JP4936210B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents
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Description
表面所定個所に導電部が形成された被めっき物にニッケルめっきを施す場合、導電部以外の部分、すなわち部品素体へのめっき成長を抑制するためには、導電部上に優先的にめっき析出させる必要がある。
ニッケルめっき液ではアノードの不動態化を避けるためにハロゲン化合物を含有させているが、このハロゲン化合物を多量に含有させるとめっき形成されたニッケル皮膜の表面粗さが大きくなって平滑性に欠け、このためニッケル皮膜上に形成されるスズ皮膜等の上層皮膜が緻密さを欠き、はんだ付き性の低下を招く。
硫酸第1スズ 43g/L
クエン酸アンモニウム 122g/L
硫酸アンモニウム 132g/L
ラウリルジエタノールアミン 1g/L
pH 5.0
浴温 30℃
次いで、このスズめっき液を使用して電解バレルめっきを施し、ニッケル皮膜上に膜厚4μmのスズ皮膜を形成し、これにより実施例1〜4及び比較例1〜9の積層セラミックコンデンサを得た。尚、電解バレルめっきは8Aの電流(平均カソード電流密度0.16A/dm2)を30分間通電して行った。
6a、6b 外部電極(導電部)
7a、7b ニッケル皮膜
Claims (4)
- ニッケルめっき液を使用して導電部の形成された部品素体にめっき処理を施し、前記導電部の表面にニッケル皮膜を形成する電子部品の製造方法において、
前記ニッケルめっき液は、ニッケル塩とハロゲン化合物とpH緩衝剤とを含有し、pHが2.5〜5.5に調整されると共に、ニッケルイオンのモル濃度xが1.79mol/L以上であって、かつ、ニッケルイオンのモル濃度xとハロゲンイオンのモル濃度yとの比x/yが、3.0<x/y≦10.0であることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 前記ニッケルめっき液は、前記ニッケル塩の主成分が硫酸ニッケルであることを特徴とする請求項1記載の電子部品の製造方法。
- 前記ニッケルめっき液は、前記ハロゲン化合物が、塩化ニッケル及び臭化ニッケルのうちの一種以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の電子部品の製造方法。
- 前記ニッケルめっき液は、前記pH緩衝剤が、ホウ酸、オキシカルボン酸、これらの塩、及びラクトン化合物から選択された1種以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項3にいずれかに記載の電子部品の製造方法。
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