JP5047784B2 - 位相差フィルム、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(A):下記(1)式を満足するセルロースアシレート
2.20≦DSac(A)+DSay(A)≦2.90 (1)
(DSac(A)は(A)成分のアセチル置換度、DSay(A)は(A)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。)
(B):(A)成分とは異なる分子量を有する水酸基残度0.30以上のセルロースアシレート、またはセルロースエーテル。
DSay(A)/DSac(A)≧2 (2)。
2.00≦DSac(B)+DSay(B)≦2.70 (3)
DSay(B)/DSac(B)≧2 (4)
(DSac(A)+DSay(A))−0.05≧(DSac(B)+DSay(B)) (5)
(DSac(B)は(B)成分のアセチル置換度、DSay(B)は(B)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。)。
2.20≦DSac(A)+DSpr(A)≦2.90 (6)
DSpr(A)/DSac(A)≧2 (7)
(B)成分のセルロースアシレートが、下記(8)式と(9)式とを満足するセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする、位相差フィルムに関する。
2.00≦DSac(B)+DSpr(B)≦2.70 (8)
DSpr(B)/DSac(B)≧2 (9)
(DSpr(A)は(A)成分のプロピオニル置換度、DSpr(B)は(B)成分のプロピオニル置換度を示す)。
10000≦Mn(A)−Mn(B)≦100000 (10)
(Mn(A)、Mn(B)はそれぞれ(A)成分、(B)成分のゲル・パーミッション・クロマトグラフィー法による数平均分子量を表す)。
Mn(A)=30,000〜150,000 (11)
Mn(B)=10,000〜50,000 (12)。
(A)成分の分子量分布(Mw(A)/Mn(A))が、2.5〜5.0、
(B)成分の分子量分布(Mw(B)/Mn(B))が、1.5〜4.0、
であり、且つ(Mw(A)/Mn(A))>(Mw(AB)/Mn(AB))であることを特徴とする、位相差フィルムに関する。
(Mw(AB)、Mn(AB)は、それぞれ(A)成分と(B)成分を混合後のゲル・パーミッション・クロマトグラフィー法による重量平均分子量、数平均分子量を表す)。
(A)成分の含有量が20〜50重量%、
(B)成分の含有量が80〜50重量%、
であるセルロースアシレートを含有することを特徴とする、位相差フィルムに関する。
Re(450)/Re(550)=0.80〜0.95 (13)
Re(550)<Re(650) (14)
(Re(450)、Re(550)、Re(650)は、それぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけるリターデーション値を示す)。
(A):下記(1)式を満足するセルロースアシレート
2.20≦DSac(A)+DSay(A)≦2.90 (1)
(DSac(A)は(A)成分のアセチル置換度、DSay(A)は(A)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。)
(B):(A)成分とは異なる分子量を有する水酸基残度0.30以上のセルロースアシレート、またはセルロースエーテル。
DSay(A)/DSac(A)≧2 (2)
しかしながら、(A)成分のみでは、温度変化に対する機械的強度の耐久性(以下、耐久性と略す)の点で問題となる場合がある。そこで(A)成分とは異なる分子量を有する水酸基残度0.30以上のセルロースアシレート、またはセルロースエーテルを(B)成分として含有させることにより、温度変化に対する耐久性を向上させることができる。
2.00≦DSac(B)+DSay(B)≦2.70 (3)
DSay(B)/DSac(B)≧2 (4)
(DSac(B)は(B)成分のアセチル置換度、DSay(B)は(B)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。)
(DSac(A)+DSay(A))−0.05≧(DSac(B)+DSay(B)) (5)。
2.20≦DSac(A)+DSpr(A)≦2.90 (6)
DSpr(A)/DSac(A)≧2 (7)
2.00≦DSac(B)+DSpr(B)≦2.70 (8)
DSpr(B)/DSac(B)≧2 (9)
(DSpr(A)は(A)成分のプロピオニル置換度、DSpr(B)は(B)成分のプロピオニル置換度を示す)。
10,000≦Mn(A)−Mn(B)≦100,000 (10)
(Mn(A)、Mn(B)はそれぞれ(A)成分、(B)成分のゲル・パーミッション・クロマトグラフィー法による数平均分子量を表す)。
Mn(A)=30,000〜150,000 (11)
Mn(B)=10,000〜50,000 (12)。
Re(450)/Re(550)=0.80〜0.95 (13)
Re(550)<Re(650) (14)
(Re(450)、Re(550)、Re(650)は、それぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけるリターデーション値を示す)。
本明細書中に記載の材料特性値等は、以下の評価法によって得られたものである。
フィルムの幅方向中央より50mm角のサンプルを切り出し、王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−WRにより、位相差の波長分散性を測定し、その測定値を元に装置付属のプログラムによりRe(450)、Re(550)、Re(650)を算出した。
アンリツ製電子マイクロメーターにより測定した。
ASTM−D817−96記載の方法にて各アシル基含量を測定し、アシル基の置換度をそれぞれ算出した。水酸基残度は、3−(総アシル置換度)を計算して求めた。
ASTM−D4794−94記載の方法にて各アルコキシル基含量を測定し、アルコキシル基の置換度をそれぞれ算出した。
ゲル・パーミッション・クロマトグラフィー法により、各試料の数平均分子量と重量平均分子量を求めた。
装置:東ソー製GPC,東ソー製8020型RI
カラム:昭和電工製K−G、K−806,K−805,K−803
溶媒:塩化メチレン
流量:1.0mL/分
温度:25℃
試料溶液:濃度0.1%の塩化メチレン溶液を孔径0.45μmのフィルターで濾過し、試料溶液とした。
注入量:0.2mL
標準試料:東ソー株式会社製PS−オリゴマーキットの12種の試料を標準試料として検量線を作成した。
(A)成分として、DSac+DSpr=2.68、DSpr=2.50、数平均分子量が52200、重量平均分子量が235000であるセルロースアセテートプロピオネート(イーストマンケミカルCAP482-20)を用いた。
作成例(イ)― 実施例1、実施例2、比較例1〜3に関する。
溶剤として83重量部の塩化メチレンに、17重量部の樹脂混合物を溶解し、塗工用の溶液を調整した。この溶液を室温23℃、湿度15%の環境下で、長辺方向に1.0×106N/m2の応力を付与した状態の、厚さ125μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(ポリエステル系易接着層付き)上に、PETフィルムの長辺方向が流延方向となるように、コンマコーターを用いて流延した。なお、実施例1、実施例2、比較例1、比較例2においては、2次乾燥後のフィルムの厚さが100μm、比較例3においては50μmとなるように、コンマコーターのクリアランスを調整した。流延後、室温で4分間、60℃で4分間、80℃で4分間乾燥を行った。得られたフィルムをPETフィルムから剥離した後、さらに2次乾燥として流延方向に2.0×105N/m2の応力を付与した状態で110℃にて30分乾燥し、透明フィルムを得た。得られたフィルムを延伸温度155℃で自由端一軸延伸にて延伸し、位相差フィルムを得た。延伸倍率は正面位相差が550nmの波長の光に対して概ね1/4波長板となるよう設定した。
可塑剤として0.5重量部のジエチルフタレートを用い、樹脂混合物を16.5重量部とし、実施例3、実施例4、比較例4、比較例5においては、2次乾燥後のフィルムの厚さが80μm、比較例6においては40μmとなるようにコンマコーターのクリアランスを調整し、延伸を136℃に恒温された加熱炉と次いで146℃に恒温された加熱炉を連続的に通過させながら行い、正面位相差が550nmの波長の光に対して概ね90nmとした以外は、作成例(イ)と同様に位相差フィルムを作製した。
塩化メチレン95.0重量%、エチルアルコール4.79重量%、およびイソプロピルアルコール0.21重量%に調整した混合溶剤78重量部に、可塑剤として0.66重量部のジエチルフタレート、および21.3重量部の樹脂混合物を溶解し、塗工用の溶液とし、実施例5、実施例6、比較例7、比較例8においては、2次乾燥後のフィルムの厚さが80μm、比較例9においては40μmとなるようにコンマコーターのクリアランスを調整し、流延後、乾燥時間を室温で3分間、60℃で2分間、80℃で2分間と短縮した以外は、作製例(ロ)と同様に位相差フィルムを作製した。
装置:セイコー電子工業製TMA装置(SSC5200H)
チャック間距離:10mm
荷重:3g
試料:位相差フィルムの延伸方向に直交する方向を測定方向とし、幅は3mmとした。
耐久性評価の基準を下記にしめす。
不可:2回目の−40℃(昇温時)での寸法変化率が、0.5以上、または85℃(昇温時)での(1回目の寸法変化率)/(2回目の寸法変化率)が0.90以下。
可:2回目の−40℃(昇温時)での寸法変化率が、0.5未満、0.4以上で、85℃(昇温時)での(1回目の寸法変化率)/(2回目の寸法変化率)が0.95未満、0.90以上。
良:2回目の−40℃(昇温時)での寸法変化率が、0.4未満、0.2以上で、85℃(昇温時)での(1回目の寸法変化率)/(2回目の寸法変化率)が0.98未満、0.95以上。
優:2回目の−40℃(昇温時)での寸法変化率が、0.2未満で、85℃(昇温時)での(1回目の寸法変化率)/(2回目の寸法変化率)が0.98以上。
(実施例1〜6、比較例1〜9)
フィルム中の材料組成および結果を表1に示す。
Claims (13)
- 下記(A)成分と下記(B)成分とを含有する位相差フィルムであって、
下記(A)成分と下記(B)成分が下記(10)、(11)および(12)式を満足し、
下記(A)成分の分子量分布(Mw(A)/Mn(A))が、2.5〜5.0、
下記(B)成分の分子量分布(Mw(B)/Mn(B))が、1.5〜4.0、
であり、且つ(Mw(A)/Mn(A))>(Mw(AB)/Mn(AB))であり、
下記(A)成分の含有量が20〜50重量%、
下記(B)成分の含有量が80〜50重量%、
である位相差フィルム。
(A):下記(1)式を満足するセルロースアシレート
2.20≦DSac(A)+DSay(A)≦2.90 (1)
(DSac(A)は(A)成分のアセチル置換度、DSay(A)は(A)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。)
(B):(A)成分とは異なる分子量を有する水酸基残度0.30以上のセルロースアシレート、またはセルロースエーテル。
10,000≦Mn(A)−Mn(B)≦100,000 (10)
Mn(A)=30,000〜150,000 (11)
Mn(B)=10,000〜50,000 (12)
(Mw(AB)、Mn(AB)は、それぞれ(A)成分と(B)成分を混合後のゲル・パーミツション・クロマトグラフィー法による重量平均分子量、数平均分子量を表す。Mn(A)、Mn(B)はそれぞれ(A)成分、(B)成分のゲル・パーミッション・クロマトグラフィ一法による数平均分子量を表す。) - 前記(A)成分が、下記(2)式を満足することを特徴とする、請求項1に記載の位相差フィルム。
DSay(A)/DSac(A)≧2 (2) - 前記(B)成分が下記(3)式および(4)式を満たすセルロースアシレートであり、かつ、(A)成分と(B)成分が下記(5)式とを満足することを特徴とする、請求項1または2のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
2.00≦DSac(B)+DSay(B)≦2.70 (3)
DSay(B)/DSac(B)≧2 (4)
(DSac(A)+DSay(A))−0.05≧(DSac(B)+DSay(B)) (5)
(DSac(B)は(B)成分のアセチル置換度、DSay(B)は(B)成分の炭素数3または炭素数4のアシル基による置換度の合計を示す。) - (A)成分のセルロースアシレートが、下記(6)式と(7)式とを満足するセルロースアセテートプロピオネートであり、
2.20≦DSac(A)+DSpr(A)≦2.90 (6)
DSpr(A)/DSac(A)≧2 (7)
(B)成分のセルロースアシレートが、下記(8)式と(9)式とを満足するセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
2.00≦DSac(B)+DSpr(B)≦2.70 (8)
DSpr(B)/DSac(B)≧2 (9)
(DSpr(A)は(A)成分のプロピオニル置換度、DSpr(B)は(B)成分のプロピオニル置換度を示す) - 下記(13)式と(14)式を満足することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
Re(450)/Re(550)=0.80〜0.95 (13)
Re(550)<Re(650) (14)
(Re(450)、Re(550)、Re(650)は、それぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけるリタ一デーション値を示す) - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の位相差フィルムを含有する光学補償偏光板。
- 前記位相差フィルムを、偏光子と直接貼り合わせることを特徴とする請求項6に記載の光学補償偏光板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法であって、(A)成分および(B)成分を含有する溶液を支持体上に流延する溶液キャスト法により製造することを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
- 前記溶液が塩化メチレンを含有することを特徴とする、請求項8に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 前記溶液中の溶剤が、塩化メチレンを70〜99重量%、炭素数3以下のアルコールを 1〜30重量%含むことを特徴とする請求項8または9に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 少なくとも一軸方向に延伸することを特徴とする、請求項8〜10のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 請求項8〜11のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法によって得られた位相差フィルムを、偏光子保護フィルムおよび/または他の光学部材を介して、偏光子と貼り合わすことを特徴とする、光学補償偏光板の製造方法。
- 請求項8〜11のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法によって得られた位相差フィルムを、偏光子と直接貼り合わすことを特徴とする、光学補償偏光板の製造方法。
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