JP4978998B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4978998B2
JP4978998B2 JP2006511007A JP2006511007A JP4978998B2 JP 4978998 B2 JP4978998 B2 JP 4978998B2 JP 2006511007 A JP2006511007 A JP 2006511007A JP 2006511007 A JP2006511007 A JP 2006511007A JP 4978998 B2 JP4978998 B2 JP 4978998B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
bonding pad
terminal
signal
esd protection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006511007A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2005088701A1 (ja
Inventor
工 加藤
英夫 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2006511007A priority Critical patent/JP4978998B2/ja
Publication of JPWO2005088701A1 publication Critical patent/JPWO2005088701A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4978998B2 publication Critical patent/JP4978998B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0255Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、複数の電源系を有する半導体装置に関する。
従来から、複数の電源系を有する半導体装置、すなわち電源端子とグランド端子の対が複数有ってそれぞれの対の間に半導体素子が設けられている半導体装置は、信号端子に印加された静電気がいずれかの電源端子やグランド端子を経由して放電しても、その静電気放電(ESD)によって破壊されないように、全ての電源端子及びグランド端子を基準としたESD対策が取られてきた(例えば特許文献1)。
図4は、デジタル用電源系とアナログ用電源系の2個の電源系を有した従来の半導体装置における各端子の接続状態を示す部分回路図である。この半導体装置101は、例えば5Vのデジタル用電源系に、電源(VCC1)端子110、グランド(GND1)端子112、及び外部と信号の入出力を行う少なくとも1つの信号(SIG1)端子111と、同じく5Vのアナログ用電源系に、電源(VCC2)端子113、グランド(GND2)端子115、及び外部と信号の入出力を行う少なくとも1つの信号(SIG2)端子114と、を有している。それら各端子は、ボンディングワイヤ120乃至125によってそれぞれVCC1ボンディングパッド130、GND1ボンディングパッド132、SIG1ボンディングパッド131、VCC2ボンディングパッド133、GND2ボンディングパッド135、SIG2ボンディングパッド134に接続されている。
VCC1ボンディングパッド130及びGND1ボンディングパッド132は、半導体基板上に形成されたVCC1配線150及びGND1配線152にそれぞれ接続される。VCC1配線150及びGND1配線152は、デジタル用電源系の少なくとも1つの入出力回路143及び内部回路145の素子に接続されると共に後述のように信号用ESD保護素子部141に接続される。入出力回路143はSIG1ボンディングパッド131との間で信号を入力又は出力し、内部回路145は入出力回路143から入力した信号に応じて信号処理を行い入出力回路143に信号を出力する。なお、図4における入出力回路143(及び後述の入出力回路144)では入力素子の図示は省略している。
前述した信号用ESD保護素子部141は、入出力回路143のESDによる破壊を防止するものであり、VCC1端子110を基準にSIG1端子111に印加された静電気をVCC1端子110に逃がすためのVCC1側の保護素子と、GND1端子112を基準にSIG1端子111に印加された静電気をGND1端子112に逃がすためのGND1側の保護素子と、から構成される。これらの保護素子は、具体的には図4に示すようなダイオード、又はフィールドトランジスタ(メタル配線をゲートとしたしきい値の高いMOSトランジスタ)などが用いられる。こうして、SIG1端子111についてVCC1端子110及びGND1端子112を基準としたESD対策が取られる。他の電源系のVCC2端子113及びGND2端子115を基準としたESD対策については後述する。
また、VCC2ボンディングパッド133及びGND2ボンディングパッド135も、半導体基板上に形成されたVCC2配線153及びGND2配線155にそれぞれ接続される。VCC2配線153及びGND2配線155は、アナログ用電源系の少なくとも1つの入出力回路144及び内部回路146の素子に接続されると共に信号用ESD保護素子部142に接続される。入出力回路144はSIG2ボンディングパッド134との間で信号を入力又は出力し、内部回路146は入出力回路144から入力した信号に応じて信号処理を行い入出力回路144に信号を出力する。信号用ESD保護素子部142も、入出力回路144のESDによる破壊を防止するものであり、その構成や機能は前述の信号用ESD保護素子部141と実質的に同じである。
電源用ESD保護素子部140は、いずれの電源端子間又はグランド端子間に静電気が印加された場合でも、入出力回路143、144又は内部回路145、146の素子のESDによる破壊を防止するものであり、VCC1端子110−GND1端子112間の保護素子(1個のダイオード)と、VCC2端子113−GND1端子112間の保護素子(1個のダイオード)と、VCC2端子113−GND2端子115間の保護素子(1個のダイオード)と、GND2端子115−GND1端子112間の保護素子(2個のダイオード)と、VCC1端子110−VCC2端子113間の保護素子(2個のダイオード)と、VCC1端子110−GND2端子115間の保護素子(1個のダイオード)と、から構成される。GND2端子115−GND1端子112間の保護素子とVCC1端子110−VCC2端子113間の保護素子とがそれぞれ2個の互いに逆方向のダイオードから構成されるのは、ESDに対して保護能力が高いからである。この構成は、ダイオードの陽極と陰極が同電位であるから可能である。その他の保護素子(例えばVCC1端子110−GND1端子112間の保護素子など)は、保護素子の面積を更に大きくするなどして保護能力を高めている。
次に、SIG1端子111について他の電源系のVCC2端子113及びGND2端子115を基準としたESDによる破壊防止の動作について説明する。VCC2端子113を基準にSIG1端子111に印加された静電気は、信号用ESD保護素子部141を構成するVCC1側の保護素子、VCC1配線150、電源用ESD保護素子部140を構成するVCC1端子110−VCC2端子113間の保護素子、VCC2配線153を通ってVCC2端子113に逃げる。GND2端子115を基準にSIG1端子111に印加された静電気も、同様にして、信号用ESD保護素子部141を構成するGND1側の保護素子、GND1配線152、電源用ESD保護素子部140を構成するGND2端子115−GND1端子112間の保護素子、GND2配線155を通ってGND2端子115に逃げる。また、SIG2端子114について他の電源系のVCC1端子110及びGND1端子112を基準としたESDに対しても、同様にして、信号用ESD保護素子部142及び電源用ESD保護素子部140を介して破壊防止が実現される。
このように、複数の電源系を有する半導体装置において、いずれかの電源系の信号端子について他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESD対策は、信号用ESD保護素子部及び電源用ESD保護素子部を介して破壊防止が実現される。なお、上記の半導体装置101は、複数の電源系として、デジタル用電源系とアナログ用電源系の2個の電源系を有する半導体装置であるが、それに限らず、例えば5V電源系と3V電源系のように、電源電圧が異なる複数の電源系を有する半導体装置においても、電源用ESD保護素子部140を設けることで、他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESDによる破壊防止を実現することができる。ただし、例えばVCC1端子110が5VでVCC2端子113が3Vとすると、電源用ESD保護素子部140におけるVCC1端子110−VCC2端子113間の保護素子は通常動作で逆バイアスとなる1個のダイオード(又はフィールドトランジスタなど)から構成される。
特開平8−148650号公報
しかし、複数の電源系を有する半導体装置における電源用ESD保護素子部は、半導体装置101の電源用ESD保護素子部140のように、多くの電源端子間やグランド端子間の保護素子から構成され、それらの保護素子はそれぞれが大きな面積を占有するものである。従って、半導体装置は、電源用ESD保護素子部を内部回路や入出力回路の素子が配置されてない空きスペースに配置するだけでは足りず、内部回路や入出力回路のスペースの他に電源用ESD保護素子部のためのスペースを確保しなければならないので、チップサイズの増大の要因となっている。
本発明は、以上の事由に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、複数の電源系を有する半導体装置において、いずれかの電源系の信号端子について他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESDによる破壊防止を実現しつつ、それによるチップサイズの増大を抑制できる半導体装置を提供することにある。
上記の課題を解決するために、本発明の望ましい実施形態に係る半導体装置は、複数の電源系として少なくとも第1と第2の電源系を有し、第1と第2の電源系はそれぞれ電源端子、グランド端子、及び信号の入出力を行う少なくとも1つの信号端子と、半導体基板上に形成され、前記電源端子に接続される電源ボンディングパッド、前記グランド端子に接続されるグランドボンディングパッド、及び前記信号端子に接続される信号ボンディングパッドと、これら各ボンディングパッドに接続されると共に信号ボンディングパッドとの間で信号の入力又は出力を行う入出力回路と、を有する半導体装置であって、第1と第2の電源系は半導体基板上にそれぞれ、前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの一方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の一方に接続される第1のESD保護ボンディングパッドと、前記信号ボンディングパッドと第1のESD保護ボンディングパッドとの間及び前記信号ボンディングパッドと前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間に接続される信号用ESD保護素子部と、を備え、第1と第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続されており、第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第1の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間、第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第2の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間、及び第1の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方と第2の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間に接続される電源用ESD保護素子部を備えている
これらのボンディングパッドと端子の接続には、望ましくは、ボンディングワイヤが用いられる。
本発明の望ましい別の実施形態に係る半導体装置は、複数の電源系として少なくとも第1と第2の電源系を有し、第1と第2の電源系はそれぞれ電源端子、グランド端子、及び信号の入出力を行う少なくとも1つの信号端子と、半導体基板上に形成され、前記電源端子に接続される電源ボンディングパッド、前記グランド端子に接続されるグランドボンディングパッド、及び前記信号端子に接続される信号ボンディングパッドと、これら各ボンディングパッドに接続されると共に信号ボンディングパッドとの間で信号の入力又は出力を行う入出力回路と、を有する半導体装置であって、第1と第2の電源系は半導体基板上にそれぞれ、前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの一方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の一方に接続される第1のESD保護ボンディングパッドと、前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の他方に接続される第2のESD保護ボンディングパッドと、前記信号ボンディングパッドと第1のESD保護ボンディングパッドとの間及び前記信号ボンディングパッドと第2のESD保護ボンディングパッドとの間に接続される信号用ESD保護素子部と、を備え、第1と第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続され、第1と第2の電源系の第2のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続されており、第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第1と第2の電源系のいずれかの第2のESD保護ボンディングパッドとの間に接続される電源用ESD保護素子部を備えている
これらのボンディングパッドと端子の接続には、望ましくは、ボンディングワイヤが用いられる。
本発明の望ましい実施形態に係る半導体装置は、複数の電源系を有する半導体装置のそれぞれの電源系において、電源ボンディングパッド及びグランドボンディングパッドの他にESD保護ボンディングパッドを設け、それを介して信号端子に印加された静電気を逃がす。それにより、1つの電源系の信号端子について他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESD破壊対策を実現しつつ、チップサイズの増大を抑制することが可能になる。
本発明の望ましい第1実施形態に係る半導体装置における部分回路図。 同上の全体レイアウト図。 本発明の望ましい第2実施形態に係る半導体装置における部分回路図。 従来の半導体装置における部分回路図。
1 第1実施形態の半導体装置
2 第2実施形態の半導体装置
10 VCC1(第1の電源系の電源)端子
11 SIG1(第1の電源系の信号)端子
12 GND1(第1の電源系のグランド)端子
13 VCC2(第2の電源系の電源)端子
14 SIG2(第2の電源系の信号)端子
15 GND2(第2の電源系のグランド)端子
20乃至29 ボンディングワイヤ
30 VCC1(第1の電源系の電源)ボンディングパッド
31 SIG1(第1の電源系の信号)ボンディングパッド
32 GND1(第1の電源系のグランド)ボンディングパッド
33 VCC2(第2の電源系の電源)ボンディングパッド
34 SIG2(第2の電源系の信号)ボンディングパッド
35 GND2(第2の電源系のグランド)ボンディングパッド
36 VCC1(第1の電源系の第2の)ESD保護ボンディングパッド
37 GND1(第1の電源系の第1の)ESD保護ボンディングパッド
38 VCC2(第2の電源系の第2の)ESD保護ボンディングパッド
39 GND2(第2の電源系の第1の)ESD保護ボンディングパッド
40a 第1実施形態の電源用ESD保護素子部
40b 第2実施形態の電源用ESD保護素子部
41a 第1実施形態の第1の電源系の信号用ESD保護素子部
42a 第1実施形態の第2の電源系の信号用ESD保護素子部
41b 第2実施形態の第1の電源系の信号用ESD保護素子部
42b 第2実施形態の第2の電源系の信号用ESD保護素子部
43 第1の電源系の入出力回路
44 第2の電源系の入出力回路
45 第1の電源系の内部回路
46 第2の電源系の内部回路
以下、本発明の最良の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は本発明の望ましい第1実施形態である半導体装置において各端子の接続状態を示す部分回路図である。この半導体装置1は、複数の電源系として5Vのデジタル用電源系(第1の電源系)と5Vのアナログ用電源系(第2の電源系)の2個の電源系を有している。
第1の電源系は、電源(VCC1)端子10、グランド(GND1)端子12、及び外部と信号の入出力を行う少なくとも1つの信号(SIG1)端子11を有する。第2の電源系は、電源(VCC2)端子13、グランド(GND2)端子15、及び外部と信号の入出力を行う少なくとも1つの信号(SIG2)端子14と、を有する。また、第1の電源系は、半導体基板上に、電源(VCC1)ボンディングパッド30、グランド(GND1)ボンディングパッド32、少なくとも1つの信号(SIG1)ボンディングパッド31を有する。第2の電源系は、半導体基板上に、電源(VCC2)ボンディングパッド33、グランド(GND2)ボンディングパッド35、少なくとも1つの信号(SIG2)ボンディングパッド34を有する。VCC1端子10、SIG1端子11、GND1端子12、VCC2端子13、SIG2端子14、GND2端子15は、ボンディングワイヤ20乃至25を介してそれぞれVCC1ボンディングパッド30、SIG1ボンディングパッド31、GND1ボンディングパッド32、VCC2ボンディングパッド33、SIG2ボンディングパッド34、GND2ボンディングパッド35に接続されている。
第1の電源系には、半導体基板上に、VCC1ボンディングパッド30に近接してVCC1ESD保護ボンディングパッド(第1の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド)36、GND1ボンディングパッド32に近接してGND1ESD保護ボンディングパッド(第1の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド)37が設けられている。第2の電源系には、半導体基板上に、VCC2ボンディングパッド33に近接してVCC2ESD保護ボンディングパッド(第2の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド)38、GND2ボンディングパッド35に近接してGND2ESD保護ボンディングパッド(第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド)39が設けられている。これら各ESD保護ボンディングパッド36、37、38、39は、ボンディングワイヤ26乃至29を介してVCC1端子10、GND1端子12、VCC2端子13、GND2端子15に接続される。また、VCC1ESD保護ボンディングパッド36とVCC2ESD保護ボンディングパッド38は互いに接続され、かつ、GND1ESD保護ボンディングパッド37とGND2ESD保護ボンディングパッド39は互いに接続されている。
VCC1ボンディングパッド30及びGND1ボンディングパッド32は、半導体基板上に形成されたVCC1配線50及びGND1配線52にそれぞれ接続される。VCC1配線50及びGND1配線52は、第1の電源系の少なくとも1つの入出力回路43及び内部回路45の素子に接続される。入出力回路43はSIG1ボンディングパッド31との間で信号の入力又は出力を行い、内部回路45は入出力回路43から入力した信号に応じて信号処理を行ったり入出力回路43に信号を出力したりする。なお、図1(及び後述の図3)における入出力回路43(及び後述の入出力回路44)では入力素子の図示は省略している。
ここで重要なことは、入出力回路43のESDによる破壊防止のための信号用ESD保護素子部41aは、VCC1ESD保護配線56によりSIG1ボンディングパッド31とVCC1ESD保護ボンディングパッド36間に、GND1ESD保護配線57によりSIG1ボンディングパッド31とGND1ESD保護ボンディングパッド37間に接続されることである。この信号用ESD保護素子部41aは、VCC1端子10を基準にSIG1端子11に印加された静電気をVCC1ESD保護配線56からVCC1ESD保護ボンディングパッド36を通ってVCC1端子10に逃がすためのVCC1側の保護素子と、GND1端子12を基準にSIG1端子11に印加された静電気をGND1ESD保護配線57からGND1ESD保護ボンディングパッド37を通ってGND1端子12に逃がすためのGND1側の保護素子と、から構成される。これら保護素子は、具体的にはダイオードやフィールドトランジスタ(メタル配線をゲートとしたしきい値の高いMOSトランジスタ)などが用いられる。
また、VCC2ボンディングパッド33及びGND2ボンディングパッド35は、半導体基板上に形成されたVCC2配線53及びGND2配線55にそれぞれ接続される。VCC2配線53及びGND2配線55は、第2の電源系の少なくとも1つの入出力回路44及び内部回路46の素子に接続される。この入出力回路44も、前述した入出力回路43と同様に、SIG2ボンディングパッド34との間で信号の入力又は出力を行い、内部回路46は入出力回路44から入力した信号に応じて信号処理を行ったり入出力回路44に信号を出力したりする。そして、入出力回路44のESDによる破壊防止のための信号用ESD保護素子部42aも、VCC2ESD保護配線58によりSIG2ボンディングパッド34とVCC2ESD保護ボンディングパッド38間に、GND2ESD保護配線59によりSIG2ボンディングパッド34とGND2ESD保護ボンディングパッド39間に接続される。この信号用ESD保護素子部42aは、VCC2端子13を基準にSIG2端子14に印加された静電気をVCC2ESD保護配線58からVCC2ESD保護ボンディングパッド38を通ってVCC2端子13に逃がすためのVCC2側の保護素子と、GND2端子15を基準にSIG2端子14に印加された静電気をGND2ESD保護配線59からGND2ESD保護ボンディングパッド39を通ってGND2端子15に逃がすためのGND2側の保護素子と、から構成される。
半導体装置1の電源用ESD保護素子部40aは、VCC1ESD保護ボンディングパッド36とGND1ESD保護ボンディングパッド37間に、具体的にはVCC1ESD保護配線56とGND1ESD保護配線57間に接続される保護素子(1個のダイオード)から構成される。この電源用ESD保護素子部40aは、VCC1端子10−GND1端子12間に静電気が印加された場合に、入出力回路43又は内部回路45の素子が破壊されないよう静電気を逃がすためのものである。また、前述したように、VCC1ESD保護ボンディングパッド36とVCC2ESD保護ボンディングパッド38は互いに接続され、かつ、GND1ESD保護ボンディングパッド37とGND2ESD保護ボンディングパッド39は互いに接続されている。具体的には、VCC1ESD保護配線56及びGND1ESD保護配線57は、それぞれVCC2ESD保護配線58及びGND2ESD保護配線59に半導体基板上で互いに接続されている。従って、VCC2端子13−GND2端子15間に静電気が印加された場合も、VCC2ESD保護配線58及びGND2ESD保護配線59を介し、電源用ESD保護素子部40a、すなわち、VCC1ESD保護配線56とGND1ESD保護配線57間に接続された保護素子を通して静電気が逃げる。また、それ以外の組み合わせの電源(グランドを含む)端子間に静電気が印加された場合も同様である。
次に、1つの電源系の信号端子について他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESDによる破壊防止が実現される動作を説明する。VCC2端子13を基準にSIG1端子11に印加された静電気は、信号用ESD保護素子部41aを構成するVCC1側の保護素子からVCC1ESD保護配線56、VCC2ESD保護配線58、VCC2ESD保護ボンディングパッド38、ボンディングワイヤ28を通ってVCC2端子13に逃げる。GND2端子15を基準にSIG1端子11に印加された静電気も、同様にして、信号用ESD保護素子部41aを構成するGND1側の保護素子からGND1ESD保護配線57、GND2ESD保護配線59、GND2ESD保護ボンディングパッド39、ボンディングワイヤ29を通ってGND2端子115に逃げる。このように、SIG1端子11について他の電源系の電源端子やグランド端子を基準としたESDによる破壊防止を実現することができるのである。また、SIG2端子14について他の電源系の電源端子やグランド端子、すなわちVCC1端子10及びGND1端子12を基準としたESDによる破壊防止も、同様にして実現することができる。
図2は半導体装置1全体を表したレイアウト図である。リード端子である各端子10乃至15は、その内側であるインナーリード部がボンディングワイヤ20乃至29によって各ボンディングパッド30乃至39に接続されている。信号端子であるSIG1端子11及びSIG2端子14はそれぞれ複数設けられ、その各々にボンディングワイヤ21又は24、SIG1ボンディングパッド31又はSIG2ボンディングパッド34、信号用ESD保護素子部41a又は42a、入出力回路43又は44が設けられている。なお、図2において、SIG1ボンディングパッド31又はSIG2ボンディングパッド34、信号用ESD保護素子部41a又は42aなどについて符号は省略している。GND1ESD保護配線57又はGND2ESD保護配線59は各ボンディングパッド30乃至39を囲んで外側に、VCC1ESD保護配線56又はVCC2ESD保護配線58は各ボンディングパッド30乃至39の内側に、VCC1配線50又はVCC2配線53はVCC1ESD保護配線56又はVCC2ESD保護配線58の内側であり入出力回路43又は44を囲んで外側に、GND1配線52又はGND2配線55は入出力回路43又は44の内側に、それぞれ設けられている。また、電源用ESD保護素子部40aを構成する保護素子は、半導体装置1の空きスペース(すなわち図2における半導体装置1の4コーナ)に分割して配置されている。
以上のように、この半導体装置1は、電源用ESD保護素子部40aを構成する保護素子の数を削減することができ、それによりチップサイズの増大を抑制することが可能となる。また、半導体装置のESDに対する破壊強度を測定する場合、VCC1端子10を基準にした場合とVCC2端子13を基準にした場合とでは原理的にほとんど破壊強度は変わらないのでVCC2端子13を基準にした測定を省略することも可能である。GND1端子12を基準にした場合とGND2端子15を基準にした場合も同様である。
なお、第1の電源系、すなわち、デジタル用電源系の素子に起因して電源配線に重畳した電源ノイズが伝達される経路、すなわちVCC1ボンディングパッド30、ボンディングワイヤ20、VCC1端子10、ボンディングワイヤ26、VCC1ESD保護ボンディングパッド36、VCC1ESD保護配線56、VCC2ESD保護配線58、VCC2ESD保護ボンディングパッド38、ボンディングワイヤ28、VCC2端子13、ボンディングワイヤ23、VCC2ボンディングパッド33の経路で、デジタル用電源系のVCC1配線50から第2の電源系、すなわち、アナログ用電源系のVCC2配線53に電源ノイズが伝達される可能性も想定されるが、電源ノイズは、その経路中の複数のボンディングワイヤのインピーダンスが高いために減衰され、かつそれに比べてインピーダンスが低いVCC1端子10及びVCC2端子13を介して外部電源で吸収されるため、極めて微小となり、問題とはならない。グランド配線に重畳した電源ノイズについても同様である。
次に、本発明の望ましい第2実施形態である半導体装置について図3に基づいて説明する。この半導体装置2は、複数の電源系として電源電圧が異なる複数の電源系、すなわち、5Vの第1の電源系と3Vの第2の電源系を有する。この半導体装置2のVCC1端子10はVCC1ボンディングパッド30にのみ接続されており、前述の半導体装置1におけるVCC1ESD保護ボンディングパッド36は存在せず、従ってVCC1ESD保護配線56も存在しない。同じく、VCC2端子13はVCC2ボンディングパッド33にのみ接続されており、半導体装置1におけるVCC2ESD保護ボンディングパッド38は存在せず、従ってVCC2ESD保護配線58も存在しない。しかし、GND1ESD保護ボンディングパッド(第1の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド)37とGND2ESD保護ボンディングパッド(第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド)39は存在する。それらは、GND1ESD保護配線57とGND2ESD保護配線59とを介して半導体基板上で互いに接続される。そして、半導体装置1における信号用ESD保護素子部41a及び42aに替え、VCC1側の保護素子、VCC2側の保護素子がVCC1配線50、VCC2配線53に接続され、GND1側の保護素子、GND2側の保護素子がGND1ESD保護ボンディングパッド37及びGND2ESD保護ボンディングパッド39に接続された信号用ESD保護素子部41b及び42bを備える。また、電源用ESD保護素子部40aに替え、VCC1ボンディングパッド30−GND1ESD保護ボンディングパッド37間の保護素子(1個のダイオード)と、VCC2ボンディングパッド33−GND1ESD保護ボンディングパッド37間の保護素子(1個のダイオード)と、VCC1ボンディングパッド30−VCC2ボンディングパッド33間の保護素子(1個のダイオード)と、を有する電源用ESD保護素子部40bを備える。
この半導体装置2では、1つの電源系の信号端子について他の電源系のグランド端子を基準とした場合、すなわちGND2端子15を基準にSIG1端子11に静電気が印加された場合とGND1端子12を基準にSIG2端子14に静電気が印加された場合のESDによる破壊防止は半導体装置1と同様にして実現される。そして、1つの電源系の信号端子について他の電源系の電源端子を基準とした場合、すなわちVCC2端子13を基準にSIG1端子11に静電気が印加された場合とVCC1端子10を基準にSIG2端子14に静電気が印加された場合のESDによる破壊防止は前述の従来の半導体装置と同様にして実現される。
半導体装置2の電源用ESD保護素子部40bは、半導体装置1の電源用ESD保護素子部40aに比べて構成要素である保護素子の数が多いが、従来の電源用ESD保護素子部に比べて保護素子の数を削減することができ、それによりチップサイズの増大を抑制することが可能となる。
また、複数の電源系の電圧によっては、半導体装置2とは逆に、半導体装置1におけるVCC1ESD保護ボンディングパッド36とVCC2ESD保護ボンディングパッド38が存在し、GND1ESD保護ボンディングパッド37とGND2ESD保護ボンディングパッド39が存在しない場合も可能である。
また、以上説明した実施形態では、端子とそれに対応するボンディングパッドはボンディングワイヤを用いて接続されているが、ある程度高いインピーダンスを有する接続部材(例えばバンプ)を用いても同様な効果を得ることが可能である。また、半導体基板が直接、プリント基板などに実装される場合は、プリント基板の配線により各ESD保護ボンディングパッドを対応する電源ボンディングパッド又はグランドボンディングパッドに接続するようにする。
なお、本発明は、上述した実施形態に限られることなく、請求の範囲に記載した事項の範囲内でのさまざまな設計変更が可能である。例えば、以上の実施形態では、請求の範囲の理解のために、VCC1ESD保護ボンディングパッド36が第1の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド、GND1ESD保護ボンディングパッド37が第1の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド、VCC2ESD保護ボンディングパッド38が第2の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド、GND2ESD保護ボンディングパッド39が第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド、にそれぞれ対応するように説明したが、VCC1ESD保護ボンディングパッド36が第1の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド、GND1ESD保護ボンディングパッド37が第1の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド、VCC2ESD保護ボンディングパッド38が第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッド、GND2ESD保護ボンディングパッド39が第2の電源系の第2のESD保護ボンディングパッド、にそれぞれ対応するようにしても構わない。また、以上の実施形態では複数の電源系を有する半導体装置として2個の電源系を有する半導体装置を説明したが、3個以上の電源系を有する半導体装置の電源系の全部又は一部にも本発明を適用することができるのは勿論である。

Claims (4)

  1. 複数の電源系として少なくとも第1と第2の電源系を有し、第1と第2の電源系はそれぞれ電源端子、グランド端子、及び信号の入出力を行う少なくとも1つの信号端子と、半導体基板上に形成され、前記電源端子に接続される電源ボンディングパッド、前記グランド端子に接続されるグランドボンディングパッド、及び前記信号端子に接続される信号ボンディングパッドと、これら各ボンディングパッドに接続されると共に信号ボンディングパッドとの間で信号の入力又は出力を行う入出力回路と、を有する半導体装置であって、
    第1と第2の電源系は半導体基板上にそれぞれ、
    前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの一方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の一方に接続される第1のESD保護ボンディングパッドと、
    前記信号ボンディングパッドと第1のESD保護ボンディングパッドとの間及び前記信号ボンディングパッドと前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間に接続される信号用ESD保護素子部と、
    を備え、
    第1と第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続されており、
    第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第1の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間、第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第2の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間、及び第1の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方と第2の電源系の前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方との間に接続される電源用ESD保護素子部を備えていることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項に記載の半導体装置において、
    第1と第2の電源系はそれぞれ、電源ボンディングパッドと電源端子の接続、グランドボンディングパッドとグランド端子の接続、信号ボンディングパッドと信号端子の接続、第1のESD保護ボンディングパッドと電源端子又はグランド端子の一方の接続、がボンディングワイヤを介していることを特徴とする半導体装置。
  3. 複数の電源系として少なくとも第1と第2の電源系を有し、第1と第2の電源系はそれぞれ電源端子、グランド端子、及び信号の入出力を行う少なくとも1つの信号端子と、半導体基板上に形成され、前記電源端子に接続される電源ボンディングパッド、前記グランド端子に接続されるグランドボンディングパッド、及び前記信号端子に接続される信号ボンディングパッドと、これら各ボンディングパッドに接続されると共に信号ボンディングパッドとの間で信号の入力又は出力を行う入出力回路と、を有する半導体装置であって、
    第1と第2の電源系は半導体基板上にそれぞれ、
    前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの一方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の一方に接続される第1のESD保護ボンディングパッドと、
    前記電源ボンディングパッド又は前記グランドボンディングパッドの他方に接続された前記電源端子又は前記グランド端子の他方に接続される第2のESD保護ボンディングパッドと、
    前記信号ボンディングパッドと第1のESD保護ボンディングパッドとの間及び前記信号ボンディングパッドと第2のESD保護ボンディングパッドとの間に接続される信号用ESD保護素子部と、
    を備え、
    第1と第2の電源系の第1のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続され、第1と第2の電源系の第2のESD保護ボンディングパッドは半導体基板上で互いに接続されており、
    第1と第2の電源系のいずれかの第1のESD保護ボンディングパッドと第1と第2の電源系のいずれかの第2のESD保護ボンディングパッドとの間に接続される電源用ESD保護素子部を備えていることを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項に記載の半導体装置において、
    第1と第2の電源系はそれぞれ、電源ボンディングパッドと電源端子の接続、グランドボンディングパッドとグランド端子の接続、信号ボンディングパッドと信号端子の接続、第1のESD保護ボンディングパッドと電源端子又はグランド端子の一方の接続、第2のESD保護ボンディングパッドと電源端子又はグランド端子の他方の接続がボンディングワイヤを介していることを特徴とする半導体装置。
JP2006511007A 2004-03-12 2005-03-11 半導体装置 Active JP4978998B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006511007A JP4978998B2 (ja) 2004-03-12 2005-03-11 半導体装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004070380 2004-03-12
JP2004070380 2004-03-12
JP2006511007A JP4978998B2 (ja) 2004-03-12 2005-03-11 半導体装置
PCT/JP2005/004337 WO2005088701A1 (ja) 2004-03-12 2005-03-11 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2005088701A1 JPWO2005088701A1 (ja) 2008-01-31
JP4978998B2 true JP4978998B2 (ja) 2012-07-18

Family

ID=34975862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006511007A Active JP4978998B2 (ja) 2004-03-12 2005-03-11 半導体装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20070158817A1 (ja)
JP (1) JP4978998B2 (ja)
KR (1) KR20060127190A (ja)
CN (1) CN1930676B (ja)
TW (1) TW200535963A (ja)
WO (1) WO2005088701A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10504860B2 (en) 2014-06-20 2019-12-10 Thine Electronics, Inc. Semiconductor device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010103274A (ja) * 2008-10-23 2010-05-06 Nec Electronics Corp 半導体パッケージ
JP5071465B2 (ja) * 2009-11-11 2012-11-14 株式会社村田製作所 高周波モジュール
JP5703103B2 (ja) * 2011-04-13 2015-04-15 株式会社東芝 半導体装置及びdc−dcコンバータ
JP6514949B2 (ja) * 2015-04-23 2019-05-15 日立オートモティブシステムズ株式会社 オンチップノイズ保護回路を有する半導体チップ
CN105977938B (zh) * 2016-06-17 2018-09-25 中国电子科技集团公司第二十四研究所 芯片esd保护电路
DE112022002544T5 (de) * 2021-07-16 2024-02-29 Rohm Co., Ltd. E/a-schaltung, halbleitervorrichtung, zellenbibliothek und verfahren zum entwerfen der schaltung einer halbleitervorrichtung

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372666A (ja) * 1989-08-11 1991-03-27 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
JPH08148650A (ja) * 1994-11-22 1996-06-07 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPH10173134A (ja) * 1996-12-16 1998-06-26 Nec Corp 半導体装置
JP2000208718A (ja) * 1999-01-19 2000-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2001298157A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nec Corp 保護回路及びこれを搭載した半導体集積回路
JP2002110919A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Toshiba Corp 静電破壊保護回路

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5430595A (en) * 1993-10-15 1995-07-04 Intel Corporation Electrostatic discharge protection circuit
US5781388A (en) * 1996-09-03 1998-07-14 Motorola, Inc. Non-breakdown triggered electrostatic discharge protection circuit for an integrated circuit and method therefor
US6078068A (en) * 1998-07-15 2000-06-20 Adaptec, Inc. Electrostatic discharge protection bus/die edge seal
US6204537B1 (en) * 1998-10-01 2001-03-20 Micron Technology, Inc. ESD protection scheme
US6445039B1 (en) * 1998-11-12 2002-09-03 Broadcom Corporation System and method for ESD Protection
JP3302665B2 (ja) * 1999-10-25 2002-07-15 ローム株式会社 半導体集積回路装置
US6624998B2 (en) * 2000-01-24 2003-09-23 Medtronic, Inc. Electrostatic discharge protection scheme in low potential drop environments
US6355960B1 (en) * 2000-09-18 2002-03-12 Vanguard International Semiconductor Corporation ESD protection for open drain I/O pad in integrated circuit with parasitic field FET devices
TWI222208B (en) * 2002-05-29 2004-10-11 Sanyo Electric Co Semiconductor integrated circuit device
US6798022B1 (en) * 2003-03-11 2004-09-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device with improved protection from electrostatic discharge
JP3732834B2 (ja) * 2003-04-17 2006-01-11 株式会社東芝 入力保護回路
JP3949647B2 (ja) * 2003-12-04 2007-07-25 Necエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
US7202114B2 (en) * 2004-01-13 2007-04-10 Intersil Americas Inc. On-chip structure for electrostatic discharge (ESD) protection
JP2005317830A (ja) * 2004-04-30 2005-11-10 Elpida Memory Inc 半導体装置、マルチチップパッケージ、およびワイヤボンディング方法
JP2006303110A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Nec Electronics Corp 半導体装置
US7463466B2 (en) * 2005-10-24 2008-12-09 United Microelectronics Corp. Integrated circuit with ESD protection circuit

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372666A (ja) * 1989-08-11 1991-03-27 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
JPH08148650A (ja) * 1994-11-22 1996-06-07 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPH10173134A (ja) * 1996-12-16 1998-06-26 Nec Corp 半導体装置
JP2000208718A (ja) * 1999-01-19 2000-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2001298157A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nec Corp 保護回路及びこれを搭載した半導体集積回路
JP2002110919A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Toshiba Corp 静電破壊保護回路

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10504860B2 (en) 2014-06-20 2019-12-10 Thine Electronics, Inc. Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
TW200535963A (en) 2005-11-01
US20070158817A1 (en) 2007-07-12
KR20060127190A (ko) 2006-12-11
JPWO2005088701A1 (ja) 2008-01-31
CN1930676B (zh) 2010-06-16
TWI355016B (ja) 2011-12-21
WO2005088701A1 (ja) 2005-09-22
CN1930676A (zh) 2007-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10692856B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP4978998B2 (ja) 半導体装置
JP4806540B2 (ja) 半導体集積回路装置
US20140071567A1 (en) Semiconductor device
JP6579111B2 (ja) 半導体集積回路装置
JP2830783B2 (ja) 半導体装置
JP2007059449A (ja) 半導体装置
JP2004146524A (ja) 半導体装置
WO2011101943A1 (ja) 半導体集積回路装置
JP2010103274A (ja) 半導体パッケージ
US8344786B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP5721967B2 (ja) 保護回路
JP2006319267A (ja) 半導体集積回路
US6291879B1 (en) Integrated circuit chip with improved locations of overvoltage protection elements
KR100705259B1 (ko) 게이트접지 엔모스 트랜지스터를 이용한 정전기방전보호회로
JP2006196808A (ja) 半導体集積回路
JP2002110919A (ja) 静電破壊保護回路
JP2008166628A (ja) 半導体装置の保護回路
JP2017204516A (ja) 半導体装置
WO2002043150A1 (en) Pad protective circuit
JP2005191370A (ja) 集積回路の静電破壊防止回路
JP2007142025A (ja) 半導体集積回路
KR19980066161A (ko) 분리된 전원선을 가진 반도체장치의 정전기방전 보호회로
JP2000349168A (ja) 半導体集積回路装置
JP2006108714A (ja) 半導体入出力回路

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080305

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110728

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110926

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111024

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120123

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120412

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120412

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4978998

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250