JP5049787B2 - 冷間圧接封止法および装置 - Google Patents
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- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16237—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
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- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81193—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
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- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/163—Connection portion, e.g. seal
- H01L2924/16315—Shape
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T403/00—Joints and connections
- Y10T403/47—Molded joint
- Y10T403/477—Fusion bond, e.g., weld, etc.
Description
本出願は、2004年11月4日に出願された米国特許仮出願代60/62,5053号の恩典を主張するものである。この出願は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
本発明は一般に、部品を合わせて封止(sealing)するための方法および装置の分野に関し、詳細には、装置および/または埋込み可能な医療装置の気密封止(hermetic sealing)方法に関する。
一態様では、少なくとも2つの基材を合わせて気密封止するための冷間圧接法および構造が提供される。これは、封止プロセスへの入熱なしでハーメチックシールを有利に提供することができ、このことは、このような追加の熱が、結合領域に近接する装置、製剤または材料に有害となる多くの応用において望ましい。
冷間圧接(compression cold welding)プロセスによってハーメチックシールを形成する方法および装置を開発した。有利には、このプロセスおよびシール設計は、繊細な装置構成要素および内容物を熱および溶媒から保護しながら、装置部品を確実かつ効率的に互いに結合することを可能にする。この封止プロセスは、分子間拡散および結合を促進するために、圧縮ステップ中に局所的に変形し、剪断される1つまたは複数のジョイントシール表面を備えた2つの基材を共に冷間圧接することを含む。有利には、金属封止面の剪断および変形は、この面に存在する金属酸化物あるいは有機または無機汚染物を実質的に浄化し、それによって、接合面間の金属−金属結合を促進し、したがって気密性(hermeticity)を促進する原子的に清浄な金属面を提供する。すなわち、冷間圧接は、汚染物のない接合面、したがって結合障害のない接合面を形成する。好ましい冷間圧接プロセスでは、金属の降伏応力よりも大きい圧力によって、接合構造および接合面が変形する。この金属変形は2つの目的を果たす。この金属変形は接合面間の密接を形成し、金属−金属結合が可能になるように、表面酸化物および他の汚染物を置換する。冷間圧接によって金属−金属結合が形成される実施形態では、追加のクランプが不要な場合がある。
ハーメチックシールは、第1の接合面を有する少なくとも1つの第1のジョイント構造を有する第1の基材と、第2の接合面を有する少なくとも1つの第2のジョイント構造を有する第2の基材とを含み、これらの基材が、1つまたは複数の界面で冷間圧接によって結合されている。好ましい実施形態では、これらのシールが生物適合性であり、医療用インプラント向けに適している。一実施形態では、これらの2つの基材が、任意選択で、リザーバ、センサ、薬物および電子回路のうちの1つまたは複数を含む。基材は、ケイ素、ガラス、パイレックスガラス、ステンレス鋼、チタン、アルミナ、窒化ケイ素および他の生物適合性セラミック、ならびに他の金属またはポリマーを含むことができる。一実施形態では、ケイ素基材が、近赤外(NIR)から赤外(IR)スペクトルの範囲の光学プローブの使用を許す。基材材料を適当に選択することによって、可視、UVまたは他の波長の光を使用した分光法が可能となることが理解される。さらに、基材は、冷間圧接中に高い剪断を引き起こす十分に高いヤング率および降伏応力を有するポリマーを含むことができる。
ハーメチックシールは冷間圧接によって作られる。一実施形態では、金属である第1の接合面を含む少なくとも1つの第1のジョイント構造を有する第1の基材を提供し、金属である第2の接合面を含む少なくとも1つの第2のジョイント構造を有する第2の基材を提供し、これらの金属面を、1つまたは複数の界面で、この1つまたは複数の界面のこれらの接合面間に連続する金属−金属結合を形成するのに有効な量だけ、局所的に変形させ、剪断するために、少なくとも1つの第1のジョイント構造と少なくとも1つの第2のジョイント構造とを共に圧縮することによって、2つの基材を合わせて気密封止する。
所与の負荷が加えれらる接合面に大きな局所圧力および変形を効率的に発生させるように、ジョイント構造を設計した。図1〜6に、ジョイント構造を合わせて冷間圧接するために基材上の圧縮力を接合面上の剪断力に効率的に変換するジョイント構造を有するハーメチックシールシステムのいくつかの実施形態の断面図を示す。剪断力は、ジョイント構造が合わせられたときに、圧縮力によって変形する金属接合面のオーバラップ部分が存在するような、ジョイント構造間の締め代またはオーバラップ部分によって発生する。2つのオーバラップ構造の相対的な剪断は、凹凸を排除し、これらの面が相互作用し、結合することを可能にする。いくつかの実施形態では、それぞれのジョイント構造の締め代部分だけが実質的に変形する。他の実施形態では、それぞれのジョイント構造の半分を形成するために異なる材料および異なる関連特性が使用されることにより、ハーメチックシールを形成する一対のジョイント構造のうちの一方のジョイント構造だけが実質的に変形する。
図10は、タングアンドグルーブジョイント構造設計を有するハーメチックシールシステム180の一実施形態の断面図および拡大断面図を示す。ジョイント構造182a/182bおよび184は、深い反応性イオンエッチング(DRIE)によってケイ素基材内に形成される。ジョイント構造182a/182b、184の幾何寸法は、グルーブの深さ186、グルーブの幅187、タングの幅188、およびタングの高さ190を含む。これらの幾何寸法は、約1ミクロンから約100ミクロンまでの範囲にあることが好ましい。気密封止周界に沿った全ての点でジョイント面がオーバラップすることを保証するため、タング構造184およびグルーブ構造182a/182bは、ジョイント構造製作の公差および組立て機器の正確さの公差を上回るオーバラップ部分(「締め代」とも呼ばれる)を形成するように製作される。好ましい実施形態では、このオーバラップ部分が約1ミクロンから約20ミクロンまでの範囲にあり、かつタング幅188の1/4よりも小さい。
本発明のいくつかの実施形態では、ハーメチックシールを形成するために、熱圧着において選択的パルス加熱が使用される。選択的パルス加熱は、マイクロ抵抗ヒータによって提供することができる。マイクロ抵抗ヒータの例は、Lin他の米国特許第6,436,853号に記載されている。ヒータは、本明細書に記載の気密封止システムの任意の実施形態に組み込むことができる。中間層を有するヒータと中間層のないヒータの2つのグループのうちの一方に適当なヒータを配置することができる。
基材を結合するために必要な機械力を最小化することによって、基材または基材コーティングを傷つける危険性を低減させることができる。必要な機械力の最小化は、さまざまな方法によって達成することができる。これらの方法は、さまざまなジョイント構造設計、接合面材料の選択、接合面材料の処理手順および冷間圧接プロセスパラメータを含む。
他の態様では、金属−金属結合なしに圧縮シールが形成される。この場合、気密性であり続けるために、部品が、永続的な接合力を必要とする。接合力は、さまざまな締付け機構によって加えることができる。一実施形態では、基材が整列するまで基材の周囲に動きばめを提供するニチノールまたは他の形状記憶合金クランプを形成することができ、その後、ニチノールをその相転移点よりも高い温度まで加熱して、図15に示されているようにニチノールが基材を締め付けるようにすることができる。この相転移温度は(形状記憶合金の組成を変更することによって)制御することができる。したがって、装置の組立ては相転移温度よりも低い温度で実施することができ、次いで、組み立てたアセンブリが相転移温度まで加熱され、締付け機構が作動させられる。
冷間圧接技法は、処理と製造可能性の両方に関していくつかの利点を有する。第1に、封止フィーチャは、標準MEMsプロセスになじみやすく、MEMs装置にモノリシックに(monolithically)に組み込むことができる。第2に、短い間隔で配置されたリザーバのアレイを同時に封止することができる。実際に、ウェーハ−ウェーハ結合プロセスでは、装置のウェーハ全体を同時に封止することができる。互いに上下に重ねられた複数のウェーハを、内部ウェーハのそれぞれの表面に冷間圧接が実施されるように、順番にまたは同時に結合することができる。さらに、封止フィーチャの下のフィードスルー(feed−through)を通すことによって、能動デバイスを受動デバイスと統合することができる。最後に、このプロセスは熱を含まないため、リザーバ容積の中に温度感受性材料をパッケージングすることができる。温度感受性材料は例えば、揮発性液体、有機化学物質、薬物、爆発性ガス、化学センサおよび敏感なエレクトロニクスを含む。
埋込み型医療用センサの一応用では、それぞれの基材上にコンプライアントポリマーのパターンが形成される。このポリマーのパターンは、モールディング(例えばPDMSソフトリソグラフィ)、フォトリソグラフィ(例えば光画成可能な(photo−definable)シリコーン)、ステレオリソグラフィ(stereolithography)、選択的レーザシンタリング、インクジェットプリンティング、堆積およびリフロー、またはエッチング(例えばO2プラズマエッチング)など、従来のMEMs技法を使用して形成することができる。あるいは、ポリマーは、反対側の基材の間にそれを配置する前にパターン形成し、金属被覆することができる。
他の態様では、本明細書に記載された冷間圧接技法が、非常に信頼性の高い、低抵抗電気的接続を加熱なしで形成するように適合される。一実施形態では、冷間圧接によって形成された結合構造が、機械的固定手段と連続導電経路とを同時に提供する。
(基材およびリザーバ)
一実施形態では、封じ込め装置が、流体密(fluid tight)封止または気密封止されたリザーバ内容物を含んだ1つまたは複数のリザーバを含むボディ部分、すなわち基材を含む。本明細書で使用されるとき、用語「気密」は、ヘリウム、水蒸気および他の気体を遮断するために有効なシール/封じ込めを指す。本明細書で使用されるとき、用語「流体密」は、気密性ではないが、液相中の溶解した物質(例えばグルコース)を遮断するために有効なシール/封じ込めを指す。基材は、その中にリザーバが形成された構造体(例えば装置の部分)であることができ、基材は例えば、エッチングされ、機械加工されまたは成形されたリザーバを含む。
リザーバキャップ支持体は、基材材料、構造材料、またはコーティング材料、あるいはこれらの組合せを含むことができる。基材材料を含むリザーバキャップ支持体は、リザーバと同じステップで形成することができる。前述のMEMS法、マイクロファブリケーション、マイクロモールディング、およびマイクロ機械加工技法を使用して、さまざまな基材材料から基材/リザーバおよびリザーバキャップ支持体を製作することができる。構造材料を含むリザーバキャップ支持体も、基材上への堆積技法ならびにこれに続くMEMS法、マイクロファブリケーション、マイクロモールディングおよびマイクロ機械加工技法によって形成することができる。コーティング材料から形成されたリザーバキャップ支持体は、知られているコーティングプロセスおよびテープマスキング、シャドウマスキング、選択的レーザ除去技法または他の選択的方法を使用して形成することができる。
リザーバ内容物は、その放出または露出が望ましい選択された時点までリザーバの外部環境から分離する(例えば保護する)必要がある実質上任意の物体または物質である。さまざまな実施形態では、リザーバ内容物が、(ある量の)化学分子、2次装置またはそれらの組合せを含む。
リザーバ内容物は、実質上任意の天然または合成の有機または無機分子、あるいはそれらの混合物を含むことができる。それらの分子は、純粋な固体または液体、ゲルまたはヒドロゲル、溶液、乳濁液、スラリ、凍結乾燥粉末、あるいは懸濁液など、実質上任意の形態をとることができる。開かれたリザーバからの放出速度および/または時間を制御しまたは向上させるために、関心の分子を他の物質と混合することができる。
本明細書で使用されるとき、用語「2次装置」は、特に明示されない限り、リザーバの中に位置することができる任意の装置またはその構成要素を含む。一実施形態では、2次装置がセンサまたはセンサのセンシング構成要素である。本明細書で使用されるとき、「センシング構成要素」は、ある部位の化学種もしくはイオン種、エネルギーまたは1つもしくは複数の物理特性(例えばpH、圧力)の、存在の有無または変化を、測定しまたは分析する際に利用される構成要素を含む。センサのタイプには、バイオセンサ、化学センサ、物理センサまたは光センサが含まれる。2次装置は米国特許第6,551,838号に詳細に記載されている。一実施形態ではセンサが圧力センサである。例えば米国特許第6,221,024および6,237,398号、ならびに米国特許出願公開第2004/0073137号を参照されたい。センシング構成要素の例には、ある部位の薬物、化学物質、またはイオン種、エネルギー(または光)、あるいは1つまたは複数の物理特性(例えばpH、圧力)の存在の有無または変化を測定しまたは分析する際に利用される構成要素が含まれる。他の実施形態では、センサが、化学検出に使用されるセンサなどの片持ち梁型のセンサを含む。例えば、参照によって本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第2005/0005676号を参照されたい。
本明細書で使用されるとき、用語「リザーバキャップ」は、リザーバの内容物をリザーバの外部環境から分離するのに適した膜、薄いフィルムまたは他の構造物を指すが、リザーバキャップは、リザーバを開いて、その内容物を露出させるために、選択された時刻に除去されまたは崩壊するように意図される。好ましい一実施形態では、別個の1つのリザーバキャップがリザーバ開口の1つを完全に被覆する。他の実施形態では、別個の1つのリザーバキャップが、全てではないが2つ以上のリザーバ開口を被覆する。能動的に制御された好ましい装置では、リザーバキャップが、加えられた刺激(例えば電場または電流、磁場、pH変化、あるいは熱、化学、電気化学、または機械手段による刺激)に反応して、崩壊しまたは透過性化することができる任意の材料を含む。適当なリザーバキャップ材料の例は、金、チタン、白金、スズ、銀、銅、亜鉛、合金、および金−ケイ素、金−スズ共晶などの共晶材料などである。単一の装置の中に、受動または能動障壁層の任意の組合せが存在することができる。
封じ込め装置は、例えば本明細書に記載されたリザーバ封止後の選択された時刻にリザーバキャップを崩壊させ、または透過性化するために、リザーバの開口を容易にし、制御する制御手段を含む。この制御手段は、構造構成要素(1つまたは複数)と、電力を供給し、リザーバ内容物の放出または露出が開始される時刻を制御する電子機構(例えば回路および電源)とを含む。
本明細書に記載されたマルチキャップリザーバ放出/露出装置およびシステムは、さまざまな応用で使用することができる。好ましい応用は、薬物の制御された送達、バイオセンシング、またはこれらの組合せを含む。好ましい一実施形態では、マルチキャップリザーバシステムは埋込み可能な医療装置の一部分である。この埋込み可能医療装置はさまざまな形態をとることができ、さまざまな治療および/または診断応用において使用することができる。一実施形態では、リザーバが、長期間にわたって薬物製剤を貯蔵し、放出する。他の実施形態では、リザーバが、選択的に露出させるためのセンサを含み、リザーバは、必要に応じて(例えばセンサの汚損に応じて)または所定のスケジュールに従って開かれる。例えば、リザーバは、圧力センサ、化学センサ、または生物センサを含むことができる。特定の一実施形態では、リザーバが、リザーバ内の電極上に不動化され、1つまたは複数の浸透膜/半透膜で覆われたグルコースオキシダーゼを含むグルコースセンサを含む。酵素は、意図された使用時の前に環境(例えば体)に露出すると、その活性を失いかねないため、封止されたリザーバは、酵素が必要になるまで酵素を保護する役目を果たす。
タングアンドグルーブハーメチックシール
タングアンドグルーブジョイント設計を使用してハーメチックシールを形成した。このシールは冷間圧接プロセスによって形成した。図3にこのシールの走査電子顕微鏡写真(SEM)を示す。基材は、ケイ素(上)およびアルミナ(下)である。金属は金である(ケイ素上にはスパッタリングし、アルミナ上にはスパッタリングし次いで電気めっきした)。これらの部品を、FC−150フリップチップアライナ上で結合した。この装置は、x、y、zならびにピッチ、ロール、およびヨーの正確なアライメントを提供する機械である。これらの部品を整列させた後、FC−150によってこれらの部分を互いに圧縮し、冷間圧接結合を形成した。
気密性に対するフィーチャサイズおよび金属厚さの変動の影響
さまざまなフィーチャサイズおよび金属層厚を用いて、いくつかの異なるジョイント設計を製作した。これらのジョイントを冷間圧接し、封止されたジョイントの漏れを、部品の幾何形状に応じて染料浸透試験またはHe漏れ検出器を使用して、試験した。下表1に示すように、試験範囲全体にわたって、シールの完全性は、フィーチャサイズおよび金の金属層厚から独立していることが分かった。漏れ検出器の下限未満の、すなわち5e−11atm*cc/秒未満の検出不能の漏れ量で漏れている可能性がある。
シールフィーチャを個々に有するマイクロファブリケーションキャビティのアレイ
相補的なキャビティおよび冷間圧接用のシールフィーチャを有する2つのケイ素基材を提供した。これらのシールフィーチャは、一方の基材上/中にマイクロファブリケーションによって形成されたリッジ、およびもう一方の基材上/中にマイクロファブリケーションによって形成された整合するグルーブを含む。それぞれのグルーブの内側およびそれぞれのリッジの内側に、浅い幅広のキャビティを形成した。図27A〜Bに、その結果得られた基材およびシールフィーチャを示す。
Claims (25)
- 少なくとも2つの基材を合わせて気密封止する方法であって、
第1の金属を含む第1の接合面を含む少なくとも1つの第1のジョイント構造を有する第1の基材であって、前記基材に形成された一の凹み内に画定された一のグルーブと、一の対合タング構造との一方を含む第1の基材を提供することと、
第2の金属を含む第2の接合面を含む少なくとも1つの第2のジョイント構造を有する第2の基材であって、前記グルーブと前記対合タング構造との他方を含む第2の基材を提供することと、
前記少なくとも1つの第1のジョイント構造の、前記少なくとも1つの第2のジョイント構造に対する1つ以上のオーバラップ部分を与えるべく、前記少なくとも1つの第1のジョイント構造を前記少なくとも1つの第2のジョイント構造に対して整列させることと、
前記接合面を、1つ以上の界面で、前記接合面の前記第1の金属と前記第2の金属の間に金属−金属結合を形成するのに有効な量だけ局所的に変形させるべく、前記対合タング構造を圧縮して前記グルーブの中へ少なくとも部分的に入れることと
を含み、
前記1つ以上のオーバラップ部分は、前記圧縮の間に前記接合面の前記1つ以上の界面を形成し、前記変形によって表面汚染物を置換して前記接合面間の密接を促進するのに有効である方法。 - 前記対合タング構造が、1ミクロンから100ミクロンまでの範囲のタング高さおよび1ミクロンから100ミクロンまでの範囲のタング幅を有し、前記グルーブの構造が、1ミクロンから100ミクロンまでの範囲のグルーブ深さおよび1ミクロンから100ミクロンまで範囲のグルーブ幅を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の金属または前記第2の金属あるいはその両方が金または白金を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の金属または前記第2の金属あるいはその両方が、金、インジウム、アルミニウム、銅、鉛、亜鉛、ニッケル、銀、パラジウム、カドミウム、チタン、タングステン、スズおよびこれらの組合せからなるグループから選択された金属を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の金属と前記第2の金属が異なる金属である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のジョイント構造または前記第2のジョイント構造あるいはその両方が、インジウム、アルミニウム、金、クロム、白金、銅、ニッケル、スズ、これらの合金、およびこれらの組合せを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1のジョイント構造が、前もって形成された少なくとも1つの構造体を前記第1の基材に結合することによって形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の基材と前記第2の基材の間に1つ以上のプリフォームを提供することをさらに含み、前記少なくとも1つの第1のジョイント構造と前記少なくとも1つの第2のジョイント構造とを合わせて圧縮することが、さらに、前記基材または前記接合面とのプリフォーム界面で、前記1つ以上のプリフォームを変形させることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記プリフォームが、金属、ポリマーまたは金属被覆されたポリマーを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記第1のジョイント構造および第1の接合面が、前記第1の基材の表面の少なくとも一部分を被覆する金属の層である、請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の界面で前記接合面を加熱することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記結合された基材が、その中に画定された少なくとも1つのキャビティを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも第1または第2の基材が、リザーバ内容物を含む別個の複数のリザーバを含み、前記リザーバがそれぞれ、互いからおよび外部環境から気密封止される、請求項1に記載の方法。
- 前記変形が真空下で実施される、または、大気中で実施された場合に起こるであろう前記ジョイント構造の酸化に比べて前記ジョイント構造の酸化を低減させるのに有効な不活性ガス雰囲気で実施される、請求項1に記載の方法。
- 前記第1または第2の基材がキャビティを含み、前記第1のジョイント構造と前記第2のジョイント構造とが合わせて圧縮される前に前記キャビティの中に第3の基材が配置される、請求項1に記載の方法。
- 前面と背面とを有する第1の基材であって、第1の金属である第1の接合面を含む少なくとも1つの第1のジョイント構造を含み、前記第1の基材に形成された一の凹み内に画定された一のグルーブと、一の対合タング構造との一方を含む第1の基材と、
第2の金属である第2の接合面を含む少なくとも1つの第2のジョイント構造を有する第2の基材であって、前記グルーブと前記対合タング構造との他方を含む第2の基材と、
前記第1の基材と前記第2の基材の間に形成された、前記第1の基材と前記第2の基材とを接合するハーメチックシールであって、請求項1に記載の方法によって作製されたハーメチックシールと、
前記第1の基材と前記第2の基材の間の前記ハーメチックシールの内側に、外部環境から気密封止されるように画定された少なくとも1つの封じ込め空間と
を含む封じ込め装置。 - 前記少なくとも1つの封じ込め空間が、前記少なくとも第1の基材の中に、前記前面と前記背面の間に配置された別個の複数のリザーバを含む、請求項16に記載の装置。
- 前記接合面が、入熱なしで形成された金属−金属結合によって互いに接合された、請求項16に記載の装置。
- 前記第1の金属または前記第2の金属あるいはその両方の金属が、金、白金またはこれらの組合せを含む、請求項16に記載の装置。
- 前記第1のジョイント構造と前記第2のジョイント構造の間でプリフォーム構造が変形した、請求項16に記載の装置。
- 前記第1のジョイント構造または前記第2のジョイント構造がマイクロヒータを含む、請求項16に記載の装置。
- 前記第1のジョイント構造または前記第2のジョイント構造が、外部誘導ヒータを介して前記構造を加熱するのに有効な磁性材料を含む、請求項16に記載の装置。
- 前記第1の基材が、前記少なくとも1つの封じ込め空間と連通した別個の複数の開口をさらに含み、前記開口が、別個の複数のリザーバキャップによって閉じられた、請求項16に記載の装置。
- 前記リザーバキャップが金属フィルムを含み、前記装置が、前記リザーバキャップを選択的に崩壊させる手段を含む、請求項23に記載の装置。
- 気密封止されたリザーバ内に位置する内容物の制御された露出または放出のための埋込み可能な医療装置であって、
前面と背面とを有する第1の基材であって、第1の金属である第1の接合面を含む少なくとも1つの第1のジョイント構造を含み、前記第1の基材に形成された一の凹み内に画定された一のグルーブと、一の対合タング構造との一方を含む第1の基材と、
第2の金属である第2の接合面を含む少なくとも1つの第2のジョイント構造を有する第2の基材であって、前記グルーブと前記対合タング構造との他方を含む第2の基材と、
前記第1の基材と前記第2の基材の間に形成された、前記第1の基材と前記第2の基材とを接合するハーメチックシールであって、請求項1に記載の方法によって作製されたハーメチックシールと、
前記第1の基材内に配置され、第1の開口と、前記第1の開口の遠位側にある第2の開口とを有する、別個の複数のリザーバと、
前記リザーバ内に位置し、薬物またはバイオセンサを含むリザーバ内容物と、
前記第1の開口を閉じる別個の複数のリザーバキャップと、
前記リザーバキャップを選択的に崩壊させる手段と
を含み、
前記ハーメチックシールが前記第2の開口を密閉する装置。
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