の部分には、細い外部端子23が接続された小さい径の筒状外部端子連通部6を用い、大電流の部分には、太い外部端子33が接続された大きい径の筒状外部端子連通部を用いた電力用半導体装置であり、それ以外は実施の形態2の電力用半導体装置と同様である。
筒状外部端子連通部6の内径を変化させた電力用半導体装置の具体例としては、例えば、ゲートなどの信号用端子に、小さい径の筒状外部端子連通部6と細い外部端子23を用い、出力端子に、大きい径の筒状外部端子連通部6と太い外部端子33を用いるものが挙げられる。これにより電力用半導体装置の、さらなる小型化が可能となる。
図6は、本発明の実施の形態5に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図6に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置500は、電力用半導体装置のトランスファーモールド樹脂7から突出した外部端子の部分を筒状外部端子連通部6の外部端子挿入部より太くした、すなわち突出部を太くした外部端子43を用いた以外、実施の形態2の電力用半導体装置と同様である。
実施の形態2の電力用半導体装置200では、トランスファーモールド樹脂7から突出した部分の外部端子の径は、外部端子挿入部と筒状外部端子連通部6とからなる径より小さい。
しかし、本実施の形態の電力用半導体装置500では、トランスファーモールド樹脂7から突出した部分の外部端子の径を、外部端子挿入部と筒状外部端子連通部とからなる径以上にしてあるので、さらに大電流化が図れる電力用半導体装置を実現できる。
また、本実施の形態の外部端子を、実施の形態3の電力用半導体装置に用いても同様な効果が得られる。
図7は、本発明の実施の形態6に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図7に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置600は、複数の筒状外部端子連通部6に挿入する複数の挿入部を備えた外部端子53を、少なくとも1つ用いた電力用半導体装置である。それ以外は、実施の形態2の電力用半導体装置と同様である。
上記実施の形態5の電力用半導体装置500では、外部端子に流す電流を増加させるために、トランスファーモールド樹脂7から突出した部分の外部端子の径を、外部端子挿入部と筒状外部端子連通部6とからなる径以上にしている。
しかし、さらなる大電流化に対しては、外部端子における筒状外部端子連通部6への挿入部の断面積も大きくすることが必要であり、対応する筒状外部端子連通部6の内径が大きくなる。しかし、このようにすると、筒状外部端子連通部のはんだ接合部面積が大きくなり、はんだ接合部の信頼性が問題になる。
これに対し、本実施の形態の電力用半導体装置600では、複数の筒状外部端子連通部6を1つの外部端子53で接続している。すなわち、複数の筒状外部端子連通部6の各々は、その内径を特別に大きくする必要がないので、筒状外部端子連通部6のはんだ付け信頼性は向上している。それと、同時に複数の接合点で筒状外部端子連通部6と外部端子53とが接続しているので、この接続信頼性も向上している。
それと、外部端子に流す電流をいっそう大きくでき、電力用半導体装置のいっそうの大電流化が実現できる。
図8は、本発明の実施の形態7に係る電力用半導体装置を示す断面模式図である。
図8に示すように、本実施の形態の電力用半導体装置700は、筒状外部端子連通部6に挿入する外部端子としてばね体17を設けた以外、実施の形態2の電力用半導体装置と同様である。
ばね体17は、例えば、コイル状や葛折り状にした金属で形成され、筒状外部端子連通部6の内部に、例えば、はんだ等で接続される。
本実施の形態の電力用半導体装置700では、外部端子としてばね体17が設けられているので、外部回路基板のパット部にばね体17の先端を接触させた後、電力用半導体装置に荷重を加えた状態で固定することにより、外部回路基板等と電気的接合を取ることができる。
すなわち、本実施の形態の電力用半導体装置700は、外部端子を外部回路基板にはんだ等で接合することなしに実装できるので、不具合が生じた電力用半導体装置の交換が容易であり、補修性に優れている。
本実施の形態の電力用半導体装置700では、外部端子そのものを金属のばね体で形成した構造としているが、外部端子の先端にばね体を設けた構造としても良い。
また、本実施の形態における外部端子をばね体とする構造を、実施の形態2〜7の電力用半導体装置に用いても同様の効果が得られる。
Claims (9)
- 金属放熱体と上記金属放熱体の一方の面と接合した高熱伝導絶縁層と上記高熱伝導絶縁層における上記金属放熱体と接合した面と対向する面に設けられた配線パターンとからなる回路基板と、上記配線パターンの素子搭載部に接合された電力用半導体素子と、上記電力用半導体素子と電気的に接続された上記配線パターンに設置され、且つ外部端子を挿入接続可能である筒状外部端子連通部の側面とがトランスファーモールド樹脂で封止された電力用半導体装置であって、両端が開口した上記筒状外部端子連通部が上記配線パターン形成面に対して略垂直に設けられ、上記金属放熱体表面と上記筒状外部端子連通部の上部とが上記トランスファーモールド樹脂から露出し、上記筒状外部端子連通部の上記トランスファーモールド樹脂表面側端部の内径を、上記筒状外部端子連通部の中心部の内径以上とし、上記筒状外部端子連通部の内部に上記トランスファーモールド樹脂が存在しないことを特徴とする電力用半導体装置。
- 上記筒状外部端子連通部に上記外部端子が挿入接続されたことを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
- 上記回路基板が、上記金属放熱体である金属板と上記金属板の一方の面に接合された上記高熱伝導絶縁層である樹脂絶縁層と上記樹脂絶縁層における上記金属板に接合された面と対向する面に設けられた上記配線パターンとからなる金属回路基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電力用半導体装置。
- 上記回路基板が、上記高熱伝導絶縁層であるセラミック板と上記セラミック板の一方の面に接合された上記金属放熱体である金属箔と上記セラミック板の他方の面に設けられた上記配線パターンとからなるセラミック回路基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電力用半導体装置。
- 上記筒状外部端子連通部が金属筒であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
- 異なる内径の上記筒状外部端子連通部を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
- 上記筒状外部端子連通部に上記筒状外部端子連通部より太くした外部端子が挿入接続されたことを特徴とする請求項1又は、請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
- 上記外部端子が、複数の挿入部を備えた外部端子であり、上記外部端子の各挿入部が対応する複数の上記筒状外部端子連通部に接続されたことを特徴とする請求項2乃至請求項7のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
- 上記外部端子としてばね体を設けたことを特徴とする請求項2乃至請求項8のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
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