JP4896159B2 - Cmos回路及び半導体装置 - Google Patents
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Description
DTC 電圧検出器
CVP/CNV 電圧コンバータ
IV/IVP/IVN インバータ
SW1/SW2 スイッチ
CK1/CK1B/CK2/CK3 クロック
VDD/VSS チップへの外部電源電圧
VDH/VDI/VSH/VSL/Vref チップ内部で発生した内部電源電圧
bl1/bl2 回路サブブロック
CORE/CORE’ 内部主要回路
CKG/VC クロック発生回路と電源電圧コンバータ
CP コンパレータ
−(VDH−VDD)+ VT ≦ −0.3V (1)
VDH≧(VDD+VT)+0.3V (2)
となる。
τ∞1/(VDD+VT) (3)
で表わされる。したがって、図3に示すように、0.3Vと一定の実効ゲート電圧、すなわち一定の速度のもとでは、VTを小さくできるほどVDDを小さくできるので低電力化できる。たとえば、エンハンスメント形MOSTのVTを−0.3Vから0Vに小さくしていくと、VDDを0.6Vから0.3Vと小さくできる。さらにデプレッション形にして、VTを0Vから0.3Vと大きくしていくと、さらにVDDを小さくできる。たとえば、VT = 0.2Vなら、VDD=0.1Vの超低電圧動作も可能である。この条件を、該MOSTのオフ時のリーク電流を小さくしながら満たすには、式(2)から明らかなように、VDHを一定値(0.6V)以上にすればよい。しかし、これに伴って、VDH−VDDが大きくなる、すなわちオフ時にゲートとソース間に加わる電圧が大きくなるので、後述するように、過大電圧を緩和する回路(図26)が必要になる場合がある。また、一定のVDDのもとで、実効ゲート電圧を大きくしてより高速動作をさせるには、エンハンスメント形MOSTのVTを小さくする、できればデプレッション形のMOSTを使ってよりVTを大きくすればよい。もちろん、より大きくなるリーク電流を抑えるには、式(2)から明らかなように、VDHをより大きくしなければならない。
−VSL +VT ≧ 0.3V (4)
となる。nMOSTなので、エンハンスメント形(normally off)ならそのVTは正の値となり、デプレッション形(normally on)ならそのVTは負の値となる。明らかに、オフ時に、負電圧VSLを大きくすれば、該nMOSTのVTが小さくても該MOSTをカットオフできる。さらにVSLを大きくすれば、デプレッション形のMOSTでも、すなわちVTが負の値でも、該MOSTはカットオフにできる。また活性化時のMOSTの負荷を放電する速度τは、近似的には、
τ=1/(VDD−VT) (5)
で表わされるから、同じ速度を小さなVDDで、つまり低電力で実現できることになる。以上のように、従来の回路ではVDDと出力の電圧振幅の下限が0.6Vであったが、発明では0.6V以下のVDDと電圧振幅で動作可能になる。
《1》.Mpでは、VDHのゲート電圧でカットオフするためには式(1)(2)から、VDH≧{VDD+VT(Mp)}+0.3V、また0Vのゲート電圧でオンするためにはVDD+VT(Mp)≧0.3Vとなる。これらの条件の下で、VT(Mp)の値は任意に変えられ、それに応じてVDDとVDHも変えられる。前述したように、図3はVDD+VT(Mp)=0.3Vの例である。
《2》.Mnでは、0Vのゲート電圧でリーク電流なしにカットオフするためにはVT(Mn)≧0.3V、VDHのゲート電圧でMnがオンするためにはVDH−VT(Mn)≧0.3Vとなる。したがって、VDH≧0.6Vならこれらの条件は成り立つ。もちろん、オフ時にわずかのリーク電流を許すなら、VT(Mn)は0V程度までには小さくできる。
《3》.M2では、VDHのゲート電圧でリーク電流なしにカットオフするためにはVT(M2)≦−0.3V、0Vのゲート電圧でM2がオンするためにはVDH+VT(M2)≧0.3Vとなる。したがって、VDH≧0.6Vならこれらの条件は成り立つ。もちろん、オフ時にわずかのリーク電流を許すなら、VT(M2)は0V程度までには小さくできるので設計は容易になる。CK1の振幅をVDH−VDD(=0.3V)と小さくできるので、CK1発生回路の負荷の充放電電力を小さくできるからである。この場合、CK1は、回路の非活性時(M2がオン時)にはVDD(0.3V)なので、ゲートとソース間電圧VGS=VDH−VDD=0.3VとなってM2はオンするし、また回路の活性時(M2がオフ時)にはVDH(0.6V)なので、VGS=0となりM2はほぼオフとなる。図15Cは、このようなCK1発生回路の一例である。振幅VDHの入力パルスは、小さなVTと大きなVTのMOSTを組み合わせたサブインバータIVによって、リーク電流なしに所望のCK1パルスに変換される。
《4》.M1のVT(M1)は、以下に示すように、M1の実効ゲート電圧と関係するから、VDDと密接に関係する。CK2がVDDになってM1は活性化されるが、入力がVDDの場合の電流In(VDD)はそのゲート・ソース間電圧は0Vとなるので小さく、入力が0Vの場合の電流In(0)はそのゲート・ソース間電圧はVDDとなるので大きい。In(VDD)は、In(0)との電流差がある値以上なら0以上の電流でも許されるが、つまりM1がある程度のデプレッション形でも許されるが、ここでは簡単のため、エンハンス形でIn(VDD)=0、すなわちVT(M1)≧0Vとしよう。すると入力がVDDならノードNはそれまでのVDHに保持される。一方、入力が0VならノードNはVDHレベルから放電が始まる。ここでVDD+VT(Mp)まで放電するのを許すとしよう。この点まで放電すると、サブインバータIVのそれまでの論理状態が変わる臨界点に達するからである。少なくてもMpはオンし始めようとするし、一方、VDD+VT(Mp)がVT(Mn)より大きい場合にはMnはオフし始めようとするからである。Mpの実効ゲート電圧VDD+VT(Mp)=0.3V、VDH=0.6Vのもとで、所要VT(M1)とVDDの関係は以下のように求められる。CK2のパルス幅をtW、ノードNの容量をCN、M1のチャネル幅をW、チャンネル長をLとすれば、CK2が印加されてからtW後にこの臨界点に達するとすると、この期間中、M1は飽和状態で動作するから、
In(0)=CN(VDH−VDD)/tW=0.3×CN/tW、
In(0)=β/2{VDD−VT(M1)}2、β=W/Lβ0、
∴{VDD−VT(M1)}2=0.6CN/βtW (6)
となる。式(6)の右辺は常数なので、VT(M1)を小さくすればするほどVDDも小さくできる。たとえば、65ナノメータデバイス技術では、VT(M1)=0Vなら、W/L=140nm/50nm、β0=0.43μS/V、CN=1.8fF、tW=2.5nsの場合、VDD=0.12Vとなる。したがって、M1はこれ以上のVDDで入力を弁別することになる。このVDDをソース電圧としてMpを動作させると、VDD+VT(Mp)=0.3Vの条件からVT(Mp)=0.18Vとなるから、Mpはデプレッション形でなければならない。このVDDなら、従来の0.6V動作の回路(図17)に比べ消費電力は約1/25となる。
Claims (20)
- ゲートとソースを等しい電圧にしたときにドレインとソース間に実質的にサブスレショルド電流が流れるようなMOSTを含む回路を有し、
該回路は、非活性時には、該MOSTのゲートとソース間を逆バイアスするように該MOSTのゲートに電圧が印加され、活性時には、該回路の入力電圧に応じて該逆バイアス状態を保持するかあるいは順バイアス状態に制御され、
該MOSTは、ドレインがゲートの電圧振幅よりも小さな電圧振幅で動作する半導体装置。 - 該MOSTは、エンハンスメント型のMOSトランジスタ又はデプレッション型のMOSトランジスタであって、
該回路は、該入力電圧を入力する入力段と、該MOSTを有する出力段とを含んで構成され、
該出力段は、該MOSTのドレイン側を出力とし、
該出力段の負荷の電圧振幅は該MOSTのゲート電圧振幅よりも小さい請求項1記載の半導体装置。 - ゲートとソースを等しい電圧にした時にドレインとソース間に実質的にサブスレショルド電流が流れるようなMOSTを含む回路であって、該MOSTは第一動作モードと第二動作モードを持ち、該第一動作モードでは、該MOSTのゲートとソース間を逆バイアスにするように該MOSTのゲートに該回路の入力電圧とは無関係な一定の電圧が印加され、該第二動作モードでは、該回路の入力電圧に応じて該逆バイアス状態が保持されるかあるいは該ゲートとソース間を順バイアスするように該ゲート電圧が制御されるCMOS回路。
- ゲートとソースを等しい電圧にした時にドレインとソース間に実質的にサブスレショルド電流が流れるようなMOSTを含む回路であって、該MOSTは第一動作モードと第二の動作モードを持ち、該第一動作モードでは、該MOSTのゲートとソース間を順バイアスにするように該MOSTのゲートに該回路の入力電圧とは無関係な一定の電圧が印加され、該第二動作モードでは、該回路の入力電圧に応じて該順バイアス状態が保持されるかあるいは該ゲートとソース間を逆バイアスするように該ゲート電圧が制御されるCMOS回路。
- 該一定の電圧は、該MOSTがpチャンネルMOSTなら該MOSTのソース電圧よりも高い電圧であり、該MOSTがnチャンネルMOSTなら負電圧である請求項3又は4記載のCMOS回路。
- 該一定の電圧は、ダイナミック動作によって与えられるものである請求項3又は4記載のCMOS回路。
- 該回路は、2電源の電圧で動作する請求項3又は4記載のCMOS回路。
- 該MOSTのドレインの電圧振幅は該MOSTのゲートの電圧振幅よりも小さい請求項3又は4記載のCMOS回路。
- ゲートとソースを等しい電圧にした時に、ドレインとソース間に実質的にサブスレショルド電流が流れないような他のMOSTを更に含み、
該MOSTのドレインと該他のMOSTのドレインが接続された請求項3又は4記載のCMOS回路。 - 該回路は該MOSTよりも大きなしきい電圧を有する他のMOSTを更に含み、
該MOSTのバイアス状態は該他のMOSTによって制御される請求項3又は4記載のCMOS回路。 - 請求項3又は4記載のCMOS回路を含む半導体装置であって、
該回路は、該入力電圧を入力する入力段と、該MOSTを有する出力段とを含んで構成され、
該出力段は、該MOSTのドレイン側を出力とし、
該出力段の負荷の電圧振幅は該MOSTのゲート電圧振幅よりも小さい半導体装置。 - 該MOSTよりも大きなしきい電圧を有する他のMOSTを更に含み、
該MOSTのゲート電圧は該他のMOSTのドレイン電圧によって制御される請求項3又は4記載のCMOS回路。 - 該バイアス状態はMOSTの容量を利用して入力電圧を昇圧することによって制御される請求項3又は4記載のCMOS回路
- 請求項3又は4のCMOS回路を含む半導体装置であって、
該回路は、ゲートとソースを等しい電圧にした時にドレインとソース間に実質的にサブスレショルド電流が流れるような他のMOSTを更に含み、
該回路は、該入力電圧を該他のMOSTを介して入力する入力段と、該MOSTを含む出力段とを含んで構成され、
該他のMOSTは該入力電圧を弁別できる機能を有する半導体装置。 - 該回路を複数有し、
それぞれの該回路における入力段の該他のMOSTは、該回路の選択機能を有する請求項14記載の半導体装置。 - 該MOSTを介して電源電圧が供給される回路ブロックを、該回路に対応して複数有し、
該回路ブロックに対する電源電圧の供給と遮断は、該MOSTによって制御される請求項15記載の半導体装置。 - 該MOSTはデプレッションMOSTである請求項3又は4記載のCMOS回路。
- 少なくとも該MOSTのゲート電圧は、ゲートに直流電圧が印加されたMOSTを介して制御される請求項3又は4記載のCMOS回路。
- 該MOSTのドレインに接続される他のMOSTを更に有し、
該MOSTのゲート酸化膜は、該他のMOSTのゲート酸化膜よりも厚くなるように構成される請求項3又は4記載のCMOS回路。 - 該回路の出力段の出力電圧振幅は0.6V以下である請求項11、14乃至16の何れか1項記載の半導体装置。
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